JPS59134799A - ジオキサシレピン及びジオキサシロシン並びに該化合物を含有する安定化組成物 - Google Patents
ジオキサシレピン及びジオキサシロシン並びに該化合物を含有する安定化組成物Info
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- JPS59134799A JPS59134799A JP59004213A JP421384A JPS59134799A JP S59134799 A JPS59134799 A JP S59134799A JP 59004213 A JP59004213 A JP 59004213A JP 421384 A JP421384 A JP 421384A JP S59134799 A JPS59134799 A JP S59134799A
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- butyl
- carbon atoms
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- tetra
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
- C08K5/549—Silicon-containing compounds containing silicon in a ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/04—Esters of silicic acids
- C07F7/07—Cyclic esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はジオキサシレピン及びジオキサシロシン安定剤
に関するものである。
に関するものである。
プラスチックス及び樹脂のような有機高分子物質や潤滑
油及び鉱油は熱、酸素及び光により分解し易い。各種の
基質を安定化するための非常に多くの種類の安定剤が当
技術分野で公知である。それらの効果は分解の原因と安
定化される基質によって変化する。一般に、何か一つの
応用分野においてどの安定剤が最も有効かつ最も経済的
であるかを予測することは難かしい。
油及び鉱油は熱、酸素及び光により分解し易い。各種の
基質を安定化するための非常に多くの種類の安定剤が当
技術分野で公知である。それらの効果は分解の原因と安
定化される基質によって変化する。一般に、何か一つの
応用分野においてどの安定剤が最も有効かつ最も経済的
であるかを予測することは難かしい。
例えば、揮発性を減少させる際の安定剤の有効性は基質
分子内結合の切断を防止でき′るか否かにかかつている
。ポリマーまたはゴムの脆化を抑え1弾性を維持するた
めには過剰な架橋結合及び/または鎖の切断の防止を必
要とすることがある。変色防止のためには、基質または
安定剤中に新たな発色団または着色体を生ずる反応の防
止が必要ζこなることがある。加工安定性と不相容性の
問題も考慮しなければならぬ。
分子内結合の切断を防止でき′るか否かにかかつている
。ポリマーまたはゴムの脆化を抑え1弾性を維持するた
めには過剰な架橋結合及び/または鎖の切断の防止を必
要とすることがある。変色防止のためには、基質または
安定剤中に新たな発色団または着色体を生ずる反応の防
止が必要ζこなることがある。加工安定性と不相容性の
問題も考慮しなければならぬ。
シラン類は数多くの刊行物に開示されている。
未置換ジベンゾ(d、f)(1,s、2)ジオキサシロ
シン環状系、すなわちフェニル頂上に置換基のないビフ
゛エニル化合物は英’、g特許第857.15!1号明
i旧書、西ドイツ国特許第1,057,129号明細書
。
シン環状系、すなわちフェニル頂上に置換基のないビフ
゛エニル化合物は英’、g特許第857.15!1号明
i旧書、西ドイツ国特許第1,057,129号明細書
。
ケミカルアブストラクト來62巻1.If、1685頁
(1965)、ケミカルアブストラクト第5o巻g 5
536頁(1955)及びロシュディ(Roshdy)
その他、ゼット、ナッーアフォルシュ(Z。
(1965)、ケミカルアブストラクト第5o巻g 5
536頁(1955)及びロシュディ(Roshdy)
その他、ゼット、ナッーアフォルシュ(Z。
Naturforsch) 第18b巻41124頁
(1965)に開示されている。これらの化合物につい
ては有機中間体及び耐熱プラスチックスのためのコモノ
マーとしての用途が開示されている。ロシュディは、こ
れらの化合物が熱的に安定であることを指摘している。
(1965)に開示されている。これらの化合物につい
ては有機中間体及び耐熱プラスチックスのためのコモノ
マーとしての用途が開示されている。ロシュディは、こ
れらの化合物が熱的に安定であることを指摘している。
化合物の安定化効力をこついては述べられていない。2
.6−ジー第三ブチルフェノールと四塩化珪素との間の
反応に基ずくテトラキス(4−ヒドロキシ−6,5−ジ
ー第三ブチルフェニル−アルコキシ)−シラン及び類似
の誘導体がエルショフ(Brshov) その他によ
りイズブ、アカヅ、ナウク ニスニスニスアール、セル
、キム(IZV、Akad、Nauk SS8に、Se
r。
.6−ジー第三ブチルフェノールと四塩化珪素との間の
反応に基ずくテトラキス(4−ヒドロキシ−6,5−ジ
ー第三ブチルフェニル−アルコキシ)−シラン及び類似
の誘導体がエルショフ(Brshov) その他によ
りイズブ、アカヅ、ナウク ニスニスニスアール、セル
、キム(IZV、Akad、Nauk SS8に、Se
r。
Khtm)第6巻第14頁(1972)ニ、そシテゴロ
デツカヤ(Gorodetskaya)そのit!uこ
よりインタナショナルポリマー サイエンス アンド
テクノロジー(Internatlonaz pozy
mer 3cienceand Technotogy
)第6巻第1号、T 54− T 55(1979)に
−示されている。この化合物はポリプロピレンの熱女定
剤として開示されている。
デツカヤ(Gorodetskaya)そのit!uこ
よりインタナショナルポリマー サイエンス アンド
テクノロジー(Internatlonaz pozy
mer 3cienceand Technotogy
)第6巻第1号、T 54− T 55(1979)に
−示されている。この化合物はポリプロピレンの熱女定
剤として開示されている。
さて本発明の立体障害シラン誘導体は、安定剤として特
に有効有用ならしめる望ましい性質を異例なほど兼ね備
えていることが確認された。
に有効有用ならしめる望ましい性質を異例なほど兼ね備
えていることが確認された。
本発明化合物は、ポリオレフィン及びポリ塩化ビニール
を保護するのに特に有効である。
を保護するのに特に有効である。
本発明の第一の目的は広い範囲の改善された安定化特性
を示す一組の・立体障害シランを提供することにある。
を示す一組の・立体障害シランを提供することにある。
本発明の他の目的及び利点は下記の記載で明らかになる
であろう。
であろう。
本発明り立体障害シラン化合物は1次と:(式中、
R1及び馬は独立して水素原子、炭素原子数1ないし4
のアルキル基またはフェニル基を表わし;またはR1及
びFL2は一゛緒になって次式: I で表わされる基を形成し; Xは直接結合、炭素原子数1ないし7のアルキリデン基
または硫黄原子を表わし; Yは炭素原子数4ないし12のアルキル基または炭素原
子数7ないし12のアルクアリール基を表わし;そして
、 2は水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基ま
たはフェニル基を表わす。)で表わされる。
のアルキル基またはフェニル基を表わし;またはR1及
びFL2は一゛緒になって次式: I で表わされる基を形成し; Xは直接結合、炭素原子数1ないし7のアルキリデン基
または硫黄原子を表わし; Yは炭素原子数4ないし12のアルキル基または炭素原
子数7ないし12のアルクアリール基を表わし;そして
、 2は水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基ま
たはフェニル基を表わす。)で表わされる。
上記の構造の範囲内で好ましい化合物は、Yが各々のフ
ェニル環において、シランの酸素原子に対しオルソの位
置にあるものである。
ェニル環において、シランの酸素原子に対しオルソの位
置にあるものである。
Y基及びZ基は好ましくは直鎖状または分岐状の炭素原
子数4ないし8のアルキル基5例えばn−ブチル基、第
ニブチル基、第三ブチル基、第三−ペンチル基、2−エ
チルヘキシル基、n−オクチル基、及び第三オクチル基
を表わす。
子数4ないし8のアルキル基5例えばn−ブチル基、第
ニブチル基、第三ブチル基、第三−ペンチル基、2−エ
チルヘキシル基、n−オクチル基、及び第三オクチル基
を表わす。
峙て第三ブチル憂、第三ペンチル基及び第三オクチル基
が特に好ましい。Z基が酸素原子に対してバラの位置ζ
こあるものも、とりわけ該Z基が第三アルキル基を表わ
すなら特に好ましい。
が特に好ましい。Z基が酸素原子に対してバラの位置ζ
こあるものも、とりわけ該Z基が第三アルキル基を表わ
すなら特に好ましい。
第三オクチル基とは1.1j、!+−テトラメチルブチ
ル基を意味する。
ル基を意味する。
Xは好ましくは次式:
(式中、几、及びへは独立して水素原子または総炭素原
子数が7を越えないことを前提にして炭素原子数1ない
し4のアルキル基;または硫黄原子を表わす。)で表わ
されるアルキリデン基を表わす。Xがメチレン基、エチ
リデン基またはプロプ−2−イリデン基を表わすものは
特に好ましい。
子数が7を越えないことを前提にして炭素原子数1ない
し4のアルキル基;または硫黄原子を表わす。)で表わ
されるアルキリデン基を表わす。Xがメチレン基、エチ
リデン基またはプロプ−2−イリデン基を表わすものは
特に好ましい。
アルクアリール(aムaryt)置換基は一般にトリル
基、メンチル基及びキシリル基から導かれる。
基、メンチル基及びキシリル基から導かれる。
本発明のシラン類は、適当に置換されたハロシランをア
ルキル化2,2′−ビスフェノールまたはアルキル化2
,2′−アルキリデン−ビスフェノールと、所望ならば
溶媒中で反応させ、所望の生成物とすることによって製
造することができる。好ましい溶媒は芳香族のもの、例
えばベンゼン、トルエン、キシレン及び同様のもの。
ルキル化2,2′−ビスフェノールまたはアルキル化2
,2′−アルキリデン−ビスフェノールと、所望ならば
溶媒中で反応させ、所望の生成物とすることによって製
造することができる。好ましい溶媒は芳香族のもの、例
えばベンゼン、トルエン、キシレン及び同様のもの。
またはテトラヒドロフランのような復素猿エーテルであ
る。反応温度の範囲は0°Cないし室温である。本発明
化合物を製造するための好ましい方法は、ハロシラン、
主としてジクロロ−シランを適当なフェノールと第三ア
ミンのようなプロトン受容体、例えばトリエチルアミン
またはピリジンの存在下で反応させることからなる。
る。反応温度の範囲は0°Cないし室温である。本発明
化合物を製造するための好ましい方法は、ハロシラン、
主としてジクロロ−シランを適当なフェノールと第三ア
ミンのようなプロトン受容体、例えばトリエチルアミン
またはピリジンの存在下で反応させることからなる。
これらの立体障害シラン化合物を製造するに必要な出発
物質は、市販品になっている乃1または公知の方法で製
造することができる。
物質は、市販品になっている乃1または公知の方法で製
造することができる。
出発物質のシランは次式:
(式中、Hatはハロゲン原子、好ましくは塩素原子を
表わし、亀及び−は前記で定義したのと同じ意味、好ま
しくは水素原子、メチル基またはフェニル基そして付は
加えるならばハロゲン原子を表わす。)で表わされる。
表わし、亀及び−は前記で定義したのと同じ意味、好ま
しくは水素原子、メチル基またはフェニル基そして付は
加えるならばハロゲン原子を表わす。)で表わされる。
後者については、テトラクロルシランは対称性ビス(ジ
ベンゾ−ジオキサ)化合物を製造するのに用いられる。
ベンゾ−ジオキサ)化合物を製造するのに用いられる。
出発物質のフェノールは、次式:
(式中、X、Y及びZは前記で定義したのと同じ意味を
表わす。)で表わされる。代表的なX基には直接結合、
メチレン基、エチリデン基及び硫*原子が含まれ;代表
的なY基及び2基には第三ブチル基が含1れる。
表わす。)で表わされる。代表的なX基には直接結合、
メチレン基、エチリデン基及び硫*原子が含まれ;代表
的なY基及び2基には第三ブチル基が含1れる。
