JPS59125266A - 電子部品をはんだ付けするための連続炉 - Google Patents

電子部品をはんだ付けするための連続炉

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JPS59125266A
JPS59125266A JP58214227A JP21422783A JPS59125266A JP S59125266 A JPS59125266 A JP S59125266A JP 58214227 A JP58214227 A JP 58214227A JP 21422783 A JP21422783 A JP 21422783A JP S59125266 A JPS59125266 A JP S59125266A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は電子部品をはんだ付けするだめの連続炉に関す
る。
発明の構成および効果 本連続炉は、連続して以下のような、す々わち、 制御された雰囲気炉おいて、 使用されるはんだの共晶以上の加熱の均一性の制御を行
って、 溶融ピークの温度における上昇の傾斜の制御を行って、
および 溶融ピークの冷却の傾斜の制御を行って、電子部品のは
んだ付はザイクルを遂行することを可能とするものであ
る。
本連続炉は、赤外線に対して不透明な基板の上の部品の
移動工程に含まれる、かつ使用されるはんだに独特な、
すべてのパラメータを制御するととができる。
特に、本発明は、金属製の加熱室、該加熱室の一端にお
いて該加熱室に入シ、他端においてそれから出るエンド
レス表金属ベルト、該金属ベルト雫 を駆動する手段、該加熱室の長さの一部を覆って延びる
加熱手段、該加熱室の加熱された部分の周囲に設けられ
た熱絶縁手段、前記部分に続いて位置する該加熱室の長
さの他の１つの部分を覆って延びる強制冷却手段、該加
熱室内へ１つまたはそれ以上の気体を導入する手段、お
よび外部に対して該加熱室の内部空間を絶縁するため該
加熱室の各端部に設けられた絶縁手段を備えた、はんだ
製品による赤外線に対して不透明な支持部材上の電子部
品の集合体のための連続はんだ付は用炉において、該加
熱手段は、はんだ付けされるべき該集合体の温度上昇を
該はんだ製品共晶温度よシ低い温度平坦部迄確保する、
該加熱室に対し外部にある加熱手段、およびはんだ製品
を該共晶温度以上の温度へ加熱する、該加熱室の内部の
加熱手段を具備することを特徴とする、はんだ製品によ
る赤外線に対して不透明な支持部材上の電子部品の集合
体のための連続はんだ付は用炉に関する。
赤外線に対して不透明である支持部材は例えばアルミナ
基板のようなセラミック基板である。
実施例 実施例を示す図面を参照して、以下発明がいかに実行さ
れるか説明する。その詳細は発明の一部を形成する図面
と以下の記述により明らかにされよう。
第１図には本発明による炉が示される。この炉は長方形
の横断面を有する細長い形（例えば約２メートルの長さ
）の金属製加熱室１を具備する。
この加熱室は、処理されるべき物品を入口側Ｅにてその
上に置かれるエンドレスの金属製の運搬ベルト２によシ
左から右へと横断される。はんだ付けされる物品は炉の
出口Ｓにおいて集められる。
ベルト２の移動速さは例えば約５０　ｃｍ　／　ｍｉ　
ｎである。外部から炉を絶縁する気体障＠３は加熱室の
入口Ｅおよび出口Ｓに設けられる。これらの各障壁は下
方へ指向する窒素のような不活性気体の流れを送る分配
器４から成る。分配器の両側には、物品が運搬ベルトの
上にある時には物品の通過をさせる間気付の流れに対し
て通路を開く関節式扉５を備えている。
加熱室は加熱部Ｃおよび前者に続く冷却部Ｒを具備する
。加熱部Ｃを加熱する手段は、加熱室の上方および下方
に設けられ３個の連続した群として分配された左から右
へ６個の外部加熱要素６、および内部加熱要素７を具備
する。効率的な熱絶縁体８は加熱部Ｃの周囲に設けられ
る。外部要素６は、通常の方法では、セラミックの材料
