JPH04500578A - カラー陰極線管の製造におけるシャドーマスクとフロントパネルの変換性を保証する方法及び装置 - Google Patents

カラー陰極線管の製造におけるシャドーマスクとフロントパネルの変換性を保証する方法及び装置

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 カラー陰極線管の製造におけるシャドーマスクとフロントパネルの変換性を保証 する方法及び装置発明の背景 本発明はフラットテンシテンマスクカラー陰極線管の製造に適用されるものであ る。詳細には、本発明はフラットテンションマスクの7パーチヤパターンと関連 する陰極発光スクリーンとの整合を得るための手段を与えるものである。
特に、本発明はフラットテンシ5ンマスクカラー陰極線管のフェースプレート組 立体の製造に用いられるプロセス段階の一部に関する。フェースプレート組立体 はガラスのフロントパネル、このパネルの内面にある支持構造およびこの支持構 造に固定されたテンシきンフオイルシャドーマスクを含む。
この明細書において「グリル」と「スクリーン」なる用語をフロントパネルの内 面上のパターンに対し用いている。グリルはブラックサラウンドまたはブランク マトリクスとも呼ばれるものであってコントラストを強調するために広く用いら れている。これがまずパネルに与えられる。これはパネル上の暗いコーティング を含み、それに光の通る穴が形成されそしてその上に夫々の発光螢光体が付着さ れてスクリーンを形成する。
グリルの穴はシャドーマスクの穴またはスロットを通る電子流と整合していなく てはならない。これはグリルを有する管の1次的整合要求であり、螢光体がこの グリルの穴に重なることがあるからそれらの整合要求の精度は低い。
グリルのない管では電子流と整合しなければならないのは螢光体である。「スク リーン」は整合に関してはグリルを用いるときはグリルをそしてグリルがないと きは螢光体を含む。
従来の製造プロセスにおける課題 製造プロセスの種々の段階を介して特定のパネルにシャドーマスクを装着するこ とによりこれまでカラー陰極線管は製造されている。そのような手順は複雑であ り、複雑なコンベアシステムが、製造プロセス全体において関連するパネルに夫 々のマスク組立体を整合させ維持するために必要である。プロセスのいくつかの 段階においてパネルをマスクから離しそして整合したシャドーマスクをそのパネ ルとの後の再統合のために分類しなければならない。
最近のフラットテンシランマスク陰極線管の商業的な導入により、マスクとパネ ルの曲率に関する多くのプロセス上の課題は減少している。しかしながら、その ため、フラットテンシランマスク管の初期の製造は製造プロセス全体において特 定のフロントパネルへのマスクの整合についての保証された技術の連続的使用に もとづかざるをえない。しかしながら、フラットテンシランマスクは製造プロセ ス中および管内への設置後に張力をかけた状態としなければならないため、プロ セス中の支持フレームがいく分複雑になる。これらフレームはテンシックマスク 形のカラー陰極線管の製造を複雑且つ高値なものにする。
このように、従来の製造プロセスを単純化することの要望はフラットテンレジン マスク形の陰極線管の製造におけると同様に残される。
カラー管の製造は、マスクとスクリーンが個々に位置合せする必要のないように マスクがスクリーン(「互換」マスクと呼ばれる)と整合出来れば単純化しうろ ことは認められている。今日までそのような要素の互換性を達成するに適した商 業的に使用可能な方法は用いられておらずあるいは開示されていない。
従来の技術 米国特許第2625734号 ロー 同 第2733366号 グリム 同 第3437482号 ヤマダ他 同 第345i812号 タムラ 同 第3494267号 シニワルッ 同 第3563737号 ジッンカース同 第3638063号 タチカワ 同 第3768385号 ノグチ 同 第3889329号 ファツリン 同 第3894321号 ムーア 同 第3983613号 パラツク 同 第3989524号 パラツク 同 第4593224号 パラツク 同 第4692660号 アドラー 同 第4695761号 フエンドリイFR1477706ゴベイン GB2052148 ソニー rRCA 3ビームシヤドーマスクカラーキネスコープの改良」、グライムス、 1954、プロシーディンゲス・オブ・ザ・IRE、1954年1月、315− 326ページ。
発明の目的 本発明の目的はマスク−パネル組立体において夫々交換可能なシャドーマスクと フロントパネルを有するフラットテンシコンマスク形のカラー陰極線管の製造装 置およびプロセスを提供することである。
また本発明の目的はマスクのアパーチャパターンがスクリーンパターンと整合す るようにマスクの位置サイズそしてまたは形状を調整するための自動手段を設け ることによりフラットテンションマスクカラー陰極線管のシャドーマスクの実際 的な互換性を得る方法を提供することである。
更に目的とするところはスクリーン位置と幾何的な誤差を補償するそのような方 法および装置を提供することである。
本発明の目的はマスク−パネル組立体において夫々交換可能なシャドーマスクと フロントパネルを有するフラットテンシランマスク形のカラー陰極線管の製造プ ロセスにおいて、スクリーンパターンとの一致を得るためにマスクパターンの幾 何的パラメータを変更する方法および関連する装置を提供することである。
図面の簡単な説明 新規である本発明の特徴を特に添附請求範囲に示す。
本発明は他の目的および利点と共に、同一要素を同一参照数字で示す添附図面( 原寸ではない)に関連する以下の説明により明らかとなるものである。
図1は本発明を使用しうる形式のフラットテンションマスクカラー陰極線管の部 分的に除去された斜視口である。
図2は本発明の実施に有効なユニバーサル保持具の斜視図である。
図3はライトハウスと共に用いるようになった図2のユニバーサル保持具の変更 例の側面図である。
図4はマスク支持構造のより大きいQ高さのトレランスに適合する保持具の変更 例を表わす図3と同様の図である。
図5は本発明による、マスクのサイズ、位置そしてまたは形状を調整するための 、処理中のシャドーマスクを囲む保持具の平面図である。
図6は因5のマスクの一縁部に沿った所要の力の分布を表わす曲線である。
′fgJ7は図5のマスクの縁部に沿って力を分布させるためのレバーを示す図 である。
図8は図5の保持具の変更例を示しており、図88が別々に可変の印加される力 の数を減少させるための装置を示す図、 図8bはマスクの接線方向の力の印加のための図8Aの実施例の変更例を示す図 、 図80は手段の図式図である。
図9および10は図5の保持具と共に使用される象現検出器の光学検出システム の動作原理を示すものであって、マスクとは別の基準点に対するテンションのか かったマスクの穴の検出位置を決定するシーケンスを示す図である。
図11は象現検出器の光検出システムの部分を形成するマトリクス回路の出力電 圧を示す曲線である。
特表千4−500578 (5) 図12は多帰還ループを含む本発明の原理を用いるシステムを示す平面図である 。
図13は図12のシステムにもとづく要素の詳細とマスク装着保持具の動作を示 す図であって、図13a、13c、13d、13fは動作シーケンス中のそれら 要素の詳細を示す図、 図13bは保持具の平面図である。
図14は陰極線管の2つの平面図であって、2つの望ましくないスクリーン条件 を示しており、図14aは公称位置から変換そしてまたは回転されたスクリーン パターン位置を示す平面図、図14bはスクリーンパターンの幾何条件が歪んだ ときすなわちパターンのサイズそしてまたは形状が歪んだときの条件を示す図で ある。
因15はパネルの位置m整を可能にするパネル保持具の斜視図である。
図16は図15の保持具を受け入れるようになったスクリーン検査部断面および その保持具を調整するための帰還ループの側面図である。
図17はスクリーン検査装置の部分の側面詳細図である。
図18はビデオカメラによるグリルアパーチャパターンとその結果のパルス出力 を示すものであって、図18aはグリルの一つのコーナの拡大平面図、図18b は特定のスキャンラインからの水平出力信号を示す波形、 図18cは垂直出力信号の波形である。
図19はフェースプレートを受け入れるためのスクリーン検査装置の部分の側面 図である。
図20は図13の組立装置の変更例の詳細側面図である。
図21はスクリーン検査および調整用の組立装置の部分図であって、 図21aはその製造の部分の側面図、 図21bはその装置の平面図である。
図22はサーボモータを制御するための差形成回路を示す図である。
図23は図21の組立装置の変更例であって、図23aはその装置の部分の側面 図、 図23bはその装置の部分の平面図である。
図24はシャドーマスクとグリルの間の位置の差を直接示す誤差信号を発生する 装置を示す図であって、Fm24aと図24bは2つの特定のアパーチャの照明 を示す図、 図24cは照明されたアパーチャの拡大平面図である。
図25はサーボモータが可動キャリアに装着されるごとくなった組立装置の図で ある。
好適な実施例の説明 本発明の装置は透明なフラットフロントパネルに張力をもって装着された中央ア パーチャパターンを有するシャドーマスクを有するカラー陰極線管の製造に用い られる。マスクアパーチャパターンはパネルの内面において対応する陰極発光ス クリーンパターンを整合する。フロントパネルはスクリーンパターンの両側に沿 ってパネルのスクリーンを支持する内面に固定されるマスク支持手段を有する。
シャドーマスクとフロントパネルは夫々本発明により交換可能である。
図1−13はスクリーンパターンとテンシランマスクアパーチャパターンの相互 整合がマスクを予定の基準まで伸長することにより行われるようにする装置と方 法を示す。他の図はスクリーンの位置(x−y回転)と幾何(サイズと形状)の 誤差を決定しそして補償するための方法と装置を示す。
図1はネック9まで延びそして複数のステムビン13を有する接続プラグ7まで となった真空エンベロープ5にへ−メチックシールされたガラスのフロントパネ ル2を含むフラットテンションマスクカラー陰極線管を示す。
