JPS5898843A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■　発明の背景 技術分野 本発明は磁気記録媒体の製造方法に関する。

更に詳しくは、Ｃｏ　−ＰないしＣｏ　−Ｎｉ　−Ｐ系
の磁性薄膜を磁性層とする連続薄膜形の磁気記録媒体の
製造方法に関する。

先行技術 近年、金属磁性薄膜を磁性層とする連続薄膜形の磁気記
録媒体が注目を集めている。

このような連続薄膜形の磁気記録媒体の磁性薄膜の１つ
として、Ｃ０−ＰないしＣｏ−Ｎ１ｐ系金属薄膜が、良
好な保磁力と角形比とを示すものとして知られている。

従来、磁気記録媒体のＣｏ−ＰないしＣｏ　−Ｎｉ−Ｐ
系の磁性層薄膜は、通常、電気鍍金、化学鍍金などの鍍
金法によって作製されている。

しかし、これら鍍金法によるときには、檀々の欠点があ
る。

すなわち、先ず、磁性層薄膜の基板に対する接着性と、
膜の機械的強度とが低く、磁気ヘットとの摺接により、
薄膜の卑耗、剥離が生じ、出力特性が減少してくる等、
磁気特性の経時変化を生じるという欠点がある。

このため、通常は薄膜上層に保護層を抜機して使用する
ことになるが、保ｓ層設層厚をある程度以上必要とし、
磁気ヘッドとの実効すきまが増え、空隙損が増大し、記
録再生出力は低下してしまう。

第２には、磁性層薄膜の表面性が悪く、特にｈ域での出
力が低下するという欠点もある。

さらに、第３には、鍍金浴に存在するアルカリ金属イオ
ン、酸、塩基等が、薄膜中に混入し、この混入不純物に
より、磁性層薄膜の磁気特性が経時変化し劣化してしま
ったり、場合によっては、磁気−、ラドを腐食するなど
の不都合もある。

これに対し、蒸着等の各種気相被着法によって、Ｃｏ−
ＰまたはＣｏ　−Ｎｉ　−Ｐ系磁性増薄膜を形成するこ
とも考えられる。

そして、通常の条件下で、垂直入射の蒸着法を用いて磁
性層薄＋＋ａを形成すれば、薄膜の機（成約強度と接着
性は向上し、また表向性も向上−する。

しかし、保磁力が低く、実用上満足できず、また、特に
、高温高湿等における保存の際の４ＩＭ気特性の経時変
化も問題となる。

これにｔまシ、いわゆる斜め蒸着を用いて薄膜を形成す
れば、イ呆脩力は向上する。

しかし、この場合も、十分満足できる保磁力か侍られず
、さらに高い保磁力が望まれる。

また、保存の除の磁気特性の経時変化の改良も必要であ
る。

■　発明の目的 本発明は、このような実状にルみなされたものであって
、良好な磁気特性を示し、喚の機械的強度と、基板との
接着強度が電く、また１良の表向性が良好で、しかも磁
気特性の経時変化が格段と少ないＣｏ　−ＰないしＣｏ
−Ｎｉ１）糸磁外層槽膜を磁性層とする連続博膜形の磁
気記録媒体の製造方法を提供することをその半たる目的
とする。

本発明者らは、このような目的につき鋭意検討を繰返し
た結果、Ｇｏ　−Ｐ　７：（いしＣｏ　−Ｎ１−Ｐ系薄
膜を通常よりもＩＹｂい所定の動作斥力の下で蒸着した
とき、垂直入射、糾め蒸着にかかわらず置い保磁力が得
られ、しかも膜の機械的強度と接着強就が鍍金法による
ときよりも格段と尚く、またその表向性も格段と良好で
あるとともに、高温高籍下での長期保存の嘘の直気特件
の経時変化もきわめて小さく、さらに３３３　Ｎ２にお
ける第３欠＾調波に対する歪もきわめて小さいという当
初子期しえなかった知見を得るに至り、これらの知デ、
かう本発明をなすに十っだものである。

すなわち、本発明は、基体上に、７Ｘ］０　　’〜２　
Ｘ　１０　　”ｌ”ｏｒｒの動作圧力１ｃ　”’（、Ｃ
ｏ−Ｐまたは（０−ＩＮｌ−Ｐ系の磁性層を蒸着により
形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法であ
る。

