JPH03189652A

JPH03189652A - 感放射線性混合物、該感放射線性混合物中の結合剤として適当なフェノール性樹脂の製造法およびレリーフパターンの製造法

Info

Publication number: JPH03189652A
Application number: JP2330997A
Authority: JP
Inventors: Kim Son Nguyen; ゾン、グイェン、キム
Original assignee: BASF SE
Current assignee: BASF SE
Priority date: 1989-12-12
Filing date: 1990-11-30
Publication date: 1991-08-19
Anticipated expiration: 2014-11-10
Also published as: US5151341A; JP2975103B2; DE3940965A1; DE59010681D1; EP0432599A2; EP0432599B1; EP0432599A3

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は、水中で不溶性でアルカリ水溶液中で可溶性の
結合剤、放射線の作用下で１つの酸を形成する化合物お
よび酸接触反応によって結合剤と一緒に高めた温度で網
状化を導く基を含有するネガ型の感放射線性混合物に関
する。

従来の技術この混合物は、ＵＶ線、電子線およびＸ線に対して敏感
であり、かつ特にレジスト材料として適当である。

ネガ型の感放射線性混合物および該混合物を用いて画像
を得る方法は、公知である。この場合、ネガ型のフォト
レジストとは、感光層の画像に応じての露光後に該別の
露光された部分が、場合によっては付加的な熱処理後に
、該別が露光前には溶解した現像液中で不溶性になって
いるようなものである。

一般に、ネガ型のフォトレジストは、高分子量結合剤と
ともに光重合可能な化合物および光開始剤を含有する光
重合可能な混合物をベースとしている。果精回路を製造
するために大抵の場合に使用されているネガ型のフォト
レジストは、殆ど例外なしに架橋可能な成分として部分
的に環化されたポリイソプレンおよび感光性二官能性架
橋剤としてのジアジド化合物を含有する。この場合には
、ジアジドとして構造式（Ａ）　：で示されるものが一般に常用されている。

また、部分的に環化されたポリブタジェンおよびジアジ
ドからなるネガ型のフォトレジストも新たに市場で人手
することができる（　Ｙ、　ＨａｒｉＬａ、　Ｍ、　Ｉ
ｃｈｉｇａｖａ、　Ｋ、　１ｌａｒａｄａ、　Ｐｏｒｙ
ｍ、　Ｅｎｇ、　Ｓｃｉ、　、　１７（１９７７）、３
７２祭照）。

一連のネガ型のフォトレジストも架橋反応としての光二
量体化をベースとする。これには、桂皮酸誘導体および
その構造中に使用されるカルコンが属する。架橋反応は
、本質的に光誘導されるｒ２＋２］−環化付加としてシ
クロブタノンの形成下に進行する（　Ｊ、　Ｌ、　Ｒ，
Ｙｉｌｌｉａｍｓ：Ｆｏｒｔｓｃｈｒ、Ｃｈｅｍ、Ｆｏ
ｒｓｃｈ、、１３−　（］　９６９）　、２２７；＾、
　Ｒｅ１ｓｅｒ、　Ｐ、　Ｉ、、　ＥｇｅｒＬｏｎ　：
Ｐｈｏｔｏｇｒ、　Ｓｃｉ、　Ｅｒ＋ｇ、　＋　−２−
３（１９７９）　、１４４　　；Ｍ、Ｋａｔｏ他：Ｊ、
　Ｐｏｌｙｍ、　Ｓｃ＋、　ｐａｒｔ　Ｂ、　Ｐｏ１ｙ
ｎ＋、　Ｌｃｔｔ、第８巻（１９７０）、２６３　：　
Ｍ、ＫａＬｏ他：ＰｈｏＬｏｇｒ、Ｓｃｉ、Ｅｒ１ｇ、
、　２３　　（１９７９）、２０７参照）。

