JPS5893194A - El発光素子 - Google Patents

El発光素子

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Publication number
JPS5893194A
JPS5893194A JP56189526A JP18952681A JPS5893194A JP S5893194 A JPS5893194 A JP S5893194A JP 56189526 A JP56189526 A JP 56189526A JP 18952681 A JP18952681 A JP 18952681A JP S5893194 A JPS5893194 A JP S5893194A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light emitting
current collecting
electrode
layer
emitting device
Prior art date
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Pending
Application number
JP56189526A
Other languages
English (en)
Inventor
和敏 杉山
黒沢 好樹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koito Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Koito Manufacturing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Koito Manufacturing Co Ltd filed Critical Koito Manufacturing Co Ltd
Priority to JP56189526A priority Critical patent/JPS5893194A/ja
Publication of JPS5893194A publication Critical patent/JPS5893194A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はIL発光素子の新規な構造に関する。
詳しくは、]1111発光と−の電極との間の周辺位置
に集電帯を形成し九IeL発光素子において、該集電帯
と他方の電極との間の絶縁性をよシ完全なものとした新
規なIL発光素子を提供しよ′うとするものである。
第1図は有機分散型IL発光素子・の構造を模型的に示
す4のである。このIL発光素子1は、アル1=ウム箔
等の導電性金属箔あるいは導電性プラスチックシート等
から成る背面電極すの上に、チタン酸パリクムや酸化チ
タンといった高誘電物質を熱可塑性シアノエチルセルロ
ース系の高誘電樹脂材料中に分散して形成される白色銹
電体層C1螢光体粉末を同じくシアノエチルセルロース
系高誘電樹脂材料中に分散して形成されるKL発光層4
、及び酸化インジウムなどの導電物質を透明フィルムに
蒸着等により形成した透明導電フィルム(透明電極)#
を順次に積み重ね、そして、鍛後に1この積層体を防湿
、保−用透明フイル五111で密封して形成される。そ
して、透明電極−及び背繭電極1から取)出され九す−
ド熾子関に交流電圧を印加すると、IL発光層dの螢光
体粉末が励起されて発光する。
ところで、第1・図に示し九ような構造のML発光素子
@において、透明導電−(透明電極)−は、膜厚too
o−aoool、l[抵抗約IO’t1/口テアシ、こ
の抵抗による電圧降下によって発光ムラが生ずる仁とが
あるので、これを防ぐために、透明電極−の側縁に沿っ
て銀ペースト等の導電性材料を印刷して幅l〜−一の集
電帯4が付与されている。tた、一方で、このようなK
L発光素子藝において、前記積層体の実用上必要な各層
の厚さは、背面電極!rOs、誘電体層コO〜30μ、
発光層コO〜30μ、集電帯/1μ、透明電極10μで
ある。そして、これら各層&、’c、シ、−から成る積
層体は防湿、保−用フィルムf1りで密封され(勿論リ
ード端子’、/け外へ引き出される。)て完成するので
あるが、このフィルムLtで密封する工程においてミ前
記積層体はフィルムf11のシールの九めに1熱プレス
、熱ロール法などKよシ、必要な加熱<ioo〜ito
℃)と加圧(l〜コ00/cd )を受ける。この加熱
と加圧によシ、前記積層体は、第参図に示すように、発
光層d及び誘電体層Cが集電帯五に押圧されて当該部分
で極端に薄くなるように変形してしまい、この部分での
絶縁性が低下してしまうという問題があつ九。
1+、発光層d及び誘電体層Qはスクリーン印刷法、ロ
ールコータ−法、スプレー法等により形成されるもので
あるから、ピンホールを完全に無くすことは麹かしく、
第参図のように変形したとき、集電llAの導電性材料
がこれらピンホールを背面電極番の方へと浸透して電流
の導通路を形成してしまい、絶縁低下や電極間ショート
などの原因となるという欠点を有していた。
そこで、本考案は、上記した従来のmb発光素子の欠点
に鑑みて為されたものであシ、集電帯と他方の電極との
間の絶縁性をよ)完全なものとし九新規なML発光素子
を提供しようとするもので、一対の電極間にエレクトロ
ル建ネセンス発光層と誘電体層とを挟持して成り、発光
層と一方の電極との間の周辺部に集電帯を介在させたK
L発光素子において、発一層の集電帯と接触する位置に
、発光層と誘電体層との・1間の集電帯形成位置に対応
した箇所に又社霞・電体層と他方の電極との間の集電帯
形成位置に対応した部所に絶縁被膜を形成し良ことを特
徴とする。
以下に、本考案IL発光素子の詳細について実施例を示
す添付図面に従って説明する。
第3図及び第6図は本考案1tL発光素子jの第1O実
施例1を示すものである。
−は、アルミニウム箔等の導電性金属箔あるいは導電性
プラスチックシート等から成る背面電極である。3はチ
タン酸バリウムや酸化チタンといつ九高−電物質を熱可
纏性シアノエチルセルロース系の高誘電樹脂材料中に分
散して形成され九白色−電体層であり、背面電極コの上
に積み重ねられる。ダは絶縁被膜であり、背面電極2と
誘電体層Jとの間の後述の集電体形成位置に対応した箇
所に形成される。この絶縁被膜ダは、背面電極λ上に絶
縁フェス等の高耐熱性絶縁塗料をスクリーン印刷法等の
方法によプ付与して彦成する。そして、この絶縁被膜ダ
は後述の集電帯Q幅よシ檜広く形成されることが好まし
い0例えば集電帯の幅がl〜コ一である場合は、絶縁被
膜ダの幅をコ〜Jasとするのが好ましい。ま九、この
絶縁被膜ダの厚さは20〜30声位が良い、尚、上記し