なお、本発明者らは、先に、特に上記したような比較的
筒い動作圧力でＣｏ−ＰまたはＣｏ　−Ｎｉ　−Ｐ　系
薄Ｎをスパッタリンクにより形成する方法を提案してい
るが、本発明の方法でも、この先の提案と同等の緒特性
を示すものが得られるものである。

■　発明の具体的構成 以下１本発明の具体的構成に一′）（・て詳細に説明す
る。

本発明によって得られる磁性１輌薄膜は、Ｃ。

−ＰまたはＣｏ　−Ｎｉ　−Ｐ系のものである。

この場合、Ｃｏ−ＰまたはＣｏ　−Ｎｉ　−Ｐ糸の組成
としては、下記式で示されるものであることか好ましい
。

式　　Ｘ　ＸＰ　ｙ 上記式において、Ｘは、Ｃｏ、またはＣｏおよびＮ１の
組合せを衣わす。　また、ｘ　−１−ｙ＝１００ｗｔ％
であり、このうちｙは１０ｗｔ％以下である。

一ヒ記式において、Ｐ含有ｆｉｙがｌｆ１ｗｔ％をこ女
ると、磁気特性、特に保磁力Ｈｃか低下してしまう。

この場合、保磁力の点では、ｙが１〜８ｗｔ％、より好
ましくは２〜７ｗｔ％どなると、好ましい結果を得る。

一方、Ｘは、ＣｏまたはＣｏおよびＮｉであるが、Ｘが
ｃｏおよびＮｉであるとき、Ｎｉ　／（Ｃｏ＋Ｎｉ）の
重量化は３５ｗｔ％以下であることか女子ましい。

３５ｗｔ％をこえると、磁気軸性、待に保祉ｌ力が低−
１〜してしまう。

そして、保磁力の点では、Ｘは、ｃｏのみからなるが、
あるいは２８ｗｔ％以下のＮｉ　／　（Ｃ。

モ（東）比をもつＣｏおよびＮｉであることが好ましい
１、 なお、本発明における薄膜磁性層は以Ｆのような組成か
らなるものであるが、薄膜中には、更に概３ないし第４
成分として、例えばＣ０１Ｎｉ以外の他の遷移金属元素
等、例えばＦｅ１Ｃｒ、Ｍｎ　、　Ｍｏなどの１種以−
ヒが、全体の］Ｑｗｔ％以下の範囲で含有されていても
よ℃１゜ このような組成をもつ磁性層薄膜の厚さについては、特
に制限はなく、磁気記録媒体がアナログ記録を行うもの
であるか、ディジタル記録を行うものであるが、あるい
はどのような用途か等に応じ、種々の厚さとすればよい
。　ただ、通常は、５００Ａ〜数μｍ程度の厚さの連続
薄膜として、非磁性の基体−ヒに形よく、その祠料、形
状には制限はない。　このため、磁気記録媒体の用途に
応じ、神々変更可能である。　本発明によれば、公知の
いずれの材質、形状の支持体に対しても、すぐれた機織
的強度、接着性と、良好な表面性をもつ磁性層薄膜を得
ることかできるからである。　また、基体は寸地層を有
してしてもよい。

このような本発明における磁性層薄膜は、上記の基体の
上に、蒸着によって被層形成される。

用いる＃着としては、蒸着粒子の運動エネルギーが低（
、通常、蒸着と称されるものはどのようなものを用いて
もよく、その加熱方式も、抵抗加熱、電子ビーム加熱な
どいずれであっ−Ｃもよい。　また、＃盾は、斜め蒸着
であっても、垂直人オＪであってもよい。

用いる蒸発縁としては、辿當の場合は、Ｃ。

−Ｐ台金、あるいはＣ０−Ｐ、＆金とｆＬ：ｏ−Ｎｉ合
金とを所望の組成に混合したものを用いるのかよい。

一方、蒸着に際しては、通常、ｋｒ、Ｋｒ、Ｘｅ、ある
いはへ２等の不活性ガスなどの１捜以上を用い、動作時
において、７Ｘ１０−３Ｔｏｒｒ以−１−の圧力に維持
する必要がある。

