JPS5911180B2 - 荷電粒子をタ−ゲットに指向させる装置 - Google Patents

荷電粒子をタ−ゲットに指向させる装置

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JPS5911180B2
JPS5911180B2 JP54057581A JP5758179A JPS5911180B2 JP S5911180 B2 JPS5911180 B2 JP S5911180B2 JP 54057581 A JP54057581 A JP 54057581A JP 5758179 A JP5758179 A JP 5758179A JP S5911180 B2 JPS5911180 B2 JP S5911180B2
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target
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conductive
deflection
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ピ−タ−・バケル
ルドルフ・シモン・クイト
ヤリグ・ポリテイ−ク
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Koninklijke Philips Electronics NV
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    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N3/00Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages
    • H04N3/10Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages by means not exclusively optical-mechanical
    • H04N3/16Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages by means not exclusively optical-mechanical by deflecting electron beam in cathode-ray tube, e.g. scanning corrections
    • H04N3/22Circuits for controlling dimensions, shape or centering of picture on screen
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01TMEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
    • G01T1/00Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
    • G01T1/29Measurement performed on radiation beams, e.g. position or section of the beam; Measurement of spatial distribution of radiation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/304Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は荷電粒子源と、荷電粒子を加速する装置と、荷
電粒子のビームを互に直交する2方向に制御する偏向板
を有する静電偏向装置とを具え、前記偏向板は電圧源に
接続し、各偏向板の電圧値30は電子制御装置で制御し
得るように構成された、荷電粒子を支持板のターゲット
取付個所上のターゲットに指向させる装置に関するもの
である。
斯る装置は一例として以下に説明するイオン注入装置と
することができるが、電子ビーム制御部35置とするこ
ともできる。静電偏向装置を有するイオン注入装置にお