の管に収容された電気抵抗器６ａから成る。これらの各
要素は例えば約３０Ｇの長さをとることができる。
内部加熱要素７はこの目的のために特に大きくされてい
る加熱室自体に収容される。この要素７は、運搬ベルト
の下部に、加熱室の下側の部分に配列された、セラミッ
クで被覆された電気抵抗器７ａを具備する。反射器９は
金Ｂ↓製のベルトに対面して、加熱室の上側の部分に設
けられる。熱絶縁体１０．１１．１２および１３は一方
では要素７と加熱室の間に、他方では反射器と加熱室の
間に設けられる。
冷却部Ｒは加熱部Ｃにすぐ続いている。冷却部Ｒは、そ
れぞれ加熱室の上部および下部に配置された２個の気体
分配器１４および１５から成る、物品に直接向けた気体
噴射（例えばＮ、またはＮ。
とＨ２の混合気体）による加速冷却手段、および水循環
ジャケット１６から成る。該集合体を冷却するための装
置を具備する。
炉は更に、第１の外部加熱ユニットの長さのかなシの部
分へと延びている分配器楽１８へ供給する窒素のような
不活性気体のための第１の供給管１７を具備する。分配
器楽の長さおよび気体放出口が分配器楽の端部にのみ設
けられてい名効果によって、気体は加熱室に噴射される
前に予熱される。
更に、Ｎ２のような不活性気体および水素の容積で例え
ば５％の水素を含む混合気体のだめの第２の供給管１９
が設けられる。該供給管１９は加熱室の内部において内
部加熱要素７の領域に放出する。本発明の炉は、また不
適当な乱れを起こさ寿いで加熱室から気体が放出される
２個のベンチュリ煙突２０を装置３する。
最後に加熱手段を制御するためのユニット２１艷 および流体を制御するためのユニット２２が通常の方法
で設けられる。
本発明の炉は下記のようなことを可能にする。
ａ）　　はんだ付けされるべき部品の集合体およびその
支持部材の均一な温度における急速な上昇。
このことは、処理はれる物品を上方からおよび下方から
加熱する外部加熱手段６によって行われ、熱は物品に下
からは伝導にょシ、上刃・らは対流と放射によって伝達
される。この温度上昇は保護用不活性雰囲気において、
例えば管手段１７による窒素の導入によって行われる。
温度上昇は第２図に示されるように平坦部で終了する。
この平坦部は使用されるはんだ製品の共晶温度よりゎず
かに低い。この平坦部は、はんだ製品に含まれる溶剤の
除去を許容する。例えば、糊状のｓｎ／ｐｂ　（６０／
４０）の合金の場合、平坦部は１６０℃の近傍にあるで
あろう。糊状の３ｎ／Ｐｂ　（９５１５）　　の合金の
場合、平坦部はよシ高く、例えば２ＪＯ’Ｃの領域にあ
るであろう。温度上昇曲線の傾斜は眺整機２１の仲介に
よって外部加熱要素６０３個の各酵の加熱電力を操作し
て調整することがてきる。
ｂ〕　減圧した雰囲気（Ｎ　ｚ　／Ｈｚ　）における、
内部の加熱手段７による、運搬ベルトの駆動速さの操作
によって溶融ピークの持続を制御することによる、溶融
ピーク（はんだ製品の共晶温度を超える温度）までのは
んだ製品の加速加熱。この加速加熱は電気抵抗器７ａに
よって行われる。この電気抵抗器７ａは直接赤外線放射
によって処理されるべき物品の赤外線に対して不透明な
支持部材の下側を加熱し、順番に該支持部材に適用され
たはんだ製品を加熱する。勿論、このことは、処理され
るべき物品は運搬ベルトに対面したそれらの支持部材を
持つことを要求される、反射器９はまた物品の上面に放
射に比例して反射する。支持部材によって運搬される電
子部品は主として反射された放射にさらされる〃・ら加
熱が少々〈なシがぢである。このことは過熱による損傷
の危険を最小へと減少する。
リ　溶融後における、気体の流れの割合を操作して冷却
速さを調整できる、はんだを凝固させる気体噴射による
加速冷却。
ｄ）最後に、水循環ジャケット１６による集合体の冷却
。
第２図には、はんだ製品として糊状のＳｎ／Ｐｂ合金が
使用された場合における、第１図の型式の炉の、時間の
関数とし、ての典型的な温度曲線が示される。曲線１は
８ｎ／Ｐｂ　（６０／　４０　）　ノ合金に対応し、曲
線２はｓｎ／ｐｂ　（９５１５）の合金に対応する。
