JPS59113421A - 焦点検出装置 - Google Patents

焦点検出装置

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JPS59113421A
JPS59113421A JP22350782A JP22350782A JPS59113421A JP S59113421 A JPS59113421 A JP S59113421A JP 22350782 A JP22350782 A JP 22350782A JP 22350782 A JP22350782 A JP 22350782A JP S59113421 A JPS59113421 A JP S59113421A
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Takeshi Utagawa
健 歌川
Toru Fukuhara
福原 透
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Nikon Corp
Nippon Kogaku KK
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/153Constructional details

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  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Automatic Focus Adjustment (AREA)
  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、分光反射特性を変え得る反射鏡、特にその分
光反射特性を電気的に変えることのできる反射Qに関す
る。
一般にカメラ等の撮影レンズや顕微鏡等の対物レンズは
、可視光に対しては収差がよく補正されているが赤外光
に対しては補正されておらず、第i、を図の如く結像レ
ンズLを通過した光束はその波長により光軸上の異る位
置に焦点を結ぶ。その基準波長に対する各波長の光につ
いての焦点のずれ量を△Zmtnとすると第1B図のよ
うな色収差特性を持っている。つまり、可視光線を代表
する基準光線に対する最良像面fと赤外光のある波長に
上 対す最良像面f′は△Zだけずれることになる。また、
被写体または被検物等を照明する一般の光源からの光は
第2A図の如く種々異なる分光特性を有する。第2A図
において曲線Aは螢光灯、曲線Bは昼光、曲線Cはタン
グステンランプの分光特性を示す。
一方、焦点検出装置に組み込まれて焦点検出に用いられ
る光電変換素子の分光感度分布は第2B図の如く、PN
接合のシリコンフォトダイオード(8PD)であるか、
あるいは電荷結合素子(COD)受光部であるかにより
幾分差があるものの、それらは可視域のみならず赤外域
にも広く感度を有している。従って、例えば被写体が第
2A図の曲@Aのような分光分布を持つ螢光対により照
明されている場合には、はとんど可視光(400nm〜
700nm)のみによって焦点検出を行うことになるの
で、焦点検出装置は正しい焦点位置(第1AIJのf)
を指示する。しかし、被写体が第2A図の曲線Bの昼光
や曲@Cのタングステンランプのような光によって照明
されている場合には、焦点検出に用いられる光束に赤外
光を含む程度に応じて、焦点検出装置が指示する合焦位
置は、例えば第1A図において右方へ、すなわち赤外光
の最良像面f′の方向へずれることになる。この様に、
従来の装置では、照明光源の種類によって著しく焦点検
出位置が赤外側へずれるという欠点があった。
上記の問題は、光電変換素子に至る光路中に可視域の光
のみを透過するフィルターを挿入することにより解決が
可能である。しかし、検出波長域をあまりに厳密に可視
域に限定することは、赤外収差の影響を除く点では効果
的であるが、焦点検出可能な被写体や被検物等の明るさ
の下限を著しく上げてしまう、欠点がある。また、可視
域のみのフィルターを光路中に固設してしまうことは、
逆に赤外フィルムなどの分光感度に合わせて赤外光で測
距する可能性や、赤外光を照射してアクティブ式の測距
を行うことの可能性を排除することとなる。