いては、イオンビームをターゲットに指向させ、ターゲ
ツト上を偏向板の電圧変化により所望パターンに従つて
移動させる。
イオン注入中、イオンビームは注入すべきターゲツトの
周囲にできるだけ近似した矩形パターンを描くのが普通
である。
しかし、所望パターンからの偏差が種々の態様で発生し
得る。例えば、イオンビーム自体が常に偏向板内の同一
点に同一方向に入射するとは限らない。更に、電子的に
構成するのが好適である偏向板電圧制御装置において増
幅器の温度変動による偏差が生じ得る。これらの不所望
な偏差の結果として、ビームが描くストロークが全体的
に片側に偏よりすぎたり(以後零点調整偏差と称す)、
ビームの振幅が大きくなりすぎたり小さくなりすぎたり
することが起り得る。イオンビーム又は電子ビームがタ
ーゲツト全体をカバーするか否かを検出する方法の一例
では、臭化カリのような塩が被覆された金属板をターゲ
ツトの前面に設ける。荷電粒子がこの塩に射突すると、
この塩が発光してビームの進路を可視化できる。しかし
、これにはイオン注入空間内にカメラが必要となると共
に操咋パネルにモニタが必要となる。また、小ビーム電
流で、薄い塩層の場合に′ま、発光効率が小さすぎて良
好な画像が得られない。更に、イオン注入空間内の真空
が衝撃された塩により悪影響を受ける。ビームの所望零
点調整からの偏差又はビーム振幅の偏差の場合には、ビ
ームを再調整する必要がある。
最適効率を達成する必要がある場合にはこの再調整を常
時精密に行なう必要がある。本発明の目的は、ビームの
零点及び振幅を自動的に正しく調整してビームの安定し
たストロークが尋られるように構成し、上述の塩層を使
用する場合の欠点を除去し得るようにした上述した種類
の装置を提供せんとするにある。
この目的のために、本発明装置においては、支持板のタ
ーゲツト取付個所の対向する各側に支持板に近接してそ
れぞれ2本の導電材料の棒を並置し、これら各導電棒を
抵抗を経て大地電位のような定電位に接続すると共に、
これら各導電棒を、更に、荷電粒子のビームが前記導電
棒に射突したときに前記抵抗の・両端間に発生する電圧
に応答する制御装置に接続し、該制御装置により、荷電
粒子のビームがターゲツト上を横切る各ストローク中に
2本の最内側の導電棒以外の組み合わせの棒に射突した
場合に、偏向板の制御用補正電圧を発生するよう構成し
たことを特徴とする。ターゲツトの各側に配置された2
本の導電棒の組み合わせはビームの各ストロークに対す
る補正に必要な情報を提供するため、ビームが描くスト
ロークの自動安定化を得ることができる。
前記抵抗両端間の電圧に応答する制御装置にはビームの
零点調整用補正装置と、ビームの振幅用補正装置とを設
けるのが好適である。
斯る制御装置は種々に構成することができる。
しかし、斯る制御装置を多安定バイブレータを含むデジ
タル回路で構成して前記導電棒により発生されたパルス
をスタテイツク信号に変換し、該スタテイツク信号をビ
ーム零点調整の制御部及びビーム振幅の制御部に供給し
、該各制御部を、供給された信号を所望の信号と比較す
る比較回路と、該比較回路に差がある場合にパルスを受
信しこれをその出力値に累算するカウンタ回路と、該カ
ウンタ回路から供給された入力値に比例しだrナログ出
力電圧を発生するデジタル−アナログ変換器とで構成す
れば、所望の安定化が極めて容易に得られることを確か
めた。前記導電棒は、安定化の他にも、ビーム位置を簡
単に可視化するのに有利に用いることができる。
この目的のために、本発明の他の例では、前記導電棒を
更にビーム位置表示用発光表示器に接続し、各表示器を
関連する導電棒が荷電粒子ビームによりヒツトされたと
きに該導電棒の抵抗両端間に発生する電圧によつて点灯
するよう構成した。これら表示器としてはランプ、ネオ
ン管、発光ダイオード等を用いることができる。斯る光
学表示は、電圧増幅器及び単安定マルチバイブレータを
各導電棒と関連する表示器の接続線内に組み入れること
により改善することができる。
即ち、電圧増幅器により高い光度が得られると共に、単
安定マルチバイブレータにより表示器の点灯時間を長く
することができる。必要に応じ、ターゲツト取付個所の
各側に2本以上の導電棒を配置することもできる。
これらの追加の導電棒は安定化には必要ないが、これら
によつて、例えばビームのストローク長が過度に大きい
