JPS587708B2 - 不透明および／または透明な模様の隣りに光を散乱させるくもつた模様を形成する方法 - Google Patents

不透明および／または透明な模様の隣りに光を散乱させるくもつた模様を形成する方法

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JPS587708B2
JPS587708B2 JP55158928A JP15892880A JPS587708B2 JP S587708 B2 JPS587708 B2 JP S587708B2 JP 55158928 A JP55158928 A JP 55158928A JP 15892880 A JP15892880 A JP 15892880A JP S587708 B2 JPS587708 B2 JP S587708B2
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JP
Japan
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layer
pattern
photoresist
opaque
illuminated
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JP55158928A
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JPS5690979A (en
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エーリツヒ・バイエル
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Dr Johannes Heidenhain GmbH
Original Assignee
Dr Johannes Heidenhain GmbH
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Publication date
Application filed by Dr Johannes Heidenhain GmbH filed Critical Dr Johannes Heidenhain GmbH
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    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
    • G02B5/021—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
    • G02B5/0221—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having an irregular structure
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0268—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the fabrication or manufacturing method
    • G—PHYSICS
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    • G02B5/0273—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use
    • G02B5/0278—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use used in transmission
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、特許請求の範囲第１項の上部概念に記載した
如き、不透明および／または透明な模様の隣りに光を散
乱させるくもった模様を形成する方法に関する。
上記した様な光を散乱させるくもった模様は例えばカメ
ラのファインダーやトランシットの焦点板に使用される
。
従来光を散乱させるくもった模様は、機械的に形成され
た摺り硝子板の表面に模様を形成する層を付着させるこ
とで形成された。
しかしこの方法は模様を表わす層が小孔を形成し易いと
いう欠点を持っている。
更にこの方法によっては光を散乱させるくもった模様と
不透明な模様しか得られない。
本発明の目的は、透明な担持体上の不透明および／また
は透明な模様の隣りに、光を散乱させるくもった模様を
、純粋な写真石版術的な方法で形成する方法を提供する
ことである。
上記の目的は本発明により特許請求の範囲第１項の特徴
を表わす部分に記載されている方法により達成される。
本発明の特徴は特に、透明および不透明な模様の隣りに
光を散乱させるくもった模様を形成するため、唯１箇の
照明マスクを用いるだけであるという点にある。
本発明の１つの実施例が添附図に示されそして次の記述
において詳細に説明されている。
本発明により照明マスク１を形成するため、透明な研摩
された担持体２の表面にクロームの層３が付着させられ
そしてその上フォトレジストの層が付着させられる（第
１ａ図）。
このフォトレジストの層４は形成すべき模様を有する補
助マスク５を用いて照明される。
フォトレジスト４の照明された部分を取り除いた後で、
クローム層の露出した部分が腐蝕で取り去られそして残
留しているフォトレジストが取り去られる。
照明マスク１は今や形成すべき模様を持っている（第１
ｂ図）。
形成すべき模様を所有している照明マスク１の表面に別
のフォトレジスト層６が付着させられそして機械的に形
成された摺り硝子板７を透して照明される（第１ｃ図）
。
フォトレジスト層６の照明された部分を取り除いた後で
別のクローム層８が付着され（第１ｄ図）そして引続い
て残留しているフォトレジスト６とそれに付着している
クローム層８が取り除かれる。
照明マスク１は今やそれの全表面に、クローム層８の残
留部分として、統計的に分布した相異なる大きさのクロ