本発明化合物はプラスチックス、ポリマー及び樹脂のよ
うなM椋祠料を安定化するのに有効である。
うなM椋祠料を安定化するのに有効である。
一般に安定化できポリマーには下記のものが包含される
: 1、モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例え
ば所望により架橋結合できるポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリイソブチレン、ポリブテン−1、ポリメチル
ペンテン−1、ポリインプレンまたはポリブタジェン、
ならびにシクロオレフィン例えばシクロペンテンもしく
ハノルポルネンのポリマー。
: 1、モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例え
ば所望により架橋結合できるポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリイソブチレン、ポリブテン−1、ポリメチル
ペンテン−1、ポリインプレンまたはポリブタジェン、
ならびにシクロオレフィン例えばシクロペンテンもしく
ハノルポルネンのポリマー。
2.1)で述べたポリマーの混合物、例えばポリプロピ
レンとポリエチレンまタハポリイソプチレンとの混合物
。
レンとポリエチレンまタハポリイソプチレンとの混合物
。
3、 モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビ
ニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン/フロピ
レン、プロピレン/ブテン−1゜プロピレン/イソブチ
レン、エチレン/ブテン−1、グロビレン/ブタジェン
、イソブチレン/イソブレン、エチレン/エチルアクリ
レート、エチレン/アルキルメタアクリレート、エチレ
ン/ビニルアセテートまたはエチレン/アクリル酸コポ
リマー及びそれらの塩類(アイオノマー)のようなもの
そしてエチレンとプロピレン及ヒシエン例えばヘキサジ
エン、ジシクロベンタジエンマタはエチリデンノルボル
ネンとのターポリマー。
ニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン/フロピ
レン、プロピレン/ブテン−1゜プロピレン/イソブチ
レン、エチレン/ブテン−1、グロビレン/ブタジェン
、イソブチレン/イソブレン、エチレン/エチルアクリ
レート、エチレン/アルキルメタアクリレート、エチレ
ン/ビニルアセテートまたはエチレン/アクリル酸コポ
リマー及びそれらの塩類(アイオノマー)のようなもの
そしてエチレンとプロピレン及ヒシエン例えばヘキサジ
エン、ジシクロベンタジエンマタはエチリデンノルボル
ネンとのターポリマー。
4、 ポリスチレン
5、 スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまた
はアクリル誘導体とのランダムコポリマ+、例、tはス
チレン/フタジエン、スチレン/アクリロニトリル、ス
チレン/アルキルメタアクリレート、スチレン/アクリ
ロニトリル/メチルアクリレート;スチレンコボリマー
ト他のポリマー例えばポリアクリレート、ジエンポリマ
ー、tihエチレン/プロピレン/ジェンターポリマー
のようなものとからの高耐衝撃性混合物;及びスチレン
のブロックコポリマー例えはスチレン/フタジエン/ス
チレン、スチレン/インプレン/スチレン、スチレン/
エチレン/ブチレン/スチレンまたはスチレン/エチレ
ン/フーロビレン/スチレンのような亀の。
はアクリル誘導体とのランダムコポリマ+、例、tはス
チレン/フタジエン、スチレン/アクリロニトリル、ス
チレン/アルキルメタアクリレート、スチレン/アクリ
ロニトリル/メチルアクリレート;スチレンコボリマー
ト他のポリマー例えばポリアクリレート、ジエンポリマ
ー、tihエチレン/プロピレン/ジェンターポリマー
のようなものとからの高耐衝撃性混合物;及びスチレン
のブロックコポリマー例えはスチレン/フタジエン/ス
チレン、スチレン/インプレン/スチレン、スチレン/
エチレン/ブチレン/スチレンまたはスチレン/エチレ
ン/フーロビレン/スチレンのような亀の。
6、 スチレンのグラフトコポリマー、例えばスチレン
とポリブタジェン、スチレン及びアクリロニトリルとポ
リブタジェン、スチレン及ヒマレイン酸無水物とポリブ
タジェン、スチレン及びアクリル酸アルキルまたはメタ
クリル酸アルキルとポリブタジェン、スチレン及びアク
リロニトリルトエチレンーグロピレンージエンターホリ
マー、スチレン及びアクリロニトリルとポリアルキルア
クリレートまたはポリアルキルメタクリレート、スチレ
ン及びアクリロニトリルとアクリレート−ブタジェンコ
ポリマーのようなグラフトコポリマー、及びこれらと5
)に列挙したコポリマーとの混合物、例えばABS、
MBS。
とポリブタジェン、スチレン及びアクリロニトリルとポ
リブタジェン、スチレン及ヒマレイン酸無水物とポリブ
タジェン、スチレン及びアクリル酸アルキルまたはメタ
クリル酸アルキルとポリブタジェン、スチレン及びアク
リロニトリルトエチレンーグロピレンージエンターホリ
マー、スチレン及びアクリロニトリルとポリアルキルア
クリレートまたはポリアルキルメタクリレート、スチレ
ン及びアクリロニトリルとアクリレート−ブタジェンコ
ポリマーのようなグラフトコポリマー、及びこれらと5
)に列挙したコポリマーとの混合物、例えばABS、
MBS。
AHA 筐たはAESポリマーとして知られている混合
物。
物。
Z ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
塩累化ゴム、塩紫化若しくはクロロスルホン化ポリエチ
レン、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例え
ばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニ
ル、ポリ弗化ビニリデン及びこれらのコポリマー、例え
ば塩化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニ
ルまたは塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー。
塩累化ゴム、塩紫化若しくはクロロスルホン化ポリエチ
レン、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例え
ばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニ
ル、ポリ弗化ビニリデン及びこれらのコポリマー、例え
ば塩化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニ
ルまたは塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー。
a α、β−不飽和酸及びその誘導体から誘導されたポ
リマー、例えばポリアクリレート及びポリメタクリレー
ト、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。
リマー、例えばポリアクリレート及びポリメタクリレー
ト、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。
9 前記8)に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和
モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル/ブ
タジェンコポリマー、アクリロニトリル/アルキルアク
リレートコポリマー、アクリロニトリル/塩化ビニルコ
ポリマーまたはアクリロニトリル/アルキルメタクリレ
ート/ブタジェンターポリマー。
モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル/ブ
タジェンコポリマー、アクリロニトリル/アルキルアク
リレートコポリマー、アクリロニトリル/塩化ビニルコ
ポリマーまたはアクリロニトリル/アルキルメタクリレ
ート/ブタジェンターポリマー。
1α 不飽和アルコール及びアミンまたはそのアシル誘
導体またはアセタールから誘導されたポリマー、例えば
ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルス
テアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレ
エート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート
、・ポリアリルメラミン。
導体またはアセタールから誘導されたポリマー、例えば
ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルス
テアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレ
エート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート
、・ポリアリルメラミン。
11、 環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー
、例えばポリエチレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリ
シジルエーテルとのコポリマー。
、例えばポリエチレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリ
シジルエーテルとのコポリマー。
12、ポリアセタール、例えばポリオキシメチレイ、及
びコモノマー、例えばエチレンオキシドを含むポリオキ
シメチレン。
びコモノマー、例えばエチレンオキシドを含むポリオキ
シメチレン。
16、ポリフェニレンオキシド及びスルフィド。
14、一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエ
ーテル、ポリエステル及びポリブタジェンと他方の成分
として脂肪族または芳香族ポリインシアネートとから誘
導されたポリウレタン及びその前駆物質(ポリイソシア
ネート、ポリオール及びグレボリマー)。
ーテル、ポリエステル及びポリブタジェンと他方の成分
として脂肪族または芳香族ポリインシアネートとから誘
導されたポリウレタン及びその前駆物質(ポリイソシア
ネート、ポリオール及びグレボリマー)。
15、ジアミン及びジカルボン酸及び/またはアミノカ
ルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリア
ミド及びコポリアミド、例えばポリアミド4、ポリアミ
ド6、ポリアミド6/6、ポリアミド6/10、ポリア
ミド11、ポリアミド12、ポリ−2,4,4−トリメ
チルへキサメチレンテレフタルアミド、ポリ−m−7エ
ニレンイソフタルアミド、及びこれらとポリエーテル、
例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール捷たはポリテトラメチレングリコールとのコポリマ
ー。
ルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリア
ミド及びコポリアミド、例えばポリアミド4、ポリアミ
ド6、ポリアミド6/6、ポリアミド6/10、ポリア
ミド11、ポリアミド12、ポリ−2,4,4−トリメ
チルへキサメチレンテレフタルアミド、ポリ−m−7エ
ニレンイソフタルアミド、及びこれらとポリエーテル、
例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール捷たはポリテトラメチレングリコールとのコポリマ
ー。
16、ポリ尿素、ポリイミド及びポリアミドイミド。
1Z ジカルボン酸及びジオール及び/またはヒドロ
キシカルボン酸または相当するラクトンから誘導された
ポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポ
リブチレンテレフタレート及びポリ−1,4−ジメチロ
ールシクロヘキサンテレフタレート、ポリ−[2,2−
ビス−(4−ヒドロキシフェニル)プロパンクテレフタ
レート、ポリヒドロキシベンゾエート及び更にヒドロキ
シ末端基を有するポリエーテル、ジアルコール及びジカ
ルボン酸から誘導されたブロックコポリエーテルエステ
ル。
キシカルボン酸または相当するラクトンから誘導された
ポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポ
