JPS59108233A - 含浸型陰極構体 - Google Patents

含浸型陰極構体

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JPS59108233A
JPS59108233A JP57217822A JP21782282A JPS59108233A JP S59108233 A JPS59108233 A JP S59108233A JP 57217822 A JP57217822 A JP 57217822A JP 21782282 A JP21782282 A JP 21782282A JP S59108233 A JPS59108233 A JP S59108233A
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JP
Japan
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cathode
cup
welding
cathode substrate
welded
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Pending
Application number
JP57217822A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiharu Higuchi
敏春 樋口
Toru Yakabe
矢壁 徹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP57217822A priority Critical patent/JPS59108233A/ja
Publication of JPS59108233A publication Critical patent/JPS59108233A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/04Manufacture of electrodes or electrode systems of thermionic cathodes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Solid Thermionic Cathode (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は含浸型陰極構体の改良に関するものである。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
従来の含浸型陰極構体の構造は例えば第1図に示すよう
になっている。
即ち電子放射物質が含浸された陰極基体(1)と、この
陰極基体を内装仮溶接された高融点金属製のカップ(2
)と、このカップ(2)を頂部に嵌入後溶接点(+1)
で溶接された陰極スリーブ(3)と、この陰極スリーブ
(3)の底部外周に溶接点aカによシ溶接された複数(
通常3本)の陰極支持体(4)と、この陰極支持体(4
)の他端部を溶接点(13で肩部(5,)に溶接された
陰極支持筒(5)からなり、陰極スリーブ(3)内部に
図示しないヒータを装着し陰極基体(1)を加熱するこ
とによりこの陰極基体(13より熱電子を放射するよう
になっている。
次に主要部品を個々に説明する。
先ず陰極基体(1)は粒径が3〜10μmのタングステ
ン粉末を圧縮成形したのち還元性雰囲気中で焼結して得
られた基体金属にBaOT AI 201 T CaO
よりなる′戊子放射物質を高温の還元性雰囲気中で溶融
含浸させて得られ、普通可及的に太く、たとえば外径5
0朋位に形成した多孔質タングステン製の焼結体を薄板
状に切削加工し、この薄板に電子放射物質を含浸させた
のち放電加工あるいはレーザ加工等で陰極の所要外径寸
法に抜き取り加工することによって一枚の薄板から多数
の板状体の陰極基体(1)を量産的に製造しており、第
1図に示す陰極基体(1)の寸法は外径1.5mm1厚
さQ、5mmとなっている。
次の高融点金属製のカップ(2)は肉厚25μmのタン
タル板をプレス成形して得られ、このカップ(2)を使
用する主目的は陰極基体(1)から熱蒸発によって飛散
する電子放射物質が陰極スリーブ(3)中に装着される
ヒータに付着することを防止するために設けられている
次の高融点金属製の陰極スリーブ(3)は肉厚25μm
のタンタル板を加工して製作されている。
次の陰極支持体(4)は肉厚0.05ffi!、幅Q、
7mmのタンタル製リボンで形成されている。
次の陰極支持筒(5)は肉厚0.125mmのFe −
Ni −C。
合金板をプレス成形して製作されている。
しかるに、このようにして形成された陰極構体は次のよ
うな理由によって製造工程中に溶接不良が多く発生し、
また寿命試験時にも溶接箇所から陰極基体(1)がカッ
プ(2)からはがれるという問題点があった。
即ち、陰極基体(1)、カップ(2)及び陰極スリーブ
(3)がいずれも高融点金属製であるため酸化物陰極に
使用されているニッケル材のように容易に溶接ができな
い。この理由は、溶接電極材として使用する鋼材の融点
が陰極基体(1)カップ(2)、陰極スリーブ(3)各
村の融点より極端に低いため、溶接時に強力な電流を流
すと溶接電極が溶融するため溶接部を完全に溶接させる
ことが困難なためである。