こと、従つて動作に不所望な時間損失を生ずることを表
示することができる。図面につき本発明を説明する。
以下の説明においては、イオンビームを例にとつてその
安定化及び位置表示を説明するが、本発明は荷電粒子が
電子の場合にも適用して、電子ビームの安定化及び位置
表示を行なうことができるものである。
第1図はイオン注入装置を線図的に示す。
イオン源1からのイオンは電界により加速される。この
電界はイオン源1と加速電極2との間の電圧差により形
成され、この電圧差は例えば100kとすることができ
る。形成されたイオンビームは磁界中を通り、この磁界
の強さは偏向磁石3により、所望のイオンのみが彎曲路
5を通過するよう調整される。所望粒子より小質量又は
大質量の粒子は彎曲路5の外面及び内面に衝突する。彎
曲路5を通過したイオンは支持板11に固着されたター
ゲツト10上にレンズ系4により集束される。ターゲツ
ト10は例えば半導体デイスクで、これにイオン注入し
て1個以上の所望導電型の領域を形成する。この目的の
ためにはイオンビームにより半導体デイスク上にパター
ンを描かせる必要がある。イオンビームの制御は静電偏
向装置により行なわれる。この目的のためにビームを互
に直交する2方向に偏向する偏向板6,7及び8,9が
具えられている。偏向板6,7及び8,9間の差電圧(
例えば最大10kまで制御できる)を制御することによ
り、イオンビームを偏向して半導体デイスク10が所望
のパターンに従つてたたかれるようにする。斯るイオン
注入装置の動作原理は既知であり、これ以上の説明は省
略する。半導体デイスクの全域をできるだけ均一にイオ
ン注入する必要が度々ある。
第2図は既知の装置におけるビームが半導体装置上に射
突するパターンの例示である。これに使用される静電偏
向装置においては三角波電圧を電圧発生器により発生さ
せる。この電圧を大地に対し対称に分割し、増幅して偏
向板に供給する。この電圧供給を、X方向にビームを偏
向する偏向板6,7及びY方向にビームを偏向する偏向
板8,9の双方に対し行なう。X及びY偏向板の電圧値
を制御することによりビームを半導体デイスク上に第2
図に示す往復ラ・fンに従つて射突させ、矩形パターン
を描かせることができる。第3図は第2図のパターンよ
り好適なイオン注入パターンを示す。
第2図に示すパターンにおいては、円形又は楕円形の半
導体デイスク上に射突する往復ビームが部分的に重なる
ことによりイオン注入が不均一になる。この重複は第3
図に示すパターンでは避けられる。第3図に示すパター
ンは、例えばX方向に対しては強度が変化する電界で、
Y方向に対しては一定の電界でビームを偏向させること
により得ることができる。ビームのX方向の各ストロー
クの終了時にY偏向板間の静電界を小量だけ変化させて
ビームをY方向に小距離だけ偏向する。次いでビームを
再びX方向に偏向し、その間Y偏向板間の電界を一定に
維持する。これら偏向板に必要とされる電圧はデジタル
的に発生させるのが有利である。第4図はこれら偏向電
圧をデジタル的に発生させる電子制御装置の一例を示す
X偏向板及びY偏向板の偏向電圧に対し同一構成のチヤ
ンネルを用いる。主としてX方向の偏向電圧を発生する
チヤンネルについて動作の説明をする。本例では、この
チヤンネルは2進カウンタ回路20、デジタル−アナロ
グ変換器21、分相回路22及び偏向板6及び7にそれ
ぞれ接続された互に反対位相の並列出力増幅器23及び
24とを具える。各回路は既知の素子から成る。カウン
タ回路20は多数のセツト入力端子を有し、簡単のため
これら入力端子の内の4個を25,26,27及び28
で示すと共に同数の出力端子を29,30,31及び3
2で示す。
セツト入力端子によりカウンタ回路20をプリセツトす
ることができる。このカウンタ回路20は更に発振器か
らの電圧パルスが供給されるクロツク入力端子33と、
クロツク入力端子の電圧パルスをカウントアツプ又はカ
ウントダウンさせるカウントアツプ/カウントダウン入
力端子34を具える。出力端子29〜32の出力は電圧
パルスの数を2進的に表わし、各出力端子の状態は60
゛又は″1”で表わすことができる。各パルスは2進的
にカウントされ、少くとも1つの出力端子の状態が変化
する。これら出力端子の状態はデジタル−アナログ変換
器21に供給され、その出力電圧はその入力の2進値に
比例する。変換器21の出力電圧は分相回路に供給され