本発明は、上記の欠点を解決し、焦点検出用光↓ 電変換素に向う光束の分光特性を、照明光の分光特性に
基づいて電気的に変え得る可変分光反射特性を有する反
射鏡を提供することを目的とする。
上記の目的のために、本発明においては、分光反射・透
過特性の異なる複数の反射光学素子の間た、電気的に透
過率を変え得る電気光学的光制御素子を設け、その電気
光学的光制御素子の透過率を変えることにより反射鏡の
分光反射特性を変える如く構成したことを特徴とするも
のである。
以下、添付の図面に示された実施例に基づいて本発明の
詳細な説明する。
第3図は本発明の第1実施例の構成を示す拡大断面図で
、第3A図はその第1実施例の分光反射特性線図である
第1実施例の反射鏡は、第3図に示されているよっに、
平面ガラスの如き基板G上に、アルミニウム(At)、
銀(Al)などの反射率の高い金属膜層1を設け、その
上に例えばエレクトロクロミック素子のような電気的に
光の透過率を変え得る電気光学的光制御素子層(以下単
に「EC層」と略称する。)2を設け、さらにその上に
多層膜干渉フィルタ一層3を設けて構成されている。そ
の金属膜層lは第3A図で実線■にて示す如く比較的広
い波長域の光に対して高い反射率を有している。また、
多層膜干渉フィルタ一層3は第3A図中で例えば鎖線■
にて示されているようにほぼ可視域の光を反射し、赤外
域の光を透過するように構成゛されている。
第3図に示された第1実施例の反射鏡は、上記の如く構
成されているので、ECJl12が電気的に制御されて
透光状態にあるときは、可視光、赤外光ともに反射され
る。すなわち、可視光は多層膜干渉フィルタ一層3によ
り反射され、その多層膜干渉フィルタ一層3を透過した
残りの赤外光は80層2を透過した後、金層膜層lにて
反射され、再び80層2、多層膜干渉フィルタ一層3を
透過して進行する。また、EC層2が非透光状態に変化
すると、多層膜干渉フィルタ一層3を透過した赤外光は
、このEC層12にて吸収される。従って可視光のみが
この反射鏡により反射される。
それ故、SPDやCODのように赤外域にまで広い感度
を持つ光電・変換素子を用いて焦点検出を行う焦点検出
装置において、この第1実施例の反射鏡にて反射された
光束をもって焦点検出を行うようにすれば、被写体が明
るい場合には、80層2を非透光状態にして可視光のみ
で精度良く測距できる。また、暗い場合でも、EC層2
を透光状態に、して赤外域の光も反射させ、その反射光
を使うことにより、精度は幾分悪く゛ても測距可能とす
ることができる。また赤外光照射によって測距する手段
を併用する場合には80層2を透光状態にして赤外光も
反射させ、また、通常はEC層を非透光状態にして、可
視光のみを反射させるようにすればよい。また一方、焦
点検出精度が要求なれるのは合焦点近傍のみであるから
、その合焦点近傍以外では赤外光を含む光で測距するこ
とにより、検出系の応答出力を上げるようにE 、0層
2を透光状態におき、合焦近傍のみで厳密に可視光だけ
を用いて測距精度を上げるように80層2を非透光状態
に制御することもできろ。
第4図は本発明の第2実施例の構成を示す拡大断面図で
、第4A図はその第2実施例の分光反射特性線図である
第4図の第2実施例においては、基板GとEC層2との
間に第2多層膜干渉フィルタ一層4が設けられ、F、0
層2の上に第1多層膜干渉フィル名一層3が設けられて
いる。第1多層膜干渉フィルタ一層3は、第4A図の鎖
線n +cて゛示す如く、第3図の第1実施例における
多層膜干渉フィルタ一層3と同様の分光反射特性を持ち
、第2多層膜干渉フィルタ一層4は第4A図の実線■に
て示されているように遮断波長が第1多層膜干渉フィル
タ一層3のそれより赤外側へ伸び、近赤外域の光までを
反射する如く構成されている。従って、この第2実施例
の反射鏡においては、80層2が非透光状態にあるとき
は、第1実施例と同様に可視域反射鏡として機能し、8
0層2が透光状態のときは、可視域および近赤外域反射
鏡として機能する。
第5図は、第4図の第2実施例と同じ機能を有する第3
実施例の構成を示す拡大断面図である。
第5図においては、基板Gの上に第1実施例(第3図)
と同様なktまたはAPなどの金属膜層1が蒸着され、
この金属膜層lと80層2との間に赤外吸収層5が設け
られている。この赤外吸収層5に入射する光のうち、赤
