JPS59103289A - 電気端子接点を金属化する方法 - Google Patents
電気端子接点を金属化する方法Info
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- JPS59103289A JPS59103289A JP58216414A JP21641483A JPS59103289A JP S59103289 A JPS59103289 A JP S59103289A JP 58216414 A JP58216414 A JP 58216414A JP 21641483 A JP21641483 A JP 21641483A JP S59103289 A JPS59103289 A JP S59103289A
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-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は端子接点を金属化する方法に関し、そしてさら
に特定的に述べると、微細分割された金またはその他の
貴金属の粒子を含む導電性ペーストの薄層を電気端子接
触面上に適用する方法に関する。
に特定的に述べると、微細分割された金またはその他の
貴金属の粒子を含む導電性ペーストの薄層を電気端子接
触面上に適用する方法に関する。
金めつき電気端子の一般的な慣行により接触領域におい
て酸化フィルムが形成されない優れた製品が得られる。
て酸化フィルムが形成されない優れた製品が得られる。
しかしながら残念なことに金のコストが高いために、こ
の慣行はほと、んどの電気端子にはあまりにも高価であ
る。このコストを低減させる一つの方法は金線の小片を
端子の接触領域に点溶接することである。この方法によ
り実際の接触領域に使用される高価な金の量を制限する
ことができる。しかしながら、この溶接方法を使用する
と、接点の機能のために必要な厚さよりも厚い金の付着
が生ずることがゝ判明した。金を保存するための別の同
様な方法は英国特許第2,071,703A号明細書に
記載されている。この英国特許においては、ルビーレー
ナにより発生せしめられた光ビームが金ペーストを物質
に融着させるために使用される。この方法は金および物
質を加熱して融解させるために充分な光エネルギが使用
されないかぎりは有効に作用することができない。物質
を過度に加熱することにより、金と結合して望ましくな
い合金が形成されることがある。その結果、接触領域の
機能が低減する。そのうえに、レーザによる処理は焼結
前にペーストの完全な乾燥およびは−ストおよび基質の
反射能の精密な制御を必要とし、そしてレーザおよびそ
れに付随する安全装置のためにかなりの資本経費を必要
とする。
の慣行はほと、んどの電気端子にはあまりにも高価であ
る。このコストを低減させる一つの方法は金線の小片を
端子の接触領域に点溶接することである。この方法によ
り実際の接触領域に使用される高価な金の量を制限する
ことができる。しかしながら、この溶接方法を使用する
と、接点の機能のために必要な厚さよりも厚い金の付着
が生ずることがゝ判明した。金を保存するための別の同
様な方法は英国特許第2,071,703A号明細書に
記載されている。この英国特許においては、ルビーレー
ナにより発生せしめられた光ビームが金ペーストを物質
に融着させるために使用される。この方法は金および物
質を加熱して融解させるために充分な光エネルギが使用
されないかぎりは有効に作用することができない。物質
を過度に加熱することにより、金と結合して望ましくな
い合金が形成されることがある。その結果、接触領域の
機能が低減する。そのうえに、レーザによる処理は焼結
前にペーストの完全な乾燥およびは−ストおよび基質の
反射能の精密な制御を必要とし、そしてレーザおよびそ
れに付随する安全装置のためにかなりの資本経費を必要
とする。
本発明者はレーザ装置を使用する必要なく端子を製造す
るために使用される金属ストリップ素材の接触領域上に
配置される貴金属の量を制御する方法を発明した。この
方法により0.01〜0.04+mn程度の薄い貴金属
の層を有する接触領域が得られる。本発明の方法は金属
ストリップ素材をスクリーン印刷領域を通して送り、該
スクリーン印刷領域で厚膜貴金属の金属化組成物を金属
素材上の予め計算した点に適用することにより行なわれ
る。その後、厚膜組成物を含む金属素材が誘導加熱コイ
ルの中に送られ、該誘導加熱コイルにおいて、厚膜組成