た絶縁被WIX参の形成方法は、はんの−例を示すもの
にすぎず、その他の方法、例えば、高耐熱絶縁テープを
貼付する等の方法によっても良い。
tは螢光体粉末をシアノエチルセルロース系の高誘電樹
脂材料中に分散して形成され九liL発光層であシ、前
記誘電体層3の上に積層される。≦は酸化インジウムな
どの導電物質を透明フィルムに蒸着すること等によに形
成した透明電極であり、そのIIL発光層j側の面の側
縁部に集電帯7が形成される。?:、の集電帯7は銀ペ
ースト等の導電性材料を印刷して形成される。そして、
このような透明電極乙はmu発光層jの上に積層される
しかして、背面電極コ、−電体層3、IL発光層弘及び
透明電極6から成る積層体が防湿、保嚢用の透明フィル
ムI、9で密封されてIL発光素子lが形成される。
この積層体を透明フィルムI、9で密封する際、熱プレ
ス、熱ロール法などに多シ加熱と加圧を受けて、集電帯
7形IIta位で第参図に示したような変形が生ずるが
、この薄膜発光素子/においては、背面電f#iコと誘
電体層3との間の集電帯7形成位置に対応し九箇所に絶
縁被膜ダが形成されているため、l妃変1!!f式を一
葛ターノ上記変形により集電帯7形成位置で誘電体層3
及びIL発光jiljは押し潰されて薄くなるが、絶縁
被膜lが集電帯7形成物質の浸透を防膜し、よって 集
電体7と第7図及び第を図は本考案薄膜発光素子の別の
実施例18を示す亀のである。この実施例16は絶縁被
膜ダをKL発光層jの透明電極6側に、即ち、集電帯7
と直接接触するように形成した点が、前記の実施例と異
なる。
この実施例/Sにおいても、絶縁複117形成物質の背
面電極コ方向への浸透を防−する点は前記実施例1と同
様である。
第9図及び第1O図は本考案薄膜発光素子の更に別の実
施例/hを示すものであ、る。
この実施例のものihは前記第1の実施例1の絶縁被膜
参を背面電極コの側端縁にまで回り込ませて、よ如完全
な絶縁性を図ろうとするものである。
第1/図及び第1コ図は本考案薄膜発光素子の更Kまた
別の実施例1#を示すものである。
この実施例のものl#は前記した第コの実施例1@にお
ける絶縁被膜参をKL発光層5.II誘電体層及び背面
電極コの側端縁Kまで回り込ませたもので、これ亀より
完全な絶縁を図ろうとするものである。尚、この場合、
絶縁波膜ダを第13図に示すように% II L発光要
事及び背面電極コの側縁部に回シ込ませても良い。
以上に起重したように1本発明IL発光素子においては
、発光層の集電帯と接触する位置に1発光層と誘電体層
との間の集電帯形成位置に対応した箇″WtK又は誘電
体層と他方の電極との間の集電帯形成位置に対組した箇
所に絶縁被膜を形成し九ので、集電帯によシ変形され九
箇所からの絶縁不良が防止される効果を奏す:)、る。
尚、上記実施例の説明では示さなかったが、絶縁被膜は
発光層と誘電体層との関に形成して4良いこと勿論であ
る。
【図面の簡単な説明】
第1IgはNL発光素子の一般構造を断面で示す模型図
、第一図はKL発光素子の平面図、第3図及び第参図は
従来のML発光素子を示し、第3図は製造途中における
状態を模型的に示す断面図、第参図は部分的断面図、第
3図及び第6図は本発明ML発光素子の実施の一例を示
し、第3図は要部の分解斜視図、第を図は要部の拡大断
面図、第7図及び第1図は本発明ML発光素子の別の実
施例を示し、第7図は要部の分解斜視図、第1図は要部
の拡大断面図、第9図及び第10図は本発明XXa発光
素子の更に別の実施例を示し、第9図は要部の分解斜視
図、第10図は要部の拡大断面図、第11図及び第1コ
図は本発明111発光素子の更にt九別の実施例を示し
、第1/図は要部の分解斜視図、第1λ図は要部の拡大
断面図、第13図は第11図及び第1コ図の実施例の変
形例を示す要部の斜視図である。 符号の説明 /、 /6、/!、 /#・・・・・・IeL発光素子
、 −・・・・・・他方の電極、 3・曲・誘電体層、
 ダ・・川・絶縁被膜、  !・・・・・・エレクトロ
ルZネセンス発光層、 ト・・・・一方の電極、  7
・・・・・・集電帯特許出願人 株式会社小糸製作所 第7図 第9図 第11図 第13図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 一対の電極間にエレクトロルミネセンス発光層と誘電体
    層とを挟持して成り、発光層と一方の電極との間の周辺
    部に集電帯を介在させ7jlI、発光素子において、発
    光層の集電帯と接触する位置に、発光−と−電体−との
    間の集電帯形成位置に対応した箇所K又は誘電体層と他
    方の電極との間の集電帯形成位置に対応した箇所に絶縁
    被膜を形成し良ことを特徴とするlllIJ発光素子
JP56189526A 1981-11-26 1981-11-26 El発光素子 Pending JPS5893194A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56189526A JPS5893194A (ja) 1981-11-26 1981-11-26 El発光素子

Applications Claiming Priority (1)

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JP56189526A JPS5893194A (ja) 1981-11-26 1981-11-26 El発光素子

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5893194A true JPS5893194A (ja) 1983-06-02

Family

ID=16242759

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56189526A Pending JPS5893194A (ja) 1981-11-26 1981-11-26 El発光素子

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JP (1) JPS5893194A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02197079A (ja) * 1989-01-26 1990-08-03 Toshiba Corp Elパネル

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02197079A (ja) * 1989-01-26 1990-08-03 Toshiba Corp Elパネル

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