JPS5897042A - 平版印刷用原版 - Google Patents

平版印刷用原版

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JPS5897042A
JPS5897042A JP19441881A JP19441881A JPS5897042A JP S5897042 A JPS5897042 A JP S5897042A JP 19441881 A JP19441881 A JP 19441881A JP 19441881 A JP19441881 A JP 19441881A JP S5897042 A JPS5897042 A JP S5897042A
Authority
JP
Japan
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plate
naphthoquinone
polymer
reducing agent
tetrazolium salt
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Pending
Application number
JP19441881A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoji Ide
洋司 井手
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP19441881A priority Critical patent/JPS5897042A/ja
Publication of JPS5897042A publication Critical patent/JPS5897042A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光又は熱により製版される平版印刷用原版に関
する。
平版印刷用原版の代懺例としてFips版及び電子写真
版がある。ps版(pr@a@n5lt1z*d pl
ato)は親水化処理したア/I/ i ニクム、亜鉛
等の親水性支持体上にポリビニル珪皮酸エステル、メタ
クリル酸メチル〜アクリル化グリシジルアクリル酸エス
テル〜アクリロニトリル共重合体、トリエチレングリコ
ールジアクリレート、アルコール可溶性共重合ポリアミ
ド〜N、「−メチレンビスアクリルアミド混合系、環化
ポリイソプレ7〜2.6−シ(4’−7ジドベンザル)
シクロヘキサノン混合系、ノンジアゾフェニルアミン・
パラホルムアルデヒド縮重合物等のネガ温感光性樹脂(
又は感光性化合物)或いはキノンジアジド系樹脂のよう
なポジ型感光性樹脂を含むiiiIgI形成層を設は次
もので、製版はネガ温感光性樹脂を用い次場合はI!I
IgIA露光によp1露光部に横かけ反応又は分解反応
を起こさせて不溶化させるか或いF1篇光前とは全く異
なる溶解度に変化させた後、一般に有機溶剤で処理(現
像)して露光部を溶出せしめ、こうして非露光部をネガ
画成として残すことにより行なわれる。ポジ型感光性樹
脂を用いた場合も同様な方法で製版が行なわれるが、こ
の場合はネガ型とは逆に露光部が分解し、現像によって
溶出すると同時に、非露光部が化学変化を起こして不溶
化し、ポジ@儂を形成する。
一方、電子写真版は親水化処理し次アルミニウム蒸着フ
ィルムのような親水性導電性支持体上に光導電性酸化亜
鉛及び樹脂結着剤を含む光導電層を設は次もので、製版
は通常の電子写真法に従って帯電、画gIg党し次後、
親油性トナーで現像して行なわれる。
28版は工業印刷から軽印刷まで巾広く用いられている