物が不活性ガス、好ましくは窒素の存在下で700=9
00℃の温度で約1秒間加熱される。この金属ストリッ
プ素材はその後適当な所定の接触領域において貴金属を
含有する端子に形成することができる。
るために使用される金属ストリップ素材の接触領域上に
配置される貴金属の量を制御する方法を発明した。この
方法により0.01〜0.04+mn程度の薄い貴金属
の層を有する接触領域が得られる。本発明の方法は金属
ストリップ素材をスクリーン印刷領域を通して送り、該
スクリーン印刷領域で厚膜貴金属の金属化組成物を金属
素材上の予め計算した点に適用することにより行なわれ
る。その後、厚膜組成物を含む金属素材が誘導加熱コイ
ルの中に送られ、該誘導加熱コイルにおいて、厚膜組成
物が不活性ガス、好ましくは窒素の存在下で700=9
00℃の温度で約1秒間加熱される。この金属ストリッ
プ素材はその後適当な所定の接触領域において貴金属を
含有する端子に形成することができる。
本発明は当業者には添付図直に関する以下の詳細な説明
を参照することにより最もよく理解することができよう
。
を参照することにより最もよく理解することができよう
。
第1図について述べると、本発明の方法は貯蔵ホイール
10から出てくる未加ニストリップ素材12から出発す
るように示しである。ストリップ素材12は予め明けら
れたパイロット穴14を鳴している。ストリップ素材1
2は1対のローラガイド16および18の間を通ってカ
イトブロック20の上を移動する。ストリップ素利12
がカイトブロック20の上方を移動するときに、スクリ
ーン印刷機21が小量の全組成物26を目標領域34の
上に配置する。
10から出てくる未加ニストリップ素材12から出発す
るように示しである。ストリップ素材12は予め明けら
れたパイロット穴14を鳴している。ストリップ素材1
2は1対のローラガイド16および18の間を通ってカ
イトブロック20の上を移動する。ストリップ素利12
がカイトブロック20の上方を移動するときに、スクリ
ーン印刷機21が小量の全組成物26を目標領域34の
上に配置する。
スクリーン印刷@21はフレームサポート24の中に取
りつけられたステンレス鋼製スクリーン22を使用して
いる。金ペースト組成物26がスクリーン22の上に配
置され、そして金ペースト26はスキージ−28により
目標領域34の上に付着せしめられる。1対のガイドロ
ッドサポート30および32がスクリーン印刷機21を
ス) IJツブ素材12の上に上下動させる。
りつけられたステンレス鋼製スクリーン22を使用して
いる。金ペースト組成物26がスクリーン22の上に配
置され、そして金ペースト26はスキージ−28により
目標領域34の上に付着せしめられる。1対のガイドロ
ッドサポート30および32がスクリーン印刷機21を
ス) IJツブ素材12の上に上下動させる。
この方法に使用されるス) IJツブ素材12は電気端
子を檎成するために慣習的に使用されている物質、すな
わち通常は白銅、燐青銅、真ちゅうおよび種々のその他
のニッケルめっきした銅の合金である。
子を檎成するために慣習的に使用されている物質、すな
わち通常は白銅、燐青銅、真ちゅうおよび種々のその他
のニッケルめっきした銅の合金である。
全組成物26は金の微細粒子(1〜10ミクロン)と、
その他の無機の固形粒子、例えはカドミウム/アンチモ
ン合金および不活性の液状ビヒクルとを混合することに
より調製される。
その他の無機の固形粒子、例えはカドミウム/アンチモ
ン合金および不活性の液状ビヒクルとを混合することに
より調製される。
金に添加された無機固体は金属ストリップ素材に容易に
接着する組成物を提供する。好ましい組成物は該組成物
の総重量に基づいて65〜97重量裂の微細分割された
金の粒子および6〜25重量%のカドミウム/アンチモ
ン合金を含有している。また、小量の銅または銀も添加
することができよう。エチルセルロース樹脂のような液
状ビヒクルの量は変更することができる。液状ビヒクル
は通常厚い印刷可能なペーストが形成されるまで無機の
固形粒子に添加すべきである。通常、印刷可能なは−ス
トを調製するために、60〜95重量乳の無機粉末およ
び5〜40重′Jii、%のビヒクルが使用される。本
発明に有用な犀膜ペーストを調製する技術の説明はC,
、A。
接着する組成物を提供する。好ましい組成物は該組成物
の総重量に基づいて65〜97重量裂の微細分割された
金の粒子および6〜25重量%のカドミウム/アンチモ
ン合金を含有している。また、小量の銅または銀も添加
することができよう。エチルセルロース樹脂のような液