リブチレンテレフタレート及びポリ−1,4−ジメチロ
ールシクロヘキサンテレフタレート、ポリ−[2,2−
ビス−(4−ヒドロキシフェニル)プロパンクテレフタ
レート、ポリヒドロキシベンゾエート及び更にヒドロキ
シ末端基を有するポリエーテル、ジアルコール及びジカ
ルボン酸から誘導されたブロックコポリエーテルエステ
ル。
1a ポリカポネート。
19 ポリスルホン及びポリエーテルスルホン。
八 一方の成分としてアルデヒド及び他方の成分として
フェノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポリ
マー、例えばフェノール−ホルムアルデヒド樹脂、尿素
−ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン−ホルムアルデヒ
ド樹脂。
フェノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポリ
マー、例えばフェノール−ホルムアルデヒド樹脂、尿素
−ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン−ホルムアルデヒ
ド樹脂。
21、乾性及び不乾性アルキド樹脂。
22、飽和及び不、飽和ジカルボン酸と多価アルコール
及び架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルか
ら誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の低
いハロゲン含有変性物。
及び架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルか
ら誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の低
いハロゲン含有変性物。
23、 置換アクリル酸エステル、例えばエポキシア
クリレート、ウレタン/アクリレートまたはポリエステ
ル/アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
クリレート、ウレタン/アクリレートまたはポリエステ
ル/アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
24、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートま
たはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエス
テル樹脂及びアクリレート樹脂。
たはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエス
テル樹脂及びアクリレート樹脂。
25、ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエボキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。
ル、または脂環式ジエボキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。
26、天然ポリマー、例えばセルロース9、天然ゴム及
びゼラチン、並びにこれらの化学的に変性された重合同
族体誘導体、例えば酢酸セルロース゛、プロピオン酸セ
ルローズ及び酪酸セルロース1゛、及びセルローズゝエ
ーテル、例えばメチルセルロース1゜ 2Z 純粋なモノマー化合物まfcはそのような化合
物の混合物である天然の有機物質及び合成有機物質、例
えば鉱油、動物及び植物性の脂肪、油及びワックス、ま
たは合成エステル(例えばフタレート、アジペート、ホ
スフェートまたはトリメリテート)ヲベースとする油、
脂肪及びワックス、そしてさらにポリマーのための可塑
剤または紡織前としてならびにこのような物質ノ水性エ
マルジョンとして用いることのできる合成エステルと鉱
物油との任意の重量比の混合物。
びゼラチン、並びにこれらの化学的に変性された重合同
族体誘導体、例えば酢酸セルロース゛、プロピオン酸セ
ルローズ及び酪酸セルロース1゛、及びセルローズゝエ
ーテル、例えばメチルセルロース1゜ 2Z 純粋なモノマー化合物まfcはそのような化合
物の混合物である天然の有機物質及び合成有機物質、例
えば鉱油、動物及び植物性の脂肪、油及びワックス、ま
たは合成エステル(例えばフタレート、アジペート、ホ
スフェートまたはトリメリテート)ヲベースとする油、
脂肪及びワックス、そしてさらにポリマーのための可塑
剤または紡織前としてならびにこのような物質ノ水性エ
マルジョンとして用いることのできる合成エステルと鉱
物油との任意の重量比の混合物。
2a 天然ゴムまたは合成ゴムの水性エマルジョン例
えば天然ラテックスまfcはカルボキシル化スチレン/
ブタジェンコポリマーのラテックス。
えば天然ラテックスまfcはカルボキシル化スチレン/
ブタジェンコポリマーのラテックス。
一般に本発明の安定剤を、個々の基材及び用途によって
変化するが、安定化される組成物を基準にして約0.0
1重量%から約5重量%の範囲内で使用する。有利な範
囲は約0,05ないし約2重量%、そして特にC1,1
ないし約1重量%である。
変化するが、安定化される組成物を基準にして約0.0
1重量%から約5重量%の範囲内で使用する。有利な範
囲は約0,05ないし約2重量%、そして特にC1,1
ないし約1重量%である。
本発明の安定剤は有機ポリマー中に、該ポリマーからの
成形品の製造前の都合のよい段階で、慣用技術によって
添加する。ことができる。例えば安定剤を乾燥粉末形状
でポリマーと混合することができ、あるいは安定剤の懸
濁物または乳化物を、ポリマーの溶液、懸濁物または乳
化物と混合できる。
成形品の製造前の都合のよい段階で、慣用技術によって
添加する。ことができる。例えば安定剤を乾燥粉末形状
でポリマーと混合することができ、あるいは安定剤の懸
濁物または乳化物を、ポリマーの溶液、懸濁物または乳
化物と混合できる。
本発明の安定化されたポリマー組成物は所望により、下
記のような各種の慣用添加物をも含有することができる
。
記のような各種の慣用添加物をも含有することができる
。
1、 酸化防止剤
1.1 単一の2.6−アルキル化モノフェノール、
例えば2,6−ジー第三ブチル−4−メチルフェノール
、2−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2.
6−シー第三ブチル−4−7’)#ジメチルフェノール
及び2.6−ジ−オクタデシル−4−メチルフェノール t2 アルNル化ヒドロキノンの誘導体、例え谷2.
5−ジー第三ブチル−ヒドロキノン、2゜5−ジー第三
アミル−ヒドロキノン、2.6−ジー第三ブチル−ヒド
ロキノン、2.6−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニソーノペろ、5−IE三フy−ルー 4−ヒドロキ
シ−アニソール、トリス−(3,5−ジー第三ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)ホスファイ)、3.5−ジー
第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルステアレート及び
ビス−(3,5−ジー第三ブチル〜4−ヒドロキシフェ
ニル)アジペート。
例えば2,6−ジー第三ブチル−4−メチルフェノール
、2−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2.
6−シー第三ブチル−4−7’)#ジメチルフェノール
及び2.6−ジ−オクタデシル−4−メチルフェノール t2 アルNル化ヒドロキノンの誘導体、例え谷2.
5−ジー第三ブチル−ヒドロキノン、2゜5−ジー第三
アミル−ヒドロキノン、2.6−ジー第三ブチル−ヒド
ロキノン、2.6−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニソーノペろ、5−IE三フy−ルー 4−ヒドロキ
シ−アニソール、トリス−(3,5−ジー第三ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)ホスファイ)、3.5−ジー
第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルステアレート及び
ビス−(3,5−ジー第三ブチル〜4−ヒドロキシフェ
ニル)アジペート。
t5 ヒ)’!=+キシル(14オシフエニルエーテ
ル、例えば2.2′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−
4−メチルフェノール)、2.2’−fオ〜ヒス〜(4
−オクチルフェノール)、4.4’−チオ−ビス−(6
−第三ブチル−3−メチルフェノール)、4.4′−チ
オ−ビス−(3,6−ジー第ニアミルフェノール)、4
,4′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−2−メチルフ
ェノール)及び4.4′−ビス−(2,6−シメチルー
4−ヒドロキシ−フェニル)ジスルフィド。
ル、例えば2.2′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−
4−メチルフェノール)、2.2’−fオ〜ヒス〜(4
−オクチルフェノール)、4.4’−チオ−ビス−(6
−第三ブチル−3−メチルフェノール)、4.4′−チ
オ−ビス−(3,6−ジー第ニアミルフェノール)、4
,4′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−2−メチルフ
ェノール)及び4.4′−ビス−(2,6−シメチルー
4−ヒドロキシ−フェニル)ジスルフィド。
1.4 アルキリデン−ビスフェノール、例工ば2゜
2′−メチレン−ビス−(6−第三ブチル−4−メチル
フェノール)、2.2’−メチレン−ビス−(6−第三
ブチル−4−エチルフェノール)、4.4′−メチレン
−ビス−(6−ジー第三ブチル−2−メチルフェノール
、4.4’−メチレン−ビス−(2,6−第三ブチル−
フェノール)、2,6−ジー(3−第三ブチル−5−メ
チル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェノー
ル、2.2′−メチレン−ビス−〔4−メチル−6−(
α−メチルシクロヘキシル)−フェノール〕、1.1−
ビス−(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニル)
−ブタン、1,1−ビス−(5−第三ブチルー4−ヒド
ロキシー2−メチルフェニル)−ブタン、2.2−ビス
−(6,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシエチル)
−プロパン、1、1.3− トリス−(5−第三ブチル
−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、2.
2−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メ
チルフェニル)−4−n−ドデシルメルカプトブタン、
1.1.5.5−テトラ−(5−第三ブチル−4−ヒド
ロキシ−2−メチルフェニル)−ペンタン及ヒエチレン
グリコールピスー[3゜ローヒス−(3′−第三プチル
−4′−ヒドロキシフェニル)−ブチレート]。
2′−メチレン−ビス−(6−第三ブチル−4−メチル
フェノール)、2.2’−メチレン−ビス−(6−第三
ブチル−4−エチルフェノール)、4.4′−メチレン
−ビス−(6−ジー第三ブチル−2−メチルフェノール
、4.4’−メチレン−ビス−(2,6−第三ブチル−
フェノール)、2,6−ジー(3−第三ブチル−5−メ
チル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェノー
ル、2.2′−メチレン−ビス−〔4−メチル−6−(
α−メチルシクロヘキシル)−フェノール〕、1.1−
ビス−(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニル)
−ブタン、1,1−ビス−(5−第三ブチルー4−ヒド
ロキシー2−メチルフェニル)−ブタン、2.2−ビス
−(6,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシエチル)
−プロパン、1、1.3− トリス−(5−第三ブチル
−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、2.
