JPS5892921A - 赤外線検知装置の組立方法 - Google Patents

赤外線検知装置の組立方法

Info

Publication number
JPS5892921A
JPS5892921A JP56193302A JP19330281A JPS5892921A JP S5892921 A JPS5892921 A JP S5892921A JP 56193302 A JP56193302 A JP 56193302A JP 19330281 A JP19330281 A JP 19330281A JP S5892921 A JPS5892921 A JP S5892921A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cold shield
shield plate
glass mask
detection element
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP56193302A
Other languages
English (en)
Inventor
Toru Maekawa
前川 通
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP56193302A priority Critical patent/JPS5892921A/ja
Publication of JPS5892921A publication Critical patent/JPS5892921A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0216Coatings
    • H01L31/02161Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/02162Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
    • H01L31/02164Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors for shielding light, e.g. light blocking layers, cold shields for infrared detectors

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 0)発明の技術分野 本発明は赤外線検知装置の組立方法に係り、特に冷却基
台上の赤外線検知素子に対して入視先の視野を規定する
スリットを有するコールド・シールド板を精度よく位置
合せする方法の改良に関するものである。
■)従来技術と問題点 一般に赤外線検知装置は、赤外線透光窓を設けたガラス
等からなる外管と、該透光11に対向して赤外線検知素
子を載置した冷却基台が配設された内管とからなる二重
管構造の気密客器を主体としてなり、液体窒素等の冷媒
やジュールトムソン型の冷却器等を用い、前記冷却基台
を介して赤外線検知素子を常温よ抄もかなり低温に冷却
して動作させている。
一方かかる赤外線検知装置においては前記透光窓をとお
して検知素子部に入射する赤外線の視野角をできるだけ
狭めて検知対象物から放射される赤外線以外の余分な背
景輻射線を排除するために第1図に示すように赤外線検
知素子l及び電極導出端子板2が載置された冷却基台8
上に、外管4に設けられたー外線透光慧6より入射する
入射光の範囲を規定するスリット6Cを有するコールド
・シールド板6bとコールド・シールド筒体6aからな
るコールド・シールド本体6を図示のように配置して前
記検知素子lを覆う構造とし、該検知素子lと共にコー
ルド・V−ルド本体6も冷却し、該コールド・シールド
本体6自身が赤外線輻射体となることの防止をはかつて
いる、7は内管である。
ところで上述のようにコールド・シールド本体6を赤外
線検知素子lが載置された冷却基台8上に配置するに際
しては、前記赤外線検知素子lの中心と、対向するシー
ルド・シールド本体6におけるコールド・シー/L//
I/ド板6bのスリット6cとの中心を一致させて配置
することが肝心であり、徒来においては第1図の縦断面
図及びI −1’切断線に沿う横断面を表す第2図に示
すように前記赤外線検知素子1が載置された冷却基台8
上にまずシールド・シールド筒体6aを図示しないねじ
止め等圧より固定し、骸コーμド・シールド筒体6a上
に、前記素子lの外形よりも大きいスリブ)60を沖央
に穿設したシールド・シールド板6bを載せ、例えば実
体顕微鏡を用いて前記素子lがスリット6C内の真下、
中央に位置するようにシールド・シールド板6bを水平
方向に移動調節して位置合せを行い、該コールド・シー
ルド板6bを前記シールド筒体6a上に接着剤等によっ
て固定するようにしていた、しかしながら、上述した前
記素子lに対するコ〜μド・シールド板6bのスリブ)
6Cの位置合せ方法にあっては、基準となる前記素子1
の外形パターンとスリットao形状が同一パターン形状
でないため精度のよい位置合せができないといった難点
があった。
(4)発明の目的 本発明は上述の点に鑑みなされたもので、その目的は、
スリットを有するコールド・シールド板を赤外線検知素
子上にシールド・シールド筒体を介在させて配設するK
あたり、前記検知素子と同一のパターンからなる位置合
せパターンを有するガラスマスクを用いて精度よく位置
合せし得る赤外線検知装置の組立方法を提供すゐにある
(5)  発明の構成 かかる目的を達成するために本発明は、予め複数個の合
せマークを上面に設けたコールド・y−μド板上に、前
記合せマークと対応する合せマークと中心に赤外線検知
素子と同様パターンからなる位置合せパターンを有する
ガラスマスクを仮付けし、赤外線検知素子−が載置せる
冷却基台上に固定されたコールド・シールド筒体上に、
前記ガラスマスクの位置合せパターンを赤外線検知素子
と合致させた状頗でシールド・y−A/ド板を固定配置
するようにしたことを特徴としている。
(6)発明の実施例 以下図面を用いて本発明の一実施例について詳細に説明
する。なお第1図及び第2図と同等部分には同符号を付
している、 まず第3図に示すように、中心部にスリブ)60が穿設
されたコール下・y−/I/ド板6bの上面に図示の如
く複数の合せ凹マーク81を選択エツチング法によって
設けておく。また本発明の目的を達成せしめる補助合せ
具とし・て第4図に示すように中心部に赤外線検知素子
lと同様の素子パターンからなる位置合せパターン42
と、該パターン42の周囲に前記シールド・シールド板
6b上の各合せ凹マーク81に対応する合せマーク48
を設けたガラスマスク41を用意しておく。次いで第5
図に示すように前記コールド・シールド板6b上に・用
意されたガラスマスク41を双方の各合せ凹マーク81
と対応する合せマーク48が一致した状頗に重ね合せて
例えばワックス等で両者を仮固定する。この工程は通常
のマスクアフイナと呼ばれるマスク合せ装置によって容
易に行うことができ、シールド・シールド板6bのスリ
ット6C内の中心にガラスマスク41側の前記位置合せ
パターン42が正確に位置するように合せられている。
しかる後図示しないマスク合せ装置の上下、水平移動調
整台上に、第6図に示す形で赤外線検知素子1が載置さ
れた冷却基台8に予め取付けられたコールド・シールド
筒体6aを内管7ごと配置すると共に、その上面にコー
ルド・シールド板6bとガラスマスク41の前記組合せ
体を保持し、図示しない装置の顕微鏡と前記調整台との
操作によって前記ガラスマスク41の位置合せパターン
42に、その直下の前記検知素子lの素子パターンが合
致するように位置合せを行ううかかる状頗の前記コール
ド・シールド板6bをコールド・シールド筒体6a上部
に接着剤等によつ゛て固着した後仮固定されたガラスマ
スク41を除去する。
かくすればコールド・シールド板6bのスリブ)60を
、対向する前記検知素子1に対して精度よく位置合せす
ることができ、かつ容易にコールド・シールド板6bを
固定することが可能となる。
(7)発明の効果 以上の説明から明らかなように本発明の方法によれば、
スリブFを有するコールド・シールド板を赤外線検知素
子上にコールド・V−μド筒体實介して配置するに際し
、前記検知素子パターンと同一の位置合せパターンを有
するガラスマスクを用いることにより、前記−知素子に
対してコールド・シールド板のスリブ)の位置合せが精
度よく行える利点を有し、実用上極めて効果的である、
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は、従来の赤外線検知装置の組立方法
を説明するための要部縦断面図及び第1IL 図のI −1’切断線沿う横断面図、第8図、3%il
及び第1図は、本発明に係る赤外線検知装置の組立方法
を順に説明するための各上面図及び要部縦断面図である
。 図において、1は赤外線検知素子、8は冷却基台、6a
はコールド・シールド筒体、6bはコールド・V−〜ド
板、60はスリット、31はコールド・シールド[、,
6bの合せ凹マーク、41はガラスマスク、42は位置
合せパターン、48はガラスマスク41の合せマークを
示す。 第1図 へ 第2図 第3図     第4図 第5図 第6図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 赤外線検知素子が載置された冷却基台上に同室されたコ
    ールド・シールド筒体上忙、該検知素子に対する入射光
    の視野規定用スリットを中心に有するコールド・シール
    ド板を配設するに際し、予め複数個の合せマークを上面
    に設けたコールド・シールド板上に前記合せマークと対
    応する合せマークと、中心に前記赤外線検知素子と同様
    パターンとが形成された位置合せパターンを有するガラ
    スマスクを仮付けし、前記コールド・シールド筒体上に
    ガラスマスクの位置合せパターンを赤外線検知素子と合
    致させた状態でコールド・シールド板を固定支持するよ
    うにしたことを特徴とする赤外線検知装置の組立方法。
JP56193302A 1981-11-30 1981-11-30 赤外線検知装置の組立方法 Pending JPS5892921A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56193302A JPS5892921A (ja) 1981-11-30 1981-11-30 赤外線検知装置の組立方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56193302A JPS5892921A (ja) 1981-11-30 1981-11-30 赤外線検知装置の組立方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5892921A true JPS5892921A (ja) 1983-06-02

