JPS58884B2 - 放射線照射による排ガス処理方法 - Google Patents

放射線照射による排ガス処理方法

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JPS58884B2
JPS58884B2 JP53162153A JP16215378A JPS58884B2 JP S58884 B2 JPS58884 B2 JP S58884B2 JP 53162153 A JP53162153 A JP 53162153A JP 16215378 A JP16215378 A JP 16215378A JP S58884 B2 JPS58884 B2 JP S58884B2
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exhaust gas
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gas
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reaction temperature
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開道力
吉田浩
青木慎治
片山力
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46—Removing components of defined structure
    • B01D53/60—Simultaneously removing sulfur oxides and nitrogen oxides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/007—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by irradiation
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
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Description

【発明の詳細な説明】 不発明は、放射線照射により排ガス中に含有されるイオ
ウ酸化物（ＳＯｘ）および／または窒素酸化物（ＮＯｘ
）を除去する方法においてこれらの除去の効率を向上さ
せる方法に関する。
工業排ガス中に含まれるＳ０２および／またはＮＯｘを
放射線照射により固形物またはミスト等のエアロゾルに
変換し集塵装置にて除去する方法の発明についてはすで
に特許出願がなされているが、この方法を更に詳しく検
討した結果、脱硝効率ηＮＯｘおよび脱硫効率ηＳＯｘ
は反応温度および排ガスが吸収する放射線のエネルギー
量即ち全線量により影響されることがわかった。
なお反応温度とは、照射容器のはゞ中央部のガス温度を
意味する。
本発明は反応温度を適当な値に保持することにより排ガ
スの脱硝、脱硫を効果的におこなう方法に関するもので
あり、実施例にもとづいて以下にその詳細を述べる。
第１図はＮＮＯｘ２００ｐｐ、５ＳＯｘ２００ｐｐを含
有する工業排ガス３００ＯＮｍ３／ｈｒにアンモニア（
ＮＨ３）を、その濃度が約６ｏｏｐｐｍｔこなるよう添
加したのちこれを照射容器内に導き電子線を全線量が１
．８Ｍｒａｄになるよう照射した場合の反応温度とηＮ
Ｏｘ、ηＳＯｘおよび排出されるガス中のＮＨ３濃度Ｃ
ＮＨ３との関係を示す。
反応温度は４０℃、５０℃、６０℃、６５℃、７５℃、
８０℃、９０℃、１００℃に変化させた。
第１図かられかる通り、ηＳＯｘは反応温度の上昇とと
もにわずかに低下する傾向にあるがηＮＯｘはこの温度
範囲において著しく変化し、５０℃ないし８０℃の温度
範囲できわめて高い水準を維持し、６５℃においてピー
クに達する。
ＮＯｘは他の方法では除去が困難であるが、この方法に
おいて、ηＮＯｘがガス温度によってこのような変化を
示すことは注目に値する。
図中、直接冷却、間接冷却の語は排ガスの冷却方式（後
述）の差をあられす。
第２図は前と同様ＮＮＯｘ２０ｏｐｐ、５ＳＯｘ２００
ｐｐを含有する工業排ガス３００ＯＮｍ３／ｈｒに、そ
の濃度が約６００ｐｐｍになるようアンモニアを添加し
たのちそれを照射容器内に導き種々の全線量において電
子線を照射した場合の全線量とηＮＯｘ。
ηＳＯｘおよび排出されるガス中のＣＮＨ３との関係を
示す。
この場合において反応温度は６５℃および９０℃の２通
りとした。
第２図から反応温度を６５℃とする方が９０℃とするよ
りもηＮＯｘ、ηＳＯｘが高く、かつ低い全線量で効率
よく処理できることがわかる。
以上により明らかなように反応温度を５０℃ないし８０
℃に保つこととすればηＮＯｘは高くまたηＳＯｘもほ
ぼ最高水準を維持しているので低い全線量において効果
的に脱硝、脱硫をおこなうことができる。
このことは装置のイニシアルコストおよびランニングコ
ストが大巾に低減することを意味し、実用上きわめて有
利である。
次に反応温度を望ましい温度範囲に保持するための方法