2−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メ
チルフェニル)−4−n−ドデシルメルカプトブタン、
1.1.5.5−テトラ−(5−第三ブチル−4−ヒド
ロキシ−2−メチルフェニル)−ペンタン及ヒエチレン
グリコールピスー[3゜ローヒス−(3′−第三プチル
−4′−ヒドロキシフェニル)−ブチレート]。
t50−、N−及びS−ベンジル化合物、例えば3、6
; s、 5’−テトラ−第三ブチル−4,4′−ジヒ
ドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル4−ヒドロ
キシ−3,5−ジメチルベンジル−メルカプトアセテー
ト、トリス−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジル)−アミン及びビス−(4−第三プチル−3
−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)ジチオテレ
フタレート。
; s、 5’−テトラ−第三ブチル−4,4′−ジヒ
ドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル4−ヒドロ
キシ−3,5−ジメチルベンジル−メルカプトアセテー
ト、トリス−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジル)−アミン及びビス−(4−第三プチル−3
−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)ジチオテレ
フタレート。
1.6 ヒドロキシベンジル化マロネート、例えばジ
オクタデシル2.2−ビス−(6,5−ジー第三フチル
ー2−ヒドロキシベンジル)−マロネート、ジオクタデ
シル2−β−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチル
−ベンジル)−マロネート、ジ−ドデシルメカブト−エ
チル2,2−ビス−(3,5−第三プチル−4−ヒドロ
キシベンジル)−マロネート及びジー[4−(1,1,
3゜3−テトラメチルブチル)−フェニル)2.2−ビ
ス−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)−マロネート〇 1.7 ヒドロキシベンジル−芳香族化合物、例えば
1,3.5−トリス−(3,5−ジー第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル) −2,4,6−トリメfルーベ
ンゼン、1.4−ビス−(6,5−ジー第三ブチル−4
−ヒドロキシベンジル) −2,3,5゜6−チトラメ
チルベンゼン及び2.4L 6’−) IJ −(3,
5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ/L/)−
フェノール。
オクタデシル2.2−ビス−(6,5−ジー第三フチル
ー2−ヒドロキシベンジル)−マロネート、ジオクタデ
シル2−β−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチル
−ベンジル)−マロネート、ジ−ドデシルメカブト−エ
チル2,2−ビス−(3,5−第三プチル−4−ヒドロ
キシベンジル)−マロネート及びジー[4−(1,1,
3゜3−テトラメチルブチル)−フェニル)2.2−ビ
ス−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)−マロネート〇 1.7 ヒドロキシベンジル−芳香族化合物、例えば
1,3.5−トリス−(3,5−ジー第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル) −2,4,6−トリメfルーベ
ンゼン、1.4−ビス−(6,5−ジー第三ブチル−4
−ヒドロキシベンジル) −2,3,5゜6−チトラメ
チルベンゼン及び2.4L 6’−) IJ −(3,
5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ/L/)−
フェノール。
1.8s−トリアジン化合物、例えば2,4−ビス−オ
クチルメルカプ)−6−(3,5−ジー第三ブチル−4
−ヒドロキシ−アニリノ)−S−)リアジン、2−オク
チルメカブ)−4,6−ビス−(3,−ジー第三ブチル
−4−ヒドロキシアニリノ)−S−)リアジン、2−オ
クチルメルカプト−4,6−ビス−(6,5−ジー第三
ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ) −3−) IJ
チアン、2、4.4− トリス−(3,5−ジー第三ブ
チル−4−ヒドロキシフェノキシ)−S −)リアジン
、2゜4、6− トリス−(3,5−ジー第三ブチル−
4−ヒドロキシフェニルエチル)−8−トリアジン及び
1,3.5−)リス−(3,5−ジー第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)インシアヌレート。
クチルメルカプ)−6−(3,5−ジー第三ブチル−4
−ヒドロキシ−アニリノ)−S−)リアジン、2−オク
チルメカブ)−4,6−ビス−(3,−ジー第三ブチル
−4−ヒドロキシアニリノ)−S−)リアジン、2−オ
クチルメルカプト−4,6−ビス−(6,5−ジー第三
ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ) −3−) IJ
チアン、2、4.4− トリス−(3,5−ジー第三ブ
チル−4−ヒドロキシフェノキシ)−S −)リアジン
、2゜4、6− トリス−(3,5−ジー第三ブチル−
4−ヒドロキシフェニルエチル)−8−トリアジン及び
1,3.5−)リス−(3,5−ジー第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)インシアヌレート。
1.9 β−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−プロピオン酸アミド、例えば1.3.
5−トリス−6,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル−プロピオニル)−へキサヒドロ−8−トリア
ジン、N、N’−ジー(6,5−シー第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニル−ブoピオニル)−へキサメチレン
ジアミン及びN、N’−ビス−β−(3,5−ジー第三
ブチル−4−ヒドロキシフエニルーグロビオニル)−ヒ
ドラジン。
キシフェニル)−プロピオン酸アミド、例えば1.3.
5−トリス−6,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル−プロピオニル)−へキサヒドロ−8−トリア
ジン、N、N’−ジー(6,5−シー第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニル−ブoピオニル)−へキサメチレン
ジアミン及びN、N’−ビス−β−(3,5−ジー第三
ブチル−4−ヒドロキシフエニルーグロビオニル)−ヒ
ドラジン。
1.10 β−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロ
キシ−フェニル)−プロピオン酸と一価モシくは多価フ
ルーff−ル例えばマメタノール、エタノール、オクタ
デカノール、1.6−ヘキサンジオール、1.9−ノナ
ンジオール、エチレングリコール、1.2−フロパンジ
オール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、チオジエチレングリコール、ネオヘンチルグリコー
ル、ペンタエリスリトール、3−チア−ウンデカノール
、6−チア−ペンタデカソール、トリメチルヘキサン−
ジオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレート及び
4−ヒドロキシ−メチル−1−ホスファ−2,6,7−
ドリオキサビシクロー〔2゜2.2)オクタンとのエス
テル。
キシ−フェニル)−プロピオン酸と一価モシくは多価フ
ルーff−ル例えばマメタノール、エタノール、オクタ
デカノール、1.6−ヘキサンジオール、1.9−ノナ
ンジオール、エチレングリコール、1.2−フロパンジ
オール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、チオジエチレングリコール、ネオヘンチルグリコー
ル、ペンタエリスリトール、3−チア−ウンデカノール
、6−チア−ペンタデカソール、トリメチルヘキサン−
ジオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレート及び
4−ヒドロキシ−メチル−1−ホスファ−2,6,7−
ドリオキサビシクロー〔2゜2.2)オクタンとのエス
テル。
1.11β−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−
メチルフェニル)−プロピオン酸と一価もしくは多価ア
ルコール例えばメタノール、エタノール、オクタデカノ
ール、1.6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオ
ール、エチレングリコール、1.2−フロパンジオール
、ジエチレンクリコール、トリエチレングリコール、チ
オジエチ+77 f IJコール、ネオペンチルクリコ
ール、ペンタエリスリトール、ろ−テアーウンデカノー
ル、6−チア−ペンタデカノール、トリメチルヘキサン
ジオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレート及び
4−ヒドロキシメチル−ホスファ−2,6,7−トリオ
キサビシクロ〔2゜2、2 )オクタンとのエステル。
メチルフェニル)−プロピオン酸と一価もしくは多価ア
ルコール例えばメタノール、エタノール、オクタデカノ
ール、1.6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオ
ール、エチレングリコール、1.2−フロパンジオール
、ジエチレンクリコール、トリエチレングリコール、チ
オジエチ+77 f IJコール、ネオペンチルクリコ
ール、ペンタエリスリトール、ろ−テアーウンデカノー
ル、6−チア−ペンタデカノール、トリメチルヘキサン
ジオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレート及び
4−ヒドロキシメチル−ホスファ−2,6,7−トリオ
キサビシクロ〔2゜2、2 )オクタンとのエステル。
1123、5−シー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル酢酸と一価もしくは多価アルコール例えば、メタノー
ル、エタノール、オクタデカノール、1.6−ヘキサン
ジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコー
ル、1.2−7’ロバンジオール、ジエチレングリコー
ル、チオジグリコール、ネオヘンチルクリコール、ペン
タエリスリトール、6−テア−ウンデカノール、6−テ
ア−ウンデカノール、トリメチルヘキサンジオール、ト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリス
−ヒドロキシエチルイソシアヌレート及び4−ヒドロキ
シメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシ
クロ[2,2,2]−オクタンとのエステル、特にペン
タエリスリトールのテトラビスエステル。
ル酢酸と一価もしくは多価アルコール例えば、メタノー
ル、エタノール、オクタデカノール、1.6−ヘキサン
ジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコー
ル、1.2−7’ロバンジオール、ジエチレングリコー
ル、チオジグリコール、ネオヘンチルクリコール、ペン
タエリスリトール、6−テア−ウンデカノール、6−テ
ア−ウンデカノール、トリメチルヘキサンジオール、ト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリス
−ヒドロキシエチルイソシアヌレート及び4−ヒドロキ
シメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシ
クロ[2,2,2]−オクタンとのエステル、特にペン
タエリスリトールのテトラビスエステル。
1.16ペンジルホスホネート、例えばジメチルろ。
5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル−ホスホ
ネート、ジエチル6.5−ジー第三フチルー4−ヒドロ
キシベンジル−ホスホネート、ジオクタデシル3,5−
ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル−ホスホネー
ト及びジオクタデシル5−第三プチル−4−ヒドロキシ
−3−メチルベンジル−ホスホネート。
ネート、ジエチル6.5−ジー第三フチルー4−ヒドロ
キシベンジル−ホスホネート、ジオクタデシル3,5−
ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル−ホスホネー
ト及びジオクタデシル5−第三プチル−4−ヒドロキシ
−3−メチルベンジル−ホスホネート。
さらに本6発明安定剤及び酸化防止剤と一緒に使用する
ことのできる添加剤の例として下記のものを挙げること
ができる。
ことのできる添加剤の例として下記のものを挙げること
ができる。
t アミノアリール誘導体、
例えばフェニル−1−ナフチルアミン、フェニル−2−
ナフチルアミン、N、N’−ジ−フェニル−p−フェニ
レンジアミン、N、N’−シー2−ナフチル−p−フェ
ニレンジアミン、N、N’−シーナフチル−p−フェニ
レンジアミン、N。
ナフチルアミン、N、N’−ジ−フェニル−p−フェニ
レンジアミン、N、N’−シー2−ナフチル−p−フェ
ニレンジアミン、N、N’−シーナフチル−p−フェニ
レンジアミン、N。
N′−ジー第ニブチル−p−フェニレンジアミン、6−
ニトキシー2.2.4−1リメチル−1,2−ジヒドロ
キノリン、6−ドゾシルー2+ 2.4− ) IJメ
チル−1,2−ジヒドロキノリン、モノ−及びジオクチ
ルイミノジベンジル、重合1.;i 2.2.4−トリ
メチル−1,2−ジヒドロキノリン。
ニトキシー2.2.4−1リメチル−1,2−ジヒドロ
キノリン、6−ドゾシルー2+ 2.4− ) IJメ
チル−1,2−ジヒドロキノリン、モノ−及びジオクチ
ルイミノジベンジル、重合1.;i 2.2.4−トリ
メチル−1,2−ジヒドロキノリン。
オクチル化ジフェニルアミン、ノニル化ジフェニルアミ
ン、N−フェニル−N/−7クロヘキシルーp−フェニ
レンジアミン、N−フェニル−N/−イソプロビル−p
−フェニレンジアミン、N、N′−シル第三オクチルー
p−フェニレンジアミン、N−フエニ# −N’−第二
、t クチルーp−フェニレンジアミン、N、N’−ジ
ー(1,4−ジメチルペンチル)−p−フェニレンジア
ミン−N、 N’−ジメチル−NN’−シー(第二オク
テルンーp−フェニレンジアミン、2.6−シメチルー
4−メトキシアニリン、4−エトキシ−N=第ユニブチ
ルアニリンジフェニルアミン−アセトン縮合物、アルド
ール−1−す7テルアミン及びフェノチアジン。
ン、N−フェニル−N/−7クロヘキシルーp−フェニ
レンジアミン、N−フェニル−N/−イソプロビル−p
−フェニレンジアミン、N、N′−シル第三オクチルー
p−フェニレンジアミン、N−フエニ# −N’−第二
、t クチルーp−フェニレンジアミン、N、N’−ジ
ー(1,4−ジメチルペンチル)−p−フェニレンジア
ミン−N、 N’−ジメチル−NN’−シー(第二オク
テルンーp−フェニレンジアミン、2.6−シメチルー
4−メトキシアニリン、4−エトキシ−N=第ユニブチ
ルアニリンジフェニルアミン−アセトン縮合物、アルド
ール−1−す7テルアミン及びフェノチアジン。
上記の酸化防止剤を使用するときには退色効果を考慮に
入れなければならない。
入れなければならない。
2、紫外線吸収剤および光安定剤
2.12−(2’−ヒドロキシフェニル)−ベンズトリ
アゾール、例えば5′−メチル−13/ 5/−ジー第
三ブチル−15′−第三ブチル−15’−(1゜1.3
.3−テトラメチルブチル)−15−クロロ−6二5′
−ジー第三ブチル、5−クロロ−3′−第三ブチル−5
′−メチル〜、6′−第二ブチル−5′。
アゾール、例えば5′−メチル−13/ 5/−ジー第
三ブチル−15′−第三ブチル−15’−(1゜1.3
.3−テトラメチルブチル)−15−クロロ−6二5′
−ジー第三ブチル、5−クロロ−3′−第三ブチル−5
′−メチル〜、6′−第二ブチル−5′。
第三ブチル−16′−アルファーメチルベンジル−5’
−メチル−13′−アルファーメチル−ベンジル−57
−メチル−5−クロo−14’〜ヒドロキシ−14′−
メトキシ−14′−オクトキシ−13′、5′−ジー第
三アミル−13′−メチル−5′−カルボメトキシエテ
ル−13’、5’−ヒス(α、α−ジメチルベンジル)
−13’、5’−ビス(α、α−ジメチルベンジル)−
5−クロロ−161,s/−ジー第三オクチルフェニル
、3’、 5’−ジー第三オクfkフェニルー5−10
ロー及び5−10ローZ、/、 S/−ジー第三アミ
ル−誘導体。
−メチル−13′−アルファーメチル−ベンジル−57
−メチル−5−クロo−14’〜ヒドロキシ−14′−
メトキシ−14′−オクトキシ−13′、5′−ジー第
三アミル−13′−メチル−5′−カルボメトキシエテ
ル−13’、5’−ヒス(α、α−ジメチルベンジル)
−13’、5’−ビス(α、α−ジメチルベンジル)−
5−クロロ−161,s/−ジー第三オクチルフェニル
、3’、 5’−ジー第三オクfkフェニルー5−10
ロー及び5−10ローZ、/、 S/−ジー第三アミ
ル−誘導体。
2.22.4−ビス−(2′−ヒドロキシフェニル)−
6−アルキル−5−)リアジン、例えば6−ニチルー、
6−ヘプタデシル−または6−ウンゾシルー誘導体。
6−アルキル−5−)リアジン、例えば6−ニチルー、
6−ヘプタデシル−または6−ウンゾシルー誘導体。
2.62−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば4−ヒド
ロキシ−,4−メトキシ−14−オクトキシ−14−デ
シルオキシ−14−ドデシルオキシ−14−ベンジルオ
キシ−12’、4.4’−トリヒドロキシ−または2′
−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ−誘導体。
ロキシ−,4−メトキシ−14−オクトキシ−14−デ
シルオキシ−14−ドデシルオキシ−14−ベンジルオ
キシ−12’、4.4’−トリヒドロキシ−または2′
−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ−誘導体。
2.41.3−ビス−(2′−ヒドロキシベンゾイル)
−ベンゼン、flJt[1,3−ビス−(2′−ヒドロ
キシ−4′−へキシルオキシ−ベンゾイル)−ベンゼン
、1.6−ビス−(2′−ヒドロキシ−4′−オクチル
オキシ−ベンゾイル)−ベンゼンteは1,6−ビス−
(2′−ヒドロキシ−4′−ドテシルオキシ−ベンゾイ
ル)−ベンゼン。
−ベンゼン、flJt[1,3−ビス−(2′−ヒドロ
キシ−4′−へキシルオキシ−ベンゾイル)−ベンゼン
、1.6−ビス−(2′−ヒドロキシ−4′−オクチル
オキシ−ベンゾイル)−ベンゼンteは1,6−ビス−
(2′−ヒドロキシ−4′−ドテシルオキシ−ベンゾイ
ル)−ベンゼン。
2.5 置換および未置換安息香酸エステル、例えばフ
ェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、
ジベンゾイルレゾルシン、ビス−(4−第三ブチルベン
ゾイル)−レゾルシン、ベンゾイルレゾルシン、3,5
−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸−2,4−
第三ブチルフェニルエステルまたは一オクタデシルエス
テルtfcは−2−メチル−4,6−ジー第三ブチルエ
ステル。
ェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、
ジベンゾイルレゾルシン、ビス−(4−第三ブチルベン
ゾイル)−レゾルシン、ベンゾイルレゾルシン、3,5
−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸−2,4−
第三ブチルフェニルエステルまたは一オクタデシルエス
テルtfcは−2−メチル−4,6−ジー第三ブチルエ
ステル。
2.6 アクリレート、例えばエチルα−シアノ−β
、β〜ジフェニル−アクリレート、インオクチルルα−
シアノ−β、β−ジフェニルアクリレート、メチルα−
カルボメトキシ−シンナメート、メチルα−シアノ−β
−メチル−p−メトキシ−シンナメート、ブチルα−シ
アノ−β−メチル−p−メトキシ−シンナメート、メチ
ルα−カルボメトキシ−p−メトキシ−シンナメートお
よびN−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)−
2−メチル−インドリン。
、β〜ジフェニル−アクリレート、インオクチルルα−
シアノ−β、β−ジフェニルアクリレート、メチルα−
カルボメトキシ−シンナメート、メチルα−シアノ−β
−メチル−p−メトキシ−シンナメート、ブチルα−シ
アノ−β−メチル−p−メトキシ−シンナメート、メチ
ルα−カルボメトキシ−p−メトキシ−シンナメートお
よびN−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)−
2−メチル−インドリン。
2.7 立体障害アミン、例えば4−ベンゾイル−2、
2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアリル
−オキシ−2,2,6,6−チトラメチルピペリジン、
ビス−(2,2,6,6−チトラメチルービペリジン)
−セバケートまたはろ一〇−オクチル−7、7,9,9
−テトラメチル−1,3,8−1リアザースピロ〔4,
5)デカン−2,4−’ジオン。
2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアリル
−オキシ−2,2,6,6−チトラメチルピペリジン、
ビス−(2,2,6,6−チトラメチルービペリジン)
−セバケートまたはろ一〇−オクチル−7、7,9,9
−テトラメチル−1,3,8−1リアザースピロ〔4,