内部部品はテンシジンシャドーマスク4を支持するパネル2の内面8に永久的に 固定されるマスク支持構造3を含む。マスク支持構造3はプラナ面を内面8の面 から一定のrQJ距離のところにするための接地された装置である。パネル2の 内面8にはスクリーン12が配置され、このスクリーンは黒いグリルと支持構造 3の内部境界内の内面8の拡がりにまたがり分布するカラー発光螢光体パターン とを含む。螢光体12は電子ビームにより励起されると赤、グリーンおよび青の 発光を行う。
シャドーマスク4は多数のビーム通過アパーチャ6を有し、レーザ溶接によるご とくに支持構造3の研磨面に固定される。
管1のネック9には3個の電子銃r、g、 bのクラスタ10が配置される。こ れら電子銃はマスク4に向けて3本の電子ビーム、/ 、g/ 、b/を出す。
これらビームはカラー画像信号情報により電子的に変調される。管外のヨーク9 aによる磁界によって偏向された電子ビーム、/ 、g/ 、b′はマスク4の 全面が周期的に掃引されてマスク支持構造3の内部境界内のスクリーン12のは V全面にわたり画像を形成するように水平および垂直方向の走査を行う。
マスク4のアパーチャ6のある位置でこれらビームの夫々がマスクを通りスクリ ーン12に当る。このように、アパーチャパターン6を有するマスク4の位置、 電子銃r、g、bの位置および支持構造3の高さが、ビーム、/ 、g/ 、b /のスクリーン12上の衝突点を制御する。
管1の適正動作にはスクリーン12上にビームr /。
g′またはb′のカラー情報に対応する螢光カラー特性をもつ発光螢光体がなけ ればならない。更に適正動作には電子ビームの衝突面の中心は狭いトレランスを もって関連する螢光体の中心と一致しなければならない。
スクリーン全面についてこれらの条件が満足されると、マスクとスクリーンは整 合したことになる。
画像の表示される矩形の面、すなわちスクリーン上の電子ビームでカバーされる 面はそれらビームの通るマスクの対応する面より大であり、マスクからスクリー ンへの線形の拡大率は数パーセント程度である。この倍率はスクリーンにまたが り僅かに変化することがわかった。
それ故、「マスクとスクリーンのパターンの整合」または「アパーチャパターン との間の整合」なる表現がある場合のとき、それはそれら2つのパターンが写真 のネガとそのポジとの関係のように正確に一致するものであることを意味しない 。すなわち、それは2つのパターンが予定の高さの支持構造を用いマスクからス クリーンへの間に予定のスペースを有する上記のフラット構成のカラー管に要求 されるように互いに関係することを意味するものである。マスクとスクリーンの そのような整合は電子ビームの偏向中心についてのものである。上記のように従 来のカラー管においては対となったシャドーマスクとフロントパネルを用いるこ とにより整合を容易にしている。
従来のシャドーマスクはフラットな金属シートにアパーチャをホトエツチングで 明けそしてその後にそのフラットシートをボール形に変形することによりつくら れる。
この変形プロセス後のマスクは変換不能である。しかしながら、フラットのまま のマスクの場合には共通のマスクを用いてホトエツチングされたフラットシート の本来の互換性は維持される。これは後述する方法および装置において重大なフ ァクタである。
フラットテンシランマスク管ではテンシランマスクは一般に約0.001インチ 厚のシートフォイルからつくられる。このマスクは実質的な機械的張力を与えら れる。
ストレスは1平方インチ当り30.000ポンドと50.000ポンドの間であ る。それ故このマスクはかなり伸長され、弾性変形は1000分の1を越える。
例えば従来のフラットテンシ碧ンマスク製造方法は夫々のマスクを、そのマスク として使用されることになるスクリーンを写真製版によりつくる前に弾性変形し た状態にする。
他方本発明は互換性をもつようにすべてのスクリーンを一つの共通のマスクから つくる。また、前述のように伸長されないマスクはほり等しく、マスクを伸長す るときに弾性変形が生じるという利点を用いるものである。
マスクの周辺部分を把持する複数のクランプに制御された力を加えることにより 、各マスクはそのサイズと形状が予定の規準に合うように伸長しうる。必要であ れば、この所望の力を伸長プロセス中マスクを加熱することにより大幅に減らす ことが出来る。
このクランプと力はそれをそのXおよびy軸(マスクの面の大寸法および小寸法 )に沿って動かしそして、必要であれば、マスクの位置、サイズおよび形状が予 定の規準となったことを示すための対応する固定マーカーとマスク上の長基準マ ークとが整合するまでそれを回転することによりマスクのセンタリングを可能に する。これが達成されると、規準化されたスクリーンを有するパネルとこのマス クとは後述のように整合し、マスクがマスク支持構造に接触する。マスクは次に レーザ溶接等によりマスク支持構造に固定される。
図2は、データ座標群に対し、パネル2の再現可能な位置ぎめを必要とするすべ ての製造プロセスにおいて使用されるべきガラスフロントパネル組立体用の6点 ユニバーサル保持具30を示す。マスク支持構造3aを有するパネル2aは、横 方向の位置の制御のためにポスト19a、19b、19cに装着された3個の半 球状ロケータ22a、22b、22cを含み、3個の垂直ストッパ20g、20 b、20cが垂直方向位置を制御するようになった保持方法を用いて固定プレー ト18上に置かれる。ストッパ20a、20b、20cはパネル2aの内面の保 護のためにデルリン(商標)のような材料からなる堅固であるが比較的硬いコン タクト面17a、17b、17cを有する。パネル2aの下に仮想線で示す圧力 装!21が内面と3個のストッパ20a、20b。
20cとの間の緊密な接触を保証するために上向きの力Pを与える。ボスト19 bと19cの間のコーナに向けて水平の力Fを加える第2の圧力装置24がパネ ル2aと3個の半球体22a、22b、22Cとの間の緊密な接触を保証する。
垂直ストッパ20aと20bはポスト19gと19bで共に配置されるが、第3 の垂直ストッパ20cはボスト19cから完全に離されている。製造プロセスの 異るワークステーションにおいて厳密な限界内で3個の半球体ロケータ22a、 22bおよび22cの位置および3個の垂直ストッパ20a、20b、20cに より限定される面を制御することにより、各ワークステーションでの与えられた パネルの位置は正確に再現しうる。図3はライトハウス40に適用されたユニバ ーサル保持具30の変更例を示す。パネル2人と垂直ストッパ(その内の2個2 0gと20cを図示する)は反転されており、その内の2個(19a、19e) を示すポストは立ったままであってパネル2人を上からそう入しうるようになっ ていることに注意され度い。圧力装置21はこの例ではパネル2Aの重みが垂直 ストッパ上の適正なすわりを保証するに充分であるからオプションである。
カラー陰極線管の製造分野で周知のように、ライトノルウスがパネル2Aの内面 8Aに与えられる感光材料の露光に用いられる。4個の異るライトノルウスにお ける4回の露光が黒い背景パターンとスクリーンを含む3個のカラー発光螢光パ ターンとをつくるために必要である。露光マスク33は、画像を支持する層が上 になりそしてパネル2人の内面から非常に短い距Jl(flえば0.010イン チ)とされてライトハウス40内に永久的に設置される。露光マスク33の面か ら一定の距離rfJのところに紫外線源34が配置されて完成された管内の電子 ビームの通信をシミユレートする光線35を出す。
シェーダプレート36は光源からの距離の変化と入射角の変化を補償するために マスクの表面の光の強度を変更してそれによりすべての領域で所望の露光を達成 する。
管の動作中の電子ビームをより完全にシミユレートするように光線の通路を修正 するためのレンズ38が設けられる。
経験によれば、上記の手順でつくられたスクリーンパターンは、パネル2Aの内 面8Aから支持構造の機械研磨された上面までの支持構造3AのQ高さが非常に 狭いトレランスに維持されるならば高解像管に使用するに充分な精度をもつもの となることがわかった。
図4に示す図3の変更例はマスク支持構造のQ高さのトレランスが大きいものに 適合する。ここでは垂直ストッパは半球体31で置き換えられ、そしてパネル2 Aは支持体3Aの内面でなく研磨された上面に置かれる。例えば与えられたパネ ル上のその構造体が0.002インチ高すぎるとすると、そのパネルは露光中よ り高いところとなり、それに記録される光パターンは正規のものより大きくなる 。これは正しく必要なことであり、マスクがこの支持構造に固定されるとき、パ ネルから更に0.002インチ離れて電子ビームがより大きいパターンをつくり 、そのために余分なQ高さを補償することになる。実際には支持構造高さQの0 ..002インチの誤差にも拘らず互換性のあるスクリーンがつくられる。
図3,4について述べたスクリーンパターンをつくるためのプロセスは4回の露 光の夫々について永久的なマスクが特定のスクリーンに特有の関連を有する個々 のマスクの代りに使用される点で従来のプロセスとは異る。
しかしながら本発明は各スクリーンを特定のマスクに合わせる必要がないから、 他のより経済的なプロセスをスクリーンパターンの製造に使用しうる。例えばオ フセット印刷のような周知の印刷プロセスはフラットガラスプレートに所要の精 度のスクリーンパターンをつくるに特に都合のよいものである。オフセット印刷 を用いる重要な点は、露光、現像および乾燥そしてそれに続く次のプロセスのた めのコーティングという4段階のプロセスが不要であることである。事実、オフ セット印刷は本発明で必要な互換性のあるスクリーンを安価につくる可能性を与 えるものである。
図5はマスクの周辺部分を把持する複数のクランプに制御された力を加えるため の装置50を示しており、これはその位置、サイズおよび形状が予定の標準とな るまでマスクを動かしそして弾性的に変形させることが出来るものである。この 装置はまたスクリーン化されたパネルをマスクに隣接した特定の位置に動かしそ してそのマスクを支持構造に溶接するためのものである。図5に示さないこれら の特徴は後述する。
