JPS59124032A

JPS59124032A - 磁気デイスクの製造方法

Info

Publication number: JPS59124032A
Application number: JP23028482A
Authority: JP
Inventors: Takashi Watanabe; 隆渡辺; Kazuo Ito; 和男伊藤
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1982-12-29
Filing date: 1982-12-29
Publication date: 1984-07-18
Also published as: JPH0125137B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（ａ）発明の技術分野本発明は、電子計算機の外部記憶装置として使用される
磁気ディスク装置の記憶媒体である磁気ディスクを製造
する工程における磁気ディスクの洗浄・清浄方法に関す
る。

Ｔｂｌ技術の背景磁気ディスク装置は、磁気ディスク（ディスク）を高速
回転させながら、磁気ヘッドで情報の読書きを行なうが
、その際磁気ヘットをディスク面に接触させた状態で情
報の読書きを行なう方式と、磁気ヘッドを数μ程度ディ
スク面から浮上させて、読書きする方式がある。浮上式
の場合、磁気ヘッドが浮上した状態でディスク面上にロ
ードしたりアンロードしたりする方式と、ディスクの回
転開始および終了時には、磁気ヘッドがディスク面と接
触し、ディスクが高速回転している最中のみディスク面
から浮上する方式とがある。

浮上式の場合でも、ディスク面と磁気ヘッドとのギャッ
プは極めて小さいため、ディスク面に異物が有ったりす
ると、へ、ドクラ、シュを招いたり、異物が磁気ヘッド
とディスク面との間に挾まってディスク面を傷つける恐
れがある。このようにして磁気塗膜に傷が発生すると、
情報書込みの際の磁化が不安定で書込みが確実に行なわ
れなくなったり、書込まれた情報が破壊されたりして、
情報の読書きのエラーを引き起す恐れがある。

最近は高密度記録媒体を得るべく、媒体塗膜を薄膜化し
磁気ヘッドの浮上ギャップも微小化する（頃向があるの
で、前記のようなディスク面での傷゛やスクラッチを招
く恐れのある切粉やエラー原因となる汚れなどは完全に
除去する必要がある。このような要求に対応できるよう
に、ディスクは、平面加工された面精度の高いアルミニ
ウム円盤に、磁性塗膜を塗布、乾燥させ、焼付を行なっ
てから、塗膜の平面仕上げを行ない、洗浄乾燥させるこ
とによって磁気ディスクを完成する方法が一般に採られ
ている。

しかしながらアルミニウム基板の平面仕上げや磁性塗膜
の平面仕上げが良好に行なわれても、最後の塗膜仕上げ
後の洗浄・清浄工程が不完全なために汚れやシミ、加工
変質層などが残ると、それまでの精密仕上げが水泡に帰
してしまう。

（Ｃ１従来技術とその問題点従来の磁気ディスク製造工程における洗浄・清浄方法と
しては、次のような方法が有る。

（１）磁気ディスクを高速回転させ、温水や純水などの
溶媒を磁気ディスク表面に噴射させながら、多孔質スポ
ンジバンドやブラシバンドなどのパッドを回転させなが
ら押し付け、切粉を溶媒と共に排除し、その後磁気ディ
スクを高速回転させて遠心力で水分を振り切って乾燥さ
せ、前たは温風を吹き付けて乾燥する。

（２）フレオン、トリクレン、ソルベントナフサ等の溶
液ないし蒸気内で超音波をかけて洗浄する超音波洗浄方
法。

（３）磁気ディスク゛塗膜の平面加工後水洗いを行なっ
てから、溶剤を綿や合成繊維に浸し、手作業で拭いて置
換乾燥する。

これらの方法のうち＋１）　＋２＋の方法は、微小な切
粉や異物はほとんど除去できるが、乾燥過程において部
分的に汚点や洗浄液の乾燥シミが発生する欠点がある。

また（３）の方法は、シミ・の発生は除去できるが完全
な水分除去および微小切粉の除去ができない欠点がある
。

ｆｄ）発明の目的本発明の目的は、従来の磁気ディスクの洗浄・清浄工程
におけるこのような欠点を解消し、磁気ディスクの塗膜
加工仕上げ後、切粉を完全に除去し、水分の乾燥、表面
変質層の除去を効果的に行なうことにより、磁気ディ゛
スク上のシミ、異物、汚れを確実に蔗去して、磁気ヘッ
ドの低浮上を満足させ得る平滑な表面状態を実現するこ
とにある。

（ｅ）発明の構成この目的を達成するために本発明は、磁気ディスクを製
造する際の洗浄・清浄工程において、１つの室内に、洗
浄水の噴射装置と、多孔質スポンジパッドやブラシパッ
ドなどの洗浄パッドと、拭き取り装置とを有し、拭き取り装置を磁気ディスクから退避させた状態で、噴
射装置による洗浄液の噴射と洗浄パッドによる洗浄を行
なった後、洗浄パッドを退避させて拭き取り装置を磁気
ディスクに当接させ、溶剤を供給しながら拭き取りを行
なう工程を有する方法を採っている。