5)デカン−2,4−’ジオン。
2.8 7ユウ酸ジアミド、例えば4.4′−ジ−オク
チルオキシ−オキサニリド、2.2’−ジ−オクチルオ
キシ−5,5′−ジー第三ブチル−オキサニリド、2,
2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジー第三ブチル
−オキサニリド、2−エトキシ−27−ニチルーオキサ
ニド、N、 N’−ビス−(3−ジメチルアミノプロピ
ル)−オキサルアミド、2−エトキシ−5−第三ブチル
−2′−エチル−’ 5.4’−ジー第三ブチル−オキ
サニリドまたはオルト−およびバラ−メトキシー二置換
オ斤すニリドの混合物および0−およびp−エトキシー
二置換オキサ′ニリドの混合物。
チルオキシ−オキサニリド、2.2’−ジ−オクチルオ
キシ−5,5′−ジー第三ブチル−オキサニリド、2,
2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジー第三ブチル
−オキサニリド、2−エトキシ−27−ニチルーオキサ
ニド、N、 N’−ビス−(3−ジメチルアミノプロピ
ル)−オキサルアミド、2−エトキシ−5−第三ブチル
−2′−エチル−’ 5.4’−ジー第三ブチル−オキ
サニリドまたはオルト−およびバラ−メトキシー二置換
オ斤すニリドの混合物および0−およびp−エトキシー
二置換オキサ′ニリドの混合物。
6、金属不活性化剤、例えばオキサニリド、イソフター
ル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビス−フェニルヒドラ
ジド、ビス−ベンジリチン−シュウ酸ジヒドラジド、N
、N’−ジアセチル−アジピン酸ジヒドラジド、N、N
’−ビス−サリチロイル−シュウ酸ジヒドラジド、N、
N’−ビス−サリチロイルヒドラジン、N、N’−ビス
−(3,5−シー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル
プロピオニル)−ヒドラジン、N−サリチロイル−N’
−サリチラールヒドラジン、3−サリチロイル−アミノ
−1,2,4−)リアゾールまたはへ。
ル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビス−フェニルヒドラ
ジド、ビス−ベンジリチン−シュウ酸ジヒドラジド、N
、N’−ジアセチル−アジピン酸ジヒドラジド、N、N
’−ビス−サリチロイル−シュウ酸ジヒドラジド、N、
N’−ビス−サリチロイルヒドラジン、N、N’−ビス
−(3,5−シー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル
プロピオニル)−ヒドラジン、N−サリチロイル−N’
−サリチラールヒドラジン、3−サリチロイル−アミノ
−1,2,4−)リアゾールまたはへ。
へ′−ビスーサリチロイルーチオプロピオン酸ジヒドラ
ジド。
ジド。
4、塩基性補助安定剤、例えば高級脂肪酸のアルカリ金
属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カ
ルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、
リシノール酸ナトリウムまたはパルミチン酸カリウム。
属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カ
ルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、
リシノール酸ナトリウムまたはパルミチン酸カリウム。
5、成核剤、例えば4−第三ブチル安息香酸、アジピン
酸筐たはジフェニル酢酸。
酸筐たはジフェニル酢酸。
6. ホスファイト、例えばトリフェニル ホスファイ
ト、ジフェニルアルキルホスファイトフェニルジアルキ
ル ホスファイト、トリー(ノニルフェニル)ホスファ
イト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシル
ホスファイト、6,9−イソデシルオキシ−2,4,8
,10−テトラオキサ−6,9−ジホスファ−[5,5
]−ウンデカンおよびトリー(4−ヒドロキシ−6,5
−ジー第三ブチルフェニル)ホスファイト。
ト、ジフェニルアルキルホスファイトフェニルジアルキ
ル ホスファイト、トリー(ノニルフェニル)ホスファ
イト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシル
ホスファイト、6,9−イソデシルオキシ−2,4,8
,10−テトラオキサ−6,9−ジホスファ−[5,5
]−ウンデカンおよびトリー(4−ヒドロキシ−6,5
−ジー第三ブチルフェニル)ホスファイト。
安定化組成物中に加え得る他の添加剤は、ジラウリルチ
オジプロピオネートマタはジステアリルテオジグロピオ
ネートのようなチオ相乗剤、ステアリル アルコールの
ような潤滑剤、充填剤、カーボンブラック、アスベスト
、カオリン、メルク、グラスファイバー、顔料、光学的
明色化剤、防炎剤および帯電防止剤である。
オジプロピオネートマタはジステアリルテオジグロピオ
ネートのようなチオ相乗剤、ステアリル アルコールの
ような潤滑剤、充填剤、カーボンブラック、アスベスト
、カオリン、メルク、グラスファイバー、顔料、光学的
明色化剤、防炎剤および帯電防止剤である。
本発明化合物は主として酸化防止機能または光安定化機
能のいずれかを有する単一の安定剤として、あるいは、
酸化防止剤と光安定剤としての用途を組合せることので
きる安定剤として使用することができる。この安定剤は
フェノール系抗酸化剤、潤滑剤、例えばステアリン酸カ
ルシウム、顔料、着色剤または染料、紫外線吸収剤、立
体障害アミンのような光安定剤、金属不活性化剤、メル
ク及び他のフィラー等とともに使用することができる。
能のいずれかを有する単一の安定剤として、あるいは、
酸化防止剤と光安定剤としての用途を組合せることので
きる安定剤として使用することができる。この安定剤は
フェノール系抗酸化剤、潤滑剤、例えばステアリン酸カ
ルシウム、顔料、着色剤または染料、紫外線吸収剤、立
体障害アミンのような光安定剤、金属不活性化剤、メル
ク及び他のフィラー等とともに使用することができる。
以下の実施例により本発明の望ましい実施態様を示す。
これらの実施例中では特記しない限り部は重量部を示す
。
。
実施例1 :’2,4,8.10−テトラー第三ブチル
−6−メチル−ジベンゾ−(dtf)−(’p6s2)
−ジオキサシレピン 窒素雰囲気下で火j6乾沫したフラスコ中にて、トルエ
ン200 mt中(こ ジクロロメチルシラン25グラ
ム(Q、2モル)を含む攪拌溶液をトルエン250mA
中に5.5’、5.5’−テトラ−第三ブチル−ビフェ
ニル−2,2′−ジオール82.1グラム(Q、2モル
)及びトリエチルアミン4Q、5グラム(LL4モル)
を含む溶液を5ないし10°Cで徐々に加える。添加後
1反応混合物を室温で12時間攪拌し、次(こトリエチ
ルアミンハイドロクロライドを戸別し、真空中で溶媒を
除去する。残留物をアセトニトリル−トルエンから再結
晶して、融点191ないし19Fi°Cの白色結晶69
.4グラム(77チ )を得る。
−6−メチル−ジベンゾ−(dtf)−(’p6s2)
−ジオキサシレピン 窒素雰囲気下で火j6乾沫したフラスコ中にて、トルエ
ン200 mt中(こ ジクロロメチルシラン25グラ
ム(Q、2モル)を含む攪拌溶液をトルエン250mA
中に5.5’、5.5’−テトラ−第三ブチル−ビフェ
ニル−2,2′−ジオール82.1グラム(Q、2モル
)及びトリエチルアミン4Q、5グラム(LL4モル)
を含む溶液を5ないし10°Cで徐々に加える。添加後
1反応混合物を室温で12時間攪拌し、次(こトリエチ
ルアミンハイドロクロライドを戸別し、真空中で溶媒を
除去する。残留物をアセトニトリル−トルエンから再結
晶して、融点191ないし19Fi°Cの白色結晶69
.4グラム(77チ )を得る。
元素分析
計算値(C,、H,、0□Si) :C,76,9;H
,9,a。
,9,a。
実測値: C,77,0;H,9,8゜実施例2 :
2,4,8.10−テトラ−第三ブチル−6,6−シン
チルージベンゾー(dtf)−(1j3.2)−ジオキ
サシレピン 実施例1の手順を用い、この化合物をジクロロジメチル
シラン25.Bクラム(α2モル)、5゜3’、5.5
’−テトラ−第三ブチル−ビフェニル−2,2′−ジオ
ール82.1グラム(α2モル)及びトリエチルアミン
4α5グラム([14モル)から製造する。2−ブタノ
ンから再結晶して融点170すいし176°Cの白色粉
末4五7グラム(47%)を得る。
2,4,8.10−テトラ−第三ブチル−6,6−シン
チルージベンゾー(dtf)−(1j3.2)−ジオキ
サシレピン 実施例1の手順を用い、この化合物をジクロロジメチル
シラン25.Bクラム(α2モル)、5゜3’、5.5
’−テトラ−第三ブチル−ビフェニル−2,2′−ジオ
ール82.1グラム(α2モル)及びトリエチルアミン
4α5グラム([14モル)から製造する。2−ブタノ
ンから再結晶して融点170すいし176°Cの白色粉
末4五7グラム(47%)を得る。
元素分析
計算値(Cム。H,602’Si): C,77,2;
H,9,9゜来測値: C,77,4;H,1100実
施例5 : 2,4,8.10−テトラ−第三ブチル−
6−メチル−12H−ジベンゾ−(d、g) −(1゜
3.2〕−ジオキサシロシン 実施例1の手順を用い、この化合物をジクロロタチルシ
ラン25グラム((12モル)、2,2−メチレン−ビ
ス−(4,6−ジー第三ブチルフェノール)84.9グ
ラム(12モル)及びトリエチルアミン4α5グラム(
14モル)から製造する。アセトニトリル−トルエンか
ら2回再結晶して融点250ないし231°Cの白色粉
末15.5グラム(17俤)を得る。
H,9,9゜来測値: C,77,4;H,1100実
施例5 : 2,4,8.10−テトラ−第三ブチル−
6−メチル−12H−ジベンゾ−(d、g) −(1゜
3.2〕−ジオキサシロシン 実施例1の手順を用い、この化合物をジクロロタチルシ
ラン25グラム((12モル)、2,2−メチレン−ビ
ス−(4,6−ジー第三ブチルフェノール)84.9グ
ラム(12モル)及びトリエチルアミン4α5グラム(
14モル)から製造する。アセトニトリル−トルエンか
ら2回再結晶して融点250ないし231°Cの白色粉
末15.5グラム(17俤)を得る。
元素分析
計算値(C3oH,、C25i) : C,77,2
;H,?、9゜実測値: C,77,2;H,9,7゜
実施例4 : 2,4,8.10−テトラ−第三ブチル
−6−フェニル−12H−ノベンゾー(d、g) −(
1。
;H,?、9゜実測値: C,77,2;H,9,7゜
実施例4 : 2,4,8.10−テトラ−第三ブチル
−6−フェニル−12H−ノベンゾー(d、g) −(
1。
5.2〕−ジオキサンロジン
実施例1の手順を用い、この化合物をジクロロフェニル
7ラン17.7//”ラム(Q、1モル)。
7ラン17.7//”ラム(Q、1モル)。
2.2′−メチレン−ビス−(4,6−ジー第王ブチル
フエノール) 42.5グラム(cLiモル)及びトリ
エチルアミン212グラム(0,2モル)から製造する
。アセトニトリル−トルエンから2回再結晶して、融点
155すいし156°Cの汚れた白色粉末として生成物
64t(収率64チ)を得る:I R: 2200cI
nSiH。
フエノール) 42.5グラム(cLiモル)及びトリ
