JPS59132165A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JPS59132165A
JPS59132165A JP58005326A JP532683A JPS59132165A JP S59132165 A JPS59132165 A JP S59132165A JP 58005326 A JP58005326 A JP 58005326A JP 532683 A JP532683 A JP 532683A JP S59132165 A JPS59132165 A JP S59132165A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
insulating seal
electrode
semiconductor substrate
cathode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP58005326A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH027192B2 (ja
Inventor
Katsumi Akabane
赤羽根 克己
Kougo Otai
小田井 恒吾
Shuji Musha
武者 修二
Tadashi Sakagami
阪上 正
Tsuneo Haishi
羽石 常男
Nobutake Konishi
信武 小西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP58005326A priority Critical patent/JPS59132165A/ja
Publication of JPS59132165A publication Critical patent/JPS59132165A/ja
Publication of JPH027192B2 publication Critical patent/JPH027192B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
    • H01L31/101Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
    • H01L31/111Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by at least three potential barriers, e.g. photothyristors
    • H01L31/1113Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by at least three potential barriers, e.g. photothyristors the device being a photothyristor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Die Bonding (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Thyristors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (利用分野) 本発明は光点弧形サイリスタなどの半導体装置に係シ、
特に高電圧用途に対して好適な、信頼性の高い放電防止
構造を備えた半導体装置に関する。
(従来技術) 光点弧形サイリスタは、周知のように、光の照射信号に
よυ順電圧阻止状態から導通状態番こターンオンする機
能を有する半導体制御整流素子である。
光点弧形サイリスタは、通常の電気ゲート点弧形サイリ
スタと比較して、(1)主回路とゲート制御回路とを電
気的に絶縁できるため、ゲート制御回路を簡略化でき、
また(2)光ゲート信号のため′ts誘導ノイズの影響
を受けにくい等の利点がある。
このため、最近、高電圧直流送電等のように、サイリス
タを多数個直列接続で使用する様な高電圧変換装置への
利用が注目されてきている。
しかし、光点弧形すイリスタは、電気ゲート形サイリス
タと比較して、光信号をサイリスタ素子の半導体基体受
光部まで導くために、数多くの部品が必要となる。
第1図は、光点弧形サイリスクの従来例の断面略図を示
し、第2図は第1図中の光信号伝送経路の部分を拡大し
た断面図である。
光サイリスタ素子1は、サイリスタ接合を有する半導体
基体2の両側に低抵抗接触したアノード電極3.カソー
ド電極4を有している。さらに、それら各電極3,4の
外側には、アノード外部電極5.カソード外部電極6が
配設されている。
これら外部電極5,6には、金属フランジ7A。
7Kが固着される。さらに両フランジ7A、7には、半
導体基体2.アノード電極3.カソード電極4.アノー
ド外部電極5.カソード外部電極6などよシなる組立構
造体を包囲する円筒状の絶縁性シール8の両端に、気密
封着される。それ故に、サイリスタ素子の内部は気密保
持されている。
外部から光信号を伝送するための光ファイバ11は、絶
縁シール8の一部を貫通する金属コネクタ、9に気密固
定された光ファイバ1o と、例エバ金属袋ナソ)12
などを用いて、光学的に結合される。それ故に、外部か
らの光信号は、光ファイバ11 および10を介して、
半導体基体2の受光部へ導かれる。
また、微弱な光信号を、効率よく半導体基体2の受光部
へ入射させるため、半導体基体2の一゛傍の光ファイバ
10を半導体基体2の方向へ押え付ける機構を具備する
こともある。
このような従来例において、光ファイバ11は電気的に
高抵抗の絶縁性物質から成多、光ファイバ10も同様で
ある。従って、金属袋ナツト12゜および絶縁シール神
の一部に設けた金属コネクタ9は、アノード電極3.ア
ノード外部電極5およびカソード電極4.カソード外部
電極6からは、電気的に絶縁されている。
この様な光点弧形サイリスタが複数個直列接続された構