また、最近、既に長い時期に亘って知られていた型の光
二量体化可能なエポキシ樹脂がフォトレジストとして使
用された（例えば、ドイツ連邦共和国特許出願公開第１
４４７０１６号明細書；同第２３４２４０７号明細書；
同第２５５３３４６号明細書および同第２４４９９２６
号明細書）。この樹脂は、光環化付加を可能にする基、
例えばカルコン基ならびに熱接触反応により後架橋する
ことができるエポキシ基を有する（ＰｈｏＬｏｒｅｓｉ
ｓｔ、　Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ：ＭｃＧｒａｖ　Ｈｉｌｌ（
１９７５）；英国特許第８９２１１１号明細書および米
国特許第２８５２３７９号明細書参照）。

上記構造式（八）のジアジドを含有するネガ型のフォト
レジスト以外に、光反応は、ＮｔＪＶ領域内（すなわち
、３５０〜４５０ｎｍ）で可能である。短波長のＵ■領
領域対する新しいジアジド化合物は、最近記載された。

それには、ケトン化合物（Ｊ、　Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅ
ｍ、　Ｓｏｃ、　（１９８１）６参照）および硫黄含有
ジアジド化合物（Ｊ。

ＥｌｅｃＬｒｏｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、、　１２７　（１９
８０）　２７５９参照）が属する。

また、短波長のＵ■パタ７ンを形成することができる、
アルカリ水溶液により現像可能なネガ型のフォトレジス
トも公知である。このために、結合剤としてのポリ−（
ｐ−ビニルフェ／　−ル）および３，３′−ジアジドジ
フェニルスルホンが使用される（　ＩＥＥＥ　Ｔｒａｎ
ｓ、　Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｄｅｖｉｃｅｓ、ＥＤ、２８
　（１９８１）　、　　１３０６　；　ＩＥＥＥ　Ｔｒ
ａｎｓ、ＥＩｅｃＬｒｏｎ　Ｄｅｖｉｃｅｓ、ＥＤ−２
８（１９８］　）　＋　　１２８４参照）。もう１つの
アルカリ水溶液により現像可能なネガ型のフォトレジス
トは、オニウム塩およびメチルアクリルアミドグリコレ
ートメチルエーテルをベースとしく１ＩｕｌＬ他；Ｐｏ
ｌｙｍｅｒｓ　ｆｏｒ　ｈｉｇｈ　Ｔｅｃｈ、＾Ｃ３Ｓ
ｙｍｐｏｓｉｕｍ　５ｅｒｉｅｓ　３４６　（１９８７
）、１６２〜＋６９）、これは、結合剤の架橋に対する
酸接触反応による自体縮合の原理に基づく。

酸硬化可能な材料および酸供与体としてのヨ−ドニウム
塩をベースとするもう１つの光重合可能な組成物は、ド
イツ連邦共和国特許出願公開第２６０２５７４号明細書
の記載から公知である。

また、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂の縮合
の際に中間生成物として得られるアリールメチロール化
合物が属する酸接触反応による架橋剤も既に公知である
（　Ｐｒｏｇｒ、　Ｏｒｇ、　Ｃｏａｔ９　（＋９８１
）、１０７；ドイツ連邦共和国特許出願公開筒２９０４
９６１号明細書；　ＰｌａｓＬｉｅｓ　ａｎｄ　Ｒｕｂ
ｂｅｒ　Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　ａｎｄ　Ａｐｐｌｉｃ
ａｔｉｏｎ＋　　（＋９８１）、３９　；ドイツ連邦共
和国特許出願公開第３２４７７５４号明細書：欧州特許
出願公開筒０１３９３０９号明細占；特開昭３０−５１
４２４号公報参照）。先パターン化可能な記録材料には
、前記の酸接触反応による架橋剤も使用された。欧州特
許出願公開第０２８２７２／号明細書には、ポリ−（ｐ
−ヒドロキシスチロール）、酸供与体および少なくとも
２個の保護されたメチロール基を有する架橋剤をベース
とする新しいネガ型の系が報告されており；ポリ−（ｐ
−ヒドロキシスチロール）の代わりにｍ−タレゾール−
ホルムアルデヒド樹脂を使用することもできる。同様に
、ＰＣＴ／ＵＳ８７１０２７／１３には、結合剤として
のポリ−（ｐ−ヒドロキシスチロール）またはｍ−クレ
７’−ルーホルムアルデヒドーノボラック、酸供与体と
しての１，２−キノンジアジドおよび架橋剤としての２
，６−ジメチロール−ｐ−クレゾールも使用されている
別のネガ型の系が記載された（　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍ
ｅｒｓ　Ｐｒ１ｎｃｉｐｌｅｓ−Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ　
ａｎｄ　ＭａｌａｒｉａＩｓ、６３〜７０　（］　９８
８）参照）。」−記の双方の系の欠点は、次のとおりで
ある・過剰露光の際の付青力の低下および残存層の形成
ないしはずψかすぎる感度。