、これから反対位相に接続された並列出力増幅器23及
び24に供給される。
増幅器23及び24は互に反対極性の等しい大きさの電
圧を偏向板6及び7にそれぞれ供給する。クロツク入力
端子33に供給された電圧パルスはカウンタ回路20に
よりカウントアツプされるため、変換器21の出力電圧
が変化し、従つて偏向板6及び7の電圧が変化する。
それゆえイオンビームがX方向に偏向される。全ての出
力端子29〜32が11゛で表わされる状態になると、
ビームは最高に偏向され、半導体デイスク10から外れ
る。このときカウンタ回路20の最大/最小出力端子3
5に電圧変化が生じ、これがYチヤンネルのカウンタ回
路37のクロツク入力端子36に供給される。このパル
スはYカウンタ37においてその出力端子の値に累算さ
れる。これによりYチヤンネル用デジタル−アナログ変
換器38の出力電圧が1ステツプだけ変化し、これが分
相回路39を経て出力増幅器40及び41に供給され、
Y偏向板の電圧に1ステツプの変化が生ずる。従つて、
ビームはY方向に1ステツプ移動する。
このときデジタル回路はXカウンタ回路20の力 ニウ
ントアツプ/カウントダウン入力端子34に60″を供
給してXカウンタがカウントダウンを開始する。この場
合ビームは半導体デイスク上を反対方向に移動する。X
カウンタの全ての出力端子29〜32が゛O”になると
、ビームは反導体シデイスクの反対側に外れる。このと
き最大/最小出力端子35が再び電圧変化を発生して、
ビームが再びY方向に1ステツプだけ移動される。Yカ
ウンタがその最大値になると、その出力端子は全て″1
″となり、Yカウントアツプ/カウントダ5ウン入力端
子42の極性が変化し、斯る後ビームは第3図のパター
ンを反対方向に辿る。以上の動作を、所望の注入量が得
られるまで繰返えす。しかし、デジタル−アナログ変換
器、分相器及び出力増幅器において偏差が生じ、ビーム
の零点3調整及び振幅が変化し得ることを確かめた。本
発明はこれらの変化を検出し、ビームの零点調整及びス
トローク長を安定化する手段を提供するものである。本
発明による安定化手段を第5〜第7図を参照4してイオ
ンビームのX方向偏向について説明する。
2本の棒43,4481.び45,46を半導体装置1
0の両側に配置する。
これらの棒は例えば銅のような導電材料で造る。これら
の導電棒は半導体デイスク10の支持板11上に設ける
ことができ、また必要に応じ半導体デイスクの近傍の任
意の場所に配置してもよい。各棒は抵抗47〜50を経
て例えば大地電位のような定電位点に接続すると共に導
線を経て安定化回路に接続する。イオンビームが棒43
〜46の1本に射突すると、関連する抵抗の両端間に電
圧パルスが発生し、この電圧パルスが安定化回路に供給
される。第6図はビームが各ストローク中に呈し得る種
種の位置を示す。
位置aはビームの正しいストロークを示し、この場合に
は棒43及び45がヒツトされて安定化回路にパルスを
供給し、棒44及び46はヒツトされない。ビームでヒ
ツトされた棒を11”で表わし、ヒツトされない棒を゛
0゛で表わすと、ビームの正しい位値は0110で表わ
される。第6図に示す位置a−hにおけるストロークは
下表で表わされる。第7図は安定化回路の一例を示す。
導電棒43〜46からのパルスを多安定バイブレータを
含むデジタル回路51に供給してこれらパルスをスタテ
イツク信号に変換し、ビームが半導体デイスク上を走査
し終えた時に上表の位置a−hの1つと関連する情報が
形成されるようにする。回路51からの情報とその補数
値をデジタル回路52及び53に供給する。これらのデ
ジタル回路において、供給された信号を所望の調整され
た値と比較する。零点調整と振幅の双方に差が発生した
ものと仮定すると、この場合には回路52が信号をカウ
ンタ回路55のカウントアツプ/カウントダウン入力端
子54及びそのクロツク入力端子56に信号を供給する
。カウンタ出力端子57からその2進累算値がデジタル
−アナログ変換器58に供給されてその出力端子にその
入力端子に供給された2進値に比した電圧を発生する。
この電圧を偏向板の高電圧制御の零レベルの制御に供給
して零点調整を補正する。補正信号は偏向電圧用前置増
幅器も含む第4図の回路22の入力端子63に供給する
のが好適である。X偏向板に対しては前置増幅器におい
