JPS5892652A - シクロアルキルスルホネ−ト - Google Patents
シクロアルキルスルホネ−トInfo
- Publication number
- JPS5892652A JPS5892652A JP57203823A JP20382382A JPS5892652A JP S5892652 A JPS5892652 A JP S5892652A JP 57203823 A JP57203823 A JP 57203823A JP 20382382 A JP20382382 A JP 20382382A JP S5892652 A JPS5892652 A JP S5892652A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sodium
- dimethyl
- polymer
- condensation
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
- G03F1/56—Organic absorbers, e.g. of photo-resists
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/72—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds
- A61K8/84—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds obtained by reactions otherwise than those involving only carbon-carbon unsaturated bonds
- A61K8/85—Polyesters
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q5/00—Preparations for care of the hair
- A61Q5/06—Preparations for styling the hair, e.g. by temporary shaping or colouring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G63/68—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
- C08G63/688—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen containing sulfur
- C08G63/6884—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen containing sulfur derived from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0384—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the main chain of the photopolymer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/12—Developers with toner particles in liquid developer mixtures
- G03G9/13—Developers with toner particles in liquid developer mixtures characterised by polymer components
- G03G9/132—Developers with toner particles in liquid developer mixtures characterised by polymer components obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Birds (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（２）
本発明は重合体を製造するのに有用な新規なシクロアル
キルスルホネート化合物に関する。この重合体は写真技
術分野において特にを用である。
キルスルホネート化合物に関する。この重合体は写真技
術分野において特にを用である。
例えば、本発明の化合物は放射線（輻射線）感応性要素
に組み込む重合体を製造するのに使用することができる
。シクロアルキルスルホネート化合物を製造する方法及
び前記重合体を製造する方法が提供される。
に組み込む重合体を製造するのに使用することができる
。シクロアルキルスルホネート化合物を製造する方法及
び前記重合体を製造する方法が提供される。
芳香族スルホネートを他のジカルボン酸及びジオールと
重合してイオン性ポリエステルを生成することは当業界
において知られている。例えば、米国特許第４１６７３
９５号はジメチル５−（ｐ−ナトリウムスルホフェノキ
シ）イソフタレートから誘導される繰返し単位を含む水
溶性ポリエステルを開示している。しかしながら、この
可溶性芳香族スルホネート化合物を含むポリエステルを
一般の水道水に接触させた場合には、前記重合体はその
ナトリウムイオンが水道水中の一価、二価及び三価のイ
オンと交換するためにスカムを生ずる。従って、これら
の芳香族スル刹ネートポリエステル（３） を水と接触する必要のある用途に使用する場合には、注
意深く蒸留又は脱イオンした水を使用することが必要で
ありかつ望ましくないスカムを生成する交換性カチオン
の存在しない環境が必要となる。
重合してイオン性ポリエステルを生成することは当業界
において知られている。例えば、米国特許第４１６７３
９５号はジメチル５−（ｐ−ナトリウムスルホフェノキ
シ）イソフタレートから誘導される繰返し単位を含む水
溶性ポリエステルを開示している。しかしながら、この
可溶性芳香族スルホネート化合物を含むポリエステルを
一般の水道水に接触させた場合には、前記重合体はその
ナトリウムイオンが水道水中の一価、二価及び三価のイ
オンと交換するためにスカムを生ずる。従って、これら
の芳香族スル刹ネートポリエステル（３） を水と接触する必要のある用途に使用する場合には、注
意深く蒸留又は脱イオンした水を使用することが必要で
ありかつ望ましくないスカムを生成する交換性カチオン
の存在しない環境が必要となる。
アルキルスルホネートについても、標準的な溶融重合技
術によってポリエステルを製造するのに必要な温度で一
般に熱的に不安定であるという問題が伴われる。
術によってポリエステルを製造するのに必要な温度で一
般に熱的に不安定であるという問題が伴われる。
米国特許第３６８２８６６号は、例えばナトリウムｌ。
３−ジカルボキシシクロヘキサン−５−スルホン酸のよ
うなシクロヘキサンスルホネートを対応する芳香族スル
ホネートの水溶液をパラジウム化した炭素触媒存在下に
水素化することによって製造することを開示している。
うなシクロヘキサンスルホネートを対応する芳香族スル
ホネートの水溶液をパラジウム化した炭素触媒存在下に
水素化することによって製造することを開示している。
しかしながら、この開示された方法に従ったシクロアル
キル化合物のジメチルエステルは満足裡に重合可能な化
合物を゛生成しなかった。前記水性水素化工程において
、エステル官能は遊離の二数、並びにその他の化合物、
に著しく加水分解され辷得られた組成物はその高（４） い融点のために非常に重合が難しいものとなってしまう
。これらの化合物から得られる「重合体」は帖度が非常
に低く、そしてかなりの量の未重合の遊離酸で汚染され
ている。従って、これらの重合体は、イオン性ポリエス
テルが求められてし）るほとんどの目的に対して有用で
はない。更に、これらの二数の意図する縮合重合は水を
放出し、この水は重合体溶融体から完全に除去すること
が甚だしく難しい。容易に除去される揮発性アルコール
は、低級アルキルジエステル縮合の過程で放出される。
キル化合物のジメチルエステルは満足裡に重合可能な化
合物を゛生成しなかった。前記水性水素化工程において
、エステル官能は遊離の二数、並びにその他の化合物、
に著しく加水分解され辷得られた組成物はその高（４） い融点のために非常に重合が難しいものとなってしまう
。これらの化合物から得られる「重合体」は帖度が非常
に低く、そしてかなりの量の未重合の遊離酸で汚染され
ている。従って、これらの重合体は、イオン性ポリエス
テルが求められてし）るほとんどの目的に対して有用で
はない。更に、これらの二数の意図する縮合重合は水を
放出し、この水は重合体溶融体から完全に除去すること
が甚だしく難しい。容易に除去される揮発性アルコール
は、低級アルキルジエステル縮合の過程で放出される。
更に、ｌ、３−ジカルボキシシクロヘキサン−５−スル
ホネートエステルが、たとえ非加水分解状態で、容易に
重合する形状で得られたとしても、ポリエステルの溶解
性を、芳香族スルホネート化合物を使用した場合より著
しく大きな度合で改良することは驚きに値することがで
ある。■、３−ジカルボキシシクロヘキサン−５−スル
ホネートのスルホネート基は炭素主鎖に比較的に近接し
ており、そして得られる立体障害性はスルホネート（５
） 部分の可溶化基としての効果を減するものと期待される
。
ホネートエステルが、たとえ非加水分解状態で、容易に
重合する形状で得られたとしても、ポリエステルの溶解
性を、芳香族スルホネート化合物を使用した場合より著
しく大きな度合で改良することは驚きに値することがで
ある。■、３−ジカルボキシシクロヘキサン−５−スル
ホネートのスルホネート基は炭素主鎖に比較的に近接し
ており、そして得られる立体障害性はスルホネート（５
） 部分の可溶化基としての効果を減するものと期待される
。
本発明は、標準熔融重合技術によって求められる温度で
熱的に安定であり、かつそれから得られる縮合重合体が
周囲の水性環境中で他のカチオンとイオン交換する傾向
を持たない、加水分解されてなく容易に重合できる形状
のシクロアルキフレスルホネートを提供することによっ
て前述の従来技術の問題点を克服する。改良された塩許
容性を示す、前記縮合重合体は、重合体の不溶化及びス
カムの生成を回避するために高価な蒸留水又は脱イオン
水を必要とすることな（、一般的な水道水の存在下にお
いて有用である。