が、感光波長が近紫外域にしかないため無光工程は、銀
塩フィルムで一度リスフイルムを調製し次後、このフィ
ルムを密着透過焼きする必要があるので、複雑で高価な
印刷版となってしまう。ま次、現像の際、有機溶剤を使
用する(アルカリ現像もしくは水現像で惠るものもある
が)次め、一般に公害上問題となる。
一方、電子写真版は28版のようにリスフィルムを使用
せずに製版可能であるが、製版工程が複雑であり、消耗
品の交換を必要とするなどの問題がある。ま比形成され
るl!iigIはトナーの粒子儂である次め、28版に
比べると、画像品質に劣る。
ta最近ではコンピューター、ファクシミリ等の利用に
伴ない、これら機器の出力信号、即ち熱や光モードで製
版できる原版又は材料が要求されているが、従来の原版
又は材料にはこの要求に応じられるものはなかつ次。
本発明の第一の目的は従来の28版や電子写真版−おけ
る種々の問題を解決し得る平版印刷用原版を提供するこ
とである。
本発明の第二の目的Fi画儂状の露光又は熱印加という
簡便な方法で製版可能な平版印刷用原版を提供すること
である。
本発明の第三の目的はコンピューター、ファクシミリ等
の出力信号によっても製版可能な平版印刷用原版を提供
することである。
本発明の第四の目的はテトラゾリウム塩をポリマー化す
ることにより耐刷性を向上した平版印刷用原版を提供す
ることである。
即ち本発明の平版印刷用原版は親水性支持体上に一般式
1又はI 肌! (但し馬tR4はH、CM、 、 No、 、 OH又
はC0OH,Xはct又はBr 、 nは10〜10,
000の整数を嵌わす。) で示されるテトラゾリウム塩の重合体又は共重合体と元
還元剤又は熱還元剤とを主成分とする画成形成層を設は
次ことを特徴とするものである。
前記一般式l及びBで示されるテトラゾリウム塩の1合
体又は共重合体はいずれも水溶性ないし親水性、且つ有
機溶媒不溶性で、無色〜黄色を呈するが、励起状態にお
いてプロトン供与体よりプロトン引き抜き反応によって
還元され、ホルマザン構造をとることにより、赤色に発
色すると共に水不溶性ないし疎水性、且つ有機溶媒に可
溶となる。そしてこのホルマザンは分子内のスチレン誘
導体に付いている沈め優れたフィルム形成能を有する重
合体又は共重合体を得ることができる。なお前記テトラ
ゾリウム塩の重合体又は共重合体が水溶性ないし親水性
、且つ有機溶媒不溶性なのは分子内の第3窒素が4級化
によりイオン化しているからであ夛、一方、その還元生
成物であるホルマザンが水不溶性な−し疎水性、耳つ有
機溶媒可溶性なのはアゾ色素構造をとるからと考えられ
る。いずれにしてもこの還元反応社一般式lのテトラゾ
リウム塩の重合体の場合、次のように進むと考えられる
ところでテトラゾリウム塩は、生化学における還元性酵
素の確認、還元性糖の確認の几めの指示薬として広く用
いられているが、これは無色〜淡黄色のものがプロトン
存在下(例えば8H酵素)において非常に低い酸化還元
電位で、赤色を呈し、一度還元生成し次ホルマザンは空
気酸化を受けにくいとり52つの利点があるためである
。一方、本発明者らは先に前記一般式のモノi−に類似
し次テト2ゾリウム塩のモノ体、ビス体(以上、特願昭
56−129090号ン及びオリゴマーを用いた平版印
刷原版を提案したが、これら原版はいずれも未だ耐刷性
が不充分であつ次。これは前記テトラゾリウム塩の光又
は熱による還元で生成したホルマザンのフィルム形成能
が低いためであると考えられる。そこで本発明者らは前
述のような利点を有するテトラゾリウム塩を平版印刷原
版に用いた場合の耐刷性の間組を解消する几め、フィル
ム形成能の高いホルマザンに還元し得るテトラゾリウム