オフセット印刷等のプロセスが用いられる場合には、支持構造3Aの高さQは応 用の特定の要件に適した精度に制御しなくてはならない。
図5は広い周辺部を有する矩形のプロセス中のシャドーマスク4Aを示す。これ はマスクがホトエツチングプロセスを終えたときの形である。このマスクの中央 の開口領域は矩形43で限定されている。この矩形の外側には間隔の広い位置検 出アパーチャー47の列が配置される。後述する装置50に固定される光学的マ ーカは位置基準として作用し、そしてこの実施例では前述の予定の標準を与える 。装置50はすべてのアパーチャ47をそれらに対応する光マーカと一致させる ようにマスクに力の分布を与えるように作用する。
マスク4Aの周辺には夫々一対のジョーを有するクランブ44が配置される。各 側に複数のクランプを配置する理由は、マスクを伸長するとき個々のクランプを 自由にして所要分だけ離さねばならないからである。またそれを複数とすること によりマスク4Aの周辺に所要の力分布をつくることが出来る。
矩形43内のマスクのアパーチャをもつ中央領域は剛性をもつ周辺部よりも著し く小さい平均弾性こわさを有するものである点に注意されたい。伸長プロセスで は中央の7バーチヤ領域の矩形形状を維持することが望ましいから、伸長力は、 各クランプ44で生じる局所的な弾性こわさに関係した夫々の力の大きさをもっ て段階的なものとしなければならない、例えば、対向するクランプ101と11 5はマスクの一端において剛体に作用する。
それ故これらは、アパーチャーをもつ部分に主として作用する対向クランプ10 4と118よりも大きい力を必要とする。
図6はマスク4Aの一縁に沿った所要の力分布を示す曲線51を示している。コ ーナ近辺で必要な力は中心近辺のそれより約70%も大きいことがわかる。
原理的に多数、図5の例では28個、のクランプに加えられる力を個々に制御す ることは可能である。しかしながら実際には多量生産されたマスクははソ同じで あるからそのような多数の個々に可変の力を必要としない。
事実、ホトエツチングされたマスクの厚さが全く同じであるとすればそれらの弾 性特性、幾何形状および標準形状を得るためにそれらに加えられるべき力は常に 同じものとなる。そのような力は予めプログラム可能であり帰還は不要である。
実際にはマスク全体としてそして各マスクについて、その厚さには不可避的な変 化がありそして例えば製造中の温度変化により生じる幾何形状の僅かな変化があ る。
これら変化を補償するために、成る種の力の調節が必要であり、そしてこれらは 本発明により、帰還によって制御される。
特定の場合に必要な個々の調節の回数はマスクの製造精度および特定の管の設計 に必要なトレランスによりきまる。トレランスが極めて大きい極端な場合にはマ スクの異るロット間の厚さの変化のみが意味のある変化である。この場合には2 つの独立的な調節、すなわちXおよびy方向に加えられる総合力を帰還により制 御すればよい。各座標軸内の印加された力の分布51は例えばレバー系のような 純機械的手段によりつくることが出来る。
図7は予定の比をもって力を分布させるためのレバーの使用を示す。この図はマ スクの短辺に装着されるべき6個のクランプ109−114を示す。この例にお ける任意単位の所要の力は1. 7. 1. 3. 1. 1. L 3.1. 7である。プルロッドに沿った力はこの図でアングラインを付しである。これら レバーに関連する数字はレバー比を示す。一つの辺に沿った所望の数のクランプ についての力の所要の比をそのようにして発生しうろことは明らかである。
図88は図5の変更例を示しており、クランプ数は28であるが、位置検出アパ ーチャ47は8個であり、全部で12の個々に可変の力が存在する。隣接するも のは、各辺に沿って3つの個々の力が存在するという結果をもたらす。コーナに 置かれる4個の位置検出アパーチャはXおよびy軸に沿った位置誤差を検出する ようにされており、各辺の中央近辺にある4個のアパーチャは半径方向すなわち 内向きまたは外向きのずれのみに応答する。このように位置誤差信号の総数は個 々に制御可能な力の数に等しく12である。
マスクの辺に直角に作用する力を加えることに加えて、辺に平行な方向の接線的 な力を加えることも場合によっては必要である。図8bは、領域443内のアパ ーチャ406が丸穴でなく平行スロットであるテンシランマスクを例として用い てそのような構成を示す。スロットマスクはテレビジョン受像機用のカラー陰極 線管に一般に用いられている。これらスロットは垂直(y)方向に伸びており、 これらは上から下まで連続ではなくマスクの機械的安定性を向上させるためタイ バーにより規則的なインターバルで架橋されている。
フラットテンシランマスク形のカラー陰極線管では同様のアパーチャパターン、 すなわちy軸に平行で規則的インターバルで架橋されているスロットパターンが 用いられる。螢光ストライブが連続であるとするとマスクパターンのxFM標の みがスクリーンパターンに整合すればよい。y軸に沿ったスロットに平行に高機 械的テンシランが加えられる。このテンシランの量はマスク材料の弾性限界を越 えない限り厳密なものではない、X軸に沿うて注意して制御される量のテンシラ ンが加えられる。微小な架橋部(図示せず)の機械的なこわさば小さいからこの 方向のテンシランも小さいものとしなければならない。
図8bの装置450はスロットマスク404に接線方向力を含む制御された力を 加えるためのものである。2つの垂直の辺に沿ってクランプ444がそれら辺に 直角に作用する力により外向きに引かれる。各辺の中央部近辺に配置される4個 のクランプはレバーにより相互に接続される。6つの個々に制御可能な力Fl− F6がこれら2辺に加えられる。
2つの水平の辺については帰還により制御する必要のない予定の力Foがマスク のチューナー近辺でこれら辺に直角に加えられる。しかしながら、各水平辺の2 個の中間クランプは、その辺に直角ではなく制御可能な接線方向成分を有する力 FR(1)とFR(2)により一般に外向きに引かれる。
図80はそのような力をいかに発生するかを示す。2個のステップモータ424 aと424bが図示のように±45度の角度で夫々装置450のフレーム432 に装着される。これらモータはプルロッド431aと431bまでとなった原則 歯車428a、428bを夫々有する。ばね425aと425bによりこれら2 個のプルロッドにリンクする第3のプルロッド430が上記中間の2個のクラン プを駆動するレバーに接続する。水平の辺に沿ったクランプ460はクランプ4 44とはいく分構造が異る。これらはマスクの辺において局部的モーメントを発 生することなく接線方向の力の成分を加えることが出来るように回動される。
動作において、これら2個のモータは予定の力Fo′がプルロッド430に発生 するまでプルロッド431aと431bを前進させる。この力はその辺に直角に 作用しそしてその値は厳密なものでなくともよい。
マスクの厚さの変化を補償するためにはマスクの中央部分を図8bに示すように FR(i)により直角に引く必要があるとする。このため、ステップモータ24 aはそのプルロッド43ユaがフレーム方向に引かれるように回転される。これ と同時にモータ424bはプルロッド431bがその正規の位置を越えて伸びる ように作用する。その結果、プルロッド430の下端は右に動き、接線方向の力 成分FT(1)が生じる。これが垂直方向成分F ′と共に所要の力FR(1) を発生する。位置検出アパーチャ447を用いる8個の位置センサ(図示せず) はX方向における位置ぎめ誤差にのみ応答する。また、8つの独立的に制御可能 な力、F1〜F6および2つの接線方向成分F(1)とFT(2)があり、その 内のFI丁 −F6のみを図8Cに示す。
マスクの辺に接線方向の力を加えるためのこの技術は図8bの実施例に限られな い。この原理のより広い応用はすべてのクランプに接続方向の力を加えることで ある。
更にこの技術はrドツトjマスク(丸いアパーチャを有するマスク)のような他 の形式のマスクにも適用出来る。
この技術は図5に示すようなレバーを用いないクランプ構成におけるクランプに も適用出来る。
図9は必要な位置ぎめ誤差信号を発生するために装置450で使用しうる市販の 象限検出光学センサ89の動作原理を示す。そのようなセンサはカリホルニャ州 のユナイテッドデテクタテクノロジから市販されており、4個の90度セクタに 分けられた円形ディスクの形の感光領域を有する半導体チップからなる。各セク タからの光電流は別々にとり出される。
図9において、マスク4Aは位置検出アパーチャ47が光検出光センサ89と整 合して正しいテンシッン状態にあるものとする。各アパーチャ47は光源87か らの光ビーム88で完全に照明される。ビーム88はレーザまたは他の従来の光 源からのものでもよい。
複数の象限検出光センサ89がプレート9ユに装着され、このプレートの装置4 50のフレームに対する位置は図13について詳述するように正確に限定される 。象限検出光センサの活性領域92は位置検出アパーチャ47の所望の位置と垂 直方向で整合する。照明された領域47gはセンサ89の活性面92に投射され たアパーチャホール47の像を表わす。
ビ・−ム88の直径はセンサ89の活性面92の直径より大であり、アパーチャ 47の直径はかなり小さい。位置検出アパーチャがそのセンサ89の活性面92 と正確に同心整合していれば、すべてのセクタが同じ光電流を発生する。セクタ 電流間のアンバランスを示すための周知のマトリクス回路はこのときXおよびy 座標において位i!誤差Oを示す。詳細に云うと、このマトリクス回路は2つの 出力を出す。第1の出力は左側の2個のセクタの電流の和と右側の2個のセクタ の電流の和との間の差を示す。これはX座標の誤差である。第2の出力は上側2 個のセクタの電流の和と下側2個のセクタの電流の和との差であってyFM標の 誤差を示す。