熱的に安定であり、かつそれから得られる縮合重合体が
周囲の水性環境中で他のカチオンとイオン交換する傾向
を持たない、加水分解されてなく容易に重合できる形状
のシクロアルキフレスルホネートを提供することによっ
て前述の従来技術の問題点を克服する。改良された塩許
容性を示す、前記縮合重合体は、重合体の不溶化及びス
カムの生成を回避するために高価な蒸留水又は脱イオン
水を必要とすることな（、一般的な水道水の存在下にお
いて有用である。
シクロアルキルスルホネートを良好な収率で製造する方
法も提供する。
法も提供する。
本発明は、式
（６）
（式中、Ｒは炭素数１〜ｌＯ・のアルキル基を示し、Ｍ
はアルカリ金属又はアンモニウムカチオンである） で示される、標準的な溶融重合技術によって要求される
温度で熱的に安定でありかつ容易に重合することができ
るシクロアルキルスルホネートを提供する。
はアルカリ金属又はアンモニウムカチオンである） で示される、標準的な溶融重合技術によって要求される
温度で熱的に安定でありかつ容易に重合することができ
るシクロアルキルスルホネートを提供する。
本発明はまた
（ａ）前記式の化合物の繰返し単位０．１〜７０モル％
、 ：・ （７） （ｂ）１又はそれ以上の付加的に重合させた共重合可能
なポリカルボン酸３０〜９９．９モル％、及び （ｃ）少なくとも一種の重合された共重合可能な多官能
性ジオール、ジアミン又はヒドロキシアミンの必要化学
量論量（全体で１００モル％）を含んで成る縮合重合体
を提供する。
、 ：・ （７） （ｂ）１又はそれ以上の付加的に重合させた共重合可能
なポリカルボン酸３０〜９９．９モル％、及び （ｃ）少なくとも一種の重合された共重合可能な多官能
性ジオール、ジアミン又はヒドロキシアミンの必要化学
量論量（全体で１００モル％）を含んで成る縮合重合体
を提供する。
上記モル％の表示はすべて一般的なポリエステルの表示
に基づいており、酸はポリエステルの酸成分を基準にし
て表示され、そしてジオール、ジアミン又はヒドロキシ
アミンの％はポリエステルの対応する塩基成分に基づい
て表示される。
に基づいており、酸はポリエステルの酸成分を基準にし
て表示され、そしてジオール、ジアミン又はヒドロキシ
アミンの％はポリエステルの対応する塩基成分に基づい
て表示される。
本発明の縮合重合体は多くの分野おいて有用であるが、
特に英国特許出願第２０９１４３６号に記載されている
ようなポジカラープルーフ用途を有しかつ水現像性であ
る染料インビビション光硬化性画像材料に使用する共重
合体として有用である０本発明の縮合化合物を含む共重
合体は、改良された塩許容性を示し、従って普通の水道
水において完全に現像することができる。
特に英国特許出願第２０９１４３６号に記載されている
ようなポジカラープルーフ用途を有しかつ水現像性であ
る染料インビビション光硬化性画像材料に使用する共重
合体として有用である０本発明の縮合化合物を含む共重
合体は、改良された塩許容性を示し、従って普通の水道
水において完全に現像することができる。
（８）
本発明の縮合重合体は水処理可能なネガ型平版印刷版及
びレーザー露光用のりツブレートを含むホトレジスト材
料；液体トナー配合及び水ペースの熱転写プリントイン
ク；染色性布帛及び繊維形成性縮合重合体；ヘアーセッ
トローション暮繊維サイズ剤；水溶性又はホットメルト
型接着剤及び接着剤用添加剤；並びにコーティング及び
包装材料にも有用である。
びレーザー露光用のりツブレートを含むホトレジスト材
料；液体トナー配合及び水ペースの熱転写プリントイン
ク；染色性布帛及び繊維形成性縮合重合体；ヘアーセッ
トローション暮繊維サイズ剤；水溶性又はホットメルト
型接着剤及び接着剤用添加剤；並びにコーティング及び
包装材料にも有用である。
前記化合物は、
（ａ）式
（９）
（Ｒ及びＭは上に定義した通りである）の実質上水和さ
れていない種である芳香族化合物を上記式のスルホネー
ト基の水和を実質的に防止しかつ同時に水素化の過程で
上記式のエステル官能の加水分解を実質上防止する溶媒
中に熔解し；（ｂ）上記（ａ）工程の水溶液を水素化触
媒の存在下に水素５化し；そして （Ｃ）本発明の化合物を単離する工程を含む方法で高収
率で製造される。
れていない種である芳香族化合物を上記式のスルホネー
ト基の水和を実質的に防止しかつ同時に水素化の過程で
上記式のエステル官能の加水分解を実質上防止する溶媒
中に熔解し；（ｂ）上記（ａ）工程の水溶液を水素化触
媒の存在下に水素５化し；そして （Ｃ）本発明の化合物を単離する工程を含む方法で高収
率で製造される。
前述の化合物から重合体を製造する方法は、前述のよう
にして化合物を製造し、そして工程（Ｃ）で単離した化
合物を、（ｉ）一種もくしはそれ以上の付加的に共重合
可能なポリカルボン酸又はそのエステル、無水物もしく
は酸ハライド３０〜９９．９モル％；及び（ｉｉ、）少
なくとも一種の重合可能な多官能性ジオール、ジアミン
もしくはヒドロキシアミンのそれぞれ必要な化学量論量
（合計で１００モル％）等を重合することを含んで成る
。
にして化合物を製造し、そして工程（Ｃ）で単離した化
合物を、（ｉ）一種もくしはそれ以上の付加的に共重合
可能なポリカルボン酸又はそのエステル、無水物もしく
は酸ハライド３０〜９９．９モル％；及び（ｉｉ、）少
なくとも一種の重合可能な多官能性ジオール、ジアミン
もしくはヒドロキシアミンのそれぞれ必要な化学量論量
（合計で１００モル％）等を重合することを含んで成る
。
本発明のシクロアルキルスルホネートは以下の式を有す
る。
る。
（１０）
Ｓ１
１
△
（Ｒは、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、第二級ブチル、イソブチル、ｔ−ブチ
ル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、オクチル又は
デシルのような炭素数１〜１０のアルキル基であり、そ
してＭはリチウム、ナトリウム、カリウム又はルビジウ
ムのようなアルカリ金属カチオン並びに第四級アンモニ
ウム塩を含むアンモニウムから選ばれた一価のカチオン
である。） −ＣＯＯＲ基は、二つのシクロヘキシレン環を結合する
酸素によって占められている位置以外の任意の環位置を
占めるが、互いにメタとなる位置を占めるのが好ましく
、そして酸素結合基によって占められる位置に対してメ
タであるのが更に好ましい。
ル、ｎ−ブチル、第二級ブチル、イソブチル、ｔ−ブチ
ル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、オクチル又は
デシルのような炭素数１〜１０のアルキル基であり、そ
してＭはリチウム、ナトリウム、カリウム又はルビジウ
ムのようなアルカリ金属カチオン並びに第四級アンモニ
ウム塩を含むアンモニウムから選ばれた一価のカチオン
である。） −ＣＯＯＲ基は、二つのシクロヘキシレン環を結合する
酸素によって占められている位置以外の任意の環位置を
占めるが、互いにメタとなる位置を占めるのが好ましく
、そして酸素結合基によって占められる位置に対してメ
タであるのが更に好ましい。
−Ｓ ０ｇＭ基も、二つのシクロヘキシレン環を結合す
る酸素によって占められる位置を除く任意の環位置を占
めるが、酸素結合基に対してパラである位置を占めるの
が好ましい。
る酸素によって占められる位置を除く任意の環位置を占
めるが、酸素結合基に対してパラである位置を占めるの
が好ましい。
本発明において有用な化合物の例は以下の通りである。
ジメチル５−（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，３−シクロヘキサンジカルボキシレート、 ジメチル３−（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，２−シクロヘキサンジカルボキシレート、 ジメチル４−（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，“２−シクロヘキシン環カル１′ ポキシレート、 ジメチル４−（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，３−シクロヘキサンジカルボキシレート翫 ジメチル５−（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，２−シクロヘキサンジカルボキシレート、 ジメチル３−（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，４−シクロヘキサンジカルボキシレート、 ジメチル６−（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，３−シクロヘキサンジカルボキシレート、 ジエチル５−（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，３−シクロヘキサンジカルボキシレート、 ジイソプロピル５−（４−ナトリウムスルホヘキシルオ
キシ）−１，３−シクロヘキサンジカルボキシレート、 ジメチル５−（４−カリウムスルホシクロへキシルオキ
シ）−１，３−シクロヘキサンジ力ルポ（１３） キシレート、 ジメチル５−（２−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，３−シクロヘキサンジカルボキシレート及
び ジメチル５−（３−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，３−シクロヘキサンジカルボキシレ−１・
。
キシ）−１，３−シクロヘキサンジカルボキシレート、 ジメチル３−（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，２−シクロヘキサンジカルボキシレート、 ジメチル４−（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，“２−シクロヘキシン環カル１′ ポキシレート、 ジメチル４−（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，３−シクロヘキサンジカルボキシレート翫 ジメチル５−（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，２−シクロヘキサンジカルボキシレート、 ジメチル３−（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，４−シクロヘキサンジカルボキシレート、 ジメチル６−（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，３−シクロヘキサンジカルボキシレート、 ジエチル５−（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，３−シクロヘキサンジカルボキシレート、 ジイソプロピル５−（４−ナトリウムスルホヘキシルオ