成で、アノードとカソード間に、順一方向あるいは逆方
向に電圧が印加された状態では、電気的に浮いている金
属コネクタ9.金属袋ナツト12は、空間電界あるいは
絶縁シール8のアノード・カソード方向の電位降下分布
に応じて、アノード・カソード間の電位差によって決ま
る一定の電位に保持される。
また、最悪の場合には、前記金属ロネクタ9などがある
一定量の電荷を帝、電する場合もあシうる。
前述のような状態の時、サイリスタが光信号6ζ。
よってターンオンしたシ、あるいはアノード・カソード
間の電圧が反転したシすると、電気的に浮いている金属
コネクタ9や金属゛袋ナツト12の電位は、この変化に
対して速やかに追従することができないため、前記金属
コネクタ9などと、各サイリスタのアノード電極3ある
いはカソード電極4との電位差が、著しく大きくなるこ
とがあるト〜□ このため、金属コネクタ9や金属袋ナ
ツト12と、金属フランジ7A、7に、  アノード電
極3゜アノード外部電極5.カソード電極4.およびカ
ソード外部電極6などとの間の、空間距離の小さい部分
、あるいは絶縁シール8の表面に沿った沿面距離の短か
い部分で、電界強度が絶縁耐力の限界を超え、沿面放電
などを生じてしまうことがある。
このような放電が発生すると、サイリスタの信頼性が低
下するのはもちろん、多数個のサイリスタを直列接続し
た装置では、稼動時に、各々のサイリスタに過電圧が印
加される懸念があシ、著しい場合ζζはサイリスタが破
壊されてしまう等の欠点がある。
(目  的) 本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をなくし、放
電現象の発生しない、信頼性の優れた光点弧形サイリス
タを提供することにある。
(概 要) 前記の目的を達成するために、本発明においては、絶縁
シールのΦ間に設けられた金属コネクタを、アノード電
極またはカソード電極、あるいはこれらと同電位の部分
に導電(低抵抗)接続する手段を付加し、さらに前記導
電接続手段を前記絶縁シールの少なくとも内部に配置す
るようにしている。
(実施例) 以下に、本発明の特徴とするところを具体的な実施例に
よシ詳述する。第3図は、本発明の第一実施例の要部断
面図であシ、第2図と同様に、光点弧形サイリスタ内部
の、光信号伝送軽路部−分を拡大した図である。
金属コネクタ9は、金属リード線13 Aによって、金
属フランジ7Kに(したがって、カソード、外部電極6
に)接続され、また金属リード線13Bによってカソー
ド電極4に電気的低抵抗接触している。
このため、サイリスタを動作させる際、金属コネクタ9
(および、金属袋ナツト12)は、常に、カソード電極
4と同電位に保持されることになシ、放電現象は発生し
なくなる。
なお、通常の光サイリスタでは、光ゲート信号はカソー
ド側から取シ入れられるため、金属コネクタ9の位置が
カソード側金属7ランジ7にの方に近くなっているが、
アノード側金属7ランジ7Aの近くに金属コネクタ9が
設置されている場合は、アノード側の金属フランジ7A
あるいはアノード外部電極5.アノード電極3に金属リ
ード線で接続しても、本実施例と同様の効果が得られる
ことは明らかである。
また、これらの場合、第3図に示したように、金属コネ
クタ9を外部電極および゛金属7ランジの両者に導電接
続することは必ずしも必要でなく、いずれか一方に接続
するだけでもよく、あるいは・その他のカソードまたは
アノード電極と同電位の部分に導電接続(または低抵抗
接続)するだけでも、本実施例と同様の効果が得られる
ことも明らかである。
第4図は本発明の第二実施例の要部断面図である。
本実施例の第3図と異なる点は、金属リード線13A、
13Bの代夛に、金属コネクタ9の絶縁シール8への取
付位置から、アノード側およびカソード側金属フランジ
7A、7にの一方(本実施例の場合は、カソード側金属
フランジ7K)まで、絶縁シール8の内側表面にそつて
、低抵抗被膜層14を設けたことである。
このような構造によシ、第一実施例の場合と同様の効果
を達成できることは明らかである。
なお、この場合、低抵抗被膜層14は、絶縁2−ル8の
所定の部分に金属膜を蒸着して形成する着      
か、あるいは、予め金属メタライズしておき・更に、そ
の上に金属ろうを流しておくことによシ形成することが
できる。このようにすれば、更に良い低抵抗被膜層を容
易に形成することができる。
第5図は本発明の第三実施例の要部断面図である。
本実施例の第3図、第4図と異なる点は、金属リード線
13A、13B や低抵抗被膜層14を用いる代りに、
素子内部の光伝送路となる光ファイバ10の外表面に、
金属被覆層17を設けたことである。
この金属被覆層17は、図からも明らかなように、その
一端において、金属コネクタ9と電気的に低抵抗被膜層
る。・また、金属被覆層17の他端は、光ファイバ10
全体を固定する金属固定部品15 に連結され、導電接
続される。そして、さらにスプリング16 によ如、金
属コネクタ9および金属被覆層17 は、カソード外部
電極6へ電気的に低抵抗接続される。
それ故に、金属コネクタ9はカソード電極4と同電位と
なシ、本発明の効果が得られる。また、光ファイバ10
を金属で直接被覆することによシ、光伝送効率を、金属
被覆層17がない場合より更に改善できる効果も期待で
きる。
なお、固定部品15が金属で゛ない場合は、光ファイバ
10の金属被覆層17の他の部分で、カソード外部電極
6に電気的に接続することができる。
第6図は本発明の第四実施例の要部断面図、第7図はそ
のA−A線断面図である。光点弧°形すイリスタの場合
、第1図〜第5図にも示した様に、光信号をサイリスタ
内部に導入するため、絶縁シール8の一力の主電極(通
常はカソード)にかたよった部分に、光ファイバ10の
一端および金属コネクタ9を気密性良く設ける必要があ
る。
ここで、実際の光ファイバの直径は1.0〜3.011
1位であシ、金属コネクタ9も含めた外径は 2.0〜
40關程度にもなる。この寸法は、電気ゲートサイリス
タの場合の、ゲート信号とシ入れ金属パイプ径が約1.