更に陰極基体(1)は融点が3370℃のタングステン
材で形成され、カップ(2)及び陰極スリーブ(3)は
融点2940℃のタンタル材で形成されているため、こ
の部分を溶接するには少なくとも片方の金属の融点以上
に溶接部分を加熱する必要がある。
しかるに陰極基体(1)には電子放射物質が含浸されて
おり、この電子放射物質は融点が約1750℃であるの
で溶接の際に、この電子放射物質が溶融して溶接面に多
量に析出し、カップ(2)の倶1而にまで何着するよう
Kなることが多くなる。従ってこのような含浸型陰極構
体を電子管にとりつけ動作させると、異常蒸発源となっ
てこの含浸型陰極構体を装着した電子銃を構成する各電
極間にリークなどが発生し電子管の特性を低下させると
いう問題点があった。
〔発明の目的〕
本発明は前述した諸問題に鑑みなされたものであり、陰
極基体、カップおよび陰極スリーブとが良好に溶接固着
された高品位の含浸型陰極構体を提供することを目的と
している。
〔発明の概要〕
即ち、本発明は電子放射物質が含浸された陰極基体と、
この陰極基体を内装溶接した高融点金属製のカップと、
このカップを頂部に嵌入溶接した高融点金属製の陰極ス
リーブとを少なくとも具備する含浸型陰極構体において
、陰極基体とカップとの間に接合材を介在させ、この接
合材により陰極基体とカップとの溶接を確実にした含浸
型陰極構体であり、接合材がRe、50%R,e−50
%Mo近傍の組成または25%Re−W近傍の組成から
なる線状リボン状、または板状であり、またカップと陰
極スリーブとの溶接がレーザ溶接法でなされていること
を特徴としている。
〔発明の実施例〕
次に本発明の含浸型陰極構体の一実施例を第2図により
説明する。
即ち、粒径が3〜10μmのタングステン粉末を圧縮成
形したのち、還元性雰“囲気中で焼結して得られた基体
金属に、Bad、 Al103 、 CaOよりなる電
子放射物質を高温の還元性雰囲気中で溶融含浸した例え
ば外径1 、5mm、厚さ0.5mmの陰極基体eυを
、内厚25μmのタンタル板をプレス成形して内径約1
.5問高さ0.5imのカップ(2渇に挿入するが、こ
の場合カップ(24内部底面と陰極基体(211間に直
径0.08朋のReaよりなる接合材(ホ)を例えば2
本人れたのち、陰極基体eυと、カップ(2)外部底面
を溶接電極で挾持し抵抗溶接法で溶接する。この溶接時
、陰極基体(21)の表面からカップ1勝に流れる電流
は細い接合材(2I3)を通って流れるため、この部分
の・「R流密変味高密度となるし、さらにRe線は比抵
抗が陰極基体■υの材料であるタングステン材やカップ
+221の材料であるタンタル材よりも高いため接合A
’A’ (’/6)部には非常に大きなジュール熱が発
生し、陰極基体(2I)とカップ(塑の確実な溶接がで
きる。
このように陰極基体Qυの溶接されたカップ17)は肉
厚25μmのタンタル板を丸めて加工した陰極スリーブ
(2国の頂部に嵌入後溶接点(311で溶接固定されて
いる。
この陰極スリーブ(?3の底部外周には溶接点(3渇に
より溶接された3本の肉厚0.05mm幅Q、7mm 
 のタンタル製リボンからなる陰極支持体(24)が設
けられておりこの陰極支持体(24)の他端部は肉L?
 0.125mmのFe−Ni−Co合金板をプレス成
形して製作された陰極支持筒(2つの肩部(251)に
溶接点(ハ)により溶接されている。
この場合カップe渇と陰極スリーブ(2階の溶接点Gυ
は円周上5〜10点で行ない、これらカップ(2渇と陰
極スリーブ(ハ)とはいずれも高融点金属製であるため
レーザ溶接法で行ない、この溶接はカップ@と陰極スリ
ーブ(ハ)の固定を主目的としているので陰極基体Cυ
へのレーザ光の極端な入り込みを避けた法が好ましい。
前述のような構造にすることによυ、陰極基体Cυとカ
ップ(ハ)間をカップ(23の材料よりも高抵抗、かつ
細い接合材(■を介して溶接するため、溶接電力を小さ
くすることができる。このため溶接電極を溶融させたり
陰極基体(21)中の電子放射物質の溶融析出させたり
する不具合がなくなる。更に接合材(26)であるRe
と陰極基体CDであるタングステン材とは容易に合金化
し易いため安定な溶接をすることができる。これはカッ
プ@材のタンタルについても同様である。
その結果、陰極基体eυがカップ@よりはがれることが
ないし、また電子放射質の溶融析出による不具合がなく
なり、電子管に組み込み動作時に異常蒸発物の発生によ
る電極間のリークなどが生じることもなく、きわめて安
定した特性が得られる。
更に本実施例の場合のカップCi!湯と陰極スリーブ(
麹との溶接は同一材質のタンタル材を使用しているため
確実な溶接ができるし、また溶接にレーザ溶接法を使用
することにより抵抗溶接法のように陰極基一体a++に
溶接電流が流れ、陰極基体C21)の過熱による電子放
射物質の露出現象の発生がない。
前記実施例では接合材(4)としてRe材を使用した場
合について説明したが、50%Re−50%Moの組成
または25チRe−Wの組成でもよい。ちなみに温17
1j1500°で比抵抗を比較すると50%ReRe−
50S材の場合はRe材に比較して68%、25%Re
−W材の場合は77%となり、これらの接合材を使用す
ることにより比抵抗が減少するため溶接時に発生する熱
量は小さくなるが融点を低くすることができるので実質
上問題はない。またRe−Mo、 Re−Wの組成は上