ーム粒子９を所有している。
光を散乱させる模様を形成するため、透明な担持体１０
の表面にクロームの層１１が付着させられそしてその上
にフォトレジストの層１２が付着させられる（第２ａ図
）。
このフォトレジストの層１２は上記した照明マスク１を
用いて照明される。
フォトレジスト層１２の照明された部分を取り除いた後
でクローム層１１の露出した部分が腐蝕により取り除か
れ（第２ｂ図）そして残留しているフォトレジストの層
１２が取り除かれる。
次に露出している透明な担持体１０の表面が深く腐蝕さ
れ（第２ｃ図）、クローム粒子１３の背後まで腐蝕が進
んでクローム粒子が取り去られるまで続けられる。
透明な担持体１０の深く腐蝕された表面部分は光を散乱
させる模様１４を形成する（第２ｄ図）。
上記模様１４の両側に位置する不透明な模様部分１１は
それの全体又は一部分が取り除かれ、かくして光を散乱
させるくもった模様１４の隣りに不透明な模様１１およ
び透明な模様１５が得られる。
【図面の簡単な説明】
第１ａ乃至１ｅ図は本発明による照明マスクの製造方法
を示し、第２ａ乃至２ｄ図は光を散乱させるくもった模
様を形成する方法を示す。 図において、１・・・・・・照明マスク、６・・・・・
・フォトレジストの層、７・・・・・・摺り硝子板、８
・・・・・・不透明な層である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ １つの照明マスクを用いて、不透明および／または
    透明な模様の隣りに光を散乱させるくもった模様を形成
    する方法において、次の方法過程の組み合わせによるこ
    とを特徴とする方法：ａ）照明マスク１の表面にフォト
    レジストの層６が付着させられそして摺り硝子７を透し
    て照明され、そのことにより摺り硝子７の散乱要素によ
    り、種々異なる大きさの、照明されおよび照明されない
    微小範囲がフォトレジスト層６内に生じ、 ｂ）上記のフォトレジスト層を現像し、フォトレジスト
    層６の照明された部分を取り除いた後で別の不透明層８
    が付着されそして引続いて残留しているフォトレジスト
    ６とそれに付着している不透明層８の部分が取り除かれ
    、 Ｃ）透明な相持体１０の表面に模様をあらわすための層
    １１とこの層の上にフォトレジストの層１２が付着させ
    られ、このフォトレジストの層１２は、上記ａ）， ｂ
    ）の過程で用意された照明マスク１を中介して照明され
    、 ｄ）フォトレジスト層１２の照明された部分を現像によ
    り取り除いた後で、模様をあらわすための層１１の露出
    した部分が腐蝕により取り除かれそして残留しているフ
    ォトレジストの層１２が取り除かれ、 ｅ）上記に引続いて、この際露出している透明な担持体
    １０の表面が深く腐蝕される。 ２ 不透明な層８は金属又は金属酸化物から成ることを
    特徴とする、特許請求の範囲第１項記載の方法。
JP55158928A 1979-11-16 1980-11-13 不透明および／または透明な模様の隣りに光を散乱させるくもつた模様を形成する方法 Expired JPS587708B2 (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2946235A DE2946235C3 (de) 1979-11-16 1979-11-16 Verfahren zur Erzeugung einer Belichtungsmaske zur Herstellung von mattstreuenden Strukturen neben opaken und/oder transparenten Strukturen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5690979A JPS5690979A (en) 1981-07-23
JPS587708B2 true JPS587708B2 (ja) 1983-02-10

Family

ID=6086111

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JP55158928A Expired JPS587708B2 (ja) 1979-11-16 1980-11-13 不透明および／または透明な模様の隣りに光を散乱させるくもつた模様を形成する方法

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US (1) US4368245A (ja)
JP (1) JPS587708B2 (ja)
AT (1) AT373090B (ja)
CH (1) CH653138A5 (ja)
DE (1) DE2946235C3 (ja)
FR (1) FR2469741B1 (ja)
GB (1) GB2065921B (ja)
IT (1) IT1133542B (ja)

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Publication number Publication date
IT8012718A0 (it) 1980-11-12
FR2469741A1 (fr) 1981-05-22
CH653138A5 (de) 1985-12-13
US4368245A (en) 1983-01-11
DE2946235B2 (de) 1981-08-13
AT373090B (de) 1983-12-12
IT1133542B (it) 1986-07-09
GB2065921A (en) 1981-07-01
FR2469741B1 (fr) 1987-03-20
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GB2065921B (en) 1983-09-07
DE2946235C3 (de) 1982-04-08
ATA545180A (de) 1983-04-15

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