（ｆ１発明の実施例次に本発明による磁気ディスクの製造方法が実際上どの
ように具体化されるかを実施例で説明する。図は本発明
による磁気ディスクの洗浄・清浄方法で洗浄・清浄を行
なう装置の内部構成を示すもので、第１図は正面図、第
２図は左側面図、第３図は底面図である。１は洗浄・清
浄室で、洗浄水や溶剤などが外部に飛散しないように、
外壁２でほぼ密閉されている。３は磁気ディスクで、ス
ピンドル４のチャック部５に、図示されていないロボッ
トで自動的に着脱される。スピンドル４は、洗浄、乾燥
およびクリーニングに応して回転数が制御される。

洗浄・清浄室１内には、この磁気ディスク３を洗浄・清
浄するために、洗浄水の噴射装置１０、多孔質スポンジ
バットやブラシバンドなどのパッド６および拭邑取り装
置７が内蔵され、しがも磁。

気ディスク３の両面を同時に洗浄・清浄できるように１
対ずつ対向配設されている。噴射装置１０は、磁気ディ
スク３の上方に、噴射口を磁気ディスフ３に向けて配置
されており、磁気ディスク３の洗浄時およびパッド６の
解除後ただちに温水を噴射して切粉を流出させる。

パッド６は、アーム８を介して揺動軸９に取付けられて
おり、第１図に示すように洗浄時は揺動軸９の回転によ
り磁気ディスク３の正面に移動されて洗浄を行ない、磁
気ディスク３の着脱の１際は、その邪魔にならないよう
に、鎖線で示す位置に退避される。パッド６は、アーム
９に取付けられた駆動モータＭとベルトで連結されてお
り、モータＭによって回転される。また揺動軸９は、そ
の軸方向に直線移動することによって、パッド６を磁気
ディスク３に押し付けたり、磁気ディスク３から離間さ
せる。従って磁気ディスク３をチャック部５に着脱する
際は、揺動軸９がバット、６を磁気ディスク３から離間
させる方向に移動して、パッド６を磁気ディスク３から
浮上゛させ、更にアーム８を回転させて鎖線位置に退避
させる。退避状態で磁気ディスク３がチャック部５に装
着されると、揺動軸９が回転して実線で示すように磁気
ディスク３の正面位置までパッド６を移動させる。そし
て揺動軸９が軸方向に移動して、パッド６を磁気ディス
ク３に圧接させ、次いでモータＭによってパッド６を回
転駆動させる。

拭き取り装置７は、左右のフレーム板１１．１２間に、
コノトン帯が巻かれたコノトンロール１３やゴムロール
１６などが取付けられており、このコツトンロール１３
から繰出されたコノトン帯１４がガイドロール１５、ゴ
ムロール１６、ピンチローラ１７およびガイトロール１
８を経由して巻取りロール１９で巻取られる。巻取りロ
ール１９およびコントンロール１３は、図示されていな
い駆動モータで回転される。またガイトロール１５とゴ
ムロール１６との間には、これらと平行にパイプ２０が
配設され、該パイプ２０に開けられた噴射穴から溶剤が
、コノトン帯１４に供給される。

またこのように構成された拭き取り装置７は、図示され
ていないエアシリンダなどのアクチュエータで、矢印ａ
２方向に駆動される。即ち磁気ディスク３をチャック部
５に着脱する際は、磁気ディスク３の外側に退避され、
拭き取りを行なう場合は、鎖線で示すように磁気ディス
ク３の正面位置に移動される。また磁気ディスク３の正
面位置に移動されると、自動的に拭き取り装置７が全体
的に磁気ディスク３側に移動してディスク面に圧接する
ような機構になっている。

次に洗浄・清浄動作を説明する。パッド６および拭き取
り装置７を退避させた状態で、チャック部５に磁気ディ
スク３を装着する。そして磁気ディスク３をスピンドル
駆動モータによって、３０００〜ｄｏｏＯｒｐｍの高速
で回転させ、噴射装置１０で３０〜６０℃程度の温水を
噴射し、切粉を洗い流す。次に揺動軸９でパッド６を磁
気ディスク３の正面に移動させ、モータＭによって１０
０〜２００回転させ、温水を噴射させながら或いは噴射
しないで、ディスク表面に付着している切粉などを剥離
して除去する。このときパッド６は、　１．６〜２．５
　ｋｇ／　ｃｍ２程度でディスク面に押し付ける。また
パッド６の回転速度は高いほどよい。このように水で濡
れた面をブラッシングするものとしては、モールドプレ
ーンなどのスポンジやナイロンブラシなどのブラシが適
しており、また表面積が大きく磁気ディスク表面を傷つ
けないような軟質のものがよい。