塩について橋々検討し次結果、テトラゾリウム塩をポリ
マー化することに着目し、本発明に到遅し次。
こうしてポリマー化され次テトラゾリウム塩は前記一般
式1又Fijで示されるテトラゾリウム塩の重合体又は
共重合体である。ここで共重合体の他方のモノマー成分
としては重合性の七ツマ−であればいかなるものでもよ
く、例えばアクリル酸、メチルメタクリレート、アクリ
ルアミド、スチレン又はその誘導体(例えばO−9m−
又はp−ヒトルキシスチレン、0− 、 m −又Fi
pミル−メチルスチレン−又はm−アミノスチレン等が
挙げられる。なおこれらのモノマーと一般式I又はlの
テトラゾリウム塩のモノマーとのモル比は0〜4:5〜
1程度が適当である。
次にこれらテトラゾリウム塩の製造法を反応式によって
説明すると、一般式Iの場合、下記の通りである。
なお共重合体を作る場合は前記重合工程で前述のような
重合性モノマーを添加すればよい。
tN一般式]のテトラゾリウム塩の重合体を作る場合は
原料としてp−7ミノスチレンを用いればよ−。ま窺い
ずれの1合体の原料も分類の方法で容易に合成できる。
次に一般式I及びBのクトラゾリウム塩重合体(いずれ
もn=1(10)の製造例を示す。
一般式■のテトラゾリウム塩重合体の製造例まずm−7
ミノスチレンをC,L、Areus : J。
Chew、 8oe、 (London )、242B
 (15182に記載された方法に従って調製し次後、
このm−アミノスチレン6.5iI、アゾピスイソゾチ
ロニトリル(AIBN) 0.448JI及びベンゼン
401を4001容量の重合管に入れ、均一溶液としに
後、ドライアイスアセトン温度(約−70℃〜−20℃
ンに冷却し、この温度で重合管内を臭突吸引することに
よシガス抜きし、つりで管をシールした。しかる後、8
0℃で8時間重合反応を行なう。反応後、攪拌されてい
るニー7−μ中に滴下し、生じた沈澱を濾別する。こう
して侍られた白色4リマーを室温で24時間減圧乾課す
ることによりポリ−m−アミノスチレンを4.84&得
九。なおこのポリマー0,59をジメチルホルムアミド
Igmに溶解した時の粘度は25℃においてo、 15
 di/1/で6つ次。
次にこのポリ−m−アミノスチレン2.0311(1,
7Xi (1” unit moj )を、濃塩酸4.
711Jf:水251で稀釈した液に溶解した後、約0
’Cに冷却する。この水溶液を攪拌しながら、これに亜
硝酸ナトリウム21.211を水25stJl(溶解し
た溶液を徐々に摘下し、ついでその1tao分間攪拌し
てジアゾ化を完結させる(収率e4.o%)。
次ニヘンズアルデヒドフェニルヒドラゾン3、B 31
 (1,7X10 mol )をピリジy s o d
K溶解し、これを0〜5℃に冷却し、この中に前述のよ
うにして得られたジアゾニウム塩の水溶液を徐々に滴下
し、カップリングを行なう。繰下後、前記温度で2時間
攪拌を続け、生じ尺沈澱を濾別する。この沈濾を水でよ
く洗浄した後、更にメタノールで洗浄し、減圧乾燥する
ことにより、暗赤色のホルマザンポリマーを5.15j
l(収率93.0チ)得た。
更にこのポリ−v −5,U l/ (1,53X11
J unitmol )を粉砕後、これを脱水し次酢酸
エチル400d中に分散し、加熱還流せしめ、この中K
N−プロ%コld<酸イミドl O,9fl(6,13
XtOnon、)を加え、引続き20時間還流せしめる
。得られた黄色沈澱tmm後後アセトンでよく洗浄し、
五酸化9ん上、90℃で3日間乾燥することにより目的
物を黄色粉末として5.9BI(収率96.3 % )
帰次。
一般式〇のテトラゾリウム塩重合体の製造例11C料p