キシ）−１，３−シクロヘキサンジカルボキシレート、 ジメチル５−（４−カリウムスルホシクロへキシルオキ
シ）−１，３−シクロヘキサンジ力ルポ（１３） キシレート、 ジメチル５−（２−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，３−シクロヘキサンジカルボキシレート及
び ジメチル５−（３−ナトリウムスルホシクロへキシルオ
キシ）−１，３−シクロヘキサンジカルボキシレ−１・
。
好ましい化合物は以下の式を有する。
＼／
Ｓ Ｏ，ＩＮ ａ
本発明の化合物を製造する方法は適当な芳香族化合物の
脱水素を含む。
脱水素を含む。
（１４）
本発明において有用な芳香族化合物の例は以下の通りで
ある。
ある。
ジメチル５−（４−ナトリウムスルホフェノキシ）イソ
フタレート、 ジメチル３−（４−ナトリウムスルホフェノキシ）フタ
レート、 ジメチル４−（４−ナトリウムスルホフェノキシ）フタ
レート、 ジメチル４−（４−ナトリウムスルホフェノキシ）イソ
フタレート、 ジメチル５−（４−ナトリウムスルホフェノキシ）フタ
レート、 ジメチル３−（４−ナトリウムスルホフェノキシ）テレ
フタレート、 ジメチル６−（４−ナトリウムスルホフェノキシ）イソ
フタレート、 ジエチル５−（４−ナトリウムスルホフェノキシ）イソ
フタレート、 ジイソプロピル５−（４−す、トリウムスルボフェノキ
シ）イソフタレート、 ジメチル５−（４−カリウムスルホフェノキシ）イソフ
タレート、 ジメチル５−（２−ナトリウムスルホフェノキシ）イソ
フタレート及び ジメチル５−（３−ナトリウムスルホフェノキシ）イソ
フタレート 工程（ａ）の芳香族化合物が実質上水和された種を含ま
ないことが本発明にとって重要である。
フタレート、 ジメチル３−（４−ナトリウムスルホフェノキシ）フタ
レート、 ジメチル４−（４−ナトリウムスルホフェノキシ）フタ
レート、 ジメチル４−（４−ナトリウムスルホフェノキシ）イソ
フタレート、 ジメチル５−（４−ナトリウムスルホフェノキシ）フタ
レート、 ジメチル３−（４−ナトリウムスルホフェノキシ）テレ
フタレート、 ジメチル６−（４−ナトリウムスルホフェノキシ）イソ
フタレート、 ジエチル５−（４−ナトリウムスルホフェノキシ）イソ
フタレート、 ジイソプロピル５−（４−す、トリウムスルボフェノキ
シ）イソフタレート、 ジメチル５−（４−カリウムスルホフェノキシ）イソフ
タレート、 ジメチル５−（２−ナトリウムスルホフェノキシ）イソ
フタレート及び ジメチル５−（３−ナトリウムスルホフェノキシ）イソ
フタレート 工程（ａ）の芳香族化合物が実質上水和された種を含ま
ないことが本発明にとって重要である。
芳香族化合物のスルホネート基が感知できる程度に水和
されている場合には非水和化合物の収率が低下する。更
に重要なことは、実質量の水和された化合物が非常に高
い（一般には３００℃より大）融点を示す化合物を生成
するので、溶融が難しく、そして標準的な溶融重合温度
（約２００〜２８０°Ｃ）での重合ができなくなる。更
に、一般芳香族化合物の水和物が実質的な量で溶液中に
６在すると、スルホネート基の水和かそれ自身の水素化
反応の過程で更に生起しやすく、その結果として実質上
非重合性物質が生成子る。
されている場合には非水和化合物の収率が低下する。更
に重要なことは、実質量の水和された化合物が非常に高
い（一般には３００℃より大）融点を示す化合物を生成
するので、溶融が難しく、そして標準的な溶融重合温度
（約２００〜２８０°Ｃ）での重合ができなくなる。更
に、一般芳香族化合物の水和物が実質的な量で溶液中に
６在すると、スルホネート基の水和かそれ自身の水素化
反応の過程で更に生起しやすく、その結果として実質上
非重合性物質が生成子る。
実質上水和された種を含まない芳香族化合物は、例えば
アルコール水のような適当な溶媒から再結晶することに
よって得られる。しかしながら、溶媒組成の選定は芳香
族物質のバッチが変ることによって変動し、所望の材料
を選択的に熔解するのに丁度十分な水の使用を必要とす
るが、スルホネ−１−基の水和か更におこる程多い水の
使用は避ける必要がある。非常に稀釈された溶液は水の
添加を必要としないことは言うまでもない。
アルコール水のような適当な溶媒から再結晶することに
よって得られる。しかしながら、溶媒組成の選定は芳香
族物質のバッチが変ることによって変動し、所望の材料
を選択的に熔解するのに丁度十分な水の使用を必要とす
るが、スルホネ−１−基の水和か更におこる程多い水の
使用は避ける必要がある。非常に稀釈された溶液は水の
添加を必要としないことは言うまでもない。
実質上水和された種を含まない芳香族化合物を得る好ま
しい方法は、芳香族化合物の水和物を含む芳香族化合物
の混合物を少なくとも１７５℃の温度で、実質上すべて
の水和物がその非水和状態に転化されるまで加熱するこ
とである。芳香族化合物は非水和状態を生成させるため
の加熱前に、本発明の化合物を製造するプロセスにおい
て使用する溶媒中に熔解することができる。すべての芳
香族化合物の水和物を非水和状態の芳香族化合物に転化
させるのに必要な時間は約５〜約４８時間の間で変動す
るが、一般には約２４時間である。
しい方法は、芳香族化合物の水和物を含む芳香族化合物
の混合物を少なくとも１７５℃の温度で、実質上すべて
の水和物がその非水和状態に転化されるまで加熱するこ
とである。芳香族化合物は非水和状態を生成させるため
の加熱前に、本発明の化合物を製造するプロセスにおい
て使用する溶媒中に熔解することができる。すべての芳
香族化合物の水和物を非水和状態の芳香族化合物に転化
させるのに必要な時間は約５〜約４８時間の間で変動す
るが、一般には約２４時間である。
水和された種を実質上台まない有機化合物を熔（１７）
解する溶媒は、芳香族化合物のスルホネート基の水和を
実質上防止し、かつ、同時に芳香族化合物のエステル官
能の水和を実質上防止する任意の溶媒とすることができ
る。好ましくは、かかる溶媒は、（ｉ）式Ｒ’ＯＨ（式
中、Ｒ′は炭素数ｌ〜ｌＯのアルキル基である）のアル
コール７０〜８０容積％、（１１）水１８〜２５容積％
、及び（ｉｉｉ ）好まＬ＜Ｌ！２５℃において２．０
Ｘ１０以下の解離定数を有する酸２〜５容積％を含んで
成る。
実質上防止し、かつ、同時に芳香族化合物のエステル官
能の水和を実質上防止する任意の溶媒とすることができ
る。好ましくは、かかる溶媒は、（ｉ）式Ｒ’ＯＨ（式
中、Ｒ′は炭素数ｌ〜ｌＯのアルキル基である）のアル
コール７０〜８０容積％、（１１）水１８〜２５容積％
、及び（ｉｉｉ ）好まＬ＜Ｌ！２５℃において２．０
Ｘ１０以下の解離定数を有する酸２〜５容積％を含んで
成る。
この溶媒は、芳香族化合物を完全に熔解するに十分な水
を含み、そして水素化反応の過程で芳香族化合物の水和
又は加水分解を実質上防止するアルコール及び酸を含む
必要があ名。 □前記溶媒のアルコール成分の例は、
メタノール、エタノール、イソプロパツール、ｎ−ブタ
ノール、第二級ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタ
ノール、ペンタノール、ネオペンタノール、ヘキサノー
ル、オクタツール及びデカノールである。アルコールは
、アルコールのアルキル基が芳香族化合物のエステル官
能のアルキル基にマツチするよ（１８） うに選定するのが好ましい。これは水素添加反応の過程
でのアルキル基のエステル交換を効果的に防止する。最
も好ましいアルコールはメタノールである。
を含み、そして水素化反応の過程で芳香族化合物の水和
又は加水分解を実質上防止するアルコール及び酸を含む
必要があ名。 □前記溶媒のアルコール成分の例は、
メタノール、エタノール、イソプロパツール、ｎ−ブタ
ノール、第二級ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタ
ノール、ペンタノール、ネオペンタノール、ヘキサノー
ル、オクタツール及びデカノールである。アルコールは
、アルコールのアルキル基が芳香族化合物のエステル官
能のアルキル基にマツチするよ（１８） うに選定するのが好ましい。これは水素添加反応の過程
でのアルキル基のエステル交換を効果的に防止する。最
も好ましいアルコールはメタノールである。
溶媒中の酸は、２５℃における解離定数が２．０×１６
５以下の任意の酸、好ましくは弱酸であり、例えば酢酸
、亜砒酸、硼酸及び１−ブタン酸である。好ましい酸は
酢酸である。
５以下の任意の酸、好ましくは弱酸であり、例えば酢酸
、亜砒酸、硼酸及び１−ブタン酸である。好ましい酸は
酢酸である。
好ましい溶媒の例は、メタノール、水及び酢酸（容積比
で７５：２３：２）；メタノール、水及び酢酸（容積比
で７５：２０：５）；並びにメタノール、水及びＨＣＩ
もしくはＨ，？Ｓ Ｑ４もしくはｐ−）ルエンスルホン
酸である。最も好ましい溶媒はメタノール、水及び酢酸
（容積比で７５：２３ｉ２）である。
で７５：２３：２）；メタノール、水及び酢酸（容積比
で７５：２０：５）；並びにメタノール、水及びＨＣＩ
もしくはＨ，？Ｓ Ｑ４もしくはｐ−）ルエンスルホン
酸である。最も好ましい溶媒はメタノール、水及び酢酸
（容積比で７５：２３ｉ２）である。
溶媒の量は限定的ではないが、好ましくは溶液の７５〜
９９重量％の範囲で変動する。
９９重量％の範囲で変動する。
前記芳香族化合物の溶液は水素添加触媒の存在下に水素
化される。使用する。Ｉ水素添加触媒は芳香族化合物の
ベンゼン環の水素添加を生起せしめるのに十分な強さを
有する任意の水素添加触媒とすることができる。効果的
な水素添加触媒の例は、炭素上ロジウム、炭素上ルテニ
ウム、炭素上パラジウム及び炭素上白金である。炭素上
ロジウムが好ましい。
化される。使用する。Ｉ水素添加触媒は芳香族化合物の
ベンゼン環の水素添加を生起せしめるのに十分な強さを
有する任意の水素添加触媒とすることができる。効果的
な水素添加触媒の例は、炭素上ロジウム、炭素上ルテニ
