JPS5874669A - ピラゾ−ル誘導体の製造方法 - Google Patents
ピラゾ−ル誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5874669A JPS5874669A JP14815282A JP14815282A JPS5874669A JP S5874669 A JPS5874669 A JP S5874669A JP 14815282 A JP14815282 A JP 14815282A JP 14815282 A JP14815282 A JP 14815282A JP S5874669 A JPS5874669 A JP S5874669A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound shown
- compound
- herbicide
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はピラゾール誘導体の製造方法に関する。
さらに詳しくは本発明は、
（ａ１２ｉ２ｙ＃ ）基、７”ロパルイル基、４・ニト
ロベンシル基、７工本チル基、７エナシル基、４−クロ
ロ７エナシル基、２，４−ＥＪ９０ロアｚナシル基、４
−メチルスルホニル７エナシル基または２．４−ジニト
ロフェニル基である〕で表わされるピラゾール誘導体の
製造方法に係るものである。
ロベンシル基、７工本チル基、７エナシル基、４−クロ
ロ７エナシル基、２，４−ＥＪ９０ロアｚナシル基、４
−メチルスルホニル７エナシル基または２．４−ジニト
ロフェニル基である〕で表わされるピラゾール誘導体の
製造方法に係るものである。
本発明に係るピラゾール誘導体は一般に下記の方法で製
造される。
造される。
上記反応式中Ｙ及びＺは前述の通りであり、Ｈａｆｆは
へロデン原子である。上記反応において使用する溶媒と
してはナセシン、メチルエチルケトン、ジメチルホルム
アミドなどの非プロ）ン極性溶媒類があげられ、本たア
ルカリとしては炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化
ナトリウムなどがあげられる。なお、沃化銅、弗化綱な
どのハロゲン化第−銅触媒を存在させた場合に、その反
応性を向上させることができる。
へロデン原子である。上記反応において使用する溶媒と
してはナセシン、メチルエチルケトン、ジメチルホルム
アミドなどの非プロ）ン極性溶媒類があげられ、本たア
ルカリとしては炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化
ナトリウムなどがあげられる。なお、沃化銅、弗化綱な
どのハロゲン化第−銅触媒を存在させた場合に、その反
応性を向上させることができる。
次に本発明による具体的合成例を記載する。
製造例１ １，３−ジメチル−４−（２，４−ジクロロ
ベンゾイル）−５−（２、４−ジニトロフェノキシ）ピ
ラゾール ４ツロフラスコに１．３−ジメチル−４−＜２．４−ジ
クロロベンゾイル）・５−ヒドロ〜シビラゾール１，４
３．を入れてメチルエチルケトン１５−ｇに溶解させた
。これに蕉水炭酸カリウム１．３８ｇを加えて攪拌しな
がら２．４−ジニトロ７エ二ルフルオリドＯＬ９３ｇを
摘下し、滴下終了後３時間還流条件下で反応させた。フ
ラスコ内容物を濾過しメチルエチルケトンを留去して反
応沈澱物を得、これを塩化メチレンに溶解させた。この
溶−と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液とを混合し、号液
して有機層を取り出し、塩化メチレンを留去して固形物
を得た。この固形物をベンゼンで洗浄して融点１９０〜
１９２℃の目的物１．５８ｇを得た。
ベンゾイル）−５−（２、４−ジニトロフェノキシ）ピ
ラゾール ４ツロフラスコに１．３−ジメチル−４−＜２．４−ジ
クロロベンゾイル）・５−ヒドロ〜シビラゾール１，４
３．を入れてメチルエチルケトン１５−ｇに溶解させた
。これに蕉水炭酸カリウム１．３８ｇを加えて攪拌しな
がら２．４−ジニトロ７エ二ルフルオリドＯＬ９３ｇを
摘下し、滴下終了後３時間還流条件下で反応させた。フ
ラスコ内容物を濾過しメチルエチルケトンを留去して反
応沈澱物を得、これを塩化メチレンに溶解させた。この
溶−と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液とを混合し、号液
して有機層を取り出し、塩化メチレンを留去して固形物