エチルアミン212グラム(0,2モル)から製造する
。アセトニトリル−トルエンから2回再結晶して、融点
155すいし156°Cの汚れた白色粉末として生成物
64t(収率64チ)を得る:I R: 2200cI
nSiH。
実施例5 : 2,4,8.10−テトラ−第三ブチル
−6,6,12−)−ジメチル−12H−ジベンゾ−(
d。
−6,6,12−)−ジメチル−12H−ジベンゾ−(
d。
g〕−”(1,5,2)−ジオキサシロシン実施例1の
手順を用い、この化合物をジクロロジメチルシラン25
.8グラム((12モル)。
手順を用い、この化合物をジクロロジメチルシラン25
.8グラム((12モル)。
2.2′−エチリデン−ビス−(4,6−ジー第三ブチ
ルフェノール)87.7グラム(0,2モル)及びトリ
エチルアミン4I15グラム([14モル)から製造す
る。アセトニトリル−トルエンから再結晶し、融点17
1ないし177°Cの白色針状物として生成物77.7
グラム(収率79%)を得る。
ルフェノール)87.7グラム(0,2モル)及びトリ
エチルアミン4I15グラム([14モル)から製造す
る。アセトニトリル−トルエンから再結晶し、融点17
1ないし177°Cの白色針状物として生成物77.7
グラム(収率79%)を得る。
元素分析
計算値(C,、H,。028i) : C,77,7;
H,1(L2゜実測jIlf: c、77.5; H
,9,9゜実施例6 : 2,4,8,10−テトラ−
第三ブチル−6,12−ジメチル−12H−ジベンゾ−
(d、gl(1,5,2,1−ジオキサシロシン 実施例1の手順を用い、この化合物をジクロロメチルシ
ラン23グラム([12モル)% 2,2’−エチリデ
ン−ビス−(4,6−ジー第三ブチルフェノール)81
7グラム(112モル)及びトリエチルアミン4α5グ
ラム([14モル)から製造する。アセトニトリル−ト
ルエンから2回再結晶して、融点1897’、i’いし
194°Cの白色結晶49グラム(収率51チ)を得る
。
H,1(L2゜実測jIlf: c、77.5; H
,9,9゜実施例6 : 2,4,8,10−テトラ−
第三ブチル−6,12−ジメチル−12H−ジベンゾ−
(d、gl(1,5,2,1−ジオキサシロシン 実施例1の手順を用い、この化合物をジクロロメチルシ
ラン23グラム([12モル)% 2,2’−エチリデ
ン−ビス−(4,6−ジー第三ブチルフェノール)81
7グラム(112モル)及びトリエチルアミン4α5グ
ラム([14モル)から製造する。アセトニトリル−ト
ルエンから2回再結晶して、融点1897’、i’いし
194°Cの白色結晶49グラム(収率51チ)を得る
。
元素分析
計算値CC5tI(4aOt Si) : C,77,
4;Hl[Ll。
4;Hl[Ll。
実測値: C,77,1;H,9,9゜実施例7 :
2,4,8,10−テトラ−累三ブチル−6−メチル−
ジベンゾ−(:d、g)−CI 、5,2.6)−ジオ
キサシラチオシン 実施例1の手順を用い、この化合物をジクロロメチルシ
ラン5.7グラム((105モル)、2゜2′−チオ−
ビス−(4,6−ジー第三ブチルフェノール)221グ
ラム(0,05モル)及びトリエチルアミ71a1グラ
ム(α1モル)から製造する。
2,4,8,10−テトラ−累三ブチル−6−メチル−
ジベンゾ−(:d、g)−CI 、5,2.6)−ジオ
キサシラチオシン 実施例1の手順を用い、この化合物をジクロロメチルシ
ラン5.7グラム((105モル)、2゜2′−チオ−
ビス−(4,6−ジー第三ブチルフェノール)221グ
ラム(0,05モル)及びトリエチルアミ71a1グラ
ム(α1モル)から製造する。
アセトン−トルエンから2回再結晶し、fiI!lI点
178ないし180°Cの白色結晶11.8グラム(収
率48チ)を得る。
178ないし180°Cの白色結晶11.8グラム(収
率48チ)を得る。
元素分析
計算値(’49 H440□5Si) : C、71,
9; ’H,9,2゜実測値: C,71,7;H,9
,2゜実施例8 : 2,4,8,10−テトラ−第三
ブチル−6−フエニルーシベンゾー(d、g) −[1
,5,2゜6]−ジオキサシラチオシン 実施例1の手j威を用い、この化合物をジクロロフェニ
ル7ラン5.5 クラム((105モル)、2.2′−
チオ−ビス(4,6−ジー第三ブチルフェノール)11
6グラム(105モ′ル)及びトリエチルアミン&1グ
ラム(0,06モル)から製造する。アセトンから再結
晶して、融点175ないし177°Cの白色固体&7グ
ラム(収率41チ)を得る。
9; ’H,9,2゜実測値: C,71,7;H,9
,2゜実施例8 : 2,4,8,10−テトラ−第三
ブチル−6−フエニルーシベンゾー(d、g) −[1
,5,2゜6]−ジオキサシラチオシン 実施例1の手j威を用い、この化合物をジクロロフェニ
ル7ラン5.5 クラム((105モル)、2.2′−
チオ−ビス(4,6−ジー第三ブチルフェノール)11
6グラム(105モ′ル)及びトリエチルアミン&1グ
ラム(0,06モル)から製造する。アセトンから再結
晶して、融点175ないし177°Cの白色固体&7グ
ラム(収率41チ)を得る。
元素分析
計算値(Cs4 H46025Sj) : C,74,
7; H,a5゜実測値: C,74,9;H,a6゜ 実施例9 : 2,4,8,10−テトラ−第三ブチル
−12H−ジベンゾ−(d、g、l−(1,5,2)−
ジーオキサシロシン ドライアイス−アセトンを充填したシュワール(Dew
ar)コンデンサと毛細ガラス管をとりつけた火焔乾燥
フラスコ中にて、テトラヒドロフラン100mLに溶解
した2、2′−メチレン−ビス−(4,6−ジー弗三ブ
チルフエノール)4Z5グラム((L1モル)とトリエ
チルアミン2Q、2グラム(02モル)をジクロロシラ
ン11.1クラム((Li1モル)でゆっくり処理する
。濾過及びアセトニトリル−トルエンからの再結晶によ
り。
7; H,a5゜実測値: C,74,9;H,a6゜ 実施例9 : 2,4,8,10−テトラ−第三ブチル
−12H−ジベンゾ−(d、g、l−(1,5,2)−
ジーオキサシロシン ドライアイス−アセトンを充填したシュワール(Dew
ar)コンデンサと毛細ガラス管をとりつけた火焔乾燥
フラスコ中にて、テトラヒドロフラン100mLに溶解
した2、2′−メチレン−ビス−(4,6−ジー弗三ブ
チルフエノール)4Z5グラム((L1モル)とトリエ
チルアミン2Q、2グラム(02モル)をジクロロシラ
ン11.1クラム((Li1モル)でゆっくり処理する
。濾過及びアセトニトリル−トルエンからの再結晶によ
り。
融点189ないし192°Cの白色固体25.9グラム
(収率57チ)を得る。HNMRスペクトルは目的の化
合物と一致する。
(収率57チ)を得る。HNMRスペクトルは目的の化
合物と一致する。
実施例10:
未安定化ポリプロピレン粉末/X−キュレスプロ7アツ
クス(l(ercu7es profax) 6501
をCL5重量%の添加剤と十分に混合する。次に混合物
を2本ロールミルにて、182°Cで5分間混練した後
、安定化したポリプロピレンをミルからシートとして・
取出し冷却させる。次に圧延したポリプロピレンを小片
に切断し、そして油圧プレスにより220°C、175
1)、S、i 、(1,2Xa6Pa)で圧縮成形し、
厚さ25m1t([L655+u) のブラック(平
板)とする。試料を螢光性の日光/暗黒光線室12にさ
らし、破壊を観察する。露光したフィルムにおける赤外
分光吸収が0.5カルボニルに達する迄ζこ要する時間
で破壊度を表わす。
クス(l(ercu7es profax) 6501
をCL5重量%の添加剤と十分に混合する。次に混合物
を2本ロールミルにて、182°Cで5分間混練した後
、安定化したポリプロピレンをミルからシートとして・
取出し冷却させる。次に圧延したポリプロピレンを小片
に切断し、そして油圧プレスにより220°C、175
1)、S、i 、(1,2Xa6Pa)で圧縮成形し、
厚さ25m1t([L655+u) のブラック(平
板)とする。試料を螢光性の日光/暗黒光線室12にさ
らし、破壊を観察する。露光したフィルムにおける赤外
分光吸収が0.5カルボニルに達する迄ζこ要する時間
で破壊度を表わす。
(破壊迄の時間)
なし 5O−ID。
実施例1 280
1 2 270
# 5 540II
4 4001I
5 360J 6
3501 7
470II 8
450# 9
770実施例11:下記のポリ塩化ビニール配合
物を製造する。
4 4001I
5 360J 6
3501 7
470II 8
450# 9
770実施例11:下記のポリ塩化ビニール配合
物を製造する。
部
ポリ塩化ビニール 100.0
エポキシ化大豆油 4.0
ステアリン酸カルノウム Q−5
5ステアリン酢亜鉛 [11
5潤滑剤 [17 流動性改質剤 0.5耐
衝撃性改質剤 aOフェニ
ルジ−ドデシルホスファイト α5実施例1の
化合物 0.6圧縮成形試験
用ブラツクを製造し125°Cのオーブン中に放置する
。安定化されたブラックは対照用のポリ塩化ビニール配
合物すなわち安定剤のない配合物にまさる改善された色
調を示す。
エポキシ化大豆油 4.0
ステアリン酸カルノウム Q−5
5ステアリン酢亜鉛 [11
5潤滑剤 [17 流動性改質剤 0.5耐
衝撃性改質剤 aOフェニ
ルジ−ドデシルホスファイト α5実施例1の
化合物 0.6圧縮成形試験
用ブラツクを製造し125°Cのオーブン中に放置する
。安定化されたブラックは対照用のポリ塩化ビニール配
合物すなわち安定剤のない配合物にまさる改善された色
調を示す。
結論すれば、本発明は有効な安定化作用を示す新規な立
体障害シラン化合物を提供することが認められる。特許
請求の範囲に記載した本発明の範囲から逸脱しない限り
本発明は比率1手順及び物質を変更することができる。
体障害シラン化合物を提供することが認められる。特許
請求の範囲に記載した本発明の範囲から逸脱しない限り
本発明は比率1手順及び物質を変更することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) 次式、: 工 (式中。 R□及びR2は独立して水素原子、炭素原子数1ないし
4のアルキル基またはフェニル基を表わし;または亀及
びR2は一緒になって次式二 で表わされる基を形成し; Xは直接結合、炭素原子数1ないし7のアルキリデン基
または硫黄原子を表わし;Yは炭素原子数4ないし12
のアルキル基または炭素原子数7ないし12のアルクア
リール基を表わし;そして、 Zは水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基ま
たはフェニル基を表わす。)で表わされることを特徴と
する化合物。 (21Yが各々のフェニル環ヲこおいて、シラン酸素に
対しオルソの位置にある特許請求の範囲第1項記載の化
合物。 (3)Yが炭素原子数4ないし8のアルキル基を表わす
特許請求の範囲第2項記載の化合物。 (4)Yが5第三ブチル基を表わす特許請求の範囲第3
項記載の化合物。 (5)Zが炭素原子数4ないし8の第三アルキル基を表
わし、そして各々のフェニル環ζこおいて、シラン酸素
に対しバラの位置ζこある特許請求の範囲第2項記載の
化合物。 (6)xが炭素原子数1ないし7のアルキリデン基また
は硫黄原子を表わす特許請求の範囲第2項記載の化合物
。 (7)Xが次式: (式中s ”!及び丸は独立して水素原子または総炭素
原子数が7を越えないことを前提にして炭素原子数1な
いし4のアルキル基を表わす。)で表わされるアルキリ