はんだ利は操作に対する典型的な持続時間は約４分であ
る。、各濡度平但部の持続時間は７０秒（曲線１）およ
び６０秒（曲線２）である。各溶融ピークの持続時間は
１８秒（曲線１）および１２秒（曲線２）である。各ピ
ークは２９０〜３２５℃の温度（曲線２）および１８０
〜２２０℃の温度（曲ｆ１ＭＩ）にそれぞれ対応する。
本発明の炉は、被覆された接点のティル部、サーミスタ
のテイル部、コネクタ、超短波用部品に対する外箱、キ
ャパシタチップ上の接続および基板上の部品の移動等の
はんだ付けを行うのに使用することができる。
ここに記載された実施例は単に１つの例に過ぎず、との
変彫は特に均等カ技術の置換によって発明の範囲から逸
脱することなくなされ得ることや：明白である。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の炉の一実施例を図解する概略図、およ
び第２図は運搬ベルトに置かれたはんだ付けされるべき
物品の炉中の滞在時間の関数として、はんだ付は合金の
２つの異なる型に対する、第１図に図解された本発明に
よる炉中の温度曲線を示すグラフである。 １・・・加熱室、 ２・・・運搬ベルト、 ３・・・気体障壁、 ４・・・分配器、 ５・・・関節式界、 ６・・・外部加熱要素、 ６ａ・・・電気抵抗器、 ７・・・内型加熱要素、 ７ａ・・・電気抵抗器、 ８・・・熱絶縁体、 ９・・・反射器、 １０．１１，１２，１３　　・・・熱絶縁体、１４．１
５・・・気体分配器、 １６・・・水循環ジャケラ１゜ １７・・・第１の供給管、 １８・・・分配器楽、 １９・・・第２の供給管、 ２０・・・ベンチュリ煙突、 ２１・・・加熱手段制御ユニット、 ２２・・・流体制御ユニット、 Ｃ・・・加熱部、 Ｅ・・・入　口、 Ｒ・・・冷却部、 Ｓ・・・出　口。 特許出願人 ピエゾ゛−セラム　エレクトロニク　ソシエテ　アノニ
ム特許出願代理人 弁理士　青　木　　　朗 弁理士西舘和之 弁理士払下　操 弁理士　山　口　昭　之 弁理士　西　山　雅　也 手続補正書 昭和５９年２　月　７日 特許庁長官　若　杉　和夫殿 １、事件の表示 昭和５８年　特許願　　第２１４２２７号２、発明の名
称 電子部品をはんだ付けするための連続炉３、補正をする
者 事件との関係　　特許出願人 名称　　　ピエゾーセラム　エレクトロニク　ンシェテ
　アノニム４、代理人 （外４　名） ５、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の４謁 ６、補正の同容 （１）明ａ書の第２頁第１９行目と第２０等テ目の間に
下記のとお夛追加する。 ｒ発明の目的 本発明の１つの目的は、１′よんだ付けされるべき部品
の集合体およびその支持部材の均一な温度における急速
な上昇？行うことのできる篭子部品全はんだ付けする丸
めの連続炉を提供することＫある。 本発明の他の１つの目的は、使用されるはんだ製品の共
晶温度よりわずかに低い所に、温度の平坦部を加熱工程
の中途において保汚し、その結果該はんた表品ｌ／ｃ言
まれる浴剤の除去が可能となる電子部品をはんだ伺はす
るための連続炉を提供することにある。 本発明の他の１つＱ目的は、はんだ製品の還元雰囲気に
おいて、溶融ピーク（使用するはんだの溶融中に達する
最高温度）旅での加速加熱が行われる電子部品ケはんだ
付けするための連続炉を提供し、それによシ市子部品の
過熱による損傷の危険全最小にすることにある。 さらに本発明の他の１つの目的に、冷却過程において冷
却速さ全調整できる気（＊噴射による加速冷却及び水循
環ジセケットによる部品の集合体の冷却を行う電子部品
をはんだ付けするための連続Ｐｋ提供することにある。 、勇 （２）明卸１妥第７頁第６行目「具備する。」のあとに
「分配器楽１８はその端部に気体の出口が設けられた管
であって、それ？通−て窒素が加熱室へと放出される。 」？！７挿入する。 （３）明赤用香第８＠第１９行目の「減圧した」を「還
元Ｊと補正す石。 （４）明細書第１０貞第１４行目から第１８行目の「本
発明の炉は、・・・・・・することができる。Ｉを下記
