JPS59108774A - エポキシコハク酸モノエステルの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 木兄ψ」は次の一般式（１） （式中、Ｒはアルキル基、フェニル基、フェニル基で置
換された炭素数１〜３のアルキル基、シクロアルキル基
又はシクロアルキル基で置換された炭素数１〜３のアル
ギル基を示す） で表わされるエポキシコノ・り酸モノエステルの新規な
製造法に関する。

本づ６明方法で得られる（１１式で表わされるエポキシ
コハク師モノエステルはあるわの生理油性ｉ賀の合成中
間体、例えばエボキシコ・・り岐モノエチルエステルは
心筋梗塞の予防及び治僚ハリである３−〔３−メチル−
１−（４−（２，３，４−）リメトキシフェニルメチル
〕ヒベラジン−１−イルカルボニル）ブチルカルバモイ
ル〕オキシラン−２−カルボン敵エステルの合成中間体
として有用な化合物である。

便来、エボヤシコハクばモノニスデルを製造する方法と
しては、エポキシコノ・り酸ジアルキルエステルを半ケ
ン化する方法が知られている（％開昭５２−３１０２４
　岩）。しかしなから、この方法によると、半ケン化さ
れたエポキシコハク酸モノエステルはアルカリ金柘塩の
形で沈殿するが、この光学活性体の沈殿はｐ過が極めて
困難であるため、その単離操作が厄介であり、またＪｕ
［＜シて狗だアルカリ金机塩は更に遊離ばの形にしなけ
ればならないという欠点があった。

そこで、本発明者は斯かる欠点を克Ｊｊｌ（せんと鋭意
研究を行った結果、エポキシコハク酸シバライドにアル
コールを作用させるとモノエステルが容易に狗られるこ
とを見出し、本元明を完成した。

不発ψ」方法は次の反応式によって示される。

（式中、Ｘはハロケン原子を示し、Ｒは前記の念味葡１
」する） すなわち、本梶明は、エボキシコ／・り酸シバライド０
１）にアルコール（１）″ｆ：反応せしめてエホキシコ
ハク畝モノエステル（１）　ｔ　碧’Ｍする方法である
。

本元明方法を実施ずゐには、エポキシコノ・り酸シバラ
イド（ＩＩ）とアルコール山）とを、不ン占性浴媒中塩
基の存在１反応させる。不活性溶媒とし又は、例えはペ
キザン、ベンセン等の灰化水系類、クロロホルム、ジク
ロルエタン等のハロ炭化水素類、エチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテルが１、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢
酸ブチル等のエステル類を単独又は混合して使用できる
。壕だ、塩基としては、トリエチルアミン、ビリジ／、
メチルモルホリン等の有機塩基が好ましい。反応は一５
０℃ないし溶媒の評点の温度で数分〜数時間行うのが好
捷しい。

ルＴ＜して得られる反応混合物から目的化合物（１）を
単離するには、反応液に水を加えて有（幾層を分離し、
この有戦層にアルカリ性水浴液を加えて水層に移行させ
、次いでこの水層な臥性に調整したのち、有機溶媒で抽
出ずればよい。

紙上の如く、本発明方法は、従来法に比軟して反応操作
及び単離操作がｊｍ単であって、収率も後れており、し
かもエポキシコノ・り酸モノエステルが遊離酸の形で得
られるので、そのまま合成原料として使用できる利点を
有する。

次に実施例を挙けて説明する。

実施例１ エポキシコハク酸モメメチルエステルの製造： エポキシコハク酸ジクロリド２．０１ｆをベンセン１０
０ｍ１に俗かした浴液に、メタノール０．３２ｆとトリ
エチルアミン１，０１９をペンセン２０ｔｎ１．に溶か
した溶液を撹件耐却下（０〜１０℃）に滴下し、３０分
間撹４二←した。

を分取し、飽和食塩水で洗浄した。このベンゼン層に東
炭酸ナトリウム１．６８ｆを水１０〇−に浴かした溶液
を加えて振盪し、水層を分取した。この水層をＩＮ硫戯
で酸性とし、酢酸エチル１００ｄで２回抽出した。酢酸
エチル層を飽和食塩水で洗浄後、鎖酸ナトリウム上で載
録し、溶媒を留去して目的物の白色結晶０．３３９を得
た。収率２３光。