について述べれば、従来反応温度を制御する方法として
第３図に示すような方法が採用されていた。
即ち、従来の方法は反応温度を検出し、その信号にもと
づいて冷却器の能力を調節する方法である。
しかしながらこの方法では検出部と温度調節部との間に
熱容量の大きい照射容器が介在するため反応温度はバン
チングを起こし、安定するまでに長時間を必要とした。
従来の制御方法のこのような欠点を改善すべく種々検討
した結果、本発明者らは照射容器入口部のガス温度ＴＲ
１ｎと反応温度ＴＲとの間に次の関係があることを見出
した。
ＴＲ中ＴＲ１ｎ＋αＴ１＋βＴ２−ｒＴｓここにＴ１：
放射線による温度上昇 Ｔ２：ＮＯｘ、ＳＯｘの反応熱による温度上昇Ｔ３：照
射容器からの放熱による温度低下α、β、γ：装置固有
の定数 この式からＴＲ１ｎを制御すればＴＲを所定の温度範囲
に保持することが可能であることがわかる。
以上にもとづいて改善したガス温度の制御方法を第４図
に示す。
この方法では照射容器入口部１３のガス温度を検出し、
その信号により２゜１１．１２で構成されるガス温度調
整装置を用いて照射容器入口部のガス温度自体を調整す
る。
ＴＲ１ｎとＴＲとの間には一定の関係があるのでこれに
より反応温度を所定温度範囲内に保持することができる
。
温度検出部と温度調整装置との間にガス温度に影響を及
ぼすようなものが介在しないのでガス温度を短時間で安
定させることが可能である。
この改善された温度制御方法と従来の方法とを比較する
ため目標温度を９０℃に設定した場合の実施例を第５図
および第６図に示す。
この方法によれば従来の方法に較べてはるかに速く反応
温度を目標温度に安定させることができることがわかる
。
なおガス温度調節方法としては第４図に示すようにバイ
パスバルブ１２の開度を調整するのが実用的であるが、
この他に冷却媒体の供給量を変化させるなどの方法もあ
る。
次に入口部ガス温度調整用のガス冷却方式は大別して２
通りある。
排ガスと液体例えば水アルカリ溶液または酸性溶液とを
直接接触させ主に液体の蒸発潜熱により排ガスの温度を
低下させる方式、即ち直接冷却方式と、冷却媒体として
水などの液体を使用するが排ガスと液体とを直接接触さ
せることなく主として熱伝導により排ガスの温度を低下
させる方式、即ち間接冷却方式の２通りである。
これら２通りの冷却方式について比較検討した結果、冷
却方式の差によりηＮＯｘは殆んど変化しないがηＳＯ
ｘおよび排出アンモニア濃度ＣＮＨ３はかなりの影響を
うけ、直接冷却方式の方がηＳＯｘが高くＣＮＨ３が安
定して低いということを見出した。
この様子は第１図に示されている。このことから排ガス
の冷却方式として直接冷却方式を採用するのが有利であ
ることがわかる。
以上に述べた如く放射線照射により排ガス処理をおこな
う場合に反応温度を５０℃から８０℃の範囲に保持する
こととすれば脱硝、脱硫が効果的におこなわれこの排ガ
ス温度の調整は照射容器入口部のガス温度を制御するこ
とによりおこなうのがよく、また排ガス温度の冷却方式
として直接冷却方式を採用するのが有利である。
これらを組合わせることにより実用上きわめて経済的な
排ガス処理装置が得られるのである。
【図面の簡単な説明】
第１図は反応温度と脱硝率ηＮＯｘ、脱硫率ηＳＯｘお
よび照射容器から排出されるガス中のアンモニア濃度Ｃ
ＮＨ３との関係をあられす。 第２図は全線量と脱硝率、脱硫率および照射容器から排
出されるガス中のアンモニア濃度ＣＮＨ３との関係をあ
られす。 第３図は従来の排ガス処理装置の構成図である。 図中１は排ガス入口、２はガス温度調整装置、３はアン
モニア供給装置、４は照射容器、５は放射線源、６はガ
ス温度測定装置、７は集塵装置、８は排ガス出口、９は
温度記録計、１ｏは照射容器窓箔である。 第４図は改善された排ガス処理装置の構成図である。 図中１〜１０は第３図について説明した通りであり、１
１はバイパス、１２はバルブ、１３は入口部ガス温度測
定装置をそれぞれ表わす。 第５図は改善された方法によりガス温度の制御状態を、
また第６図は従来の方法によるガス温度の制御状態をあ
られす。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ アンモニアを添加した排ガスに放射線を照射するこ
    とにより排ガス処理を行なうに際し、反応温度を５０℃
    から８０℃の間に保持することを特徴とする排ガス処理
    方法。 ２ 反応温度の調整を照射容器入口部のガス温度を制御
    することにより行なうことを特徴とする特許請求の範囲
    第１項記載の排ガス処理方法。 ３ 排ガスを液体に直接接触させる冷却方式をガス温度
    の調整のために用いることを特徴とする特許請求の範囲
    第２項記載の排ガス処理方法。
JP53162153A 1978-12-29 1978-12-29 放射線照射による排ガス処理方法 Expired JPS58884B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6085085A (ja) * 1983-10-14 1985-05-14 Kubota Ltd 管内自走装置