デン基を表わす特許請求の範囲第6項記載の化合物。 (812、4、s 、 1o−テトラ−第三ブチル−6
−メチル−ジベンゾ−(d、f) −(1,5,2)−
ジオキサシレピン。 2.4,8.10−テトラ−第三ブチル−6,6−シン
チルージベンゾー(d、f)−1j、5.2) −ジオ
キサシレピン、 2.4,8.10−テトラ−第三ブチルー6−メチルー
12H−ジベンゾ−(d、g) −(1,、,2)−ジ
オキサシロシン、 2.4,8.10−テトラ−第三ブチル−6−フェニル
−12H−ジベンゾ−(d、g) −(1,5゜2〕−
ジオキサシロシン、 2.4,8.10−テトラ−第三ブチル−6,6゜12
−トリメチル−12H−ジベンゾ−〔d。 g ) −(’t’−”)−ジオキサシロシン、2.4
,8.10−テトラ−第三ブチル−6,12−ジメチル
−12H−ジベンゾ−(d、g)−(1゜3.2〕−ジ
オキサシロシン、 2.4,8.10−テトラ−第三ブチル−6−メチル−
ジベンゾ−(dtgl C1−’t2s6)−ジオキサ
シラチオシン、 2.4,8.10−テトラ−第三ブチル−6−フエニル
ーシベンゾー(d、g) −(1,5,2,6) −ジ
オキサシラチオシン。 2.4,8.10−テトラ−第三ブチル−12H−ジベ
ンゾー(a、g〕−(i 、3t2)−ジオキサシロシ
ン。 からなる群から選ばれる特許請求の範囲第2項記載の化
合物。 (9) 次式〇 ! (式中。 R1及び島は独立して水素原子、炭素原子数1ないし4
のアルキル基またはフェニル基を表わし;または電及び
R2は一緒になって次式: で表わされる基を形成し; Xは直接結合、炭素原子数1ないし7のアルキリデン基
または硫黄原子を表わし;Yは炭素原子数4ないし12
のアルキル基または炭素原子数7ないし12のアルクア
リール基を表わし;そして、 Zは水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基ま
たはフェニル基を表わす。)で表わされる化合物の有効
安定化量により安定化された。酸化、熱および化学縁分
解を受ける有機物質からなることを特徴とする材料組成
物。 α〔有機物質が合成ポリマーである特許請求の範囲第9
項記、或の組成・吻。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/457,349 US4503243A (en) | 1983-01-12 | 1983-01-12 | Dioxasilepin and dioxasilocin stabilizers |
US457349 | 1983-01-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59134799A true JPS59134799A (ja) | 1984-08-02 |
JPH0460117B2 JPH0460117B2 (ja) | 1992-09-25 |
Family
ID=23816382
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59004213A Granted JPS59134799A (ja) | 1983-01-12 | 1984-01-12 | ジオキサシレピン及びジオキサシロシン並びに該化合物を含有する安定化組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4503243A (ja) |
EP (1) | EP0114148B1 (ja) |
JP (1) | JPS59134799A (ja) |
CA (1) | CA1239413A (ja) |
DE (1) | DE3473877D1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006087906A1 (ja) * | 2005-02-18 | 2006-08-24 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 新規硬化性樹脂とその製造方法、及びエポキシ樹脂組成物、電子部品装置 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4775497A (en) * | 1986-10-24 | 1988-10-04 | Ciba-Geigy Corporation | Esterification process with calcium hydroxyaryl phosphonate-organosilicon heterocycle catalyst system |
GB0023089D0 (en) * | 2000-09-20 | 2000-11-01 | Eastman Kodak Co | Photographic element dye-forming coupler and stabilizing compound |
GB0127068D0 (en) * | 2001-11-10 | 2002-01-02 | Eastman Kodak Co | Photographic elements containing cyan coupler UV absorber and stabilizer |
DE102009037236A1 (de) | 2009-08-12 | 2011-02-17 | Giesecke & Devrient Gmbh | Folienverbundbanknote und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1082693A (en) * | 1964-02-29 | 1967-09-06 | Dynamit Nobel Ag | Silylation of hydroxy aromatic compounds |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB798163A (en) * | 1953-12-05 | 1958-07-16 | Siemens Ag | Process for the production of ú´,ú´-diphenyldioxy silanes |
BE553340A (ja) * | 1956-03-17 | |||
US2983745A (en) * | 1956-07-18 | 1961-05-09 | Dow Corning | Silpropoxanes |
US2963502A (en) * | 1958-05-26 | 1960-12-06 | Ford Motor Co | Bis (2, 6-diisopropylphenoxy)-dimethylsilane |
US3083219A (en) * | 1961-03-15 | 1963-03-26 | Gen Electric | Intercondensation of tetrahydrofuran with organohalosilanes |
US3256308A (en) * | 1962-03-05 | 1966-06-14 | Dow Chemical Co | 2-methyl-1, 3-dioxa-2-sila-cyclohept-5-ene |
SU467078A1 (ru) * | 1973-01-02 | 1975-04-15 | Предприятие П/Я Г-4236 | Способ получени дисиладиоксадибензоциклооктана |
US4252967A (en) * | 1979-06-20 | 1981-02-24 | Stauffer Chemical Company | Dihaloneopentyl silicate flame retardants |
US4447628A (en) * | 1982-07-12 | 1984-05-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Nonhygroscopic, anionic pentacoordinate silicate |
-
1983
- 1983-01-12 US US06/457,349 patent/US4503243A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-01-06 EP EP84810007A patent/EP0114148B1/de not_active Expired
- 1984-01-06 DE DE8484810007T patent/DE3473877D1/de not_active Expired
- 1984-01-10 CA CA000445019A patent/CA1239413A/en not_active Expired
- 1984-01-12 JP JP59004213A patent/JPS59134799A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1082693A (en) * | 1964-02-29 | 1967-09-06 | Dynamit Nobel Ag | Silylation of hydroxy aromatic compounds |
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WO2006087906A1 (ja) * | 2005-02-18 | 2006-08-24 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 新規硬化性樹脂とその製造方法、及びエポキシ樹脂組成物、電子部品装置 |
KR100941538B1 (ko) | 2005-02-18 | 2010-02-10 | 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 | 신규 경화성 수지와 그의 제조 방법, 및 에폭시 수지 조성물, 전자 부품 장치 |
US8013052B2 (en) | 2005-02-18 | 2011-09-06 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Curable resin, production method thereof, epoxy resin composition, and electronic device |
JP5592054B2 (ja) * | 2005-02-18 | 2014-09-17 | 日立化成株式会社 | 新規硬化性樹脂とその製造方法、及びエポキシ樹脂組成物、電子部品装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3473877D1 (de) | 1988-10-13 |
JPH0460117B2 (ja) | 1992-09-25 |
EP0114148A3 (en) | 1985-12-27 |
CA1239413A (en) | 1988-07-19 |
EP0114148B1 (de) | 1988-09-07 |
EP0114148A2 (de) | 1984-07-25 |
US4503243A (en) | 1985-03-05 |
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