ドイツ連邦共和国特許出願公開第２３０６２４８号明細
書および欧州特許出願公開第０３０２３５９号明細書の
記載から、既にアセタール基を有する感放射線性物質混
合物は、公知であり、この場合この混合物は、ポジ型の
記録材料のだめの抑制剤として使用される。

発明が解決しようとする課題本発明の課題は、アルカリ水溶液で現像することができ
かつ熱安定性でプラズマに対しても安定性であるパター
ンをサブミクロン範囲内で得ることができる、短波長の
Ｕ■光に敏感な層を得るための新規の高活性の感放射線
性系を示すことであった。

課題を解決するための手段意外なことに、この課題は、一定の多官能性のアルデヒ
ドアセタールを導入することによって著しく有利に解決
することができる。

本発明の対象は、本質的に（ａ）水中で不溶性でアルカリ水溶液中で可溶性の結合
剤または結合剤混合物および（ｂ）照射の際に強酸を形成する化合物からな（１）［但し、Ｒは１〜５個の炭素原子を有するアルキル基を
表わし、ｎは２．３または４である］を少な（とも１個
有することによって特徴付けられている。

成分（ａ）としては、特にフェニル基のオルト位および
／またはバラ位の少なくとも２０％が置換基不含である
フェノール性樹脂、ならびにフェニル基のオルト位およ
び／またはバラ位の少なくとも２０％が置換基不含であ
るフェノール性樹脂と、それとは異なるノボラックとの
混合物が使用される。

殊に、平均分子量Ｍｌ　２００〜２０００００を有する
ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチロール）またはポリ−（ｐ
−ヒドロキシ−α−メチルスチロール代えられている。

成分（ｂ）としては、特に−数式（ＩＶ）または（Ｖ）
：（ＩＩ）　　　　　　　　　　　　　　　　（１１１）
「但し、Ｒは上記の意味を表わし、Ｒ１はＨ原子または
Ｃｔｌ　３基を表わす］を有する本発明による感放射線
性混合物も有利である。

本発明による感放射線性混合物の場合には、−・般に成
分（ａ）が５０〜９９重量％の量で含有９、成分（ｂ）
が１〜５０重量％の…で含有されている。

ハ５’Ａ　ナリ、１〜３個の炭素原子を有するアルキ７
１１１、ア＋）　−ｔｋ　Ｊ５□あア、−７．□ヵ６よ
ア場Ｔルキル基を表わし、ＸＯはＣｌ０４０、Ａ　ｓ　
Ｆ　６”５ｂＦ８０、Ｐ　Ｆ　６ｏ、ＢＦ４Ｃ１および
／マタハｃｒｒ３ｓｏ３ｏである］で示されるスルホニ
ウム塩またはヨードニウム塩、殊にＭＲ’　　Ｒβおよ
びＲγの少なくとも１つが（ｂ）：ｐδ Ｕ式中、Ｒ６およびＲ（は互いに同一がまたは異なり、
１１原子、Ｏ）！基、それぞれ１〜４個の炭素原子を有
するアルキル基またはアルコキシ基またはを表わす］で示される基を表わすようなものがこれにＡ
当する。