ウム、炭素上パラジウム及び炭素上白金である。炭素上
ロジウムが好ましい。
水素添加反応は約５００〜５０００ ｐｓｉの圧力、最
も好ましくは約２５００ ｐｓｉの圧力下に実施するの
が好ましい、水素添加反応は一般に３０℃及び１７５℃
の間の温度、好ましくは１００℃及び１３０℃の間の温
度で進行する。
も好ましくは約２５００ ｐｓｉの圧力下に実施するの
が好ましい、水素添加反応は一般に３０℃及び１７５℃
の間の温度、好ましくは１００℃及び１３０℃の間の温
度で進行する。
反応時間は、反応温度、圧力、選定した溶媒、選定した
水素添加触媒及び使用する特定の芳香族化合物の関数で
ある。一般的に言えば、反応時間は４〜２４時間である
が、より活性な溶媒及び触媒を使用すれば、単時間です
むし、逆により活性でない溶媒及び触媒を使用すれば更
に長時間となる。
水素添加触媒及び使用する特定の芳香族化合物の関数で
ある。一般的に言えば、反応時間は４〜２４時間である
が、より活性な溶媒及び触媒を使用すれば、単時間です
むし、逆により活性でない溶媒及び触媒を使用すれば更
に長時間となる。
本発明の化合物は、
（ｉ）例えば濾過、デカンテーション、遠心分離及びそ
れに引き続くデカンテーション又はその他の公知技術に
よって有効な水素添加触媒を除去し、（ｉｉ ）例えば
蒸発によって、水素添加反応の過程において使用した溶
媒を除去し、そして（ｉｉｉ ）水素添加反応の過程で
生成する化合物の水和物を除去することによって単離さ
れる。
れに引き続くデカンテーション又はその他の公知技術に
よって有効な水素添加触媒を除去し、（ｉｉ ）例えば
蒸発によって、水素添加反応の過程において使用した溶
媒を除去し、そして（ｉｉｉ ）水素添加反応の過程で
生成する化合物の水和物を除去することによって単離さ
れる。
前記化合物の水和物は、工程（ｉｉ ）の生成物を、ア
セトンのような溶媒と混合し、不溶性の水和物を濾去し
、そして本発明の化合物を非水和状態で含む残存濾液か
ら溶媒を蒸発せしめることによって除去することが好ま
しい。
セトンのような溶媒と混合し、不溶性の水和物を濾去し
、そして本発明の化合物を非水和状態で含む残存濾液か
ら溶媒を蒸発せしめることによって除去することが好ま
しい。
シクロアルキルスルホネートは、実質上高融点の水和さ
れた種を含まない、易重合性ジエステルとして得られ、
そして本発明の縮合重合体を製造するのに有用である。
れた種を含まない、易重合性ジエステルとして得られ、
そして本発明の縮合重合体を製造するのに有用である。
本発明の縮合重合体は、
以下余白
（２１）
（ａ）式
（式中、Ｍはアルカリ金属又はアンモニウムカチオンで
あ条）の繰返し単位０．１〜７０モル％、（ｂ）１又は
それ以上の付加的に重合させた共重合可能なポリカルボ
ン酸から誘導された繰返し単位３０〜９９．９モル％、
及び （ｃ）少なくとも一種の重合された共重合可能なジオー
ル、ジアミン又はヒドロキシアミンを含んで成る縮合重
合体である。特に好ましい柳合重（２２） 合体は上記（ａ）の繰返し単位２０〜４０モル％を含ん
でなるものである。成分（Ｃ）は好ましくは重合された
共重合性ジオールとすることができる。
あ条）の繰返し単位０．１〜７０モル％、（ｂ）１又は
それ以上の付加的に重合させた共重合可能なポリカルボ
ン酸から誘導された繰返し単位３０〜９９．９モル％、
及び （ｃ）少なくとも一種の重合された共重合可能なジオー
ル、ジアミン又はヒドロキシアミンを含んで成る縮合重
合体である。特に好ましい柳合重（２２） 合体は上記（ａ）の繰返し単位２０〜４０モル％を含ん
でなるものである。成分（Ｃ）は好ましくは重合された
共重合性ジオールとすることができる。
付加的に重合された共重合可能なポリカルボン酸から誘
導された、本発明において有用な繰返し単位の例は、式 ％式％ （式中Ｒ２はフェニレン及びナフタレンのようなアリー
レン基；エチレン、プロピレン、ブチレン、２．２−ジ
メチル−１，３−プロピレン、２−エチル−２−メチル
−１，３−プロピレン又はｌ。
導された、本発明において有用な繰返し単位の例は、式 ％式％ （式中Ｒ２はフェニレン及びナフタレンのようなアリー
レン基；エチレン、プロピレン、ブチレン、２．２−ジ
メチル−１，３−プロピレン、２−エチル−２−メチル
−１，３−プロピレン又はｌ。
１０〜デシレンのような直鎖又は分岐鎖アルキレン；ボ
リシクリレン又はアリーレンビスアルキレン；以下の構
造を有する基： 以下余白 ゛ ／”＼ Ｃ馬ＣＨ３ 並びに対応する誘導体、例えば二無水物、二数クロリド
及び、好ましくはメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピルもしくはブチルのような炭素数１〜６のジ（低級ア
ルキル）エステルで゛ある。本明細書及び特許請求の範
囲の欄を通じて、「アルキレン」及び「アリーレン」な
る用語は、例えばクロロエチレン、フェノキシフェニレ
ン、カルボキシフェニレン、ブロモナフチレン及び３−
フェニル−１，１，３−トリメチル−５，４′−インダ
ニレンのような置換されたアルキレン及びアリーレンを
含む。
リシクリレン又はアリーレンビスアルキレン；以下の構
造を有する基： 以下余白 ゛ ／”＼ Ｃ馬ＣＨ３ 並びに対応する誘導体、例えば二無水物、二数クロリド
及び、好ましくはメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピルもしくはブチルのような炭素数１〜６のジ（低級ア
ルキル）エステルで゛ある。本明細書及び特許請求の範
囲の欄を通じて、「アルキレン」及び「アリーレン」な
る用語は、例えばクロロエチレン、フェノキシフェニレ
ン、カルボキシフェニレン、ブロモナフチレン及び３−
フェニル−１，１，３−トリメチル−５，４′−インダ
ニレンのような置換されたアルキレン及びアリーレンを
含む。
好ましい付加的に共重合可能なポリカルボン酸は、式
の繰返し単位を与えるような酸混合物を含む。
重合された多官能性ジオール、ジアミン又はヒドロキシ
アミンから誘導された繰返し単位の例は、式 ％式％ 式中Ｒ３は直鎖又は分岐鎖のアルキレン、例えばエチレ
ン、プロピレン、ブチレン、トリメチレン、２．２′−
ジメチル−１，３−プロピレン、２−（２５） エチル−２−メチル−１，３−プロピレン及び１゜ＩＯ
−デシレン；シクロアルキレン、例えば１゜４−シクロ
ヘキシレン及び１．４−シクロヘキシレンジメチレン；
脂肪族エーテル、例えばオキシジエチレン及びエチレン
ビス（オキシエチレン）；シクロアルキレンエーテル、
例エバ 又はビスフェノール例えば４．４′−イソプロピリデン
ジフェニレンから誘導された単位である。
アミンから誘導された繰返し単位の例は、式 ％式％ 式中Ｒ３は直鎖又は分岐鎖のアルキレン、例えばエチレ
ン、プロピレン、ブチレン、トリメチレン、２．２′−
ジメチル−１，３−プロピレン、２−（２５） エチル−２−メチル−１，３−プロピレン及び１゜ＩＯ
−デシレン；シクロアルキレン、例えば１゜４−シクロ
ヘキシレン及び１．４−シクロヘキシレンジメチレン；
脂肪族エーテル、例えばオキシジエチレン及びエチレン
ビス（オキシエチレン）；シクロアルキレンエーテル、
例エバ 又はビスフェノール例えば４．４′−イソプロピリデン
ジフェニレンから誘導された単位である。
本発明の縮合重合体に有用な、共重合可能なジオール、
ジアミン及びヒドロキシアミンは、エチレングリコール
、ジエチレングリコール、ｌ、３−プロパンジオール、
１．４−ブタンジオール、１．５−ベンタンジオール、
１，６−へキザジオール、１．７−ヘプタンジオール、
ｌ、８−オクタンジオール、ネオペンチルグリコール、
２．２−ジエチルトリメチレンジオール、■、３−シク
ロヘキサンジメタツール、ｌ、４−シクロヘキサ（２６
） ンジメタノール、トリエチレングリコール、テトラエチ
レングリコール、２，３−ノルボルナンジオール、２．
５ （６）−ノルボルナンジオール、１．４−ビス（
２−ヒドロキシエトキシ）シクロヘキサン、ｌ、４−ビ
ス（２−ヒドロキシプロポキシ）シクロヘキサン、２−
エチル−２−ｎ−ブチル−１，３−プロパンジオール、
５−ジメチルアミノ−ｍ−キシレン−α、α′−ジオー
ル、２−プテンー１．４−ジオール、１．３−ビス（２
−ヒドロキシエチル）−５，５−ジメチレンヒダントイ
ンエチレンジアミン、■、６−へ牛サンジアミン、ｌ、
４−シクロヘキサンビス（メチルアミン）、Ｎ、Ｎ’−
ジメチルへキサメチレンジアミン、４．４’−イソプロ
ピリデンジフェノール、ｐ・ ｐ′−ビフェノール、４
．４′−オキシビスフェ／−Ｊｌ／、２． ７−ナフタ
レンジオール、ｐ−フェニレンジアミン、４．４’−ジ
フェニルメタンジオール、１，８−ナフタレンジオール
及び４−（アミノメチル）シクロ）キサンメタノール−
２−アミノエタノールを含と・。
ジアミン及びヒドロキシアミンは、エチレングリコール
、ジエチレングリコール、ｌ、３−プロパンジオール、
１．４−ブタンジオール、１．５−ベンタンジオール、
１，６−へキザジオール、１．７−ヘプタンジオール、
ｌ、８−オクタンジオール、ネオペンチルグリコール、
２．２−ジエチルトリメチレンジオール、■、３−シク
ロヘキサンジメタツール、ｌ、４−シクロヘキサ（２６
） ンジメタノール、トリエチレングリコール、テトラエチ
レングリコール、２，３−ノルボルナンジオール、２．
５ （６）−ノルボルナンジオール、１．４−ビス（
２−ヒドロキシエトキシ）シクロヘキサン、ｌ、４−ビ
ス（２−ヒドロキシプロポキシ）シクロヘキサン、２−
エチル−２−ｎ−ブチル−１，３−プロパンジオール、
５−ジメチルアミノ−ｍ−キシレン−α、α′−ジオー
ル、２−プテンー１．４−ジオール、１．３−ビス（２
−ヒドロキシエチル）−５，５−ジメチレンヒダントイ
ンエチレンジアミン、■、６−へ牛サンジアミン、ｌ、
４−シクロヘキサンビス（メチルアミン）、Ｎ、Ｎ’−
ジメチルへキサメチレンジアミン、４．４’−イソプロ
ピリデンジフェノール、ｐ・ ｐ′−ビフェノール、４
．４′−オキシビスフェ／−Ｊｌ／、２． ７−ナフタ
レンジオール、ｐ−フェニレンジアミン、４．４’−ジ
フェニルメタンジオール、１，８−ナフタレンジオール
及び４−（アミノメチル）シクロ）キサンメタノール−
２−アミノエタノールを含と・。
特に有用な、好ましい共重合可能な多官能性ジオール、
ジアミン又はヒドロキシアミンは共重合可能なジオール
である。特に好ましい共重合可能なジオールは以下の構
造の繰返し単位を与える。