て、変化する偏向電圧に零点補正信号により一定値を重
畳してX偏向板の一方の偏向板の電圧を増大すると共に
他方の偏向板の電圧を等しく減少させて位置の補正を得
る。他方、補正信号を異なる方法で用いることもでき、
例えば補正電圧を用いて静電偏向装置の補助偏向板(図
示せず)を制御するようにしてもよい。デジタル回路5
3も受信パルスを所望パルスと比較し、一致しない場合
にカウンタ60のカウントアツプ/カウントダウン入力
端子59を制御すると共にパルスをカウンタ60のク田
ソク入力端子61に供給する。
カウンタ60の出力端子からの累算値をデジタル−アナ
ログ変換器62に供給し、これにより偏向板の電圧の振
幅制御を行なう。この補正電圧も第4図の回路22内の
前置増幅器に入力端子64から供給してその増幅率を制
御するのが好適である。他方、この補正電圧を用いて補
助偏向板(図示せず)を制御してもよい。ビームの次の
ストロークにおいてもパルス0110が回路51に供給
されるまで、即ち導電棒43及び45のみがビームでヒ
ツトされるようになるまで上述の処理が繰返えされる。
このときデジタル回路52及び53は所望値からの差を
発生せず、補正は行らない。こうしてビームのストロー
クを導電棒43〜46がビームでヒツトされたときに形
成されるパルスによつて安定化することができ、人間の
制御及び介入を必要としない自動補正が得られる。
Y方向のビーム偏向についても同様の安定化回路を用い
ることができること明らかである。棒43〜46により
得られるパルスはビームのストローク長の表示に用いる
こともできる。
第8図はその例を示す。半導体デイスクの区域をイオン
注入するイオンビームがそのストローク中に棒43〜4
6の1本をヒツトすると、ビームの安定化において既に
説明したように電圧パルスが関連する抵抗47,48,
49又は50の両端間に発生し、このパルスを用いて光
表示器を点灯することができる。このパルスは電子電圧
増幅器65の入力端子に供給して表示器の光度を高める
のが有利である。更に、増幅した信号を単安定マルチバ
イブレータから成る回路66に供給し、極めて短持続時
間の受信パルスを関連する単安定マルチバイブレータに
よりもつて長持続時間のパルスに変換して表示器を長く
点灯させて明瞭に観察し得るようにすることもできる。
これら表示器を67〜70で示し、これら表示器は第8
図に示すように棒43〜46に配列に一致するパターン
に配列するのが好適である。
例えばビームが棒43に射突すると、表示器67が点灯
し、以下同様である。ビームの位置の表示を史に拡大す
るには、半導体デイスク10の両側に2本以上の棒を設
け、各棒を関連する光表示器に接続すればよい。更に、
Y方向のビーム位置も上述のような棒及び光検出器を用
いて表示することができる。光表示器としては例えばラ
ンプ、ネオン管或は発光ダイオードを用いることができ
る。以上、第3図に示すパターンを描くビームと関連し
て導電材料棒によるビーム位置の表示及び安定化につい
て説明した。しかし、本発明はこれに限定されるもので
なく、第2図に示すような他のパターンを描くビームの
位置表示及び安定化も本発明の範囲に含まれること勿論
である。
【図面の簡単な説明】
第1図はイオン注入装置の基本的構成を示す線図、第2
図はイオンビームがターゲツト上に描くパターンの一例
を示す線図、第3図はイオンビームがターゲツト上に描
くパターンの好適例を示す線図、第4図は第3図のパタ
ーンを得る電子制御装置の一例の構成図、第5図は本発
明による安定化導電棒とターゲツトの配置図、第6図は
ビームが補正用導電棒に対し呈し得る種々の位置を示す
線図、第7図は補正電圧を発生する電子制御装置の一例
の構成図、第8図は補正用導電棒に光表示器を設けた例
の構成図である。 1・・・・・・イオン源、2・・・・・・加速電極、3
・・・・・・偏向磁石、4・・・・・・集束レンズ、6
,7;8,9・・・・・・偏向板、10・・・・・・タ
ーゲツト、11・・・・・・支持板、20,37・・・
・・・カウンタ回路、21,38・・・・・・D/A変
換器、22,39・・・・・・分相回路、24,23;
40,41・・・・・・増幅器、25〜28・・・・・
・セツト入力端子、29〜32・・・・・・出力端子、
33,36・・・・・・クロツク入力端子、34,42
・・・・・・カウントアツプ/カウントダウン入力端子