更に、本発明による感放射線性混合物は、付加的に放射
線を吸収しかつ成分（ｂ）に移行する増感剤を含有する
ことができる。

また、本発明の対象は、感光性被覆材料の製造法、なら
びに感放射線性混合物を０．１〜５μｍの層厚で常法で
前処理された支持体上に塗布し、７０〜Ｉ　３０　’Ｃ
の温度で乾燥し、画像に応じて露光し、７０〜１６０℃
の温度で加熱し、かつアルカリ水溶液で現像することに
よってレリーフパターンを製造する方法であり、この場
合本発明による感放射線性混合物は、使用される。

史に、本発明の対象は、式：（１）明による感放射線性混合物中の結合剤（ａ）として適当
なフェノール性樹脂を製造する方法であり、この方法は
、遊離フェノール性ヒドロキ（ａ）として適当なフェノ
ール性樹脂を、アルコキシ基中に１〜５個の炭素原子を
有する３、４−ジヒドロ−２−アルコキシビランと、酸
触媒の下で反応させることによって特徴付けられる。

本発明による感放射線性混合物は、高い感度および良好
なパターン特性、殊に酸化珪素表面に対する極めて良好
な付着力を示す。

感放射線性混合物、その構成成分および使用に関して、
詳細には次のことを記載することができる。

ａ）水中で不溶性でアルカリ水溶液中で可溶性の結合剤
としては、フェノール性樹脂、有利ニフェニル基のオル
ト位および／またはパラ位の少なくとも２０％、特に最
大６６％が置換基不含であるもの、例えば平均分子ｒａ
ｔ　Ｍ　ｗ　３００〜２００００、特に５００〜５ｏｏ
ｏを有すルツボラック、例えば平均分子ＰｉｔＭ、２０
０〜２０ｏｏｏｏ、特に５０００〜／Ｉ　００００を有
されている、例えばｐ−クレゾール／ホルムアルデヒド
、殊にポリ−（ｐ−ヒドロキシスチロール）、ポリ（ｐ
−ヒドロキシ−α−メチルスチロール）をペースとする
ノボラック、ならびにこの種のフェ／−ル樹脂の混合物
がこれに該当する。

ノボラックとしては、例えば５ｏｌｉｄ　５ｔａｔｅ　
Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇ）’ｓ　Ｉ　９８　’１年６月、第
１１５頁〜第１２０′ｎのＴ、　Ｉ’ａｍｐａｌｏｎｅ
著、Ｎｏｖｏｌａｋ　Ｒｅ５ｉｎｓ　Ｕｓｅｄｉｎ　Ｐ
ｏ５ｉｔｉｖ　Ｒｅ５ｉｓｔ　Ｓｙｓｔｅｍｓに記載さ
れているようなノボラックもこれに該当する。特殊な使
用、例えば短波長のＵ■領領域おける露光のためには、
有利にｐ−クレゾールおよびホルムアルデヒドからなる
ノボラックが当てはまる。

成分（ａ）として有利なものは、群（ＩＴ）および（Ｉ
Ｉ＋　”）を有されている、すなわち遊離オルト位およ
び／またはパラ位を有するフェノール性単量体の重合さ
れた単位、例えばｐ−ヒドロキシスチロールおよびそれ
とは異なる、群（＋）を有する少なくとも１つのビニル
単量体の重合された１４１位からなるものである。

この種の生成物は、常法により、例えばフェノール性重
合体を３，４−ジヒドロ−２−メトキンビランと、酸接
触反応下に反応させることにより得ることができる。

本発明による感放射線性混合物は、成分（ａ）を一般に
成分（ａ）＋（ｂ）の全体ｒａｔに対して５０〜９９市
量％、特に８５〜９７市量％の：ｔで含有する。

酸供与体（ｂ）としては、照射下に強酸を形成する全て
の化合物が適当である。しかし、短波長の照射に対して
有利なものは、−数式（■）：［式中、Ｒ”　　ＲβおよびＲ７は互いに同一かまたは
異なり、１〜３個の炭素原子を有するアルキル基、例え
ばメチル基、エチル基、アリール基、例えばフェニル基
、置換アリール基、例えば置換フェニル基、またはアラ
ルキル基、例えばベンジル基を表わし、ｘｅはＡｓＦ６
０．５ｂＦ６ｅＰＦ６０、ＣＩ　Ｑ４ｅ、　Ｂ　Ｆ４ｅ
オヨび／マタハＣＦ３ＳＯ３°（−トリフラート）であ
る］で示されるスルホニウム塩である。