ジアミン又はヒドロキシアミンは共重合可能なジオール
である。特に好ましい共重合可能なジオールは以下の構
造の繰返し単位を与える。
本発明の縮合重合体の例としては、ポリ 〔１゜４−シ
クロヘキシレン−ビス（オキシエチレン）スクシネート
−コール−フェニレンビス（アクリレート）−コー５−
（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオキシ）−１，
３−シクロヘキサンジカルボキシレート〕、ポリ 〔１
，４−シクロヘキシレンビス（オキシエチレン）テレフ
タレートーコ−５−（４−ナトリウムスルホシクロへキ
シルオキシ）−１，３−シクロヘキサンジカルボキシレ
ート〕、ポリ 〔２，２−ジメチルプロピレンーコーオ
キシジエチレン３−フェニル−１，１，３−トリメチル
インダｙ−５，４’−ジカルボキシレートーコーｐ−フ
ェニレンビス（プロピオネート）−コー５−（４−ナト
リウムスルホシクロへキシルオキシ）−１，３−シクロ
ヘキサンジカルボキシレート〕、ポリ〔エチレン−ツー
２．２−ジメチルプロピレン３−フェニル−１，１，３
−トリメチルインダン−５，４′−ジカルボキシレート
−コール−フェニレンビス（プロピオネート）−コー５
−（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオキシ）−１
，３−シクロヘキサンジ力ルボ−、キシレート）、１．
４−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）シクロへキサノン
４０モル％、１．６−ヘキサンジアミン６０モル％、コ
ハク酸２０モル％、１．４−フェニレンジカルボン酸４
０モル％及び５−（４−ナトリウムスルホシクロへキシ
ルオキシ−１，３−シクロヘキサンジカルボン酸４０モ
ル％から成るポリエステルアミド、並びに１，４−ビス
（２−ヒドロキシエトキシ）シクロヘキサン ６０モル
％、３−アミノプロパツール４０モル％、コハクＭｌ
５？ル％、ｌ、４−フェニレンジアクリル酸５５モル％
及び５−（４−ナトリウムスルホキシシクロへキシルオ
キシ−１，３−シ（２９） クロヘキサンジカルボン酸３０モル％から成るポリエス
テルアミドをあげることができる。
クロヘキシレン−ビス（オキシエチレン）スクシネート
−コール−フェニレンビス（アクリレート）−コー５−
（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオキシ）−１，
３−シクロヘキサンジカルボキシレート〕、ポリ 〔１
，４−シクロヘキシレンビス（オキシエチレン）テレフ
タレートーコ−５−（４−ナトリウムスルホシクロへキ
シルオキシ）−１，３−シクロヘキサンジカルボキシレ
ート〕、ポリ 〔２，２−ジメチルプロピレンーコーオ
キシジエチレン３−フェニル−１，１，３−トリメチル
インダｙ−５，４’−ジカルボキシレートーコーｐ−フ
ェニレンビス（プロピオネート）−コー５−（４−ナト
リウムスルホシクロへキシルオキシ）−１，３−シクロ
ヘキサンジカルボキシレート〕、ポリ〔エチレン−ツー
２．２−ジメチルプロピレン３−フェニル−１，１，３
−トリメチルインダン−５，４′−ジカルボキシレート
−コール−フェニレンビス（プロピオネート）−コー５
−（４−ナトリウムスルホシクロへキシルオキシ）−１
，３−シクロヘキサンジ力ルボ−、キシレート）、１．
４−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）シクロへキサノン
４０モル％、１．６−ヘキサンジアミン６０モル％、コ
ハク酸２０モル％、１．４−フェニレンジカルボン酸４
０モル％及び５−（４−ナトリウムスルホシクロへキシ
ルオキシ−１，３−シクロヘキサンジカルボン酸４０モ
ル％から成るポリエステルアミド、並びに１，４−ビス
（２−ヒドロキシエトキシ）シクロヘキサン ６０モル
％、３−アミノプロパツール４０モル％、コハクＭｌ
５？ル％、ｌ、４−フェニレンジアクリル酸５５モル％
及び５−（４−ナトリウムスルホキシシクロへキシルオ
キシ−１，３−シ（２９） クロヘキサンジカルボン酸３０モル％から成るポリエス
テルアミドをあげることができる。
本発明の縮合重合体を製造する方法は二段からなり、第
一段は前述のような方法によってシクロアルキルスルホ
ネートを製造する工程であり、そして第二の工程はこれ
らの化合物を、共重合可能な多官能性ジオール、ジアミ
ン又はヒドロキシルアミンと、そして付加的に共重合可
能なポリカルボン酸、その無水物、エステル又は酸クロ
リドと共重合させることから成る。
一段は前述のような方法によってシクロアルキルスルホ
ネートを製造する工程であり、そして第二の工程はこれ
らの化合物を、共重合可能な多官能性ジオール、ジアミ
ン又はヒドロキシルアミンと、そして付加的に共重合可
能なポリカルボン酸、その無水物、エステル又は酸クロ
リドと共重合させることから成る。
縮合重合はポリマー化学分野において周知の技術を用い
て、例えば熔融、粉体、バルク、懸濁及び溶液重合技術
を用いて実施される。しかしながら、本明細書に開示し
た縮合重合体を製造する好ましい方法は標準的な熔融重
合技術を用いることである。所望の多官能性ジオール、
ジアミン及び／又はヒドロキシアミンは、所望のポリカ
ルボン酸又はその無水物、エステルもしくは酸クロリド
と一緒に、約等モル基準で、又は多官能性ジオール、ジ
アミンもしくはヒドロキシルアミンの過剰（３０′″） で、加熱して溶融させる。実際問題として、多官能性ジ
オール、ジアミン及び／又はヒドロキシルアミンを反応
混合物中において１００モル％までの過剰で利用するの
がしばしば好ましい。使用する温度は一般に２００℃及
び２８０℃の間で変動する。均一な熔融体が得られた場
合には、反応混合物はエステル交換触媒、例えばアルカ
リもしくはアルカリ土類金属の炭酸塩、酸化物、水酸化
物、水素化物もしくはアルコキシド、又はテトライソプ
ロピルオルトチタネート、ブチルチタネート、有機金属
ハロゲン化物、及びＮ ａ ＨＴ ｉ （ＯＣ４Ｈｇ
）２の如きコンプレックスアルコキシドのような、周期
律表のＩＶＢ族金属の化合物で処理する。メタノールの
ような低沸点アルコールは重合の過程で蒸留によって除
去される。次に反応混合物は、場合によっては、一般に
０．０２〜５０ｍの範囲の減圧で、一定攪拌下に、所望
の重合度が得られるまで（一般には１０〜２４０分の間
）置かれる０重合が完了したら、粘稠な熔融体を冷却し
て生成縮合重合体を得る。
て、例えば熔融、粉体、バルク、懸濁及び溶液重合技術
を用いて実施される。しかしながら、本明細書に開示し
た縮合重合体を製造する好ましい方法は標準的な熔融重
合技術を用いることである。所望の多官能性ジオール、
ジアミン及び／又はヒドロキシアミンは、所望のポリカ
ルボン酸又はその無水物、エステルもしくは酸クロリド
と一緒に、約等モル基準で、又は多官能性ジオール、ジ
アミンもしくはヒドロキシルアミンの過剰（３０′″） で、加熱して溶融させる。実際問題として、多官能性ジ
オール、ジアミン及び／又はヒドロキシルアミンを反応
混合物中において１００モル％までの過剰で利用するの
がしばしば好ましい。使用する温度は一般に２００℃及
び２８０℃の間で変動する。均一な熔融体が得られた場
合には、反応混合物はエステル交換触媒、例えばアルカ
リもしくはアルカリ土類金属の炭酸塩、酸化物、水酸化
物、水素化物もしくはアルコキシド、又はテトライソプ
ロピルオルトチタネート、ブチルチタネート、有機金属
ハロゲン化物、及びＮ ａ ＨＴ ｉ （ＯＣ４Ｈｇ
）２の如きコンプレックスアルコキシドのような、周期
律表のＩＶＢ族金属の化合物で処理する。メタノールの
ような低沸点アルコールは重合の過程で蒸留によって除
去される。次に反応混合物は、場合によっては、一般に
０．０２〜５０ｍの範囲の減圧で、一定攪拌下に、所望
の重合度が得られるまで（一般には１０〜２４０分の間
）置かれる０重合が完了したら、粘稠な熔融体を冷却し
て生成縮合重合体を得る。
本発明の縮合重合体の内部粘度は広い変動を受けるが、
一般には、（特に断らない限り）０．２５ｇ／１００ｍ
Ｊの溶液濃度で２５℃でｌ：ｕｓｉｔｉ比のフェノール
及びクロロベンゼンの混合物中で測定して、約０．１０
〜４．５、好ましくは約０．１５〜０．５の範囲内であ
る。本明細書において使用する「内部粘度」なる語は、
式 ％式％） （式中、ηｉｎｈは内部粘度であり、ηｒｅｌは重合体
のｌ：１フエノール及びクロロベンゼン溶液の相対粘度
であり、そしてＣは溶液１００ｅＣ当りの重合体のダラ
ム（０，２５）濃度である）。
一般には、（特に断らない限り）０．２５ｇ／１００ｍ
Ｊの溶液濃度で２５℃でｌ：ｕｓｉｔｉ比のフェノール
及びクロロベンゼンの混合物中で測定して、約０．１０
〜４．５、好ましくは約０．１５〜０．５の範囲内であ
る。本明細書において使用する「内部粘度」なる語は、
式 ％式％） （式中、ηｉｎｈは内部粘度であり、ηｒｅｌは重合体
のｌ：１フエノール及びクロロベンゼン溶液の相対粘度
であり、そしてＣは溶液１００ｅＣ当りの重合体のダラ
ム（０，２５）濃度である）。
本発明の重合体は、典型的には、−１０℃〜２００℃の
範囲のガラス転移温度を有する。この温度は、Ｔｅｃｈ
ｎｉｑｕｅｓ ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄｓ ｏｆ Ｐｏｌ
ｙｍｅｒＥｖａｌｕａｔｉｏｎ、 ２巻、Ｍａｒｃｅ
ｌ Ｄｅｋｋｅｒ、 Ｉｎｃ、、ニューヨーク、１９７
０年に記載されているように、差動走査熱量針によって
測定される。
範囲のガラス転移温度を有する。この温度は、Ｔｅｃｈ
ｎｉｑｕｅｓ ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄｓ ｏｆ Ｐｏｌ
ｙｍｅｒＥｖａｌｕａｔｉｏｎ、 ２巻、Ｍａｒｃｅ
ｌ Ｄｅｋｋｅｒ、 Ｉｎｃ、、ニューヨーク、１９７
０年に記載されているように、差動走査熱量針によって
測定される。
本発明の縮合重合体は、水又は水溶液と接触する必要が
ある、様々な用途に有用である。例えば、本発明の縮合
重合体は、特に英国特許出願箱２０９．１４３６号に記
載されているような、水現像性の色素インビビシッン光
硬化性画像材料に有用である。
ある、様々な用途に有用である。例えば、本発明の縮合
重合体は、特に英国特許出願箱２０９．１４３６号に記
載されているような、水現像性の色素インビビシッン光
硬化性画像材料に有用である。
本発明の縮合重合体がＭｊｈびＣａ”（７）ようなイオ