0器であるのに比較すると、極めて大きい。
絶縁シール8の一方の主電極側に、このように大きな孔
を設けようとすると、絶縁シールの製造時に破損する恐
れがあり、難しい技術を必要とする。
その対策として、本実施例では、あらかじめ光信号導入
部分の絶縁シール8に切シ欠き部を設けておき、この個
所に精度よくはめ合う金属片”19を抑大するようにし
ている。このような構成により上記欠点をなくし、また
同時に、金属コネクタ9を一方の主電極側へ、容易かつ
確実に低抵抗接触させることができる。
なお、この場合、金属片19 は金属コネクタ9と一体
物でもよく、あ゛るいは、別々のものをろう付あるいは
溶接したものでも良い。また、金属片19と絶縁シール
8との接着は、絶縁シール8と金属フランジ7とを気密
接着するのと同等の技術によシ可能である。
以上では、本発明を光点弧形サイリスタに適用した場合
について述べたが、本発明は電気ゲート形サイリスタに
も適用できるものである。
電気ゲート形サイリスタでも、ゲート取シ入れ部は金属
となっている。しかし、通常、ゲート部は、半導体基体
内部の抵抗部分を介して、カソードに電気的に接続され
ているか、あるいは外部ゲート回路であるインピーダン
スを介して、カソードへ接続されているので、光点弧形
サイリスタに関して前述したような放電現象は少ない。
しかし、絶縁シールの構造によっては、カソードあるい
はアノード重、極から電気的に浮いてい葛金属部分が形
成される場合がある。かかる構造のサイリスタあるいは
ダイオード装置では、光点弧形サイリスタの場合と同様
の放電現象が生ずることがある。
この様な場合でも、前述した第2図〜第7図の実施例の
手法を適用することによシ放電現象を防止できる。
第8図は、ダイオード素子に本発明を適用した例を示す
断面図である。絶縁シールは下側絶縁シール8Dと上側
絶縁シール8Uとに分離されておシ、この間を金属7ラ
ンジ18にて気密接続している。
第4図の場合と同様に、低抵抗被膜層14を絶縁シー/
L7.の内側に設けることによシ、金属フランジ18の
電位を一方の主電極即ちアノードあるいはカソード電極
(図示の例では、カソード電極)と同電位に保持するこ
々ができ、放電現象を防止できる。
(効 果) 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、サイ
リスタやダイオード素子などを気密封止する絶縁シール
の中間に配置される金属部分が、全て電気的にアノード
あるいはカソード電極に低抵抗接続され、これと同電位
に保持されるので、放電現象を防止でき、信頼性の優れ
た光点弧形サイリスタなどの半導体装置が得られる。
また、低抵抗被膜層などの導電接続手段が、絶縁シール
の内側に設けられるので、外側に設ける場合のように、 (1)雰囲気−特に湿度の影響により、経時的に徐々に
、低抵抗被膜層やはんだ層が酸化していき、 (2)低抵抗が次第に高抵抗になってしまい、(3)著
しい場合は絶縁性となってしまう、などの問題がなくな
シ、経時的な特性の劣化が防止され、長期的な信頼性の
確保が期待できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の光点弧形サイリスタの断面略図1第2図
は従来の光点弧形サイリスタの断面部分拡大図、第3図
、第4図、第5図および第6図は、それぞれ本発明の第
一ないし第四の実施例の要部断面図、第7図は第6図の
A−A線にそう断面図、第8図は本発明をダイオード素
子に適用した場合の実施例の断面図である。 1・・・光サイリスタ、2・・・半導体基体、3・・・
アノード電極、4・・・カソード電極、5・・・アノー
ド外部筒1極、6・・・カソード外部電極、7,18・
・・金属7ランジ、8・・・絶縁シール、9・・・金属
コネクタ、10 .11・・・光ファイバ、 137’
!、13・・・金属リード線、14・・・低抵抗被膜層
、17・・・金属被嶺層、第1図 第7図 第2図 6 第6図 第3図 第4図

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)その両主面に、少なくとも一対の主電極が形成さ
    れた半導体基体と、前記半導体基体を挾んで、その両側
    に配置されたカソード外部電極およびアノード外部電極
    と、前記内外部電極にそれぞれ気密に固着され、前記半
    導体基体を包囲して、これを気密封止する絶縁シールと
    、前記絶縁シールの中間に前記内外部電極から絶縁さに
    て配置された導電部材とを有する半導体装置において、
    前記絶縁シールの内側に設けられ、前記導電部材を前記
    半導体基体の主電極の一方と同電位に保持する手段を具
    備したことを特徴とする半導体装置。
  2. (2)半導体装置が光点弧形サイリスタであシ、導電部
    材が信号伝送用光7τイバを引出すための金属コネクタ
    であることd特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半
    導体装置。
  3. (3)その両主面に、少なくとも一対の主電極を形成さ
    れた半導体基体と、前記半導体基体を挾んで、その両側
    に配置されたカソード外部電極およびアノード外部電極
    と、前記内外部電極にそれぞれ気密に固着され、前記半
    導体基体を包囲して、これを気密封止する絶縁シールと
    、前記絶縁シールの中間に前記内外部電極から絶縁され
    て配置された導電部材とを有する半導体装置において、
    前記絶縁シールには、前記導電部材を貫通状態で装填固
    着するための切込部が形成され、前記切込部に導電材が
    気密充填されたことを特徴とする半導体装置。
  4. (4)半導体装置が光点弧形サイリスタであシ、導電部
    材が信号伝送用光ファイバを引出すための金属コネクタ
    であることを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の半
    導体装置。