のとおりに補Ｊｌ！する。 「本発明の炉は、ワイヤラッピングビン、熱可変抵抗の
接続、コネクタ、超筒周波用部品に対する外箱、チップ
キャパシタ上の接続、および基板に装着されたあらゆる
表面２等のはんだ付けを行うのに使用することができる
。Ｊ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、金属製の加熱室、該加熱室の一端において該加熱室
    に入シ他端においてそれから出るエンドレスな金属ベル
    ト、該金属ベルトを駆動する手段、該加熱室の長さの一
    部を覆って延びる加熱手段、該加熱室の加熱された部分
    の周囲に設けられた熱絶縁手段、前記部分に続いて位置
    する該加熱室の長さの他の１つの部分を覆って延びる強
    制冷却手段、該加熱案内へ１つまたはそれ以上の気体を
    導入する手段、および外部に苅して該加熱室の内部空間
    を絶縁するため該加熱室の各端部に設けられた絶縁手段
    を備えた、はんだ製品による赤外線に対して不透明な支
    持部拐上の電子部品の集金体のだめの連続はんだ付は用
    炉においで、該加熱手段は、はんだ付けされるべき該集
    合体の温度上昇を該はんだ製品の共晶温度よシ低い温度
    平坦部迄確保する、該加熱室に対し外部にある加熱手段
    、およびはんだ製品を該共晶温度以上の温度へ加熱する
    、該加熱室の内部の加熱手段を具備することを特徴とす
    る、はんだ製品による赤外線に対して不透明な支持部材
    上の電子部品の集合体のだめの連続はんだ付けＭｊｆ。 ２、該内部の加熱手段は、該金属ベルトの下に配列され
    た電気加熱用抵抗器および該加熱室の上部に該金属ベル
    トに対面して設けられた反射器から成る特許請求の範囲
    第１項に記載の炉。 ３、該冷却手段は、分配器から発射され物品の上面およ
    び底面へ直接指向された気体噴射を具備する特許請求の
    範囲第１項に記載の炉。 ４、該加熱室を冷却する手段は更に水循環ジャケットを
    具備する特許請求の範囲第１項に記載の炉。
JP58214227A 1982-11-17 1983-11-16 電子部品をはんだ付けするための連続炉 Granted JPS59125266A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR8219220A FR2536160A1 (fr) 1982-11-17 1982-11-17 Four continu de brasure de composants electroniques
FR8219220 1982-11-17

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59125266A true JPS59125266A (ja) 1984-07-19
JPH033541B2 JPH033541B2 (ja) 1991-01-18

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ID=9279248

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58214227A Granted JPS59125266A (ja) 1982-11-17 1983-11-16 電子部品をはんだ付けするための連続炉

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4574182A (ja)
EP (1) EP0109892B1 (ja)
JP (1) JPS59125266A (ja)
AT (1) ATE24607T1 (ja)
DE (1) DE3368760D1 (ja)
FR (1) FR2536160A1 (ja)

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