ンを含む水によって接触された場合、縮合重合体は好ま
しくない塩感度を示すことがない。すなわち、本発明の
縮合重合体はイオン交換性を示さず、そして本発明の繰
返し単位であるシクロアルキルスルホネートではなく、
芳香族スルホネートを含むポリマーで遭遇した好ましく
ないスカムの問題も伴わない。これらの塩許容性縮合重
合体は一般的な廉価の水道水中で現像することができ、
そしてより高価な蒸留もしくは脱イオン水の使用を必要
としない。
ンを含む水によって接触された場合、縮合重合体は好ま
しくない塩感度を示すことがない。すなわち、本発明の
縮合重合体はイオン交換性を示さず、そして本発明の繰
返し単位であるシクロアルキルスルホネートではなく、
芳香族スルホネートを含むポリマーで遭遇した好ましく
ないスカムの問題も伴わない。これらの塩許容性縮合重
合体は一般的な廉価の水道水中で現像することができ、
そしてより高価な蒸留もしくは脱イオン水の使用を必要
としない。
本発明を以下の例に従って更に具体的に説明する。
製造例１ 〔実質上水和された種を含まないジメチル５
−（４−ナトリウムスルホフ ェノキシ）インフタレートの製造〕 ジメチル５−（４−ナトリウムフルホフエノキ（３３） シ）−イソフタレート及ヴその水和物の混合物を２００
℃で２４時間加熱して実質上すべての水和物をその非水
和状態の芳香族化合物に転化させた。
−（４−ナトリウムスルホフ ェノキシ）インフタレートの製造〕 ジメチル５−（４−ナトリウムフルホフエノキ（３３） シ）−イソフタレート及ヴその水和物の混合物を２００
℃で２４時間加熱して実質上すべての水和物をその非水
和状態の芳香族化合物に転化させた。
得られた物質の乾燥ＤＭＳＯ（ジューテロ化ジメチルス
ルホキシド）中での核磁気共鳴スペクトルはほぼ下記の
ような構造を有することを示した。
ルホキシド）中での核磁気共鳴スペクトルはほぼ下記の
ような構造を有することを示した。
１１
、△。
１１
＼／
上記スペクトルは、水和及び非水和芳香族化合物の混合
物の核磁気共鳴スペクトルに約６３．４％でのシャープ
な単一線を完全に欠くものであった。
物の核磁気共鳴スペクトルに約６３．４％でのシャープ
な単一線を完全に欠くものであった。
（３４）
このピークの消失は、水和水の完全な除去及び実質上水
和された種の存在しないジメチル５−（４−ナトリウム
スルホフェノキシ）イソフタレートの残存を示している
。
和された種の存在しないジメチル５−（４−ナトリウム
スルホフェノキシ）イソフタレートの残存を示している
。
以下余白
１□ｉ）′
ＬＣジメチル５−（４−ナトリウムスルホシクロへキシ
ルオキシ）〜１．３−シクロヘキサンジカルボキシレー
トの製造〕 製造例１で製造したジメチル５〜（４−ナトリウムスル
ホフェノキシ）イソフタレート約２００．０ｇを、メタ
ノール、水及び酢酸（容積比で７５：２３＝２）の混合
物的１６００ｍ／に溶解した。
ルオキシ）〜１．３−シクロヘキサンジカルボキシレー
トの製造〕 製造例１で製造したジメチル５〜（４−ナトリウムスル
ホフェノキシ）イソフタレート約２００．０ｇを、メタ
ノール、水及び酢酸（容積比で７５：２３＝２）の混合
物的１６００ｍ／に溶解した。
炭素上のロジウム触媒的３０．０ ｇを加えた。この混
合物を温度１１５℃及び圧力２５００ ｐｓｉで４時間
振盪した。触媒を濾過で除いた後、溶媒を蒸発させ、そ
して油状の残渣を乾燥アセトン中で処理した。濾過によ
って除去した、アセトン不溶固形分の核磁気共鳴スペク
トルは、所望の化合物の水和物、少量の前記化合物の二
数及びごくわずかの残存出発物質を示した。アセトン溶
解留分（濾液）はほとんど完全に非水和のジエステルを
含んでいた。アセトンを蒸発させて約１００ｇの白色固
体物質を得た。この物質の核磁気共鳴スペクトルを乾燥
ＤＭＳＯ中で実施し、以下のプロトンに割り当てた値が
得られた。
合物を温度１１５℃及び圧力２５００ ｐｓｉで４時間
振盪した。触媒を濾過で除いた後、溶媒を蒸発させ、そ
して油状の残渣を乾燥アセトン中で処理した。濾過によ
って除去した、アセトン不溶固形分の核磁気共鳴スペク
トルは、所望の化合物の水和物、少量の前記化合物の二
数及びごくわずかの残存出発物質を示した。アセトン溶
解留分（濾液）はほとんど完全に非水和のジエステルを
含んでいた。アセトンを蒸発させて約１００ｇの白色固
体物質を得た。この物質の核磁気共鳴スペクトルを乾燥
ＤＭＳＯ中で実施し、以下のプロトンに割り当てた値が
得られた。
Ｈａ
６０．８〜２．５ （Ｈａ、Ｈｂ、Ｈｃ、Ｈｆ＋及びＨ
ｇ、分解されていない非常に複雑なスペクトル部分）、
３．６（Ｃ）Ｌ３）、約３．６（ＣＨ，によって部分的
ニマスクされた、Ｈｄ及びＨｅ）。Ｈｘは確然としては
位置していないブロードな多重線であった。もし水和物
が存在していたら、単一線は３．３〜３．４６の位置に
存在し、それはサンプルにＤ２ｏを加えた場合記消失し
たであろう、このスペクト′ルにはその（３７） ような単一線は存在しなかった。
ｇ、分解されていない非常に複雑なスペクトル部分）、
３．６（Ｃ）Ｌ３）、約３．６（ＣＨ，によって部分的
ニマスクされた、Ｈｄ及びＨｅ）。Ｈｘは確然としては
位置していないブロードな多重線であった。もし水和物
が存在していたら、単一線は３．３〜３．４６の位置に
存在し、それはサンプルにＤ２ｏを加えた場合記消失し
たであろう、このスペクト′ルにはその（３７） ような単一線は存在しなかった。
水素添加の成功はＮＭＲスペクトルの芳香族領域（６７
，７〜８．１）を試験することによって定めた。残存芳
香族出発物質の芳香族プロトンはこの領域に認められる
はずであるが、完全にその存在はなく、従って水素添加
反応は少なくとも９５％完結したことを示している。
，７〜８．１）を試験することによって定めた。残存芳
香族出発物質の芳香族プロトンはこの領域に認められる
はずであるが、完全にその存在はなく、従って水素添加
反応は少なくとも９５％完結したことを示している。
９１１２（ジメチル５−（４−ナトリウムスルホシクロ
へキシルオキシ）−１，３−シクロヘキサンジカルボキ
シレートの縮合１合）以下に示した反応体を、表示の量
で５０ｍｚの丸底フラスコ中に秤量した。
へキシルオキシ）−１，３−シクロヘキサンジカルボキ
シレートの縮合１合）以下に示した反応体を、表示の量
で５０ｍｚの丸底フラスコ中に秤量した。
以下余白
（３８）
フラスコを窒素のゆるい流れで１５分間フラッシュし、
次いで２１５℃の塩浴中に浸漬した。依然として窒素雰
囲気下に保ちながら、反応体を透明な溶融体になるまで
放置し、次にテトラ−イソプロピルオルトチタネート触
媒２滴を加えた。約９０分間にわたって理論収量のアル
コールを集めた後、反応混合物を、コール−バーマー一
定速度及びトルク制御ユニットによって制御された一定
攪拌下に０．１鶴雰囲気下に置いた。所望の重合度が約
６０分〜９０分で達成された。
次いで２１５℃の塩浴中に浸漬した。依然として窒素雰
囲気下に保ちながら、反応体を透明な溶融体になるまで
放置し、次にテトラ−イソプロピルオルトチタネート触
媒２滴を加えた。約９０分間にわたって理論収量のアル
コールを集めた後、反応混合物を、コール−バーマー一
定速度及びトルク制御ユニットによって制御された一定
攪拌下に０．１鶴雰囲気下に置いた。所望の重合度が約
６０分〜９０分で達成された。
この縮合重合物の内部粘度を、ｏ、ｚｓｊ／ｌｏ。
ｍｊ！の溶液濃度で２５℃でｌ：１重量比のフェノール
及びクロロベンゼンの混合液中で、ＯＣＡ／プレシジョ
ンサイエンティフィクビスコメータを用いて測定した。
及びクロロベンゼンの混合液中で、ＯＣＡ／プレシジョ
ンサイエンティフィクビスコメータを用いて測定した。
その結果、（η）は０．２０であった。
例３〜１３（ジメチル５−（４−ナトリウムスルボッエ
キシルオキシ）−１，３ 一シクロヘキサンジカルボキシレ ートを含む縮合重合体） （４０） 例２の方法に従って、化合物ジメチル５−（４−ナトリ
ウムスルボッエキシルオキシ）−１，３−シクロヘキサ
ンジカルボキシレート（Ｊ）を以、下の化合物と縮合重
合した。
キシルオキシ）−１，３ 一シクロヘキサンジカルボキシレ ートを含む縮合重合体） （４０） 例２の方法に従って、化合物ジメチル５−（４−ナトリ
ウムスルボッエキシルオキシ）−１，３−シクロヘキサ
ンジカルボキシレート（Ｊ）を以、下の化合物と縮合重
合した。
Ａ ＨＯＣ２Ｈ４０Ｈ
ＣＨＩ％
Ｂ Ｉ（Ｏ−ＣＨ２−Ｃ−ＣＨ，−ＯＨ菅
Ｈａ
ＣＨＯ−Ｃ２Ｈ４０す［４０Ｈ
（４１）
以下の第２表は、得られた縮合重合体の組成１びに各重
合体の内部粘度、ガラス転移温度及び溶解度特性を示す
。
合体の内部粘度、ガラス転移温度及び溶解度特性を示す
。
（４２）
例１４（ジメチル５−（４−ナトリウムスルホシクロへ
キシルオキシ）−１，３−シ クロヘキサンジカルボキシレートを含 む縮合重合体の塩許容性〕 例２の縮合重合体、ポリ 〔ｌ、４−シクロヘキシレン
ビス（オキシエチレン）スクシネート−コール−フェニ
レンビス（アクリレート）−コー５＝（４−ナトリウム
スルホシクロへキシルオキシ）−１，３−シクロヘキサ
ンジカルボキシレート〕（１００：１０：５５：３５）
を含む第一の水溶液（溶液Ａ）と、縮合重合体ポリ 〔
１，４−シクロヘキシレンビス（オキシエチレン）スク
シネート−コール−フェニレンビス（アクリレート）−
ツー５−ナトリウムスルホイソフタレート〕（１００：
１０：５５：３５）を含む第二の水溶液（溶液Ｂ）との
二つの水溶液（０，０６６ｇ／ｊりを調製した。二つの
溶液Ａ及びＢの濁度を、０．１モル濃度の塩化カルシウ
ム溶液を徐々に加えて、ネフェロメーターを用いて監視
した。１．０ ｍ ｌの溶液ｉにわずか１２５μｌの一
花カルシウム水溶液を添加した時点で７０％相対濁度の
測定が得られた。しかしながら、同じ量の溶液Ａのサン
プルの７０％相対濁度が得られるのには７００μｌの塩
化カルシウム溶液が必要であり、シクロアルキルスルホ
ネート繰返し単位を含む本発明の縮合重合体の卓越した
動力学的凝固性及び改良された塩許容性を示した。
キシルオキシ）−１，３−シ クロヘキサンジカルボキシレートを含 む縮合重合体の塩許容性〕 例２の縮合重合体、ポリ 〔ｌ、４−シクロヘキシレン
ビス（オキシエチレン）スクシネート−コール−フェニ
レンビス（アクリレート）−コー５＝（４−ナトリウム
スルホシクロへキシルオキシ）−１，３−シクロヘキサ
ンジカルボキシレート〕（１００：１０：５５：３５）
を含む第一の水溶液（溶液Ａ）と、縮合重合体ポリ 〔