JP58005326A 1983-01-18 1983-01-18 半導体装置 Granted JPS59132165A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58005326A JPS59132165A (ja) 1983-01-18 1983-01-18 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58005326A JPS59132165A (ja) 1983-01-18 1983-01-18 半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59132165A true JPS59132165A (ja) 1984-07-30
JPH027192B2 JPH027192B2 (ja) 1990-02-15

Family

ID=11608116

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58005326A Granted JPS59132165A (ja) 1983-01-18 1983-01-18 半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59132165A (ja)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5561076A (en) * 1978-10-31 1980-05-08 Toshiba Corp Light-driven semiconductor device
JPS55117285A (en) * 1979-02-28 1980-09-09 Toshiba Corp Light drive semiconductor device
JPS5662379A (en) * 1979-10-29 1981-05-28 Toshiba Corp Optical operated semiconductor
JPS5718358A (en) * 1980-07-08 1982-01-30 Hitachi Ltd Photodriven type thyristor
JPS58157161A (ja) * 1982-03-12 1983-09-19 Toshiba Corp 光駆動型半導体装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5561076A (en) * 1978-10-31 1980-05-08 Toshiba Corp Light-driven semiconductor device
JPS55117285A (en) * 1979-02-28 1980-09-09 Toshiba Corp Light drive semiconductor device
JPS5662379A (en) * 1979-10-29 1981-05-28 Toshiba Corp Optical operated semiconductor
JPS5718358A (en) * 1980-07-08 1982-01-30 Hitachi Ltd Photodriven type thyristor
JPS58157161A (ja) * 1982-03-12 1983-09-19 Toshiba Corp 光駆動型半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH027192B2 (ja) 1990-02-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4928199A (en) Circuit protection device
US4899204A (en) High voltage switch structure with light responsive diode stack
CA1043008A (en) Photo coupler
US3604989A (en) Structure for rigidly mounting a semiconductor chip on a lead-out base plate
JPS59132165A (ja) 半導体装置
US5115300A (en) High-power semiconductor device
JPH0734457B2 (ja) 半導体装置
US6423902B1 (en) Electric cable
GB2038554A (en) Thyristor
US4389662A (en) Light-activated semiconductor device
KR970071897A (ko) 전계방출소자 및 그의 제조방법
JPH0117269B2 (ja)
US4757367A (en) Light triggered semiconductor device with detachable auxiliary thyrister
JP2870162B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
CN101320763B (zh) 光半导体装置
JP2016201450A (ja) 光結合装置
JP2993456B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPS61107783A (ja) 半導体レ−ザ装置
US5844293A (en) Semiconductor device with improved dielectric breakdown strength
JP2674073B2 (ja) 集積回路装置
JPH0210878A (ja) 電力用素子
JPS583385B2 (ja) カデンアツホゴソシ
JPS63226979A (ja) 光半導体装置
JPH0563945B2 (ja)
JPH0219955Y2 (ja)