図]0はアパーチャ47がセンサ89の活性面92と整合しない場合を示す。す なわち、投射画像47gは整合せず、4個のセクタの照明は不均一となり0でな い出力信号を出す。この場合、左側セクタの電流の和は右側のそれより大きく、 アパーチャ47が左にずれすぎていることを示すX座標出力を出す。
図11は上記の形式のマトリクス回路からの出力電圧VのアパーチャのずれΔX に対するプロットを示す。急峻な中央部分aはアパーチャ47の半径より小さい ずれに対応する。より大きいずれについてはこの出力は一定(bで示す)となる 。それより大きいずれはアパーチャ47の像を活性面92の辺と交わらせる。、 その出力Cは減少しそしてアパーチャ47の像が活性面を出るときO(旦)にな る。点互とこのプロットの中心との間の距離はこのセンサとアパーチャの組合せ が読取りうる最大の位置ぎめ誤差を示す。
光学的検出は位置誤差の決定のための唯一の方法ではない。例えば、空気ノズル °、マスクアパーチャおよび流量計または圧力計の組合せを用いて非常に正確な 位置測定を行うことが出来る。
これら2つの位置誤差信号は前述のようにマスク位置と向きの誤差の修正、マス クの伸長、およびその形状の調製のために利用される。これら動作のいくつかは バックアップのためのクランプ44を用いて他のクランプがマスクのテンシヨン を増加させずに外向きに動きうるようにする必要がある。しかしながら、各クラ ンプにより加えられる力は常に外向きである。1つのクランプにより加えられる 力を一時的に対向するクランプの力より小さくすることによりバックアップを行 うことが出来る。
所要の引張り力は水圧、気圧または電気的駆動装置でつくることが出来る。例え ば、図示のように小さいずれで大きい力を発生するように減速されるステップモ ータはコンビエータ制御パルスでの駆動に適している。制御されたずれではなく 調製可能な力を発生したい場合にはモータとクランプの間にばねを入れればよい 。
実際には1個のモータが図7に示すような力配分装置により複数のクランプを駆 動する。
本発明によれば、コンビコータ手段が各モータまたは他の力発生装置により発生 する力の調整のために設けられる。モータが1個であり、誤差検出手段が1個で ある場合には帰還ループは単純なサーボであり、コンビ二一夕は不要である。各 モータが1つの特定のセンサ位置において一つの座標の位置ぎめ誤差のみに影響 する場合にもこれは云える。このときには別のループが各モーターセンサ対に必 要となるが、対間の相互作用はない。
実際には状況はもっと複雑である。各モータが殆んどあるいはすべてのセンサ位 置でずれを生じさせる。これらのずれは特定のモータにより駆動されるクランプ に近いところで最大となり、他のところでは小さくなるが、数個または多数の独 立したモータがある場合にはそれらの寄与は加算される。夫々のそのような寄与 はマトリクス係数で特徴づけられ、そして与えられたモータ、クランプおよびセ ンサ位置の構成についてこれら係数が1回そしてすべてについて決定されそして コンビコータメモリに記憶される。N個の位置誤差を0にするに必要なN個の力 の値を決定することについての問題はその場8・にはN個の同時的な線形方程式 を解くことにすぎず、これはコンピユータにより容易且つ高速に行われる。
マスクの周辺に制御された力を伝えるために用いられるクランプは幅1インチに ついて30ボンド程度の引張力に充分な安全マージンをもって耐えることが出来 るものでなくてはならない。コーティングのないスチールのジョーを用いること が出来るのであり、その場合には数100ボンドのクランプ力が幅器1インチの クランプについて必要である。エラストマコーティングはこの要求を大幅に引き 下げるが疲労の問題が生じる。水圧駆動装置は閉じるときに必要な大きな静的な 力を発生するに都合がよい。これらジョーは好適には水圧が加えられないときに 比較的弱いばねにより開放位置に保持される。装置1i450の通常の動作中に は水圧の印加と除去を1個の弁で行えるようにジョーの圧力は同時にすべてのク ランプに加えられ、あるいははずされる。
図12は上述の多帰還ループの概略である。位置検出アパーチャ47および象限 検出光センサ89からの位置誤差信号はアナログ信号である。これらはアナログ /ディジタルに変換器121でディジタル信号に変換されそしてコンピユータ1 22に送られる。そのメモリ123に記憶された適正なマトリクス係数を有する このコンビエータはステップモータ124により発生されるべき力を計算しモし てばね125と、夫々のモータにより発生される力を数個のクランプ44に伝え る力配分システム126の既知の定数にもとづき、各モータが前進または後退す べきステップ数を計算する。これはまた適正な数と形式(前進または後退)のパ ルスを発生する。これらパルスは出力増幅器127で増幅されそして減速歯車1 28を有するモータ124に加えられる。
このコンピユータはまた、マスクがクランプされるべきときにクランプ44に水 圧を加えてジョーを閉じさせそしてマスクを解放すべきときにそれを開かせる水 圧弁129の開閉を制御する。
図12の構成はそれ自体、マスクを予定の標準パターンと整合させるプロセスを 行う。図1331−13fは、この構成をフラットテンシランマスクカラー陰極 線管用のマスク−パネル組立体をつくるために用いる場合を示す。図13m−1 3fの装置130は図12の要素を含みあるいはそれらと関連して動作するもの である。
装置130の最も重要な要素は起伏の多いフレーム131である。このフレーム の一辺を図13gに垂直断面として示しており、図13bはそのフレームの内側 部分を下から見た図である。このフレームの上面はフラットな加工された表面1 32となっておりその上でクランプ44がスライドしうる。このフレームは、元 のカットされない形のマスクよりいく分小さい(例えばXおよびy方向について 1インチだけ)窓状の開口を形成する。
4個のインデクスストツパ133a、133b。
133c、133dがこのフレームの内側に装着される。
共通の辺に沿って対称配置されたストッパ133aと133bは半球体222g 、222b並びに垂直ストッパ220m、220bを支持する。半球体222C は222bからコーナ一部をめぐって配置されているが、第3の垂直ストッパ2 20Cはストッパ133aと133bに対向する辺の中央にある。
これら6個のインデクスエレメントは6点接触を維持するためにパネルを上向き および側方に押すための手段(図示せず)と共に前述の6点ユニバーサル保持具 30を構成する。
図13cと136に断面で示されている底プレート91もこれらインデクスエレ メントに対し押しつけられる。これは狭いスリットを周囲につくりつつフレーム 131の窓をはり完全にふさぐに充分な大きさを有する。
これは底プレート91が正確に位置ぎめされうるように6個のインデクスエレメ ントに適合するための4個の切欠部分138を有する。プレート91がそのよう に位置すると、そのフラットな上面139は水平となりフレーム131の上面1 32と平行で、表面ユ32上のクランプ44の下側のジョーの上面と共面となる 。
また、上側プレート141があり、その下側の水平フラット面142はそれ自体 を底プレート91の上面179に対しセットするために降すことが出来る。これ ら底および上のプレートは後述する光学装置を備えている。
上プレートの代りに大出力レーザ(図13f)の溶接ヘッド143をその焦点が プレート91の上面139のすぐ上の面内となるところに降してもよい。
図13Cの装置130のスタート条件において、下プレート91は6個のインデ クスエレメントに当てられる。
2個の引込み可能なピン(図示せず)が上面139から突出する。マスク4Aは これらピンに適正に予めエツチングされたアパーチャがはまるようにして面13 9に置かれる。
次に上プレート141が、マスク4Aに当るまで下げられる。これら突出するピ ンは上プレートのクリアランス穴(図示せず)に入る。クランプ44はクランプ を可能にするに充分なだけマスクと重なるまで進められる。
次にこれらは閉じられる(図13d)。それにより上プレートは僅かに持上げら れてマスクをフリーにしそしてこれらピンが引込まれる。
マスクの夫々のアパーチャ47(図13a−i3fには示さず)に対応して上お よび下のプレートに円筒穴144がある。上プレート141は穴144の上の小 さいハウジング146内にランプ145を支持する。マスクと接触したままの下 プレート91は管148の端部のセンサ89およびレンズ149からなる光学系 147を支持する。この系はセンサ89にマスク位置検出アパーチャ47の像を 結像する。下プレート91に装着された光学系147はその位置を正確にきめる ための小さい横方向の機械的調整を可能にするようになっている。
装M130の動作シーケンスにもどると、次にマスクを位置ぎめし、伸長しそし て成形するための帰還系が附勢される。好適にはこれは望ましくない機械的過疲 現象を避けるため序々に行われる。すべての位置誤差がトレランス内となると、 位置は固定される。例えば、クランプを引くためにステップモータを用いる場合 にはそれらモータの位置は電気的に固定される。
上および下のプレート141と91は引かれ、そして経路からはずされる(図1 3e)。スクリーン化されたパネル2Bがこの装置にそう人され、そして6個の インデクスエレメントに当るまでマスク4Aに対して持ち上げられる。この時点 でマスク支持構造3Aの研磨された上面は伸長されたマスクの下側に接触しそし て好適にはそれを4分の1インチ持ち上げる。溶接ヘッド143が下げられ(図 13f)そしてマスクが支持構造に溶接される。
次に、マスクの周辺部分が好適には同じレーザを用いて切断されそしてヘッド1 43が持ち上げられてはずされる。クランプ44は開かれて引込められ、マスク の切断された周辺部分を捨てる。最後にパネル2Bとマスク4A(このマスクは マスク支持構造3Aに接続されている)の組立体が下げられて装置から出される 。2個の位置ぎめピンが再び伸ばされこの装置は次のサイクルに供される。
上記のプロセスは、フェースプレート2人が半球体22m、22b、22cおよ び垂直ストッパ20a。
20b、20cに押しつけられるときスクリーンパターンがあるべきところに正 確に配置されるという仮定にもとづく。しかしながら実際にはこの理想的なもの からずれることがある。そのようなずれは次の2つのカテゴリに分けられる。