状ビヒクルの量は変更することができる。液状ビヒクル
は通常厚い印刷可能なペーストが形成されるまで無機の
固形粒子に添加すべきである。通常、印刷可能なは−ス
トを調製するために、60〜95重量乳の無機粉末およ
び5〜40重′Jii、%のビヒクルが使用される。本
発明に有用な犀膜ペーストを調製する技術の説明はC,
、A。
Harper氏編1” Handbook of Ma
terials andP、rocessesfor
Electronics J (McGraw Hi1
1社1970年版)第12章に記載されている。
terials andP、rocessesfor
Electronics J (McGraw Hi1
1社1970年版)第12章に記載されている。
その他の貴金属、例えば鏑、パラジウム、プラチナおよ
びこれらの貴金属の合金もまた本発明の方法を使用して
金属基質の上にスクリーン印刷するための組成物に調製
することができる。
びこれらの貴金属の合金もまた本発明の方法を使用して
金属基質の上にスクリーン印刷するための組成物に調製
することができる。
さて、第1図について記載した方法の説明を続けると、
未乾燥金ペースト組成物66がガイドブロック20を通
過した後にストリップ素材12上に付着した状態で示し
である。次いで金ペースト組成物36を含むストリップ
素材12は心出し装fk38を通過し、その後シャフト
42上に支持された割送り装置4oの下を通過する。
未乾燥金ペースト組成物66がガイドブロック20を通
過した後にストリップ素材12上に付着した状態で示し
である。次いで金ペースト組成物36を含むストリップ
素材12は心出し装fk38を通過し、その後シャフト
42上に支持された割送り装置4oの下を通過する。
ス) IJツブ素材12上の全組成物36はその後に一
ストヒータ44を約1秒間で通過する。ペーストヒータ
44はホース48により供給される窒素のような不活性
ガスの存在下で金は−スト組成物66を加熱するために
好ましくは700〜900℃の温iK維持された誘導加
熱コイルを使用している。この温良、時間およびコイル
の設計により全組成物66を基質に接着させることがで
きる。
ストヒータ44を約1秒間で通過する。ペーストヒータ
44はホース48により供給される窒素のような不活性
ガスの存在下で金は−スト組成物66を加熱するために
好ましくは700〜900℃の温iK維持された誘導加
熱コイルを使用している。この温良、時間およびコイル
の設計により全組成物66を基質に接着させることがで
きる。
イーストヒータ44のために支持ブロック5゜が使用さ
れている。ストリップ素材12はバーストヒータ44か
ら出るときに1対の引張ローラ52および54の間を通
過する。ストリップ素材12がこれらのローラ52,5
.4を通過した後に、ス) IJツブ素材12の上に所
望の溶融ペースト組成物56が得られる。このペースト
組成物56は第3図に示されているように金属基質12
上で約0.01〜L]、04m(7)厚さになッテいル
。
れている。ストリップ素材12はバーストヒータ44か
ら出るときに1対の引張ローラ52および54の間を通
過する。ストリップ素材12がこれらのローラ52,5
.4を通過した後に、ス) IJツブ素材12の上に所
望の溶融ペースト組成物56が得られる。このペースト
組成物56は第3図に示されているように金属基質12
上で約0.01〜L]、04m(7)厚さになッテいル
。
第1図は本発明の方法の様式化された斜視図、第2図は
誘導加熱領域の断面図、そして第6図は表面上に溶融し
た貴金属の層が形成された金属ストリップ素材の断面図
である。 12・・・ストリップ素材、16.18・・・ローラガ
イド、20・・・ガイドブロック、21・・・スクリー
ン印刷機、22・・・スクリーン、26・・・金ペース
ト組成物、28・・・スキージ−164・・・目標領域
、66・・・金ヘース)4fi成物の層、44・・・ペ
ーストヒータ、46・・・誘導加熱コイル、 52.
54・・・ローラ、56・・・溶融ペースト組成物。
誘導加熱領域の断面図、そして第6図は表面上に溶融し
た貴金属の層が形成された金属ストリップ素材の断面図
である。 12・・・ストリップ素材、16.18・・・ローラガ
イド、20・・・ガイドブロック、21・・・スクリー
ン印刷機、22・・・スクリーン、26・・・金ペース
ト組成物、28・・・スキージ−164・・・目標領域
、66・・・金ヘース)4fi成物の層、44・・・ペ
ーストヒータ、46・・・誘導加熱コイル、 52.