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4372832A (en) * 1981-01-21 1983-02-08 Research-Cottrell, Incorporated Pollution control by spray dryer and electron beam treatment
JPS57187020A (en) * 1981-05-13 1982-11-17 Ebara Corp Method for decomposing nox gas and removing nox
US4525142A (en) * 1984-06-11 1985-06-25 Research-Cottrell, Inc. Process for treating flue gas with alkali injection and electron beam
DE3501158A1 (de) * 1985-01-16 1986-07-17 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Verfahren und vorrichtung zum reinigen von schwefel- und stickstoffhaltigen rauchgasen
AT382089B (de) * 1985-04-05 1987-01-12 Waagner Biro Ag Verfahren und einrichtung zur reinigung von mit staeuben und schadgasen verunreinigten abgasen
JPS62250933A (ja) * 1986-04-24 1987-10-31 Ebara Corp 電子線照射による排ガス処理方法および装置
DE3616800A1 (de) * 1986-05-17 1987-11-19 Kernforschungsz Karlsruhe Einrichtung zur bestrahlung stroemender medien
AT387158B (de) * 1987-04-03 1988-12-12 Zebinger Hans Dipl Ing Vorrichtung zur reinigung von abgasen
EP0294658B1 (en) * 1987-05-30 1993-01-27 Ebara Corporation Process for treating effluent gas
JPH0741143B2 (ja) * 1987-05-30 1995-05-10 株式会社荏原製作所 排ガス処理法
US4969984A (en) * 1987-06-01 1990-11-13 Ebara Corporation Exhaust gas treatment process using irradiation
US4832806A (en) * 1987-07-01 1989-05-23 Research-Cottrell, Inc. Radiation for the selective destruction of toxic molecules on solid surfaces
JPH01115440A (ja) * 1987-10-30 1989-05-08 Ebara Corp 電子線照射排ガス処理における副生物のダクト内付着防止方法
JPH0640945B2 (ja) * 1987-12-10 1994-06-01 株式会社荏原製作所 放射線照射排ガス処理法
US4906256A (en) * 1989-03-23 1990-03-06 Membrane Technology & Research, Inc. Membrane process for treatment of fluorinated hydrocarbon-laden gas streams
US5319211A (en) * 1992-09-08 1994-06-07 Schonberg Radiation Corp. Toxic remediation
US5357291A (en) * 1992-09-08 1994-10-18 Zapit Technology, Inc. Transportable electron beam system and method
US5378898A (en) * 1992-09-08 1995-01-03 Zapit Technology, Inc. Electron beam system
JPH0847618A (ja) * 1994-06-03 1996-02-20 Ebara Corp 排ガス処理用電子線照射方法
JP3431731B2 (ja) * 1994-08-16 2003-07-28 株式会社荏原製作所 電子線照射排ガス処理装置
JP3361200B2 (ja) * 1994-12-12 2003-01-07 日本原子力研究所 電子ビーム照射排ガス処理法及び装置
JP3103027B2 (ja) * 1995-11-27 2000-10-23 株式会社荏原製作所 汚水中のアンモニアを用いる排ガスの処理方法と装置
BR9713397A (pt) * 1996-11-25 2000-01-25 Ebara Corp Método e aparelho para produzir um fertilizante a partir de um gás que contém óxidos de enxofre.
BR9815346A (pt) 1997-12-01 2002-07-09 Ebara Corp Método e aparelho para desulfurizacao de gas residual

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4817471B1 (ja) * 1968-09-09 1973-05-29
FR2213795A1 (en) * 1973-01-11 1974-08-09 Ebara Mfg Waste gases purificn. - partic. sulphur and nitrogen oxides removal by using ionising irradiation
US3869362A (en) * 1973-01-11 1975-03-04 Ebara Mfg Process for removing noxious gas pollutants from effluent gases by irradiation
US4097349A (en) * 1976-03-31 1978-06-27 Stephen Zenty Photochemical process for fossil fuel combustion products recovery and utilization
JPS5390159A (en) * 1977-01-21 1978-08-08 Kureha Chem Ind Co Ltd Denitrating method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6085085A (ja) * 1983-10-14 1985-05-14 Kubota Ltd 管内自走装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5597233A (en) 1980-07-24
US4294674A (en) 1981-10-13
DE2952458C2 (de) 1991-04-18
DE2952458A1 (de) 1980-11-13

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