このような圧力未満では、得られる磁性層薄膜の磁気特
性、特に保磁力Ｈｃが低下（、てしまうからである。

一方、動作時の圧力を上げれば、成膜速度は低下してし
まう１．　このため、動作時の圧力は、２Ｘ１０−１Ｔ
ｏｒｒ以下にすることが必要である。

そして、一般に、３Ｘ］Ｏ−２〜２Ｘ１０−１Ｔｏｒｒ
程度とすると、より好ましい結果を得る。

このようにし゛Ｃ形成される磁性層薄膜は、最高１００
００ｅに及ぶ保磁力と、０７５にも及ぶ角形比をもち、
きわめてすぐれた磁気特性をもつ。

なお、このようにして形成される磁性層薄膜は、その接
着強度および膜強度が十分高いので、上Ｊ−にあえて保
欣層を設層しなくてよいという利点があるが、もし必要
であるならは、保護層を破核してもよいことは勿論であ
る。

この抜、必要に応じ、所定の形状加工等を施し、磁気記
録媒体が製造される。

■　発明の具体的作用効果 このようにして製造される本発明に」Ｘ：ける磁気記録
Ｉｋ体は、アナログないしディジタルの磁気に「［録を
行う、各種磁気ブーツ、磁気ティスフ、イ社気ドラム、
磁気シート、６ｈ気カード、磁気スケール等として、均
相である。

本発明によれば、得られる媒体の出色−ノー薄膜の保磁
力Ｈｃおよび角形比等の磁気特性は、きわめて商い値を
もつ。　この場合、保磁力は鍍合法以上のものか得られ
る。また、保磁力は、余１め蒸着、垂直入射点７Ｉ！ｉ
にががわにンず、通常の動作圧力で行うときと比蝦して
、格段と向−トする。

又、磁性層薄膜表１川の表面性は、他の製造方法による
ととと比較して、格段と良好であり、特に、尚周波領域
ないし短波長における記録の際の、出力低下が格段と少
ない。

加えて、３３３　Ｈｚにおける第３次−調波に対する歪
がきわめて小さく、特にオーテイオ用各種磁気テープと
して用いるときには、きわめてずぐれた特性を発揮１−
る。　この場合、この歪値は、従来の鍍金法によるとき
や、１０　　”Ｔｏ＋ｒ程ＪＷの動作圧力での蒸着をｄ
つだときと比較して格段と小さい。

史には、媒体を長期間、茜ＯＡ篩湿Ｆや化学的に劣悪な
雰囲気下で保存したような場合でも、磁気特性の経時変
化はぎわめて少ない。

この場合、経時変化は、不純物も゛１世の多い鍍金法に
よる場合と比較して格段と小さいものであると同時に、
通常の低動作圧力１における魚宥法によるときと比較し
ても、より一層小さいものである。

又、磁性ＩＮ！１′＃ｉ−膜の膜強度および接着強度が
きわめて高く、ヘッド摺接による剥離、塚耗はきわめて
少ない。　この場合、低動作圧力下によるときよりも、
これらは向上する。

次に、本発明の実施例を小し、本発明を更に詳絆１に説
明する。

実施例１ Ｃｏ　−Ｎｉ合忙とＣｏ　−Ｐば金とな混合して蒸着源
とし、電子ビーム加熱方式を用い、垂直入射＃Ｍにより
、長尺の１５μ惰厚ポリエチレ／テレフタレートフイル
ム上に、Ｃｏ　−＋Ｎ１−Ｐ糸磁性薄膜を破着した。

蒸着に際しては、不を古注〃スとして、フ′ルコンを用
い、動作時のフ′ルゴン圧は５ＸｌＯ−２’Ｉ’ｏｒｒ
ｌＣ維持した、 このようにして蒸着をイア′つｌこところ、被着された
値１住Ｊ−薄膜は、長尺フィノ（ムの全域に旦り、３０
００Ａの均一の厚さをもら、（Ｃｏ８゜Ｎ’、１ｊ９Ａ
２”４８の均一な組成を有することか確認された。

これに対し比較のため、公知のスルファミン酸浴を用い
電気錠＞ｌｉ、な行い、長尺の１５μ欝を斥ンｒｅリエ
ヴしンヴレ′フタレートフィルム上ニ、厚さ：（（１０
０Ａにて、上記と同一の組成のｂｂ、性薄膜を形成した
。