54・・・ローラ、56・・・溶融ペースト組成物。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)金属素材をスクリーン印刷領域に送り、該スクリー
ン印刷領域において厚膜貴金属金属化ペースト組成物が
該金属素材上の所定位置に適用され、そしてその後該金
属素材を誘導加熱コイルの中に送り、該誘導加熱コイル
において金属素材上の金属組成物が不活性ガスの存在の
下に加熱される諸工程を含んでいることを特徴とする、
金属素材上に電気端子を形成するために好適な貴金属接
触領域を形成する方法。 2)前記貴金属が金であることを特徴とする特許請求の
範囲第1項に記載の方法。 3)前記貴金属が銀であることを特徴とする特許請求の
範囲第1項に記載の方法。 6・4)前記貴
金属がパラジウムであることを特徴とする特許請求の範
囲第1項に記載の方法。 5)前記貴金属が貴金属合金であることを特徴とする特
許請求の範囲第1項に記載の方法。 6)前記貴金属が金であり、そして厚膜ペースト組成物
が存在する無機固体の総量に基づいて65−97重量%
の微細分割された金の粒子と、6−2s4B@の微細分
割されたカドミウムおよびアンチモンの合金と、ペース
トを形成するために充分な量の不活性の液状ビヒクルと
を含有していることを特徴とする特許請求の範囲第1項
に記載の方法。 7)誘導加熱が窒素の存在下で700〜900℃の範囲
内の温度で約1秒間実施されることを特徴とする特許請
求の範囲第1項から第6項までのいずれか1項に記載の
方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US442956 | 1982-11-19 | ||
US06/442,956 US4461785A (en) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | Process for electrical terminal contact metallization |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59103289A true JPS59103289A (ja) | 1984-06-14 |
JPS6120116B2 JPS6120116B2 (ja) | 1986-05-20 |
Family
ID=23758864
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58216414A Granted JPS59103289A (ja) | 1982-11-19 | 1983-11-18 | 電気端子接点を金属化する方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4461785A (ja) |
EP (1) | EP0110641A1 (ja) |
JP (1) | JPS59103289A (ja) |
KR (1) | KR840006681A (ja) |
BR (1) | BR8306272A (ja) |
CA (1) | CA1211998A (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69030520T2 (de) * | 1989-01-24 | 1997-08-07 | Fujitsu Ltd | Verfahren zur Herstellung einer supraleitenden Schicht |
US5281176A (en) * | 1991-07-22 | 1994-01-25 | Daido Tokushuko Kabushiki Kaisha | Contact member with composite sintered metal paste strip having 1-5 wt % carbon diffusion bonded therein |
CA2449358A1 (en) * | 2001-06-04 | 2002-12-12 | Qinetiq Limited | Patterning method |
CN102365909B (zh) | 2009-03-27 | 2016-05-18 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 用于制造集成电路的设备和方法 |
DE102019205289B4 (de) * | 2019-04-12 | 2021-02-18 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Anlage zur Herstellung elektrischer Kontaktelemente mit selektiv veredelten elektrischen Kontaktflächen |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL192839A (ja) * | 1954-12-01 | |||
US3702780A (en) * | 1969-02-11 | 1972-11-14 | Gen Technologies Corp | Process of plating by pyrolytic deposition |
US3645774A (en) * | 1969-09-15 | 1972-02-29 | Amp Inc | Gold coating by salt decomposition |
US4146957A (en) * | 1977-01-17 | 1979-04-03 | Engelhard Minerals & Chemicals Corporation | Thick film resistance thermometer |
US4219448A (en) * | 1978-06-08 | 1980-08-26 | Bernd Ross | Screenable contact structure and method for semiconductor devices |
US4278702A (en) * | 1979-09-25 | 1981-07-14 | Anthony J. Casella | Method of making printed circuit board by induction heating of the conductive metal particles on a plastic substrate |
US4235944A (en) * | 1979-10-29 | 1980-11-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for producing gold conductors |
DE3107079A1 (de) * | 1981-02-25 | 1982-09-09 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Partielle beschichtung von kontaktbauteilen mit edelmetallen |
-
1982
- 1982-11-19 US US06/442,956 patent/US4461785A/en not_active Expired - Lifetime
-
1983
- 1983-11-16 BR BR8306272A patent/BR8306272A/pt unknown
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