(1)全スクリーンパターンが図14gに示すようにその正規の位置から動きそ してまたは回転する。この場合パターンの幾何条件(サイズと形状)に変化はな い。
(2)スクリーンパターンの幾何条件が歪む。パターンは例えば図14bに示す ように一つの次元または両方の次元で伸びたり狭くなったりしうる。スクリーン の歪みはパターン変換そしてまたは回転の組合せでも生じうる。
理想状態からのずれを製造プロセスにおいて予想しなければならない。しかしな がらこの場合にはそのようなずれの効果を除去または少くとも減少させる機会が ある。
それらの機会を次に述べる。
スクリーンがオフセット印刷等によりフェースプレートに与えられる場合には主 たる誤差は多分印刷シリンダの不完全インデクスにより生じる一つの軸すなわち Xまたはyに沿った位置ぎめ誤差である。印刷プロセスにおけるフェースプレー トのその正規位置に対する横方向のずれあるいは僅かな回転により生じる他の位 置誤差も考えられる。他方、スクリーンパターンの幾何条件には大きな歪みはな く、それ故組立誤差におけるフェースプレートの再位置ぎめが要求されることの すべてである。
概念的には尤も簡単な方法は図13について述べた組立手順に従うが、パネルを 装置にそう人する前あるいは少くともマスクが支持構造3Aに溶接される前にパ ネルの位置を調整することによりスクリーンパターンの位置ぎめ誤差、すなわち その正規位置に対する変換または回転を修正することである。
一つの方法では図2について述べたユニバーサル保持具30の変更例を用いる。
この変更された保持具400は図15に示してあり、フェースプレート(フロン トバネル)を受けるためのレセプタクルを限定する。図2の固定された半球体2 2a、22b、22cは保持具400においては可調整半球体401m、401 b。
401Cと置き換えられる。これら半球体の夫々は個々のステップモータ404 により回転しうるマイクロメータねじ402の端部にウオーム歯車406を介し て装着される。3個の半球体の位置を選択的に調整することにより、その内側の フェースプレートはスクリーンパターンを保持具プレート416に対し予定の位 置にするようにプレート416に対し動かしうる。
この方法による手順は保持具400にフェースプレートを入れ、その保持具をス クリーンを検査装置I(図16について述べる)に入れ、その装置にスクリーン を正しく位置ぎめするように3個の半球体のキルテイングを調整させ、そして保 持具を組立装置に入れてそこでマスクを位置および幾何形状について標準パター ンに合致するように位置ぎめし伸長させる。このマスクは次に支持構造に溶接さ れる。この組立装置は図13のものと同じであるが、フェースプレートではなく 保持具プレート416を受けて正確に位置ぎめするに必要な変更を含んでいる。
保持具400内での各フェースプレートの安定した正確なセツティングを保証す るために、この保持具は垂直ストッパ408g、408b、408cおよびこれ らストッパに対しプレートを押しつけるための3個の板ばね410を含む。板ば ね410は保持具プレート416の゛矩形開口414を通じて下からフェースプ レート413をそう人しうるようにピボット412のまわりで回転しうる。フェ ースプレートが3個の半球体と確実に接触するようにするためにポスト420に 装着されたO形の板ばね418が一つのコーナに対し押しつける。
動作を述べると、フェースプレートは保持具400にそう入され、板ばね410 を図示の位置に回転させることによりその位置にロックされ、そしてその保持具 が図16のスクリーン検査装置430にそう人される。グリルの位置誤差dxと dyが多数の点で測定される。この測定データから3個のマイクロメータねじ4 02の所要の調整が計算され、そして3個のステップモータ404に適正なパル スが送られる。この第1調整後に残る残留位置ぎめ誤差の検査は更に調整を必要 とする。ここではフェースプレート位置の非常に正確な調整のための帰還ループ またはサーボループがある。このループは図16に示してあり、これは図15に 示す保持具400を受けるようになったスクリーン検査装置430、センサ43 1(これはビデオカメラを含む)からの位置誤差信号434をステップモータパ ルス440に変換するコンピュータ432、コンピュータ出力を3個のステップ モータ404に接続するコネクタ438および、フェースプレートの位置を調整 するためのマイクロメータねじ402を示している。前述のようにこの調整され た保持具は次に、フェースプレートではなく保持プレート416を処理する点を 除き図13に示すように構成された組立装置内のマスクに合わされる。
図17はスクリーン検査装置の変更例を詳細に示す。
この例は、検査時にスクリーンにアルミニウムフィルムが与えられていないとき あるいは一般にとニー領域の周辺にある測定されるべき点がそのフィルムの付加 中にマスクされて明確のままとされるときに使用出来る。グリル3を支持するフ ェースブレー)2Bは保持具400内でロックされそしてこの保持具が検査装置 430にそう人され、テーブル362で持ち上げられそしてブラケット359  (1個のみを示す)に装着された垂直ストッパ358に対し上向きにそして半球 体360に対して横方向に押しつけられる。テーブル362の下面の光源364 がテーブル362の六366と保持プレート416の矩形穴414を通してグリ ルの周辺の小さい選ばれた領域を照明する。装W430のフレーム370に固定 されたビデオカメラを有する顕微鏡431がこの小さい選ばれた領域内のグリル 形状に対応するパターンを発生する。
図188はビデオカメラでみたグリルの一つのコーナを表わすパターンを拡大し て示す。図18gにおいては1本の水平走査ライン367がマークされている。
水平走査ラインはグリルアパーチャの交叉位置により幅の広いあるいは狭いパル スをつくる。各パルスのスタートおよびストップ時間から穴の中心の水平座標X が計算出来、多くの走査ラインを用いることにより誤差を減少させるために読み が平均化しうる。同様に垂直走査は図18cに示すエツジの鋭いパルスを発生し 、かくしてグリルの穴の垂直座標yに関する情報を与える。
コンピュータ432(図17)はこの情報を受け、3個のマイクロメータねじ4 02の所要の調整を計算し、そ1.て前述のようにステップモータ404に適正 なパルスを発生する。このサイクルは残留誤差が予定のトレランスレベルより小 さくなるまでくり返される。
スクリーンが検査時に完全にアルミニウム化されてグリルの周辺も不明瞭となる 場合には図17のスクリーン検査装置f430の他の例を用いなければならない 。そのときはグリルを外側から、すなわちフェースプレートを介して検査する必 要がある。このために図15の保持具400は装W430へのそう人前に反転さ れる。図17の光源364はビデオカメラ431近辺に配置された光源で置き換 えられる。ビデオカメラ431はフェースプレート416を通してグリルを観察 する。フェースプレートの厚さは変化しうるから、ビデオカメラ431の焦点は そのような変化を補償するように調整しなければならない。これは従来の自動焦 点系または、スクリーン表面を検査するようにされそして、nをフェースプレー トガラスの屈折率として5(n−1)/nだけカメラ431を引込めることによ りその厚さの増分Sに応じるようにされた機構により行うことが出来る。
スクリーンパターンの位置誤差を修正するための他の方法は特殊な保持具を使用 しないものである。フェースプレートは図19に示すスクリーン検査装置に直接 そう人される。この装置530の重要な特徴の殆んど、すなわち垂直ストッパ5 58、半球体60、テーブル562、光源564、穴566およびビデオカメラ 531は図17にそれらの対応物を有している。主たる相異は保持具400.可 調整ストッパ並びにそれらのマイクロメータねじ402とステップモータ404 がないことである。
更に、ストッパ508と半球体560は保持プレート416ではなくフェースプ レートを受けるようになっている。
スクリーン位置ぎめ誤差は装置430(図17)について述べたように装置53 0において測定され、そしてそれら誤差の修正に必要なマイクロメータの調整が 計算される。しかしながらこの場合、帰還ループはなく、その代りに修正情報は 後に組立装置に移すべくコンピュータに記憶される。
この組立装置は図13の装置の変形である。変形は、半球体222が図20(こ の図は図13fと比較されるべきものである)に詳細に示すように調整可能とさ れている点である。半球体380 (1個のみ図示する)がマイクロメータねじ 382に装置され、このねじが歯車386と388を介してステップモータ38 4により調整される。
フェースプレートを図20に示すように変更された図13の装置にそう人する前 に、そのフェースプレートについての記憶された修正データがステップモータ3 84に送られる。かくして、そのフェースプレートが組立装置にそう人されると 、スクリーンは正しい位置となる。
それ故標準位置および形状に合うように位置ぎめされて伸長されたマスクはそれ 以外の測定を行うことなくこのフェースプレートに接合され、アパーチャとスク リーンパターンの整合が得られる。
スクリーン検査に用いられる別個の装置の使用により、例えばビデオカメラ43 1または531のような位置センサをその装!(図17と19)のフレーム37 0または570に緊密に装着することが可能となり、良好な測定の再現性を与え る。フェースプレートまたは保持具はセンサをはずすことなくそう人し除去する ことが出来る。
しかしながら、組立装置内のスクリーンを検査することも可能である。これは別 途のスクリーン検査装置およびフェースプレートの別の処理を必要としないが、 組立装置において行わねばならない付加的な操作により、その装置が複雑になり 動作サイクルが低速となる。
そのような装置の一例を図21に示す。この図の組立装置は図13の装置の基本 特徴をフェースプレートの位置の調整のために図21に示すような半球体380 を調整可能にするように変更しそしてマスクばかりでなくグリルを観察するため の光学センサを含むように変更したものである。