−アミノスチレンは次のようにして合成する。まず、冷
却器、温度計、毛細管等を備え7t5 o ad容量の
ナス型72スコにp−7ミノフエネテルアルコール15
0J+及び脱水し次水酸化カリウムを取り、毛細管を通
してフラスコ内に乾燥音素を流しながら、減圧蒸留を行
なう。50℃/ 8 mHJ’の初留分2Iはカットし
、87℃/ 8 n+Mp 〜1 o 2℃/ 12 
mH9の粗P−アミノスチレンからなる留分57Iiを
得る。次にこの粗p−アミノスチレンの留分にt−プチ
ルカデコール5gを加え、同様な方法で再蒸留を行なう
。85°C/ 4 ta)IJ 〜89℃/ 4 tm
HJの初留分をカットし次後、90℃/3.5IIII
LH9〜93°G/3.51LIHjlの楕留分32I
(収率24.6%)を書た。
次にこうして得られ次p−アミノスチレンなm−7ミノ
スチレンの代りK用いた他は一般式Iのテトラゾリウム
塩重合体の製造例と同じ方法で重合せしめ、ポリ−p−
アミノスチレンを収率81−で得穴。以下、このポリ−
p−7ミノスチレンをポリ−m−アミノスチレンの代り
に用いて前記製造例の場合と同様な方法で目的物を黄色
粉末として5.841 (収率94296ン!!次。
以上のようKして帰られる一般式■又は璽のテトラゾリ
ウム塩の重合体又は共重合体の具体例は次のAりである
(以下余白) 一般式1のテトラゾリウム塩重合体の例(表−1参照)
:表−1 一般式量のテトラゾリウム塩重合体の例(懺−2参照)
二表−2 〔但しXs7はx +y = nで、且つx/y−〇〜
415〜l(モル比)を満足する整数〕!!−3 (xtyは前述の通りン 嵌−4 (但しx、yは前述の通力、R,はH9OR又はCH,
) 表−5 (但しx、yは前述の通シ) 表−6 (但しX?7は前述の通り9 表−7 (x * yFi前述の通シ) 表−8 (3CIFは前述の通り) 表−9 一般式Bのブト2ゾリウム塩共重合体の例(表−1O〜
I!!−15参M): (xtyは前述O:Aりン 弐−11 (xtyは前述の通り) 我−12 (Xs7は前述の通り) 表=13 (X+7は前述の通シン 懺−14 (Xs)’は前述の通り) 表−15 次に、光還元剤及び熱還元剤について説明する。光還元
剤又は熱還元剤と体面惨状の露光もしくは熱印加により
プロトンを発生する物質のことで、いずれも前記操作に
より還元剤を生成し、これが共存するテトラゾリウム塩
を還元してホルマザンを生成し、こうレズ発色画儂を形
成するのであるが、光還元剤の場合はその種類によって
m光後、テトラゾリウム塩を還元するのに長時間要する
ことがある。これを回避するには露光後、更に加熱する
ことが望ましい。この時の加熱温度は使用材料の種類、
製版速度の選択等により異なるが、通常は70〜160
℃の範囲である。
光還元剤としては、光分解又#′i党誘発転位により還
元剤を生成する公知のものを全て用いることができる。
例えば (G)  アンロイン に)芳香族カルバジド (I)  芳香族ジアゾスルホネート (21−讐しクイイミダソー9ν)   (IH−パb
す(イミタソーヅレンR冨 (ト)外部水素源キノン(イリエチレングリコールのよ
うな活性水素原子供給源と組合わされるキノン類ン 例えば、1.4−す7トキノン、2−メチル−1,4−
ナフトキノン、2,3−ジメチル−1,4−ナフトキノ
ン、2.3−ジクロロ−1,4−ナフトキノン、2−チ
オメチル−1,4−ナフトキノン、2−(l−ホルミル
−2−プロピル)−1,4−ナフトキノン、2−(2−
ベンゾイルエチル)−1,4−す7)”?/ン、9.1
0−7エナントレンキノン、2−t−ブチル−9,lO
−アントラキノン、2−メチ/L/−1.4−アント2