外域の波長の光は赤外吸収層5により吸収されるが、残
る可視域から近赤外域までの波長の光は金属膜層lにて
反射される。この赤外吸収層5と金属膜層1を介して反
射される光の分光反射特性を、第4図の第2多層膜干渉
フィルタ一層4の分光反射特性と同等の第4A図の実線
Iのような分光反射特性にすることができる。また、8
0層2の上には第2実施例の第1多層膜干渉フィルタ一
層と同じ多層膜干渉フィルタ一層3が設けられ、その層
3の分光、反射特性も第4A図の@線■によって示され
る。従ってこの第3実施例の反射鏡も、80層2が非透
光状態にあるときは可視域反射鏡として機能し、EC層
が透光状態のときは可視域から近赤外域までの反射鏡と
して機能する。
ところで、通常のフィルムは第8図の分光感度線図にお
ける鎖線りに示すように、はぼ全可視域をカバーする分
光感度を示し、赤外フィルムはλ= 750 nmを中
心として実線Eにて示すような分光感度を有している。
それ故、通常フィルムを用いるときは、第4図の第2実
施例または第5図の第3実施例を使用して、その反射鋳
に第4A図の鎖illの如き分光反射特性を持たせ、赤
外フィルムを使用するときは、分光反射特性を実線■(
繰 第9図の実読Iに同じ)に切り替えると共に、撮影レン
ズの前または適当な位置に第9図の破線Vで示したよう
な透過率特性を有するフィルターな装着することにより
、λ=750nmを中心とする赤外光のみを用いて焦点
検出を行うようにすればよい。
第6図は本発明の第4実施例の構成を示す拡大断面図で
、第6A図はその第4実施例の分光反射特性を示す線図
である。
第6図において、基板G、金属膜11第1EC層2およ
び第1多層膜干渉フィルタ一層3はそれぞれ第1実施例
(第3図)の基板、金属膜、EC層および多層膜干渉フ
ィルタ一層と全く同一の構成のものである。また、第6
A図に示された実線■および鎖線■はそれぞれ第6図の
金属膜層lおよび第1多層膜干渉フィルタ一層2の分光
反射特性を示し、第3A図の実線■、鎖線■とそれぞれ
全く同一である。
その第1多層膜干渉フィルタ一層2の上には、さらに第
2EC層2′が設けられ、この第2EC層2′の上に第
3多層膜千渉フィルタ一層6が設けられている。この第
3多層膜干渉フィルタ一層6は、第6A図において破線
■にて示されているように、可視域中の一部の比較的短
い波長域寄りの光な反射し、残りの可視域と近赤外域の
光を透過する如き分光反射特性を有するように構成され
ている。
従って、第6図の第4実施例においては、第2EC層2
′が透光状態にあるときには、第1実施例と同等の機能
を持つ。すなわち、第1EC層2が非透光状態にあるな
らば、第3多層膜干渉フィルター6にて第6A図の破絆
■にて示されているように、波長がほぼ550 nmま
での光を反射し、残りの可視光は第1多層膜干渉フィル
タ一層3にて反射され、この第1多層膜干渉フィルタ一
層3を透過した近赤外光および赤外光は第1Ec層によ
って吸収される。従って、この場合は可視光のみが反射
される。また、第1EC層2が透光状態におかれている
ときは、第1多層膜干渉フィルタ一層3を透過した光は
すべて金属膜層1にて反射される。一方、第2EC層2
′が非透光状態に変化すると、第2多層膜干渉フィルタ
一層6によって可視光の一部波長域の光のみは反射され
、残りの光はすべて第2BC層2′によって吸収される
。すなわち、第4実施例においては、2つの80層2お
よび2!を制御することより反射波長域を3通りに変え
ることが可能である。勿論、異なる分光反射特性を有す
る干渉フィルターの数とEC層の数とを増せば、反射波
長域の区別けを更に細かくすることが可能である。
上記の第4実施例の反射鏡を使用すれば、赤と青の同一
濃度のパターンで、可視域の光全部を使用しても識別で
きない場合でも、第2EC層2′を非透光状態に制御し
、第6A図の破線■の分光反射特性に切り替えることに
より検出可能となる。
第71図は、レンズの赤外収差を補正する本発明の第5
実施例の構成を示す拡大断面図で、第1A図において示
されたレンズの赤外収差量、dを補正するために、第3
図の第1実施例と同様に構成された基板G、金属p層1
の上に設けられた80層2と多層膜干渉フィルタ一層3
との間に所定の厚さの例えばガラス層の如きスペーサー