図21aは、上述のように一般に図13の装置と同様である組立装置318の上 下のベースプレート321(図21b)に装着された2個の同様のゲート形構造 320bを示す。構造320aと320bはベースプレート321に固定された カラム324aと324bにより支持されるクロスバー3228と322bから なる。
支持構造332を有するフェースプレート330は装置にそう人されており、マ スク333はクランプ356上のプルロッド334により加えられる力によって テンシaン状態とされている。
クロスパー3228と322bは精密軸受338を支持する延長部336を有す る。円筒シャフト340がこれら軸受内で回動自由である。2個の光学装[34 2と344がバー346と348およびアウトリガ−350と352によりこの シャフトに緊密に装置される。これらはマスクとフェースプレートのそう人、溶 接および除去のために回動してはずせるようになっており、あるト1はこれらは 図示の位置へと動きそこでバー348がカラム324bの一方に装着された半球 体354と接続する。
光学装置342と344の夫々は光源と光センサを有する。例えば装置342は フィルムによる反射の後にマスクの内側に明るく照明されるスポットをつくるよ うにマスクを通じてスクリーンのアルミニウム化された内面に収斂する中空の光 のコーンを投映するための手段を含んでいる。装置342の光センサは予定のマ スクアパーチャのXおよびy方向の位置誤差を測定するためそしてそれらに関係 した誤差信号を発生するために図13dのエレメント149と89と同様の集束 レンズと象限検出器の組合せを含むことが出来る。
他方、光学装置344は予定の位置でのグリルのXおよびy方向の位置誤差を測 定するものである。ここでその位置でのグリルはアルミニウムフィルムにより不 明瞭でありそのためバックライトを行えないものと仮定する。
それ放談!344はフロントからスクリーンの一部を照明する手段並びに、集束 レンズを有する象限検出器でよいがビデオカメラを有する顕微鏡であるとよいセ ンサを含む。前述のように、装置344の光センサは自動焦点系またはスクリー ン面を検出する機構によりフェースプレートの厚さの変化を補償するようになっ ていなければならない。
組立装置318の動作は別のスクリーン検査装置(図17と19)について述べ たところと同様である。装置344のセンサ(図16のセンサ431と同様)か らのグリル位置情報はコンビ二−タ(図16のコンピュータ432と同様)に送 られ、3個の半球体く図21の380)の所要の修正を計算しそして適正なパル スをステップモータ384に送って歯車386と388によりマイクロメータね じ382を調整する。これは図]6のものと同様の閉じた帰還ループである。こ のサイクルをくり返すことによりスクリーン位置の誤差が予定のトレランスレベ ルより低くなる。
上記のフェースプレート位置の調整とは全く別個にマスク333は光学装置34 2のセンサによりモニタされ、マスクが標準位置および幾何条件となるまで前述 のようにプルロッド334を介してサーボモータ(図示せず)により駆動される クランプ356により伸長され位置ぎめされる。フェースプレートとマスクの調 整が完了すると直ちに光学装置342と344ははずされる。次にマスクは支持 構造332に溶接され、余分な部分が切除されそしてその組立体が図13につい て述べたようにこの装置から除去される。
スクリーンパターンの変換そしてまたは回転の修正のためのマスク位置の調整 これまで、グリル(スクリーン)のその正規位置からのずれを決定しそしてこの 情報を、マスクが組立装置内でその支持構造に溶接される前にグリルが正規の位 置となるようにフェースプレートを動かすために用いる方法を述べた。しかしな がら、その情報を他の方法で用いることが出来る。これを−例により説明する。
スクリーンが図19の装置で検査されるものとしそしてセンサが右に3ミル、上 に1ミルずれており、時計方向に0.2ミリラジアン回転したグリルを見い出し たとする。前述の手順に続き、保持具400(図15)は組立装置(図20また は21)内のマイクロメータねじがフェースプレートを左に3ミル、下に1ミル ずらしそして反時計方向に0.2ミリラジアン回転させてグリルを正規の位置に するように調整される。しかし、これと同じ結果は、適正に伸長したマスクを正 規位置から右に3ミル、上に1ミル動かしそして時計方向に0.2ミリラジアン 回転させることにより、フェースプレートに機械的調整を行うことなく得られる 。これは例えばまずマスク伸長サーボモータによりマスクを予定の標準位置およ び幾何条件に合うように位置ぎめして伸長させそして次にサーボループの動作を 停止させてモータにマスクをそのサイズと形状またはテンションを変えることな く、すなわちその幾何条件を維持したまま所要のような開放ループモードでずら せるに適した入力信号を供給することにより行うことが出来る。
他の方法としては、全体としてずれることの出来る剛性制御されてすべてのサー ボモータを装着しそしてそのキャリアに位l修正を与えるものである。これを図 25に示しており、この図の組立装置600はフレーム602.3個の半球体6 04 (1個のみ図示)、フェースプレート608の位置ぎめ用の3個の垂直ス トッパ606(2個のみ図示)およびこれらストッパに対しフェースプレートを 押しつける垂直可動テーブル609を含む。フレーム602はスチール球614 を介してフレーム形キャリア612を支持する平面上面610を有する。プルロ ッド620とクランプ622を介してマスク618を伸長するステップモータ6 16はキャリア612の上面にすべて支持される。
フレーム602の上面610からのキャリア612の高さはこれらスチール球に より正確に制御される。その水平位置は減速歯車627と628を介してステッ プモータ626により制御される3個のマイクロメータねじ624 (1個のみ 図示)によって調整される。ステップモータは1個のみ示しているがキャリアの 水平位置を限定するには3個必要である。圧縮ばね630が3個のマイクロメー タねじ624の先端とキャリア612の間の連続的な接触を保証する。
図の簡略化のために図25は光学装置を示していない。
また、マスクの水平寸法はキャリア612の両側を図示するため縮少されている 。
また、マスクのサーボモータを制御する帰還ループをバイアスするためにスクリ ーン検査装置からの情報を用いることも出来る。この方法をアナログ信号につい て図22に示す、2つの誤差信号が位置ぎめ誤差の線形関数であることおよび与 えられた電圧が両ソース(マスクとグリル)について同一の誤差に対応すること が重要である。この回路のディジタル化も可能である。いずれにしてもサーボモ ータは差信号X −X またはY −YIg mg が0となるまで動く。
上記の三つの方法は、マスクがグリルのずれについて補足を行うべくその標準位 置から動かされるという点で共通である。これら三つの場合にマスクは規準位置 と幾何条件に合うように伸長されそしてまたずらされる。第1および第2の方法 ではこれら二つの動作は別々に行われ、′!J3の方法では併合される。これら 三つの場合において、付加的なずれのための指令は別のスクリーン検査装置から 入り、そして組立装置でのフェースプレートの動きまたはモニタは不要である。
それ故、この組立装置は第2の方法においてサーボモータを装着するための横方 向に可動のキャリアを加えることを除き、図13の形とすることが出来る。
これまで述べた方法はすべてグリル(スクリーン)がその正規の位置からずれて いるが正しいサイズと形状を有し、標準幾何形状に合わせるべく伸長されたマス クが相対的ずれが修正されれば常にグリルにフィツトするようになっているもの としている。
マスク形状の特定のスクリーンへの調整スクリーンパターンが大きすぎまたは小 さすぎまたは図14bに示すように歪む可能性は排除しえない。グリルパターン の正しいサイズと形状からの小さいずれを補償しうろことが伸長可能なマスクの 性質である。この特徴の利点を利用するためには予定の位置し幾何形状に合わせ るためのマスクの伸長の原理は個々のグリルに合うようにそれを伸長させること で置き換えなくてはならない。スクリーン検査装置がずれているが歪みのないグ リル上の2以上の点(例えば4つのコーナー)を測定するときには測定データ間 に成る幾何的関係がある。例えば、2個の上側コーナーの水平方向のずれは同じ である。3個の測定(例えば、夫々の上コーナーの垂直方向のずれとそれらの共 通な水平方向のずれ)を行えばXおよびy方向の上辺の変換並びに回転を特定す ることが出来る。
4個のコーナーのすべてのXおよびy方向ずれの測定は歓迎すべき冗長であり、 簡単なアルゴリズムを用いて選ばれた点(例えば矩形の中心)の変換成分並びに 回転のより正確な計算が可能となる。
スクリーンがずれているばかりでなく歪んでいる場合でも、これらアルゴリズム は補償を行うためにフェースプレートまたはマスクを動かすべく変換および回転 成分を計算するために使用出来るが、勿論そのような補償は歪み成分があるため に完全ではない。
他方、帰還ループをスクリーン検査装置からのグリル位置誤差信号によりバイア スする前記第3の方法はスクリーンの歪みを少くとも部分的に補償するようにマ スクを自動的に規準幾何条件からはずし伸長する。例えば、グリルが図14bの ように歪んだもの、すなわち水平方向において長すぎるものとすると、2つの上 側コーナーの水平方向のずれは同じでなく、右側のコーナーのずれは左側コーナ ーより大きい正(または小さい負)のX。
コ 値を与える。左右のサーボモータに与えられる二つのバイアス電圧(またはディ ジタルバイアス信号)はそのため異り、マスクをグリルの余分の長さの補償のた めの通常の量より大きく伸長させる位置にこれらモータを動かすことになる。
この手順は規準位lと幾何形状に合わせるためのマスクの伸長と個々のグリルに 合せるためのその伸長との中間の段階を表わす。マスクは標準に合わせるために 伸長されるがグリル情報は特定のグリルの修正のために帰還ループに送られる。