を得た。この固形物をベンゼンで洗浄して融点１９０〜
１９２℃の目的物１．５８ｇを得た。
製造例２ １，３−ツメチル−４−（２、４−ジクロロ
ベンゾイル）−５−プロパルギルオキシピラゾール２雷
４−ノ二Ｙロフェニルフルオリド０．９３ｇに代えてプ
ロパルギルブロミ）＃０．７１ｇを使用することを除い
ては、前記製造例１と同様にして反応させ、精製して、
屈折率ｎＤ”１．５８５の目的物０．９３ｇを得ｒ：、
。
ベンゾイル）−５−プロパルギルオキシピラゾール２雷
４−ノ二Ｙロフェニルフルオリド０．９３ｇに代えてプ
ロパルギルブロミ）＃０．７１ｇを使用することを除い
ては、前記製造例１と同様にして反応させ、精製して、
屈折率ｎＤ”１．５８５の目的物０．９３ｇを得ｒ：、
。
製ｍＭ３ １．３−ノツチルー４−（２１４−ジクロ
ロベンゾイル）−５−（４−クロロベンゾイルメトキシ
）ピラゾール ２．４−ジニトロ７エ二ルフルオリド０．９３ｇに代え
てｐ−クロロ７エナシルブロミド１．０ｇを使用するこ
とを除−１では、前記製造例１と同様にしで反応させ、
精製しで、茶褐色の半固状目的物１．７２ｇを得た。
ロベンゾイル）−５−（４−クロロベンゾイルメトキシ
）ピラゾール ２．４−ジニトロ７エ二ルフルオリド０．９３ｇに代え
てｐ−クロロ７エナシルブロミド１．０ｇを使用するこ
とを除−１では、前記製造例１と同様にしで反応させ、
精製しで、茶褐色の半固状目的物１．７２ｇを得た。
製造例４ １．３−ジメチル−４−（２，４−ジクロロ
ベンゾイル）−５〜ベンゾイルメトキシピラゾール４ツ
ロフラスコに１．３−ジメチル−４−（２、４−ジクロ
ロベンゾイル）−５−ヒＶｔ１Ｉ＋１！−シピラゾール
１．４３．、を入れて、メチルエチルケトン１５＠Ｑに
溶解させた。これに簾水炭酸カリウム１．３８ｇを加え
で攪拌しながら７エナシルプロミド１．０ｇを滴下し、
滴下終了後３時間還流条件下で反応させた。フラスコ内
容物を濾過し、メチルエチルケトンを留去して反応沈澱
物を得、これを塩化メチレンに溶解させた。この溶液と
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液とを混合し、分液して有
機層を取り出し、塩化メチレンを留去して融点１０２〜
１０４℃の目的物１．９２ｇを得た。
ベンゾイル）−５〜ベンゾイルメトキシピラゾール４ツ
ロフラスコに１．３−ジメチル−４−（２、４−ジクロ
ロベンゾイル）−５−ヒＶｔ１Ｉ＋１！−シピラゾール
１．４３．、を入れて、メチルエチルケトン１５＠Ｑに
溶解させた。これに簾水炭酸カリウム１．３８ｇを加え
で攪拌しながら７エナシルプロミド１．０ｇを滴下し、
滴下終了後３時間還流条件下で反応させた。フラスコ内
容物を濾過し、メチルエチルケトンを留去して反応沈澱
物を得、これを塩化メチレンに溶解させた。この溶液と
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液とを混合し、分液して有
機層を取り出し、塩化メチレンを留去して融点１０２〜
１０４℃の目的物１．９２ｇを得た。
上記製造性成いは製造例に準じで製造した化合物を次表
に記載する。
に記載する。
本発明のピラゾール誘導体は、後記試験例にみる通り、
除草剤の有効成分として使用した場合に好適な作用効果
を示す。特にイネなどの作物に対して実質的に害を与え
ることなく、ヒエ、カヤツリグサ、斗カシグサ、ホタル
イ、ウリカワなどの有害雑草をよ（防除する。
除草剤の有効成分として使用した場合に好適な作用効果
を示す。特にイネなどの作物に対して実質的に害を与え
ることなく、ヒエ、カヤツリグサ、斗カシグサ、ホタル
イ、ウリカワなどの有害雑草をよ（防除する。
本発明除草剤は各種雑草に対してすぐれた除草効果をも
たらすので、その適用範囲は水田をはじめ、畑地、果樹
園、桑園、山林、農道、グラウンド、工場敷地など多岐
にわたり、適用方法も土壌処理、茎葉処理を適宜選択で
終る。
たらすので、その適用範囲は水田をはじめ、畑地、果樹
園、桑園、山林、農道、グラウンド、工場敷地など多岐
にわたり、適用方法も土壌処理、茎葉処理を適宜選択で
終る。
本発明除草剤は、前述の有効成分すなわち、ピラゾール
誘導体を水に直接溶解ないしは分散させて、水溶液或は
水分散液とするはか、珪藻土、消石灰、炭酸カルシウム
、滑石、ホワイトカーボン、カオリン、（ントナイト、
シータライ）などの担体：ベンゼン、トルエン、袴シリ
ン、ツルベン）ナフサ、エタノール、ジオ斗サン、アセ
トン、イソホロン、メチルイソブチルケトン、ツノチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、水などの溶剤：