１，４−シクロヘキシレンビス（オキシエチレン）スク
シネート−コール−フェニレンビス（アクリレート）−
ツー５−ナトリウムスルホイソフタレート〕（１００：
１０：５５：３５）を含む第二の水溶液（溶液Ｂ）との
二つの水溶液（０，０６６ｇ／ｊりを調製した。二つの
溶液Ａ及びＢの濁度を、０．１モル濃度の塩化カルシウ
ム溶液を徐々に加えて、ネフェロメーターを用いて監視
した。１．０ ｍ ｌの溶液ｉにわずか１２５μｌの一
花カルシウム水溶液を添加した時点で７０％相対濁度の
測定が得られた。しかしながら、同じ量の溶液Ａのサン
プルの７０％相対濁度が得られるのには７００μｌの塩
化カルシウム溶液が必要であり、シクロアルキルスルホ
ネート繰返し単位を含む本発明の縮合重合体の卓越した
動力学的凝固性及び改良された塩許容性を示した。
例１５〔色素インビビション光硬化性画像材料における
縮合重合体の評価〕 ポジの連続トーンの色素像を生成する色素インビビショ
ン画像要素を以下のようにして製造した。
縮合重合体の評価〕 ポジの連続トーンの色素像を生成する色素インビビショ
ン画像要素を以下のようにして製造した。
下塗りしたポリ （エチレンテレフタレート）フィルム
支持体上に媒染層を塗布した。媒染層は以下のものを含
む。
支持体上に媒染層を塗布した。媒染層は以下のものを含
む。
以下余白
成 分 被 覆 量□
ポリ （スチレンーコーＮ−４０４，３ビニル−ベンジ
ル−Ｎ、Ｎ− ジメチル−Ｎ−シクロヘキシル アンモニウムクロリドーコー ジビニルベンゼン （４１４９： ２ ） （媒染体） ゼラチン（バインダー） ２０ ２．２
ホルムアルデヒド（硬化剤） ２ ０．２
２界面活性剤（Ｓｕｒｆａｃｔａｎｔ １０Ｇ＊）
１．２ ０．１３＊米国０１ｉｎ Ｃｏｒｐｏｒａ
ｔｉｏｎより市販のｐ−イソノニルフェノキシポリグリ
シドールの商標名以下余白 （４６） 以下の縮合重合体＾、Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｉｔ及び対照Ｆを含
む光硬化性層をｉｉｊ記媒染層を有する種々の支持体サ
ンプル上に塗布し・た。
ル−Ｎ、Ｎ− ジメチル−Ｎ−シクロヘキシル アンモニウムクロリドーコー ジビニルベンゼン （４１４９： ２ ） （媒染体） ゼラチン（バインダー） ２０ ２．２
ホルムアルデヒド（硬化剤） ２ ０．２
２界面活性剤（Ｓｕｒｆａｃｔａｎｔ １０Ｇ＊）
１．２ ０．１３＊米国０１ｉｎ Ｃｏｒｐｏｒａ
ｔｉｏｎより市販のｐ−イソノニルフェノキシポリグリ
シドールの商標名以下余白 （４６） 以下の縮合重合体＾、Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｉｔ及び対照Ｆを含
む光硬化性層をｉｉｊ記媒染層を有する種々の支持体サ
ンプル上に塗布し・た。
縮合重合体 ５４ ５．８３
＾、Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｅ又は対照Ｆ ３− （７−メドキシー３− ２．７ ０．
２９クマリノイル）−１−メチル ピリジニウム−ｐ−トルエン− スルホネート（増感剤） 縮合重合体Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｅ及び対照下は次の通りの
ものである。 。
＾、Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｅ又は対照Ｆ ３− （７−メドキシー３− ２．７ ０．
２９クマリノイル）−１−メチル ピリジニウム−ｐ−トルエン− スルホネート（増感剤） 縮合重合体Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｅ及び対照下は次の通りの
ものである。 。
Ａ、ポリ 〔１，４−シクロヘキシレンビス（オキシエ
チレン）スクシネートーコーフエニレンビス（アクリレ
ート）−コー５−（４−ナトリウムスルホシクロへキシ
ロキシ）−１，３−シクロヘキサン−ジカルボキシレー
ト〕 （４７） （１００：５：５５：４０） Ｂ、１００：１０：５５：３５の割合のＡと同一の繰返
し単位 Ｃ，１００：１５：’５５：３０（Ｄ割合のＡと同一の
繰返し単位 り、１００：１０：６５：２５の割合のＡと同一の繰返
し単位 Ｅ、１００：２５；５５：２０の割合のＡと同一の繰返
し単位 対照Ｆ 、ポリ 〔ｌ、４−シクロヘキシレンビス（オ
キシエチレン）スクシネートーコーフェニレンビス（ア
クリレート）−コー５−（４−ナトリウムスルホフェノ
キシ）イソフタレート （１００：１５：５５：３０） 生成した画像要素を、一般的な写真用ステップタブレッ
トを用いて水銀蒸気光源（Ｋａｌｖａｒ Ｃｏｍｐａｎ
ｙ（米国）から市販のＫａｌｖａｒ Ｋａｌｋａｒｄ２
００露出ユニツト（登録商標））を用いて一７８秒間像
状露光した。
チレン）スクシネートーコーフエニレンビス（アクリレ
ート）−コー５−（４−ナトリウムスルホシクロへキシ
ロキシ）−１，３−シクロヘキサン−ジカルボキシレー
ト〕 （４７） （１００：５：５５：４０） Ｂ、１００：１０：５５：３５の割合のＡと同一の繰返
し単位 Ｃ，１００：１５：’５５：３０（Ｄ割合のＡと同一の
繰返し単位 り、１００：１０：６５：２５の割合のＡと同一の繰返
し単位 Ｅ、１００：２５；５５：２０の割合のＡと同一の繰返
し単位 対照Ｆ 、ポリ 〔ｌ、４−シクロヘキシレンビス（オ
キシエチレン）スクシネートーコーフェニレンビス（ア
クリレート）−コー５−（４−ナトリウムスルホフェノ
キシ）イソフタレート （１００：１５：５５：３０） 生成した画像要素を、一般的な写真用ステップタブレッ
トを用いて水銀蒸気光源（Ｋａｌｖａｒ Ｃｏｍｐａｎ
ｙ（米国）から市販のＫａｌｖａｒ Ｋａｌｋａｒｄ２
００露出ユニツト（登録商標））を用いて一７８秒間像
状露光した。
次に、以下の処理工程を実施した。
（１）蒸留水又は水道水の流水による露光要素の３０秒
間の濯ぎ、 （２）蒸留水又は水道水を含んだ木綿湿パッドによる簡
単なふきとり、 （３）ｐＨ１０，０緩衝液中の以下のシアン色素の０．
４％水溶液中への６０秒間の浸漬 （４）水道水流水による２０秒間の濯ぎ。
間の濯ぎ、 （２）蒸留水又は水道水を含んだ木綿湿パッドによる簡
単なふきとり、 （３）ｐＨ１０，０緩衝液中の以下のシアン色素の０．
４％水溶液中への６０秒間の浸漬 （４）水道水流水による２０秒間の濯ぎ。
上記処理工程のそれぞれは室温（約２１℃）で実施した
。すべてのサンプルに対して白色紙プリント素材と接触
させながら、赤色光に対する反射によって読んで２．１
のＴ値を有する連続トーンの１ 画像が得られた。すべてのサンプルにおいて、スプレー
現像工程（１）′及“びふきとり工程（２）に蒸留水を
使用した場合にはきれいな画像が現像された。
。すべてのサンプルに対して白色紙プリント素材と接触
させながら、赤色光に対する反射によって読んで２．１
のＴ値を有する連続トーンの１ 画像が得られた。すべてのサンプルにおいて、スプレー
現像工程（１）′及“びふきとり工程（２）に蒸留水を
使用した場合にはきれいな画像が現像された。
工程（１）及び（２）に普通の水道水を使用した場合に
は、対照縮合重合体Ｆは、その５−（４−ナトリウムス
ルホフェノキシ）イソフタレート部分のナトリウム塩が
水道水中の一価、二価及び三浦のカチオン塩と交換して
重合体の不溶化を来すので、著しくひどいスカムを生じ
た。対照重合体Ｆの水溶液にカチオン性クマリン増感剤
水溶液をすばやく加えた場合には、沈澱が生じた。この
沈澱は重合体のナトリウムイーオンとクマリン増感剤の
ピリジニウムカチオンとの間の交換生成物として同定さ
れた。この水不溶性重合体クマリン並びに重合体含有画
像要素のスカムの生成は、対照縮合重合体Ｆが非常に塩
感応性であることを示した。
は、対照縮合重合体Ｆは、その５−（４−ナトリウムス
ルホフェノキシ）イソフタレート部分のナトリウム塩が
水道水中の一価、二価及び三浦のカチオン塩と交換して
重合体の不溶化を来すので、著しくひどいスカムを生じ
た。対照重合体Ｆの水溶液にカチオン性クマリン増感剤
水溶液をすばやく加えた場合には、沈澱が生じた。この
沈澱は重合体のナトリウムイーオンとクマリン増感剤の
ピリジニウムカチオンとの間の交換生成物として同定さ
れた。この水不溶性重合体クマリン並びに重合体含有画
像要素のスカムの生成は、対照縮合重合体Ｆが非常に塩
感応性であることを示した。
しかしながら、スプレー現像工程（１）及びふきとり工
程（２）において本発明の縮合重合体Ａ。
程（２）において本発明の縮合重合体Ａ。
Ｂ、Ｃ，Ｄ及びＥを普通の水道水を用いて実施した場合
には、スカムを生じないきれいな現像が行（５０） なわれた。更に水性クマリン増感剤を縮合重合体水溶液
に加えた場合に、重合体クマリン沈澱物は生成しなかっ
た。これらの結果は、シクロアルキルスルホネート繰返
し単位を含む縮合重合体Ａ。
には、スカムを生じないきれいな現像が行（５０） なわれた。更に水性クマリン増感剤を縮合重合体水溶液
に加えた場合に、重合体クマリン沈澱物は生成しなかっ
た。これらの結果は、シクロアルキルスルホネート繰返
し単位を含む縮合重合体Ａ。
Ｂ、Ｃ，Ｄ及びＥの、芳香族スルホネート繰返し単位を
含む対照重合体Ｆに対する卓越した塩許容性を示す。
含む対照重合体Ｆに対する卓越した塩許容性を示す。
特許出願人
イーストマン コダック カンパニー
特許出願代理人
弁理士 青 木 朗
弁理士西舘和之
弁理士 石 １） 敬
弁理士 山 口 昭 之
（５１）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、式 （式中、Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｍは
アルカリ金属又はアンモニウムカチオンである） の化合物。 ２、 （ａ）式 （１） （式中、Ｍはアルカリ金属又はアンモニウムカチオンで
ある）の繰返し単位０．１〜７０モル％、（ｂ）１又は
それ以上の付加的に重合させた共重合可能なポリカルボ
ン酸から誘導された繰返し単位３０〜９９．９モル％、
及び （ｃ）少なくとも一種の重合された共重合可能なジオー
ル、ジアミン又はヒドロキシアミンを含んで成る縮合重
合体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/324,238 US4433130A (en) | 1981-11-23 | 1981-11-23 | Cycloalkylsulfonates, polymers and processes relating to same |