これは回りくどい方法でありこの実施例において標準が実際どの程度に必要であ るかという問題を生じさせる。
図23は図21の装置の簡略化されたものを示す。図21に示す可調整半球体3 21は固定半球体で置き代えられている。マスク標準に対するマスク位置のずれ を測定する光学装置342の上側のセンサとグリルの標準に対するグリル位置の ずれを測定する光学装置344の下側のセンサの設計においては、両センサセッ トからの誤差電圧(または等しいディジタル信号)に対し注意が必要である。こ れらセンサ出力は図22の差回路に加えられ、そしてその回路の出力はマスクサ ーボモータの制御に用いられる。サーボモータが停止すると、マスクはグリル− 歪んだまたは歪みのない−にフィツトし、そしてシステムの機械的限界内となる ことが可能である。
剛体であるシャフト340上の一対のセンサ(342と344)の共通の装着は 差形成回路(図22)からの出力信号が両センサの同時的な同じ量のずれには不 感であるから有利である。
図24は個々のグリル上の対応点に対するマスク内の選ばれた点の位置を測定す ることによりマスクとグリルの間の差を直接に示す誤差信号を発生するためのよ り直接的な方法を示す。図24の構成は図13の組立装置を変更するものである 。マスクまたはグリルの標準を使用しない。特に図24はビュー領域の外側の支 持構造3a近辺のマスクの周辺領域内の2個の丸いアパーチャ304(図24c に拡大して示す)を照明する好適にはガリウム砒素ダイオードレーザである点光 源302を示す。これらアパーチャをとおる光は黒いグリル304に当る。この グリルは、スクリーンとマスクが適正に整合したとき2個のマスクアパーチャ3 04の夫々を通る光の半分も通るように位置ぎめされた矩形の窓308を有する 。図24cは、スクリーン従って窓308が左にずれた場合を示しており、その 結果布よりも左のアパーチャから多量の光が窓を通ることになる。プツシニブル 接続の2個の光検出器からなる平衡光検出器310がフェースプレートの下に置 かれてアンバランスを示す電気出力を出し、位置誤差信号を発生する。図22に 示すような差形成回路は、図24の光学系により直接発生されるために不要とな る。
窓308のアパーチャ304のサイズはグリルに対するマスクの予想された初期 スクリーン位置ぎめ誤差の大きさによりきまる。窓領域の縁に沿ったスペースは プレミア付きであり、それ故アパーチャと窓は必要以上に大きくすべきでない。
アパーチャサイズの下限はグリル上の7バーチヤ縁の影を不明瞭にする傾向のあ る屈折効果によりセットされる。
ビュー領域と支持構造3A間に充分なスペースがないならば、アパーチャ304 と窓30gは図24bに示すように支持構造の外側に配置される。動作モードは 図24aについて述べたと同じである。
図24aと24bは角度をもってアパーチャ3041.:当る光源302からの 光ビームを示す。この角度あるいは、少くとも光源そしてアパーチャ304の中 心を含む面上のその投映が完成された管内の入射電子ビームで形成される角度に ほり等しくなるようにするとよい。これは、支持構造3Aの高さの誤差が補償さ れるという利点がある。例えば、支持構造が低くすぎるときにはアパーチャ30 4の影は図24cに示すように右に動きそしてマスクを更に伸ばさせるような誤 差信号を発生する。
組立手順は次の変更部分を伴うが図13について述べたものと同じである。図1 3cに示す段階で平らなプレートをマスクの固定の前にそのマスクを支持するた めに光学的プレート91に代えて用いる。固定後にこの下プレートを除去し、フ ェースプレートを図13fに示すようにそう人する。光学要素(マスクとフェー スプレートのそう人時に除去されねばならない)が適正な位置に置かれそしてサ ーボ回路がオンにされる。すべてのマスク位置ぎめと伸長はグリルに対して行わ れる。クランプモータは平衡光検出器310からとり出された信号により個々に (1モーター1光検出器)あるいは好適には図12について述べたマトリクスプ ロセスにより集合的に制御される。
選ばれた点での測定されたずれから変換および回転的な成分を抽出するための簡 単なアルゴリズムがあることは前述した。これはそのずれがマスク対規準である か、グリル対規準あるかまたはマスク対グリルあるかである。
すべての場合に、変換または回転成分はマスク、グリルまたはその両方をずらす ことにより補償出来る。詳細にはマスクはクランプモータを作動させ、あるいは マスク位置調整のためにx−y面内で変換および回転可能なキャリア上にそれら モータを配置することにより完全に動かすことが出来る。グリルはいくつかの実 施例に示したマイクロメータねじによりあるいはx−y面内でフェースプレート を変換および回転を行うことの8来る他の手段により動かすことが出来る。これ ら操作は閉ループまたは開放ループモードで行うことが出来る。特定の組合せの 選択は設計事項である。
上記においてマスクをそのパターンがスクリーンに対して所望の関係を達成する ように位置ぎめし伸長する方法を示した。上記は共通の規準に合うように:1、 マスクスの伸長と位置ぎめ、およびスクリーンの位置ぎめを含む。
A、スクリーンが歪んでおらず(すなわち「規準」の幾何形状を有する)そして パネルに正しく位置ぎめされていることがわかれば予定の規準マスク位置と幾何 形状に合うようにマスクを位置づけそして伸長することによる。
B、スクリーンは歪んでいないがパネル上において必然的に正しく配置されてい ないことがわかれば、1、組立装置には無関係であるパネルを扱うための調整可 能な保持具(図15)を設け、別のスクリーン検査装W(図17)においてスク リーン位置を検査し、そして帰還(図]6)を介して保持具を調整するか、ある いは 2、組立装置(図20)の調整能力に、a、別のスクリーン検査装置(図19) からまたはす0組立装置自体(図21)において行われるスクリーン検査から とり出される調整を行うに必要な情報を与えること、による。
これらすべてにおいて、パネルはスクリーン位置誤差を修正するために動かされ 、そしてマスクが規準位置および幾何形状に合うように位置づけし伸長される。
11、スクリーンに対しマスクを合わせる。
他のクラスの解決は、マスクが規準に合せるためでなく特定のマスクとスクリー ン上の対応点間の差を最少にするように位置ぎめし伸長するという共通の特徴( 図22)を共用するものである。これは A、規準位置と幾何形状からスクリーンのずれ(X )を測定するために別の装 置(図19)で、規準位置と幾何形状からマスクのずれ(X、)を測定するため に組立装置で、X −X を最少にするためにマスクを動かし1g 伸長する(図22)ためにスクリーンを検査することにより、 B、対応する点間の差を最少にするように組立装置においてマスクとスクリーン を同時に検査する。これは1、別の光学系がマスクとスクリーン位置を測定する ために用い(図23)、差を電子的に形成する(図22)、または 2、マスクとスクリーンを結合する1つの光学系を用い、差を光学的につくる( 図24)。
ことで行うことが出来る。
規準参照は用いられない。
スクリーン誤差の効果を解消するだめの多くの方法を述べた。これらはここで述 べたものに加えて他の組合せを可能にする個々のステップからなる。
本発明の特定の実施例を図示し述べたが、当業者には本発明の広義の範囲からは ずれることなく本発明の手段と方法において変化や変更を容易に行うことが出来 ることは明らかであり、それ故、添附請求範囲の目的はそのような変化や変更の すべてが本発明の真の精神と範囲をカバーするものである。
FIG、1l FIG、I”3e FIG、I3f FIG、 18c FIG、l8b FIG、 20 手続補正書(方式) 平成 3年り0月/i日 特許庁長官 深 沢 亘 殿 国 1 事件の表示 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 5 補正命令の日付 発送日 平成 3年 10月 8日 6 補正の対象 国際調査報告 国際調査報告 LIS 8903156 S^ 30509

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.フラットテンションマスク型のカラー陰極線管の製造プロセスにおいて用い られるマスクパネル組立におけるシャドーマスクとフロントパネルの互換性を保 証するための、予定のアパーチャパターンを有するシャドーマスクを設える段階 および上記マスクの幾何基準点と外部幾何基準点との間の対応をつくるべくこの マスクを機械的に伸長する段階、を含む方法。
  2. 2.陰極発光スクリーンパターンとこのスクリーンパターンの対向する縁部に沿 った積層マスク支持手段を有するフロントパネルを与える段階、テンションのか かったこのマスクと上記アパーチャパターンをスクリーンパターンと整合させて 上記マスク支持手段に上記伸長したマスクを装着する段階、を含む請求項1の方 法。
  3. 3.透明なフラットフロントパネルの内面の陰極発光スクリーンパターンとマス クのアパーチャパターンを整合させた状態でこのパネルにテンション状態で装着 された上記中央のアパーチャパターンをもつシャドーマスクを有するカラー陰極 線管の製造におけるシャドーマスクとフロントパネルの互換性を保証するための 、上記スクリーンパターンの幾何的パラメータを示すフロントパネル上のスクリ ーンパターンに関連するスクリーン基準を与える段階、上記マスクパターンの幾 何パラメータを表わすシャドーマスク上のマスクアパーチャパターンに関連する マスク基準手段を与える段階、上記スクリーンパターンに対する上記マスクパタ ーンの上記幾何パラメータを変えるためにマスクを機械的に伸長する段階、およ び上記マスク基準手段が上記スクリーン基準手段に対し予定の関係となるように 上記伸長を制御する段階、を含む方法。
  4. 4.フラットテンションマスク型のカラー陰極線管の製造プロセスにおいて用い るためのマスクパネル組立におけるシャドーマスクとフロントパネルの互換性を 保証するための、予定のアパーチャパターンを有するシャドーマスクを設ける段 階、予定の基準に対しマスクのサイズと形状の差を検出する段階、この差をゼロ にするために上記マスクに張力を加えることを含むマスクのサイズと形状を変化 されるべく制御のもとで上記マスクに作用する段階、を含む方法。