このスルホニウム塩の中で有利なのは、基ＲａＲβおよ
び８丁の少なくとも１つが基（■）：ｐδ ［式中、Ｒ６およびＲＥは互いに同一かまたは異なり、
■１原子、ＯＨ基、それぞれ１〜４個の炭素原子を有す
るアルキル基またはアルコキシ基、例えばメチル基、エ
チル基、アシル基、例えば　ｃｏｇ−ｃ−ｏ　　または
基：の１つを表わす］で示される基を表わすような一般式（
ＩＶ）のものである。

適当なスルホニウム塩の例は、トリフェニルスルホニウ
ムへキサフルオロ砒酸塩またはトリフェニルスルホニウ
ムへキサフルオロ燐酸塩およびジメチル−４−ヒドロキ
シフェニルスルホニウムトリフラートまたはジメチル−
４−ヒドロキシフェニルスルホニウムへキサフルオロ砒
酸塩である。

また、別の酸供与体は、成分（ｂ）として、例えば上記
の一般式（Ｖ）のヨードニウム化合物を使用することが
できる。

成分（ｂ）は、本発明による感放射線性混合物の場合に
は、一般に成分（ａ）−＋−（ｂ）の全体量に対して１
〜５０重量％、特に３〜１５重量％の９で含有されてい
る。

本発明による混合物は、有利に有機溶剤に溶解され、こ
の場合固体金ｒＩｔは、一般に５〜４０＋ｐ、　、ｒｉ
１％の範囲内にある。溶剤としては、有利に脂肪族ケト
ン、エーテル、ならびにこれらの混合物、特にエチル−
セロソルブ、ブチルグリコール、メチル−セロソルブお
よび１　メトキン２−プロパツール、アルキレングリフ
−ルーアルキルエーテル−エステル、例えばメチル−セ
ロソルブ−アセテート、エチル−セロソルブ−アセテー
ト、メチル−プロピレングリコール−アセテートおよび
エチル−プロピレングリコール−アセテート、ケトン、
例えばシクロヘキサノン、シクロペンタメンおよびメチ
ル−エチル−ケトンならびにアセテート、酢酸ブチルお
よび芳香族化合物、例えばドルオールおよびキノロール
がこれに該当する。相応する溶剤およびその混合物の選
択は、そのつどのフェノール性重合体、ノボラ、りおよ
び感光性成分の選択により左右される。

更に、別の添加剤、例えば付着保護剤、湿潤剤、染料お
よび可塑剤を添加してもよい。

場合によっては、化合物を長波長のＵＶ領域ないし可視
光線領域内で増感させるために、増感剤を微少量で添加
することもできる。そのためには、多環式芳香族化合物
、例えばピレンおよびペリレン（Ｐｅｒｙｌｅｎ）が有
利であるが、しかし増感剤として作用する別の染料を使
用してもよい。

本発明による感放射線性混合物の溶液は、０．２μｍの
目開きを有するフィルターを通して給湯することができ
る。

レジスト溶液を］　０００〜Ｉ　００００ｒｐｍの回転
数で回転塗布することによって、０．１〜５μｍの層厚
のレジスト被膜はウェファ−（例えば、表面酸化された
珪素ウェファ−）上に得られる。更に、ウェファ−は、
９０℃もしくは８０℃で１〜５分間乾燥される（例えば
、加熱板上で）。

レリーフパターンを製造するための本発明による方法の
場合、本質的に本発明による感放射線性混合物からなる
感放射線性記録層は、画像に応じて、露光された部分の
溶解度が熱加熱過程後に７０℃〜１６０℃の温度で水性
アルカリ溶剤中で増大しかつごの部分が選択的にアルカ
リ現像液によって除去されうるような量で照射される。