Family

ID=16305645

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56193302A Pending JPS5892921A (ja) 1981-11-30 1981-11-30 赤外線検知装置の組立方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5892921A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6467186B2 (en) 1990-08-29 2002-10-22 Hitachi, Ltd. Transferring device for a vacuum processing apparatus and operating method therefor

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6467186B2 (en) 1990-08-29 2002-10-22 Hitachi, Ltd. Transferring device for a vacuum processing apparatus and operating method therefor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7095483B2 (en) Process independent alignment marks
JPS5928616A (ja) 光方向センサ
ES2141816T3 (es) Procedimiento de posicionamiento de un portapiezas en una maquina de mecanizado, asi como portapiezas correspondiente.
CN109870828A (zh) 一种实现星敏感器像面高精度正交性调整系统及调整方法
JP2002093858A (ja) チップ実装装置及びそれにおけるキャリブレーション方法
JPS5892921A (ja) 赤外線検知装置の組立方法
US20040179210A1 (en) Substrate holder, and use of the substrate holder in a highly accurate measuring instrument
US5845408A (en) Contour reading device, in particular for eyeglass lenses
JPS6249624A (ja) 投影型露光装置用遮風装置
US4790642A (en) Integrated metrology for microlithographic objective reducing lens
CN106568578B (zh) 一种离轴反射式太赫兹成像系统的装调检测仪及其装调方法
US20060082681A1 (en) Solder reflux method for holding cryogenically aligned parts
JPH04500578A (ja) カラー陰極線管の製造におけるシャドーマスクとフロントパネルの変換性を保証する方法及び装置
CN219657540U (zh) 一种易于定位的建筑外墙热工缺陷检测装置
CN103424994B (zh) 一种像方标记承载装置及制造该承载装置的方法
JPH09306802A (ja) 投影露光装置
JPS6365621A (ja) X線露光マスク
CN212255877U (zh) 用于质谱仪的相差矫正光学成像系统
JPH097964A (ja) 半導体製造装置の温度検出装置
US7127906B2 (en) Cooled photosensitive cell
JP2748980B2 (ja) X線露光装置およびx線露光方法
JPS63108718A (ja) 基板露光装置のステ−ジ
JPH0232359Y2 (ja)
Burrell et al. Novel sample holder for solid and liquid luminescent samples
JPH0548097Y2 (ja)