パッド６による洗浄後、揺動軸９の軸方向移動でパッド
６を磁気ディスク３から離間させ、かつアーム８を揺動
させて、パッド６を磁気ディスク３の外へ退避させる。

そして磁気ディスク３が高速回転している状態で、再度
温水を噴射し剥離した切粉を洗い流す。

次に温水噴射を止め、磁気ディスク３を３５００〜４２
００ｒｐｍ程度で高速回転させて、遠心力で水分を振り
切り乾燥させる。

その後回転数を１０００〜１５００ｒｐｍ程度に下げる
と共に、拭き取り装置７を図示されていないエアシリン
ダで、鎖線で示すように磁気ディスク３の正面位置に移
動させる。そして巻取りロール１９、繰出しロール１３
およびゴムロール１６をモータ駆動して、コノトン帯１
４の新しい面をゴムロール位置に供給し、かつパイプ２
０からコツトン帯１４の全幅にわたって溶剤を供給して
浸した状態で、ゴムロール１６によってコツトン帯１４
を磁気ディスク３に押し付ける。このように溶剤で拭き
取ることによって、微小な汚れやシミ、変質層が除去さ
れる。このとき使用する溶剤としては、パークロルエチ
レン、イソプロピルアルコール、パークレンとイソプロ
ピルアルコールとの混合液などが適している。またコツ
トン帯１４の磁気ディスク３への押し付は圧力は、０．
６〜１．４ｋｇ／ｃｍ程度がよい。

なお磁気ディスク３の径に対し拭、き取り装置のコツト
ン帯１４の幅およびパッド６の径が小さい場合は、拭き
取り装置７およびパッド６を磁気ディスク面上で移動さ
せて、磁気ディスク３の全面を洗浄・清浄できるように
する。

溶剤によるクリーニングで洗浄・清浄は終了し、拭き取
り装置７を磁気ディスク３から実線で示す位置に退避さ
せて、磁気ディスク３をチャ・ツク部５から取外す。

このような方法に基づき、磁気ディスク３の回転数１０
００〜１５００ｒｐｍ　、溶剤：パークレン、パークレ
ンとイソプロピルアルコールとの混合比１０：１の液、
コツトン帯１４の押し付は圧力０．６〜１．４ｋｇ／Ｃ
＋１１、磁気ディスク３の表面温度３０〜４０℃の条件
で洗浄・清浄を行なった結果、切粉などの異物が確実に
除去できるほか、従来の方法で解決できなかった微小な
汚れ、シミ、加工変質層などが、確実に消失した。

（ｇ１発明の効果以上のように本発明によれば、１つの室内に、洗浄水の
噴射装置と、スポンジやブラシなどの洗浄バンドと、拭
き取り装置とを備え、拭き取り装置を磁気ディスクから
退避させた状態で、温水噴射と洗浄パッドによる洗浄お
よび振り切り乾燥を行なった後、拭き取り装置を磁気デ
ィスクに当接させ、溶剤を供給しながら拭き取りを行な
う方法を採っている。そのため、切粉などの異物の除去
と洗浄・乾燥を行なった一直後に、同し室内で引続いて
溶剤を浸したコツトン帯で拭き取りを行なうことにより
、微小切粉などの除去も、従来乾燥工程などで発生した
汚点や洗浄液の乾燥シミ、変質層なども確実に除去する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明による磁気ディスクの洗浄・清浄方法によ
って洗浄・清浄を行なう装置の内部構成を示す図で、第
１図は正面図、第２図は左側面図、第３図は底面図であ
る。図において、１は洗浄・清浄室、３は磁気ティスフ、４
はスピンドル、５はチャンク部、６はパッド、７は拭き
取り装置、８はアーム、１０は噴射装置、１４はコツト
ン帯、２０は溶剤供給パイプをそれぞれ示す。特許出願人　　　　　　富士通株式会社代理人　弁理士
　　　　青　柳　　　稔１１

Claims

【特許請求の範囲】磁気ディスクを製造する際の洗浄・清浄工程において、１つの室内に、洗浄水の噴射装置と、多孔質スポンジパ
ッドやブラシバンドなどの洗浄パッドと、拭き取り装置
とを有し、拭き取り装置を磁気ディスクから退避させた状態で、噴
射装置による洗浄液の噴射と洗浄パッドによる洗浄を行
なった後、洗浄バンドを退避させて拭き取り装置を磁気
ディスクに当接させ、溶剤を供給しながら拭き取りを行
なう工程を有することを特徴とする磁気ディスクの製造
方法。