このように（２て得た２橿の破着体につぎ、これをスリ
ッタにかけ、所定中となし、本発明に祝するカセットテ
ープＡと、比較用力セラ）・テープＢを得た。

この力トットテープＡ、Ｈにつき、保磁力Ｈｃ　、角形
比、１４　Ｋ　Ｈｚにおける飽和出力レベル（＋ＶＩ　
ＣＪ　Ｉ−、）をｄｌｉだした。　結果を下古己衣１に
ボ」−６ 表　　１ Ｃ’−）ｅ）　　　　　　　　（ｄＢ）Ａ（本発明）　
　　９００　　０．７３　　　　＋０．９　　ｄＢＢ（
比較）　　８００　　０．７０　　　　−なお、表１中
、１４．　Ｋ１−１ｚ　ＭＯＬは、ｆ−ブＢに′対−す
る出力し・ベル差として示されろ。

この場合、テープＡのＭＯＬが６惑いのは、表面性の良
さにも起因しているものであると考えられる。

こね、とは別に、経時変化を測定した。　すなわち、テ
ープＡ、Ｂを５０１Ｔ、９０％相対γ並度にて、１５０
日１ｊｆｌ保存ｌ２、その後の保磁力Ｈｃ、残留磁束密
度Ｂｒ：ｉａよび１４　Ｋ１−１ｚ　Ｋおけるへ！（月
・を測定した。　Ｉ−（ｃおよびＢｒの変化率（′％）
と、１呆存イ／・の］　４　Ｋ　Ｈｚ　ｈ・１ｏ　Ｌの
、保存前のテープＢとの出力レベル差を、下記衣２（Ｃ
示す、１ 表　２ テープ゛　　　　　５０℃、９０％、１５０日経時変化
Ｈｃ　　　Ｂｒ　　　１４Ｋ）ｌｚ　Ｍ（）Ｌ（％）　
（％）　　　（ｄｉ３） Ａ（本発明）　　−３−２−１，５ Ｂ（比較）　　−８−７−５，２ 更に、テープＡ、Ｂにつき、いわゆる２００パス試験な
竹い剥離を評価した。　すなわち、各テープ゛に記録を
１１つだ後、４０℃、８０％相対湿度にて、テープ走行
を２００回行い、その後再生して、３ｄＢ以上のレベル
低下が何回あるかを測定した。テープＡ、Ｈにおける３
ｄＢ以上のレベル低下回数を１分間あたりに換算して、
下記表３に示す。

表　　　　３ テープ　　　　２００バス　レベル１ａ下回＆（回／分
） ４ Ｂ　　　　　　　　　　　１０ 加えて、両テーグＡ、Ｂの３３３　Ｈｚにおける第３次
高調波に対する歪を測定した。

結果を下記Ｐ４に示す。

Ｓ 表　　　４ テープ　　　　　３３３　）−１ｚ Ａ１．Ｉ Ｂ３．３ 以上の結果から、鍍金法と比較しての本発明の効果が明
らかである。

実施例２゜ 実施例１のテープＡにおける垂直入射蒸着の際の動作時
アルゴン圧を、下記表５のようにかえ、実施例１と同様
に磁性層＋１１４の被着を行い、２塊のカセットテープ
Ｃ，Ｌ）を得た。

テープＣ，Ｄにつき、保磁力Ｈｅおよび角形比を測定し
、表５に示される結果を得た。

表　　　５ 表５に示される結果から、動作圧力が７×１０−３〜２
Ｘ１０　’Ｔｏｒｒとなったときのすぐれた効果が明ら
かである。

実施例３ 実施例２において、入射角を６００にして、３０００Ａ
のＣｏ　−Ｎｉ　−Ｐ系合金を蒸着したところ、下記表
６に示されろ結果を得た。

表　　　６ Ｅ　５Ｘ１０−２１１００　−２ Ｆ　ｌＸｌ０’　６５０　−１０ 表５に示される結果から、いわゆる斜め蒸着においても
１本発明における動作圧力において、１ぐれた特性が示
されることがわかる。

実施例４゜ 下記表７に示されろような組成の磁性層を、実施例１に
準じ、５Ｘ１０　　”Ｔｏｒｒの動作圧力にて、ａｏｏ
ｏｉ厚に、垂直入射蒸着により形成し、各種テープを作
製した。

これらの特性を表７に示す。

表７に示される結果から、本発明の効果が明らかである
。

代理人　　弁理士　　石　井　賜　−

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基体上に、７ＸＩＯ’〜２Ｘ１０−１’Ｉ’ｏｒｒの動
   作圧力にて、Ｃｏ　−ＰまたはＣｏ　−Ｎｉ　＝Ｐ系の
   磁性層を蒸着により形成することを特徴とする磁気記録
   媒体の製造方法。