述した範囲近傍であればよいことは勿論である。
次は本発明の他の実施例の要部を第3図について説明す
る。
即ち、本実施例においては陰極基体(41)の側面とカ
ップ(4邊の内側面間に接合材(4Bを挿入し溶接した
のち、カップ(6)と陰極スリーブ(43)を溶接点G
I)により溶接したことを特徴としている。
このような構造にすることにより陰極基体(4I)の底
面とカップ(42)とを密接することが可能となり、陰
極スリーブ(431に挿入されるヒータからの熱を熱抵
抗を少くして陰極基体(4υにつたえることが可能とな
り、より速動性を良くすることが出来る。
前述した実施例においては接合材(イ)(46)として
線材を使用したがこれに限定されるものではなくリボン
材でもよいしまた第2図の実施例で板状例えば円板材を
使用することも可能である。
更に前述した実施例は陰極スリーブ(2→を陰極支持体
(24)を介して陰極支持筒に懸架した構造について述
べたが陰極スリープレ階のみの場合にもそのまま適用出
来る。
〔発明の効果〕
上述のように本発明によれば陰極基体とカップを確実、
かつ種々の不具合なく溶接できるし、またカップと陰極
スリーブの溶接も確実に行なうことができ、その結果品
位の良好な含浸型陰極構体の提供が可能となり、その工
業的価値は極めて犬である。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の含浸型陰極構体の一例を示す一部切欠斜
視図、第2図は本発明の含浸型陰極構体の一実施例を示
す一部切欠斜視図、第3図は本発明の含浸型陰極構体の
他の実施例の要部断面図である。 1、 21. 41・・・陰極基体   2. 22.
42・・・カップ3、 23. 24・・・陰極スリー
ブ 4.24・・・陰極支持体5.25・・・陰極支持
筒    26. 46・・・接合材11、 12. 
13. 31. 32. 33・・・溶接点代理人 弁
理士   井 上 −男 第  1 図 ノ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)電子放射物質が含浸された陰極基体と、この陰極
    基体を内装溶接した高融点金属製のカップと、このカッ
    プを頂部に嵌入溶接した高融点金属製の陰極スリーブと
    を少なくとも具備する含浸型陰極構体において、前記陰
    極基体と前記カップ間に接合材を介在させたことを特徴
    とする含浸型陰極構体。
  2. (2)接合材がRe、50%Re−50%Mo近傍の組
    成または25%Re−W近傍の組成からなる線状、リボ
    ン状ま友は板状からなることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項記載の含浸型陰極構体。
  3. (3)  カップと陰極スリーブとの溶接がレーザ溶接
    法でなされていることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の含浸型陰極構体。
JP57217822A 1982-12-14 1982-12-14 含浸型陰極構体 Pending JPS59108233A (ja)

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JP57217822A JPS59108233A (ja) 1982-12-14 1982-12-14 含浸型陰極構体

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JP57217822A JPS59108233A (ja) 1982-12-14 1982-12-14 含浸型陰極構体

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JPS59108233A true JPS59108233A (ja) 1984-06-22

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ID=16710284

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JP57217822A Pending JPS59108233A (ja) 1982-12-14 1982-12-14 含浸型陰極構体

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JP (1) JPS59108233A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4893052A (en) * 1986-03-14 1990-01-09 Hitachi, Ltd. Cathode structure incorporating an impregnated substrate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4893052A (en) * 1986-03-14 1990-01-09 Hitachi, Ltd. Cathode structure incorporating an impregnated substrate

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