  5. 5.予定の基準に対するマスクのサイズまたは形状の差を検出する段階、この差 に対応する誤差信号を発生する段階、上記差をゼロにするために上記マスクのサ イズまたは形状を変えるべく上記誤差信号に応じて帰還系により制御される張力 を上記マスクに加える段階を含む請求項4の方法。
  6. 6.透明なフラットフロントパネルの内面の陰極発光スクリーンパターンとマス クのアパーチャパターンを整合させた状態でこのパネルにテンション状態で装着 された上記中央アパーチャパターンをもつシャドーマスクを有するカラー陰極線 管の製造におけるシャドーマスクとフロントパネルの互換性を保証するための、 上記スクリーンパターンの幾何パラメータを示すフロントパネル上のスクリーン パターンに関連するスクリーン基準を与える段階、上記マスクパターンの対応幾 何パラメータを表わすシャドーマスク上のマスクパターンに関連したマスク基準 手段を与える段階、このマスク基準手段とスクリーン基準手段にそしてそのスク リーンパターンとマスクパターンの幾何パラメータに対応する帰還系により上記 マスクお上びスクリーンパターンの一方の幾何パラメータを互いに変更する段階 、上記マスク基準手段がスクリーン基準手段に対し予定の関係となるようにこの 変更を制御する段階を含む方法。
  7. 7.光学的スクリーン基準手段が前記スクリーンパターンの幾何パラメータを表 わすものとしてフロントパネルとの関係において設けられ、光学的マスタ基準手 段も対応する前記マスクパターンの幾何パラメータを表わすものとしてシャドー マスクに設けられ、そして前記帰還制御系がこのマスク基準手段とスクリーン基 準手段に応答してこのマスク基準手段がスクリーン基準手段と光学的に整合して 上記マスクとスクリーンのパターン間の幾何パラメータの一致を示すように前記 パラメータの変更を制御するごとくなった請求項6の方法。
  8. 8.透明なフラットフロントパネルの内面の幾何形状と位置の陰極発光スクリー ンパターンとマスクアパーチャパターンを整合させてこのフロントパネルにテン ション状態で装着された中央アパーチャパターンを有すると共に上記フロントパ ネルと互換性を有するシャドーマスクを有するカラー陰極線管の製造におけるマ スクアパーチャパターンの位置または幾何形状を測定するための、上記マスクを 展張する段階、検査のための予定のパターン領域を有するマスクアパーチャパタ ーンを有するフォイルシャドーマスクを設ける段階、上記予定のマスクパターン を検査する段階、標準パターン位置または幾何形状に対する上記マスクアパーチ ャパターンの位置または幾何形状の誤差を表わす情報を含む誤差データを発生す る段階、を含む方法。
  9. 9.前記予定のパターン領域は前記検査を容易にするためにセットされた、前記 陰極線管の通常のビュー領域外に配置された特別の領域である、請求項8の方法 。
  10. 10.フロントパネルを支持し位置ぎめする段階、上記マスクと上記パネルのス クリーンパターンとを、このマスクとスクリーンを通す半径方向のビームを発生 しそしてこのマスクとスクリーンをビームから通った後にそのビームを方向づけ ることにより上記マスクのアパーチャパターンとパネルのスクリーンパターンを 正確に整合させる段階、上記両パターンの不整合を検出して両者間の位置の整合 誤差を表わす情報を含む誤差信号を発生する段階、この誤差信号に応じて上記ス クリーンとマスクのパターンの整合を最適にするために誤差を最少とすべく上記 マスクとスクリーン間の相対動作を行わせるために帰還ループを用いる段階、を 含む請求項8または9の方法。
  11. 11.透明なフラットフロントパネルの内面の幾何形状と位置を有する陰極発光 スクリーンパターンとマスクアパーチャパターンを整合させてこのフロントパネ ルテンション状態で装着された、中央アパーチャパターンを有すると共に上記フ ロントパネルと互換性を有するシャドーマスクを有する陰極線管の製造における マスクアパーチャパターンの位置または幾何形状を測定するための、検査用の予 定のパターン領域を伴ってその上にスクリーンパターンを付着したフロントパネ ルを設ける段階、この予定のスクリーンパターン領域を検査し標準スクリーンパ ターンの位置または幾何形状に対する上記スクリーンパターンの位置または幾何 形状の誤差を示す情報を含む誤差データを発生する段階、を含む方法。
  12. 12.前記予定の領域は上記検査を容易にするためにセットされた上記スクリー ンの通常のビュー領域の外に配置された特別な領域である、請求項11の方法。
  13. 13.透明なフラットフロントパネルの内面の幾何形状と位置をもつ陰極発光ス クリーンパターンとシャドーマスクアパーチャパターンを整合させてそのパネル にテンション状態で装着される、中央アパーチャパターンを有するこのシャドー マスクを有するカラー陰極線管の製造における互換性のあるシャドーマスクとフ ロントパネルの間の整合を得るための、順不同で、基準または互いに対ずる機械 的伸長されたマスクアパーチャパターンと関連するフロントパネルスクリーンパ ターンの位置を示す信号を発生する段階、これら信号に応じて両パターン間の整 合が得られるまで上記マスクとスクリーンの相対位置ぎめを行う段階、を含む方 法。
  14. 14.透明なフラットフロントパネルの内面の幾何形状と位置をもつ陰極発光ス クリーンパターンとシャドーマスクアパーチャパターンを整合させてそのパネル にテンション状態で装着される、中央アパーチャパターンを有するこのシャドー マスクを有するカラー陰極線管の製造における互換性のあるシャドーマスクとフ ロントパネルの間の整合を得るための、予定の標準に対しマスクを伸長し位置ぎ めする段階、このマスクとスクリーンのパターンを一致させるために対応する標 準に対しスクリーンを位置ぎめする段階、上記スクリーンに上記マスクをこのよ うにして整合され接近した状態で永久的に固定する段階、を含む方法。
  15. 15.透明なフラットフロントパネルの内面の幾何形状と位置をもつ陰極発光ス クリーンパターンとシャドーマスクアパーチャパターンを整合させてそのパネル にテンション状態で装着される、中央アパーチャパターンを有するこのシャドー マスクを有するカラー陰極線管の製造における、互換性のあるシャドーマスクと フロントパネル間の整合を得るための、順不同で、パネルスクリーンパターン位 置を測定して予定のスクリーン基準位置に対しスクリーンパターンの位置誤差を 示す情報を含むスクリーン位置誤差データを発生する段階、このスクリーン位置 誤差データに応じて、そのアパーチャパターンが上記スクリーンパターン位置に 対応する位置となるようにマスクを伸長し位置ぎめする段階、上記マスクとスク リーンパターンを位置的に整合してテンション状態のもとで上記パネルに上記マ スクを固定する段階、を含む方法。
  16. 16.マスクアパーチャパターンを測定して予定のマスク基準位置に対する上記 アパーチャパターンの位置誤差を示す情報を含むマスクアパーチャ位置誤差デー タを発生する段階、上記マスクの位置整合パターンとスクリーンパターンを最適 化するためにマスクを伸長しそして位置ぎめする段階、このマスクとスクリーン パターンを位置的に整合した状態でテンションのもとで上記パネルにマスクを固 定する段階、を含む、請求項15の方法。
  17. 17.透明なフラットフロントパネルの内面の幾何形状と位置をもつ陰極発光ス クリーンパターンとシャドーマスクアパーチャパターンを整合させてそのパネル にテシンョン状態で装着される、中央アパーチャパターンを有するシャドーマス クを有するカラー陰極線管の製造における、互換性のあるシャドーマスクとフロ ントパネル間の整合を得るための、順不同で、マスクのアパーチャパターンが予 定のマスク基準位置と標準スクリーンパターン幾何形状に対応する予定のマスク 基準幾何形状となるようにマスクを伸長して位置ぎめする段階、上記標準幾何形 状を有するスクリーンパターンを有するフロントパネルを、このスクリーンパタ ーンがスクリーン基準位置から位置誤差だけ変化しうるスクリーン位置となるよ うに上記標準幾何形状をもつスクリーンパターンを有するフロントパネルを位置 ぎめする段階、上記スクリーン位置誤差を補償するために上記パネルに対する上 記マスクの位置を調整する段階、上記マスクとスクリーンのパターンが幾何形状 と位置に一致する状態でテシンョンのもとで上記パネルマスクに上記マスクを固 定する段階、を含む方法。
  18. 18.前記マスクはそのアパーチャパターンが前記予定のマスク基準位置と標準 スクリーン幾何形状に対応する予定のマスク基準幾何形状となるように機械的に 伸長されそして展張され、前記フロントパネルは上記スクリーンパターンが上記 マスクパターンの上記予定マスク基準位置に対応するスクリーン基準位置となる ように調整時に位置ぎめされるごとくなった請求項17の方法。
  19. 19.請求項1乃至18の1に記載の方法を実施するための装置。
  20. 20.透明なフラットフロントパネルの内面の幾何形状と位置をもつ陰極発光ス クリーンパターンとシャドーマスクアパーチャパターンを整合させてそのパネル にテシンョン状態で装着される、中央アパーチャパターンを有するシャドーマス クを有するカラー陰極線管の製造における、互換性のあるシャドーマスクとフロ ントパネルを、シャドーマスクのフロントパネルヘの装着の前に調整可能に位置 ぎめするための、受け入れたパネルの一つの側に係合するためにその一つの側に 配置される2個および上記パネルの対応する隣接側に係合するためにその隣接す る側に配置される1個の合計3個の、フレーム内に置かれるパネルの位置を限定 するための、ストップ手段を有する矩形のパネル受け入れ手段を限定するフレー ム手段と、上記受け入れ手段内のパネルの位置を変えるために上記ストップ手段 の相対位置を調整するための手段、を含む装置。
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