キノン、2−メチル−9,lO−アントラキノン尋。
またこれらの外部水素源キノンと組合わされる水素供与
体の代表例は次の通りである。
l〕 ポリエチレン/リコール 2)フェニル−1,2−エタンジオール3ン ニトロト
リアセトニトリル 4)トリエチルニトリロトリアセテート5)ポリビニル
ブチラール リ ポリビニルアセタール ?)1.4−ベンゼンジメタツール 8)メチルセルロース 9)セルロースアセテ゛−トブチレート10)2.2−
lス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸 11)1,3−ビス(ヒドロキシメチルン尿素12)4
−ニトロベンジルアルコール 1B)  4−メト中ジベンジルアルコール14ノ 2
,4−ジメトキシベンジルアルコールIs)  B 、
 4−ジクロロフェニルf IJ コ−h16)N−(
ヒドロキシメチル)ペンズア之ド17)N−(ヒドロキ
シメチル)フタルイミド。
1B)5−(ヒドロキシメチルンウラシルヘミノ1イド
レート 1G)  ニトリロトリ酢酸 2リ 2 、2’、 2’−)リエチルニトリロトリプ
ロビオネート 21)  2.2’、2’−ニトリロトリアセトフエノ
ン22)ポリビニルアセテート 23)ポリビニルアルコール 24ン エチルセルロース 25)カルlキシメチルセルロース 26)ポリビニルホルマール (財)内部水素源キノン(内部に活性水素原子を有する
キノン類ン 1) 5,8−ジヒドロ−1,4−す7トキノン2ン 
5,8−ジヒドロ−2,5,8−)ジメチル−1,4−
ナフトキノン 3)1.4−ジヒドロ−1,4−ジメチル−9゜It)
−アントラキノン 4ン2−ジメチルアミノ−1,4−ナフトキノン5)2
−メトキシ−1,4−ナフトキノンリ 2−ベンゾイル
オキシ−1,4−す7トキノン7)2−メトキシ−3−
クロロ−1,4−ナフトキノン 8ノ 2.3−ジメトキシ−1,4−す7トキノン9)
2.3−ジェトキシ−1,4−ナフトキノンエリ 2−
エトキシ−1,4−す7トキノン11ン 2−7エネト
キシー1.4−すントキノン12)2−(2−メトキシ
エトキシ少−1,4−ナンドキノン 1B)2−(2−エトキシエトキシン−1,4−す7ト
キノン 1リ 2−(2−フェノキシ)エトキシ−1,4−ナフ
トキノン 15ン 2−エトキシ−5−メトキシ−1,4−ナフト
キノン lリ 2−エトキシル6−メドキシー1.4−ナフトキ
ノン 17)2−エトキシ−7−メトキシ−1,4−ナフトキ
ノン 1B)2−n−プロポキシ−1,4−す7トキノン19
)2.(3−ヒドロキシプロポキシ)−1,4−す7ト
キノン 2リ 2−インゾロホキシー11,4−ナフトキノン2
1)7−メドキシー2−インプロポキシ−1,4−ナフ
トキノン 22)2−n−!トキシー1.4−す7トキノン23)
2−城一ゾトキシー1.4−ナフトキノン2リ 2−t
t−インドキシ−1,4−す7トキノン25)  2−
n−ヘキソキシ−1,4−す7トキノン26)2−n−
へブトキシ−1,4−ナフトキノン27)2−7セトキ
シメチルー3−メチル−14ラ ーナフトキノン 28)2−メトキシメチル−3−メチル−14−ラ ナフトキノン 29)2−(β−アセトキシエチル)−1,i−ナフト
キノン 3リ 2−N、N−ビス(シアノメチル)アミノメチル
−3−メチル−1,4−ナフトキノン3リ 2−メチル
−3−モルホリノメチル−1,4−す7トキノン 32)2−ヒドロキシメチル−1,4−ナフトキ〃33
)2−ヒドロキシメチA/ −3−メチA/−1,4−
ナフトキノン 34)  2−(1−ヒドロキシエチル)−1,4−ナ
フトキノン35)2−(2−ヒドロキシエチルツー1.