（エポキシ） ＮＭＲ（ｃｌ）ｃｚ３）δ＝３．７７　（２Ｈ，８、−
＼〆旦）３．８ｇ　（３Ｈ、ｓ　、　−０−ＣＨ３）実
施例２ エポキシコハク酸モノエチルエステルの製造： ノ（施例１と同様にしてエポ゛キシコハク畝ジクａリド
２．０１ｆ、エタノール０．４６５’、トリエチルアミ
ン１．０１Ｆより目的物０．８６５’を得た。収率５４
％０ ｅａｔ ＩＲｖ　　　　　ｏｎ−’　：　１７５０（エステル）
、９０５（エポキシ）ａｘ ＮＭｌｌ（ＣＤＣ１３）δ＝１．３０　（３Ｈ，ｔ　、
Ｊ＝＝７．０Ｈｚ　１−Ｃ）１３）３・６０（２Ｈ・・
・−へ≦ル） ４．２４　（２１（１ｑｌ　Ｊ＝７．０　Ｈｚ　、−０
−（：Ｈ２一実施例３ エポキシコハクを戎モノｎ−プロピルエステルの製造： 実施例１と同様にしてエホキシコハク酸ジクロリド２．
０１ｆ、ｎ−プロパ／−ル０．５０？、トリエチルアミ
ンｉ、ｏ１ｒより目的物０．９Ｏｆを得た。収率５２％
。

ｅａ　ｔ ”Ｒｖ　　　　ｃｍ−’　　：　１７５０（エステノリ
、９００（エポキシ）ａｘ ＮＭＲ（（ＣＤ３）　２ｃｏ　」δ＝０．９６（３ｎ、
　ｔ、　Ｊ−７，０１１ｚ　、　−Ｃｆ１３　）１．６
２　（２）ｉ　１ｍ　、　−ＣＨ２−）３．６０　（２
ｕ　、　ｄｄ　、　Ｊ＝２．０　Ｈｚ。

旦 ２ｆ旦９ ４．１２　（２Ｈ、ｔ　、　Ｊ＝７．０　ＨＥ　。

−〇−Ｃ少−） ）　実施例４ エポキシコハク絃モノドテシルエステルの製造： 実施例１と回付にしてエポキシコハク酸ジクロ！Ｊ　）
’２．ｏ　１　ｙ、ドテシルアルコール１．８６１、ト
リエチルアミン１．０１５’より目的物１．０７９を付
だ。収率３６光。

ＮＭＲ［（ＣＤ３　）２Ｃｏ：３δ＝　０．８８（３１
（、ｔ　、　Ｊ　＝７．０１ｉｚ　、　−Ｃ社３）１．
３０（２０Ｈ，ｍ、−（ＣＤ１２）１０−　）３．６０
（２Ｈ，ａｄ、Ｊ−２，０１ｉｚ　。

つ１） ４．１８（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．０Ｌ１ｚ。

−〇’−ＣＨ２−） 実施例５ エホキシコハク叡モノフェニルエステルの製造： 実施例１とＩＥＩ　Ｍにしてエポキシコノ・りばジクロ
リド２．０１ｒ、フェノール０．９４５’　、トリエチ
ルアミンｉ、ｏｉｒより目的物０．５４ｆを狗だ。収率
２５％。

ＮＭＲ（（ＣＤ３）２ＣＯ：］δ＝３．８５（２Ｈ，ａ
ａ、Ｊ＝２．０Ｈｚ＋−’：）ｚ７′″１ ７．３０　（５Ｈ、ｍ　、　ｅ　） 実施例 エボギシコハク酸−２−フェネチルエステルの製造： 実施例１と同様にしてエホキシコハク酸ジクロ’Ｊ）’
２．０１ｆ、フェネチルアルコール１．２２ｆ、トリエ
チルアミン１．０１５’より目的物１．Ｏｌを侍だ。収
率４２％。

ｅａｔ ＩＲν　　　　ｍ−”：１７５５（エステル）、９００
（エポキシ）ＮＭＲＣ（ＣＤ３　）２Ｃｏ〕δ””２．
９５（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝＝７．ＯＨｚ。

−Ｃシー　〕 ３．６０（２Ｈ，ｄｄ　　、Ｊ＝２．ＯＨｚ　　。

）ｆ１、） 〇　　− ４，４０（２Ｈ，ｔ　、　Ｊ＝７．ＯＩＩ’ｋ　、　−
０−ＣＨ２−）７．２０　（５１（、ｓ　、−１０） 実施例７ エホキシコハク酸−３−フェニルフロビルエステルの製
造： 実施例１とｌｉｔ　ｉにしてエポキシコハク畝ジクロ！
ｊ　ト２．０１　ｆ、　　３−７エニルプロパ／　−ル
１．３６ｆ、トリエチルアミン１．Ｏｌｆより目的物１
．２７ｆを侍た。収率５１％。