7を設けたものである。
そのスペーサー7の所定厚を11屈折率をn1赤外収差
量をΔ2とし、光が反射鏡に対して垂直入射、反射する
場合を例にとると、垂直人・反射の場合なら n・Δ2 の式を満足するようにスペーサー7の厚さを定めること
により、入射光と反射光の赤外収差量を相殺して収差補
正が可能となる。つまり、赤外光によって焦点検出を行
なう場合は焦点検出面の位置をΔZだけ光軸上で下げた
ことに相当するので、カメラの焦点検出装置においては
、フィルム面に対して常に可視光でピントの合った写真
を得ることが可能になる。なお、第7図では、第1実施
例の反射鏡にスペーサーを設けて赤外収差補正を可能に
するようlC構成しブこが、第4図乃・主筒6図の実施
例に対しても同様にして収差量に応じた厚さのスペーサ
ーを設ければよい。また、レンズ交換が可能で赤外収差
量がレンズにより異なる場合には、それらのうちの平均
的な値に対してスペーサーの厚さtを設定すればよい。
第3図乃至第7図に示された実施例は、いずれも平面ガ
ラス等の基板Gの表面に種々の膜を重ねて可変分光反射
特性を有する表面反射鏡を構成したものであるが、裏面
反射alとして構成することも可能である。勿論、裏面
反射鏡として構成する場合には、第3図の場合を例にと
れば、多層膜干渉フィルタ一層3の側が透明基板Gに接
し、金属膜層1が空気側となる逆の並び順となる。この
場合、ゴーストの発生を防止するために第10図の如く
基板Gを直角プリズムPにて置き換え、この直角プリズ
ムPの斜面に多層膜干渉フィルタ一層3、”80層2、
金属膜層1の順に設けれ(まよI/)。
また、第4図の第2実施例における第2多層膜干渉フィ
ルタ一層4のように近赤外域の光までを反射し、それよ
り波長の長い赤外域は透過する(第4A図実線l参照)
ような場合には、第11図の第6実施例に示す如く2個
の直角プリズムP、。
P2にて膜層をサンドイッチ状に挾み、光の人身寸する
プリズムP、側から第1多層膜干渉フィルタ一層3.8
0層2、第2多層膜干渉フィルター2の順に構成ように
した方がよい。この場合、ブリズムP、またはP2のど
ちらかのプリズム斜面にすべての膜層を形成して貼り合
わせても良いし、両プリズムP、とP2の双方の斜面に
分けて膜層を形成した後、接合するようKしても良い。
例えば第11図の第6実施例において、プリズムP、に
は、可視光反射、赤外光透過飲の第1多層膜干渉フィル
タ一層3を設け、さらにその上にEC層2を設ける一方
、プリズムP2には近視外域の光までを第4A図の実線
Iの如く反射し、残りの光を透過する第2多層膜干渉フ
ィルタ一層4をつけた後、双方のプリズムP、、P2を
貼り合わせればよい。
また、その貼り合わせの際に第12図の如く、EC層2
と第2多層膜干渉フィルタ一層4との間にスペーサー7
′を設け、そのスペーサ7′を第7図の第5実施例のス
ペーサー7の如くほぼ所定の厚さにすることにより近赤
外光に対する収差補正をすることができる。
第13図および第14図は、本発明の反射鏡な一眼レフ
レックスカメラの焦点検出装置の検出光路中に設けた配
置図で、第13図はカメラの底部に光電変換素子Wが設
けられ、撮影レンズLを透過した被写体からの光の一部
が、可動ミラーMを通過した後本発明の反射鏡Myによ
って、フィルム面と共役な光電変換素子Wの受光面に向
う如く構成したものである。その反射鏡Myは、撮影の
瞬間には公知の如く可動ミラーMと共に移動するため、
第3図乃至第7図の如き平面鏡にて構成するのがよい。
また、第14図はカメラのファインダー内に光電変換素
子Wが配置されている例で、この場合には、可動ミラー
Mにて反射したファインダー光路から光電変換素子Wに
向う焦点検出光路中に本発明の実施例の反射fJI M
y ’が設けられる。
この反射鏡Mv’は、動くことがないので第10図乃至
第12図の如く基板をプリズムにすることが望ましい。
勿論どの様な焦点検出光学装置でもその光学系に応じて
、光路中に存在する反射面に不発明処かかる反、射面を
使用する事が可能である。
以上の如く本発明によれば、反射鏡(プリズムを含む)
の分光反射特性を電気的に制御して所定の分光特性に変
え得る如く構成したので、焦点検出装置の焦点検出光路
上に配置して検出精度を上げることができる。また、そ
の分光反射特性の切替えを電気的に行うので、切替え構