、35・・・・・・最大/最小出力端子、43〜46・
・・・・・導電材料棒、47〜50・・・・・・抵抗、
51・・・・・・マルチパイプレータ回路、52,53
・・・・・・比較回路、55,57・・・・・・カウン
タ回路、54,59・・・・・・カウントアツプ/カウ
ントダウン入力端子、56,61・・・・・・クロツク
入力端子、58,62・・・・・・D/A変換器、65
・・・・・・電圧増幅器、66・・・・・・単安定マル
チバイブレータ、67〜70・・・・・・表示器。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 荷電粒子源と、荷電粒子を加速する装置と、荷電粒
    子のビームを互に直交する2方向に制御する偏向板を有
    する静電偏向装置とを具え、前記偏向板は電圧源に接続
    し、各偏向板の電圧値は電子制御装置で制御し得るよう
    に構成された、荷電粒子を支持板のターゲット取付個所
    上のターゲットに指向させる装置において、前記支持板
    のターゲット取付個所の対向する各側に支持板に近接し
    てそれぞれ2本の導電材料の棒を並置し、これらの各導
    電棒を抵抗を経て例えば大地電位のような定電位に接続
    すると共に、これら各導電棒を、更に、荷電粒子ビーム
    が前記導電棒に射突したときに前記抵抗の両端間に発生
    する電圧に応答する制御装置に接続し、該制御装置によ
    り、荷電粒子ビームがターゲット上を横切る各ストロー
    ク中に2本の内側導電棒以外の組合わせの導電棒に射突
    したときに前記偏向板の制御に対する補正電圧を発生す
    るよう構成したことを特徴とする荷電粒子をターゲット
    に指向させる装置。 2 特許請求の範囲1記載の装置において、前記抵抗の
    両端間に発生する電圧に応答する制御装置にはビームの
    零点調整用補正装置と、ビームの振幅値用補正装置とを
    設けたことを特徴とする荷電粒子をターゲットに指向さ
    せる装置。 3 特許請求の範囲2記載の装置において、前記制御装
    置を多安定バイブレータを含むデジタル回路で構成して
    前記導電棒により発生されたパルスをスタティック信号
    に変換し、該スタティック信号をビーム零点調整の制御
    部及びビーム振幅の制御部に供給し、該各制御部を、供
    給された信号を所望の信号と比較する比較回路と、該比
    較回路に差がある場合にパルスを受信しこれをその出力
    値に累算するカウンタ回路と、該カウンタ回路から供給
    された入力値に比例したアナログ出力電圧を発生するデ
    ジタル−アナログ変換器とで構成したことを特徴とする
    荷電粒子をターゲットに指向させる装置。
JP54057581A 1978-05-12 1979-05-10 荷電粒子をタ−ゲットに指向させる装置 Expired JPS5911180B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL000007805137 1978-05-12
NLAANVRAGE7805137,A NL183553C (nl) 1978-05-12 1978-05-12 Inrichting voor het richten van elektrisch geladen deeltjes naar een trefplaats.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS54147771A JPS54147771A (en) 1979-11-19
JPS5911180B2 true JPS5911180B2 (ja) 1984-03-14

Family

ID=19830822

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP54057581A Expired JPS5911180B2 (ja) 1978-05-12 1979-05-10 荷電粒子をタ−ゲットに指向させる装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4260893A (ja)
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