レジスト被膜は、例えばクロム被覆されパターン化され
た石英マスクを通して水銀灯のＵＶ光、エキシマ−レー
ザー光、電子線またはＸ線を用いて照射される。更に、
画像に応じて照射された被膜は、例えば１１０℃〜１２
０℃の温度で５秒〜５分間加熱することができ、その」
−水性アルカリ現像液を用いて現像することができ、こ
の場合露光された部分は、選択的に溶解され、未露光の
部分の場合には、搬出物は殆ど生じない。

実施例次の実施例中で記載の「部」および「％」は、別記しな
い限り、１重量部」もしくは「重量％」である。

アセタール含有ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチロール）の
製造ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチロール）１０部（Ｐｏｌｙ
ｓｃｉｅｎｃｅｓ　Ｉｎｃ、社の市販製品、Ｍｗｌ　５
００〜７０００）および３，４−ジヒドロ−２−メトキ
シ−２Ｈ−ビランＩ５部を酢酸エステル１００部に溶解
した。（３６％の）濃厚なＨＣｌ　　０　。

１〜０．５部の添加後、この配合物を１時間撹拌し、か
つ室温で１晩中放置した。Ｎ　ａ　＋−（ＣＯ３溶液で
の中和後、有機相を分離し、かつ２５〜７０℃で真空下
に蒸発させた。重合体を酢酸エステル１００部に溶解し
、リグロイン２００部中で沈澱させ、かつ吸引濾過した
。

実施例１フォトレジスト溶液を、上記のアセタール含？ｆポリ＝
（ｐ−ヒドロキシスチロール）９５部、トリフェニルス
ルホニウムへキサフルオロ砒酸塩５部およびシクロへキ
サノン２８０部から得る。引続き、この溶液を０．２μ
ｍの目開きを有するフィルターを通して濾過する。

このレジスト溶液を酸化された珪素ウェファ−上に層厚
１μｍで回転塗布する。次に、こうして被覆されたウェ
ファ−を９０℃で１分間乾燥し、引続き試験マスクを通
して接触法で波長λ−＝２’４８ｎｍのエキシマ−レー
ザーを用いて露光する。露光エネルギーは、ｌ　５　ｍ
　Ｊ　／　ｃ　ｍ　２である。その後に、１２０℃で１
分間加熱し、かつｐＨ］２．０〜１４．００の現像液を
用いて現像する。

実施例２フォトレジスト溶液を上記のアセタール含有ポリ−（ｐ
−ヒドロキシスチロール）９５部、ジフェニルヨードニ
ウムへキサフルオロ燐酸塩５部およびシクロへキサノン
２８０部から得る。

実施例１の場合と同様にして実施する。１μｍの層厚の
感度は、４５ｍＪ／ｃｍ２である。

トリフェニルスルホニウムへキサフルオロ砒酸塩および
ジフェニルヨードニウムへキサフルオロ燐酸塩は、アル
ファ社（＾Ｉｒａ）の市販製品である。

実施例３フォトレジスト溶液を上記のアセタール含有ポリ−（ｐ
−ヒドロキシスチロール）９２部、ジメチル＝（ｐ−ヒ
ドロキシフェニル）−スルホニウムトリフラートおよび
エチルグリコールアセテ−１−２８０部から得る。実施
例Ｉの場合と同様にして実施する。１μｍの層厚の感度
は、３５ｍ　Ｊ　／　ｃ　ｍ　’ｌである。