4−ナフトキノン 3リ 2−(1,1−ジメチル−2−とドロキシエチル
ン−1,4−す7トキノン 37)2−ブロモ−3−イソゾロホキシーl、4−す7
トキノン 38)2−エトキシ−3−メチル−1,4−ナフトキノ
ン 39)2−クロロ−3−ピペリジノ−1,4−す7トキ
ノン 4リ 2−モルホリノ−1,4−ナフトキノン4υ 2
,3−ジピベリジノ−1,4−ナフトキノン42)2−
ベンジルアミノ−3−クロロ−1,4−ナ7トキノン 43)2−メチルオキ7カルメニルメトキシーl。
4−ナフトキノン 44)2−(N−エチル−N−ベンジルアミノ)−3−
クロロ−1,4−す7トキノン 45)2−そルホリノー3−クロロ−1,4−す7トキ
ノン46ン 2−ピペリジノ−3−クロロ−1,4−す
7トキノン 47)2−ジエチルアミノ−3−クロロ−14−す7ト
キノン 48)2−ジエチルアミノ−1,4−す7トキノン49
)2−ピペリジノ−1,4−ナフトキノン50)2−(
2−へキシルオキシ)−1,4−ナフ)キノ1 51)2−ネオ−(ンチルオキシー1,4−ナフトキノ
ン 52、)  2− (2−!l−ペンチルオキシン=1
,4−ナフトキノン 53)2−(3−メチル−n−ブトキシ)−1,a−ナ
7トキノン 45リ 2−(6−ヒドロキシ−n−ヘキソキシン−1
,4−ナフトキノン 55)2−(6−ヒドロキシ−n−ヘキソキシン−1,
4−す7トキノン 5リ 2−エトキシ−3−クロロ−1,4−す7トキノ
ン57)2−二トキシ〜3〜クロロ−1,4−す7トキ
ノン 58ン 2−ジ(フェニルノメトキシー1.4−ナフト
キノン 59)2−(2−ヒトaキシエトキシノー3−クロロ−
1,4−ナフトキノン 6リ 2−メチル−3−(1−ヒドロキシ、l’f−ル
9エチル1.4−ナフトキノン 61)2−アセテシノー3−クロロ−1,4−す7トキ
ノン 62J2−(2−ヒドロキシ千チル)−3−ブロモ−1
,4−ナフトキノン 63)2.3−ジモルホリノ−1,4−す7トキノン6
4)2−エチルアミノ3−ピペリジノ−1,4−ナフト
キノン 65ン 2−エトキシメチル−1,4−ナフトキノン6
リ 2−フェノキシメチル−1,4−す7トキノンなお
内部水素源キノンも外部水素源キノンと同様、水素供与
体と組合わせることができる。
この場合社更に還元剤への変換が促進される。
その他、次のようなキノン化合物も光還元剤として使用
できる。
1.2−六7トキノン類: 例えば1,2−ナフトキノン、8−メチル−1,2−ナ
フトキノン、8−エチル−1゜2−ナフトキノン、8−
イソプロピル−1゜2−す7トキノン、8−イソゾロホ
キシー1.2−す7トキノン、8−ヒト−キシ−1゜2
−ナフトキノン、3−メチル−1,2−ナフトキノン、
3−エチル−1,2−ナフトキノン、3−インゾロホキ
シル1.2−ナフトキノ/、3−イソ1ゾロビル−1,
2−す7トキノン、3−ヒドロキシ−1,2−ナフトキ
ノン、3,8−ジヒドロキシ−1,2−す7トキノン、
3−ヒドロキシ−8−メチ/l/ −1,2−す7トキ
ノン、3−ヒドロ、・キV−8−イノゾロビルー1.2
−ナフトキノン、3〜ヒドロキシ−8−インゾロホキシ
ー1,2−ナフトキノン、3−メチル−8−ヒドロキシ
−1,2−ナフトキノン等。
キサントン@: 例えばキサ7トン、4−メチルキサントン、1.4−ジ
メチルキサントン、4,5−ジメチル−キサントン、4
−イソゾロピル−キサントン、4−ヒドロキシキサント
/、4.5−ジヒドロキシキサントン、4,5−ジヒド
ロキシキサントン、4−ベンジルキサントン、4,5−
ジベンジルキサントン郷。
9 、・I Q−アントラキノン及びその◇−アルキ/
メ7メtル誘導体: 例えばアントラキノン、l−メチル−アントラキノン、
l−エチルアント2キノン、1−インプロピルアントラ
キノン、l−ペンシルアントラキノン、l、5−ジメチ
ルアフト2キノン、l、5−ジエチルアントラキノン、
1.5−ジイソゾロピルアントラキノン、1゜5−ジペ
ンゾルア/トラキノン、1−ヒドロキシアント2キノン
、l、4−ジヒドロキシアントラキノン、1〜アミノア
ントラキノン、1.4−ジアミノアントラキノン、11
 E −ジヒドロキシアントラキノン等。
O−アルキルベンゾフェノン類: 例えばベンゾフェノン、2−メチルベンゾフェノン、2
−エチルベンゾフェノン、2−インプロピルベンゾフェ
ノン、2−ベンジルベンゾフェノン、2,4.6,2’
、4’、6’−ヘキサメチルベンゾフェノン、2−ヒド
ロキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン等。
その他1.6−ピレンキノン、1.8−ピレンキノン、
9.10−フェナントレンキノン等の多核キノンが使用
できる。
以上の還元剤はいずれも300 mm以上の活性輻射線
に露光した際vcデトラゾリウム塩と共に酸化還元反応
を行なうが、その反応の仕方とメカニズムには若干相違
がある。活性輻射線に多くの光還元剤はテトラゾリウム
塩と迅速に反応する。キノン光還元剤のあ“る樵のもの
はこの反応特性を示す。その他の光還元剤も露光した際
に酸化還元反応を行なうが、テトラゾリウム塩を還元す
るには長時間を要する。多くの場合、露光した還元剤と
テトラゾリウム塩とから作られるレドックスカップルは
加熱して反応を丁度良い時期に終らせることが望ましい
。最適の加熱温度は存在する光還元剤、テトラゾリウム
塩及び写真速度によシ異なるが、具体的には80〜15
0”Cの範囲が好ましい。
以上の光還元剤のうち、本発明で通常用いられるのはキ
ノン類であるが、中でも(財)の内部水素源キノンが好
ましい。
熱還元剤としては、分子内KOH基あるいはNH,基を
2つ以上持っていて、それらが互に〇−又はp−位にあ
るものが有効である。即ち通常の銀塊写真現俸の条件を
満次すものが、本発明の場合も有効である。例えば21
m以上の7エノール基を有するポリフェノール類、モノ
ナ・ストール類、ビスナ7トール類、2個以上の水酸基
を有するポリヒドロキシベンセフ1812個以上の水酸
基を有するポリヒドロキシナフタレン類、アスコルビン
酸類、3−ピラゾリドン類、ピラゾリン−5−オン類、
ピラゾロン類、フェニレンジ7ンン類、ヒドロキシルア
ミン類、ハイドロキノンモノエーテル類、ヒドロオキサ
ミン酸類、ヒドラジド類、アきビオキシム類、N−ヒド
ロキシ尿素類などが挙げられる。
これらの光還元剤又は熱還元剤は、水と相溶しうる適当
な溶媒に溶解本しくけ分散し、前記一般式I又は1のテ
トラゾリウム塩の重合体又は共重合体と共に親水性支持
体。上に塗布乾燥して画儂形成層を設けることによp本
発明の平版印刷用原版が得られる。なお光還元剤又は熱
還元剤の使用量はテトラゾリウム塩1モル当90.20
〜5.00モル程度が適当である。
親水性支持体としては公知の蝙の、例えば親水化処理を
施したアルミニウム又は亜鉛板、あるいFi親水性物質
をコートした紙もしくはフィルム等が使用できる。
本発明の印刷原版を製版するには光還元剤を用い次場合
は原版のll1l儂形成層に可視光を[惨状に露光、し
、必要あれば更に加熱し、熱還元剤を用い次場合はサー
マルヘッドのような熱的印字手段によって画惨状に熱を
印加し、或いは光還元剤、熱還元剤のいずれを用い次場
合もコンピュータやファクシミリの出力信号、例えばレ
ーザー光によって搬送され次信号を印加し、これにより
露光部又は熱印加部を水不溶化した後、水中に浸漬し、
非露光部又は非熱印加部を溶解除去すればよい。
以下に本発明の実施例を示す。
実施例1 ポリエチレングリコール(分子量60す(活性水素原子
の供給源)1.0モル エチルアルコール/アセトン(1/1容量比)    
  25−を均一に溶解し、一方、一般式nでR1”H
,R。
” p−No、 、 X−Brのテトラゾリウム塩重合
体2X10  モルをジメチルホルムア建ド50dK均
−に溶解し、両溶液を混合し、これを陽極酸化により親
水化処理しft10011m厚のアルミニウム板に乾燥
膜厚が3μ票となるようガラスドクターで塗布乾燥して
画成形成層を設けることにより平版印刷用原版を得た。
このようにして得られた原版にガラスフィルター(<4
10nm)を介して303の距離において500Wのタ
ングステンランプからネガ原稿を通して25秒間露光し
たところ、露光部は赤色に発色して鮮明なデジ画像が形
成され次。次にこの画成面に蒸留水lodを滴下し、1
分後の画倭部及び非画像部の接触角を夫々演り足し次と
ころ、表−16に示す結果が得られた。なお水処理前の
非画像部の接触角についても同様にして#Jjj足した
表−16 次にこの原版を水に浸漬して非m儂部を溶解除去するこ
とにより印刷版を作成し、これ全市販のオフセット印刷
機にかけて印刷を行なつ皮ところ、鮮明な印刷物が50
00枚得られ几。なお5000枚目の印刷物の画質は初
期のものとほぼ同等であった。
実施例2〜27 テトラゾリウム塩重合体又は共重合体として表−17に