| US324238 | 1989-03-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5892652A true JPS5892652A (ja) | 1983-06-02 |
Family
ID=23262697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57203823A Pending JPS5892652A (ja) | 1981-11-23 | 1982-11-22 | シクロアルキルスルホネ−ト |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4433130A (ja) |
| EP (1) | EP0081925B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5892652A (ja) |
| CA (1) | CA1189083A (ja) |
| DE (1) | DE3262709D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008145135A (ja) * | 2006-12-06 | 2008-06-26 | Shimadzu Corp | 粒度分布測定装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4506094A (en) * | 1981-11-23 | 1985-03-19 | Eastman Kodak Company | Cycloalkylsulfonates, polymers and processes relating to same |
| JPS633024A (ja) * | 1986-06-20 | 1988-01-08 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | イオン結合を含む高分子化合物 |
| JPH05140277A (ja) * | 1991-11-18 | 1993-06-08 | Teijin Ltd | 水性ポリエステル、これを塗設した易接着性ポリエステルフイルム及びその製造方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3682866A (en) * | 1970-08-14 | 1972-08-08 | Ici Ltd | Polyamides having improved affinity for basic dyestuffs |
| US4073777A (en) * | 1975-01-17 | 1978-02-14 | Eastman Kodak Company | Radiation crosslinkable polyester and polyesteramide compositions containing sulfonate groups in the form of a metallic salt and unsaturated groups |
| DE2621653A1 (de) * | 1976-05-15 | 1977-12-01 | Cassella Farbwerke Mainkur Ag | In wasser loesliche oder dispergierbare, verzweigte copolyester und verfahren zu ihrer herstellung |
| US4202785A (en) * | 1978-05-15 | 1980-05-13 | Eastman Kodak Company | Polyesterionomers having utility in liquid electrographic developer compositions |
| US4304900A (en) * | 1980-04-28 | 1981-12-08 | Eastman Kodak Company | Water dissipatable polyesters |
| US4291153A (en) * | 1980-08-01 | 1981-09-22 | Eastman Kodak Company | Water-dispersible polyester adhesives for photographic materials |
-
1981
- 1981-11-23 US US06/324,238 patent/US4433130A/en not_active Expired - Lifetime
-
1982
- 1982-10-07 CA CA000412996A patent/CA1189083A/en not_active Expired
- 1982-11-22 EP EP82306198A patent/EP0081925B1/en not_active Expired
- 1982-11-22 JP JP57203823A patent/JPS5892652A/ja active Pending
- 1982-11-22 DE DE8282306198T patent/DE3262709D1/de not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008145135A (ja) * | 2006-12-06 | 2008-06-26 | Shimadzu Corp | 粒度分布測定装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4433130A (en) | 1984-02-21 |
| EP0081925B1 (en) | 1985-03-20 |
| CA1189083A (en) | 1985-06-18 |
| EP0081925A1 (en) | 1983-06-22 |
| DE3262709D1 (en) | 1985-04-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3960685A (en) | Photosensitive resin composition containing pullulan or esters thereof | |
| US4458007A (en) | Radiation polymerizable mixture containing reaction products of glycerol acrylates and polyisocyanates | |
| CA1046190A (en) | Photographic element capable of using an aqueous alcoholic developer and radiation-sensitive composition and copolymer therefor | |
| US3859099A (en) | Positive plate incorporating diazoquinone | |
| CA1178478A (en) | Photopolymerisation process employing compounds containing acryloyl groups and anthryl groups | |
| US4529682A (en) | Positive photoresist composition with cresol-formaldehyde novolak resins | |
| US2690966A (en) | Photomechanical resist | |
| US20080261147A1 (en) | Photoactive Compounds | |
| JPS58500221A (ja) | 画像形成組成物 | |
| GB1590455A (en) | Radiation sensitive polymers | |
| JPS619420A (ja) | ペルフルオロアルキル基を含有するポリマー、その製法およびこれを含有する放射線感性複写層 | |
| US3905820A (en) | Light sensitive copolymers, a process for their manufacture and copying compositions containing them | |
| JP2000292913A (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物 | |
| KR900000863B1 (ko) | 심부 자외선 석판인쇄 내식막 조성물 및 그의 이용법 | |
| JPS59184209A (ja) | 光感受性重合体 | |
| US3257664A (en) | Light-sensitive polymers | |
| US4066676A (en) | Photosensitive material comprising polyacetylenic amine salts | |
| EP0287750A2 (en) | Photoactive curcumin derivatives | |
| JPS6360057B2 (ja) | ||
| JPS5892652A (ja) | シクロアルキルスルホネ−ト | |
| US3497356A (en) | Photoresist composition and element | |
| US3591377A (en) | Photographic elements and processes employing photosensitive polymers | |
| JP2943740B2 (ja) | 化学増幅型フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | |
| US3738973A (en) | Furoic acid esters of hydroxycontaining polymers | |
| US4506094A (en) | Cycloalkylsulfonates, polymers and processes relating to same |