Claims

【特許請求の範囲】１、本質的に（ａ）水中で不溶性でアルカリ水溶液中で可溶性の結合
剤または結合剤混合物および（ｂ）照射の際に強酸を形成する化合物からなる感放射
線性混合物において、成分（ａ）が原子団（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）［但し、Ｒは１〜５個の炭素原子を有するアルキル基を
表わし、ｎは２、３または４である］を少なくとも１個
有することを特徴とする、感放射線性混合物。２、フェニル基に対するオルト位および／またはパラ位
の少なくとも２０％が置換基を有しないフェノール性樹
脂を成分（ａ）として使用している、請求項１記載の感
放射線性混合物。３、フェニル基に対するオルト位および／またはパラ位
の少なくとも２０％が置換基を有しないフェノール性樹
脂およびそれとは異なるノボラックからなる混合物を成
分（ａ）として使用している、請求項１記載の感放射線
性混合物。４、２００〜２０００００の平均分子量＠Ｍ＠＿ｗを有
するポリ−（ｐ−ヒドロキシスチロール）またはポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチロ
ール）を成分（ａ）として使用し、この場合ヒドロキシ
ル基の一部は群（ I ）によって置き換えられている、
請求項１記載の感放射線性混合物。）５、結合剤（ａ）を構成する単量体単位群の少なくとも
５モル％が原子団（ I ）を有する、請求項１記載の感
放射線性混合物。６、成分（ａ）が原子団（II）および（III）：▲数式
、化学式、表等があります▼（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（III）［但し、Ｒは請求項１記載の意味を表わし、Ｒ＾１はＨ
原子またはＣＨ＿３基を表わす］を有する、請求項５記
載の感放射線性混合物。７、一般式（IV）または（Ｖ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）または ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）［式中、Ｒ＾α、Ｒ＾βおよびＲ＾γは互いに同一かま
たは異なり、１〜３個の炭素原子を有するアルキル基、
アリール基、置換アリール基またはアルアルキル基を表
わし、Ｘ＾ΘはＣｌＯ＿４＾Θ、ＡｓＦ＿６＾Θ、Ｓｂ
Ｆ＿６Ｏ＾Θ、ＰＦ＿６＾Θ、ＢＦ＿４＾Θおよび／ま
たはＣＦ＿３ＳＯ＿３＾Θである］で示されるスルホニ
ウム塩またはヨードニウム塩が成分（ｂ）として使用さ
れている、請求項１記載の感放射線性混合物。８、基Ｒ＾α、Ｒ＾βおよびＲ＾γの少なくとも１つが
一般式（VI）： ▲数式、化学式、表等があります▼（VI）［式中、Ｒ＾δ１およびＲ＾εは互いに同一かまたは異
なり、Ｈ原子、ＯＨ基、それぞれ１〜４個の炭素原子を
有するアルキル基またはアルコキシ基、▲数式、化学式
、表等があります▼　▲数式、化学式、表等があります
▼ または▲数式、化学式、表等があります▼を表わす］で
示される基を表わす、請求項７記載の感放射線性混合物。９、成分（ａ）が５０〜９９重量％の量で含有され、か
つ成分（ｂ）が１〜５０重量％の量で含有されている、
請求項１記載の感放射線性混合物。１０、放射線を吸収しかつ成分（ｂ）に移行する１つの
増感剤を付加的に含有する、請求項１記載の感放射線性
混合物。１１、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［但し、Ｒは１〜５個の炭素原子を有するアルキル基を
表わす］で示される原子団を有する、請求項１記載の感
放射線性混合物中の結合剤（ａ）として適当なフェノー
ル性樹脂を製造する方法において、遊離フェノール性ヒ
ドロキシル基を有するフェノール性樹脂を、アルコキシ
基中に１〜５個の炭素原子を有する３、４−ジヒドロ−
２−アルコキシピランと、酸接触反応下で反応させるこ
とを特徴とする、フェノール性樹脂の製造法。１２、感光性被覆材料を製造する方法において、請求項
１記載の感放射線性混合物を使用することを特徴とする
、感光性被覆材料の製造法。１３、感放射線性混合物を０．１〜５μｍの層厚で常法
で前処理された支持体上に塗布し、７０〜１３０℃の温
度で乾燥し、画像に応じて露光し、７０〜１６０℃の温
度で加熱し、かつアルカリ水溶液で現像することによっ
てレリーフパターンを製造する方法において、請求項１
記載の感放射線性混合物を使用することを特徴とする、
レリーフパターンの製造法。