記載のものを用いて実施f111と同様にして平版印刷
原版を作成し、製版後、接触角を測定し、tた耐刷性を
調べ次ところ、同表に示す結果が得られ友。
(以下余白ン 実施例28 1.4−シナ7トールIXI Oモルをエチルアルコー
ル251に均一に溶解した後、実施例9で用いたテトラ
ゾリタム塩共重合体のジメチルホルムアミド溶液と混合
し、これを実施例1と同じ方法でアル1ニウム板上に塗
布乾燥して平版印刷用原版を作成した。
このようにして得られた原版を市販の77クシζりに付
属するサーiルヘッド(温g2s。
℃)で印字したところ、熱印加された部分は赤色に発色
してシャープな画像を形成し次。次にこれを水中に浸漬
して非ms部を溶解することにより、アルミニウムの親
水面が露出し、印刷版が得られた。次にこの印刷版を用
いて実施例1と同様にオフセット印刷し次ところ、実施
例1と全く同じ結果が得られた。
実施例29 すiフジビン(外部水素源キノン)     lXl0
  モルポリビニルアルコール(重合度500)のxo
%水溶液  2−am水酸化ナトリウムの296水溶液
        10114を均一に溶解し、これを実
施例14で用いたテトラゾリタム塩共重合体のジメチル
ホルムアルデヒド溶液と混合し、これを実施例1と同様
にしてアルミニウム板上rcIji布乾燥して平版印刷
用原版を作成した。
このようにして得られ次原版に波長488 nmのアル
ゴンイオンレーザ−を8.5 mJ/awlの記録エネ
ルギー密度で照射することにより、赤色のポジm偉が形
成された。以下、実施例1と同じ方法で非I!iI儂部
の溶解を行ない、印刷版を得た。
次にこの印刷版を用いて実施例1と同様にしてオフセッ
ト印刷し友ところ、鮮明な印刷物が得られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、親水性支持体上に一般式■又は扉 (但しR1? RRはH、CH,、No、 、 OH又
    はC0OH。 Xはq又はBr 、 nは10〜10,000の整数を
    表わす。) で示されるテトラゾリウム塩の重合悴又り共重合体と光
    還元剤又は熱還元剤とを主成分とする画成形成層を設け
    てなる平版印刷用原版。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0990517A2 (en) * 1998-09-29 2000-04-05 Kodak Polychrome Graphics LLC Processless direct write printing plate having heat sensitive positively-charged polymers and methods of imaging and printing

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0990517A2 (en) * 1998-09-29 2000-04-05 Kodak Polychrome Graphics LLC Processless direct write printing plate having heat sensitive positively-charged polymers and methods of imaging and printing
EP0990517A3 (en) * 1998-09-29 2000-05-24 Kodak Polychrome Graphics LLC Processless direct write printing plate having heat sensitive positively-charged polymers and methods of imaging and printing
US6190831B1 (en) 1998-09-29 2001-02-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Processless direct write printing plate having heat sensitive positively-charged polymers and methods of imaging and printing

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