ｅａｔ ＩＲν　　　　ｏｎ　　’　ａ　１７５０　（エステル
）、８９５（エポキシ）ＮＭＲ（（ＣＤ３，１２ＣＯ）
δ＝２．００　（２Ｈ＃　ｍ、−ＣＨ２−）２．６８（
２Ｈ，ｔ、ｙ＝７．Ｏｎｚ、−ｃｉｔ２−　）３．６０
　（２Ｈ１ｄｄ、　Ｊ＝２．０Ｈｚ　。

−≧：に□１） θ　　− ４，２０（２Ｈ，ｔ　、　、ｒ＝７．旧（Ｚ　、　−０
−ＣＤ３−）７．２０　（５Ｈ、ｎｌ、　Ａ　） 実施例８ エポキシコハク酸シクロペンタンメチルエステルの製造
： 実施例１と同様にしてエポキシコハク酸ジクロリド２．
０１ｔ、シクロペンタンメタノール１，０り、トリエチ
ルアミン１．０１４より目的物１．３０　ｔを付だ。収
率５６九。

ＮＭＲ４（（ＣＤ３　）ｚＣＯ）δ＝　１．００〜２．
００（９Ｉ（、ｍ、　−（ＩＩｌ）３．５０　（２１（
ｒ　　ｄ　ｄ　　＊　　Ｊ　＝２．０　Ｈｚ　　。

−次ブ勤９ ４．００　　（２Ｈ、ｄ　　、　　Ｊ＝７．０１−１　
ｚ　　。

−０−ＣＤ２−　　） 実施例９ エポキシコハク敵−３−シクロベンタングロヒルエステ
ルの製造： 火力出力１と１川イ求にしてエポキシコハク酸ジクロリ
ド２．０１？、３−シクロベ／タンーフロパノール１．
２８Ｆ、トリエチルアミン１．０１２より目的物１．２
８ｒを得た。収率５３ヌＫ。

ＮＭＲ（（ＣＤ３）２ＣＯ）δ＝０．８０−２．００（
１３）ｉ、ｍ。

−（Ｃ１１２）２モ） ３．６０（２Ｈ，ｄｄ、　Ｊ”２．（ＩＨｚ　。

一へブ伍９ ４１８（２Ｈ，ｔ　、　Ｊ＝７．旧Ｉｚ　＋　−０−ｅ
）Ｉ２−　）実施例１０ エポキシコハク敲シクロヘキザンメチルエステルの製造
： 実施例１と同様にしてエポキシコハク敲ジクロリド２．
０１４、シクロヘキザンメタノール１．１４Ｓ’、）リ
エチルアミン１．０１ｒより目的物１．２３　Ｆを得た
。収率５４％。

ＮＭＲ［：（ｃｏ３）、ｃｏ：］δ”　０．８０〜２．
００　（１１Ｈ、ｍ−〇）３．６０（２Ｈ，ｄｄ、Ｊ−
２，０１１ｚ。

〉７＜！ｉ） ３．９６　（２ｋＬ　、　ｄ　、　Ｊ＝７．０１（ｚ　
、　−０−ＣＨ２−）実施例１１ エポキシコハクｖ−２−シクロヘキサンエチルエステル
の製造： 実施例１と同様にしてエポキシコハク岐ジクロリド２．
０１Ｆ、２−シクロヘキザンエタノールｉ、２ｇｒ、ト
リエチルアミン１．０１ｆより目的物ｉ、ｏｏｒを伯た
。収率４１％。

ｅａｔ ＩＲＬｌ　　　　　ｏｎ　’　：　１７４５（ニスデル
）＋９ｔｌＯ（エポキシ）ＮＭＲ〔（ＣＤ３）２ＣＯ〕
δ＝　０．７０−１．９６　（１３Ｈ、ｍ　。

−Ｃｎ２（Ｉ＞　　） ３．６０　（２Ｉｉ、　ｄｄ、Ｊ＝２．０Ｈｚ　。

−次、パー） ４．２０（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．０Ｈｚ。

−０−Ｃ曵−） 以上 出願人　日本ケミファ株式会社 代理人　プ」・地士巾　貝　三　辛　パ−　′二〜、 −１ 升理士　尚　到”　登志雄　“′、：　５、：′ ６１１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式（ｌｌ） （式中、Ｘはハロケン原子を示す） で表ワサれるエポキシコノ・り赦ジノ・シイドに　３゜
   一般式情）、 ｎ−ｏｎ　　　Ｑｌ） （式中、Ｒはアルキル基、フェニル基、フェニル基で置
   換された炭素数１〜３のアルキル基、シクロアルキル基
   又はシクロアルキル基で１１１．換された炭素数１〜３
   のアルキル基金示す〕 で表わされるアルコールを反応せしめることを特徴とす
   る一般式（１）、 （式中、Ｒは前記の意味を消する） で表わされるエポキシコハク岐モノエステルの製造法。