造が簡単で、種々の照明光源に適応させることが容易で
ある。
【図面の簡単な説明】
第1A図は撮影レンズの赤外収差の説明図、第1B図は
撮影レンズの色収差特性線図、第2A図は各種光源の分
光分布特性線図、第2Bは光電変換素子の分光感度線図
、第3図は本発明の第1実施例の構成図、第3A図はそ
の第1実施例の分光反射特性線図、第4図は本発明の第
2実施例の構成図、第4A図はその第2実施例の分光反
射特性線図、第5図は本発明の第3実施1例の構成図、
第6図は本発明の第4実施例の構成図、第6A図はその
第4実施例の分光反射特性線図、第7図は本発明の第5
実施例の構成図、第8図は通常フィルムと赤外フィルム
のフィルム°感度分布線図、第9図は第4図または第5
図の実施例における可視光域の分光反射特性と赤外フィ
ルターの分光透過特性を示す説明図、第10図はプリズ
ムの裏面に反射層を設けた本発明の第6実施例の構成図
、第11図および第12図は2個のプリズムの間に反射
層を挾んだ本発明のそれぞれ第7実施例および第8実施
例の構成図である。 1.3,4.6・・・反射光学素子 2.2′ ・・・・・・・・・・・・電気光学的光制御
素子5・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・赤
外吸収層7・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・スペーサーG・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・基板P、P、 、P2  ・・・・・・・・・プ
リズム出 廓 人  日本光学工業株式会社 代  理  人  渡  辺  隆  男才10図 712図 オフ3図 大月図 オ14図 手続補正書く方式) %式% 1、事件の表示 昭和57年特許願第223507号 2、発明の名称 可変分光反射特性を有する反射鏡 3、補正をする者 (411)日本光学工業株式会社 コアキモト タカチル 取締役社長 小 秋 元  隆 輝 4、代理人 〒140 東京部品用区西大井1丁目6番3号昭和58
年 3月 9日(発送日:昭和58年 3月29日)6
、補正の対象 明細書の「図面の簡単な説明」の欄 7、補正の内容 明細書第18頁第4行目の「構成図である。」を下記の
通り訂正する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)分光反射・透過特性の異なる複数の反射光学素子
    の間に、電気的に透過率を変え得る電気光学的光制御素
    子を設け、該電気光学的光制御素子の透過率を変えるこ
    とにより分光反射特性を変える如く構成したことを特徴
    とする可変分光反射特性を有する反射鏡。 (2、特許請求の範囲第1項記載の反射鏡において、前
    記複数の反射光学素子の少なくとも1つは多層膜干渉フ
    ィルターにて構成すると共に、前記電気光学的光制御素
    子をエレクトロクロミック物質にて構成したことを特徴
    とする可変分光反射特性を有する反射鏡。
JP22350782A 1982-12-20 1982-12-20 焦点検出装置 Granted JPS59113421A (ja)

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JPS59113421A true JPS59113421A (ja) 1984-06-30
JPH0527083B2 JPH0527083B2 (ja) 1993-04-20

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0374462U (ja) * 1989-11-25 1991-07-26

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JPS49135644A (ja) * 1972-11-09 1974-12-27
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JPH0527083B2 (ja) 1993-04-20

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