さらに必要に応じでアル斗ル硫酸ソーダ、アルキルベン
ゼンスルホン陵ソーダ、リグニンスルホン酸ソーダ、ポ
リオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレ
ンアル４７し７リールエーテル、ポリオ斗ジエチレン脂
肪酸エステル、ポリオ斗ジエチレンソルビタン脂肪酸エ
ステルなどの７ニオン系或いは、非イオン系界面活性剤
などを適宜配合し、乳剤、水和剤、液剤、粉剤、粒剤の
形態に製剤して使用できる。
誘導体を水に直接溶解ないしは分散させて、水溶液或は
水分散液とするはか、珪藻土、消石灰、炭酸カルシウム
、滑石、ホワイトカーボン、カオリン、（ントナイト、
シータライ）などの担体：ベンゼン、トルエン、袴シリ
ン、ツルベン）ナフサ、エタノール、ジオ斗サン、アセ
トン、イソホロン、メチルイソブチルケトン、ツノチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、水などの溶剤：
さらに必要に応じでアル斗ル硫酸ソーダ、アルキルベン
ゼンスルホン陵ソーダ、リグニンスルホン酸ソーダ、ポ
リオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレ
ンアル４７し７リールエーテル、ポリオ斗ジエチレン脂
肪酸エステル、ポリオ斗ジエチレンソルビタン脂肪酸エ
ステルなどの７ニオン系或いは、非イオン系界面活性剤
などを適宜配合し、乳剤、水和剤、液剤、粉剤、粒剤の
形態に製剤して使用できる。
製剤時の配合割合は例えば、有効成分を１〜９０重量％
、望ましくは１〜７０重量％、担体または溶剤を５〜９
９重量％、望ましくは２５〜９９重１％、界面活性剤を
０〜３０重量％、望ましくは１〜２０重量％とするのが
過当である。
、望ましくは１〜７０重量％、担体または溶剤を５〜９
９重量％、望ましくは２５〜９９重１％、界面活性剤を
０〜３０重量％、望ましくは１〜２０重量％とするのが
過当である。
また、本発明ｗＩｔ草剤は他の除草剤、殺虫剤、殺菌剤
などの農薬類、或は肥料、土壌などと混用、併用するこ
とができ、この場合に一層すぐれた効果を示す場合もあ
る。
などの農薬類、或は肥料、土壌などと混用、併用するこ
とができ、この場合に一層すぐれた効果を示す場合もあ
る。
本発明除草剤の施用適量は気象条件、土壌条件、薬剤の
製剤形態、施用時期、施用方法、対象雑草の種類などの
相通により一層に規定できないが、一般に１アール当り
の施用有効成分量として１〜５００ｇ、望ましくは１０
〜１００ｇである。
製剤形態、施用時期、施用方法、対象雑草の種類などの
相通により一層に規定できないが、一般に１アール当り
の施用有効成分量として１〜５００ｇ、望ましくは１０
〜１００ｇである。
次に、本発明に係る除草剤の植物試験及び製剤の実施例
を記載するが、勿論本発明はこれらの記載のみに限定さ
れるものではない。
を記載するが、勿論本発明はこれらの記載のみに限定さ
れるものではない。
試験例１゜
１／２，０００アールポツトに、水田土壌をいれて飽水
させた後、食餌ビニ種子を播種し、軽く覆土して畑状態
で発芽させた。子葉軸が出現したときに湛水して水深３
ｅａとし、各供試化合物の水分散液を有効成分当り１０
０ｇ／ａになるように滴下処理した。薬液処理３週間後
に生育状態を肉眼で観察し、下記基準（１〜５の５点法
）に基づいて生育抑制程度を表わし、表２に掲載した。
させた後、食餌ビニ種子を播種し、軽く覆土して畑状態
で発芽させた。子葉軸が出現したときに湛水して水深３
ｅａとし、各供試化合物の水分散液を有効成分当り１０
０ｇ／ａになるように滴下処理した。薬液処理３週間後
に生育状態を肉眼で観察し、下記基準（１〜５の５点法
）に基づいて生育抑制程度を表わし、表２に掲載した。
生育抑制程度 ５：完全な枯死状態４
１：無処理区と同様の生育
表２
試験例２゜
有効成分の施用量を減少させて処理することを除−１で
は、前記試験例１．と同様にして試験を行なった。
は、前記試験例１．と同様にして試験を行なった。
試験例３゜
１／２，０００７−ルボツトに水田土壌を入れで飽水さ
せた後、ホタルイ種子を多量に含む土壌を各ポットの土
壌表面にまいた。ホタルイが１葉期に達したときに湛水
して水深３ｃｍとし、所定量の各供試化合物の水分散液
を滴下処理した。薬液処理３週問後に生育状態を肉眼で
観察し、試験例１．の場合と同様の基準で生育抑制程度
を表わし、表４の結果を得た。
せた後、ホタルイ種子を多量に含む土壌を各ポットの土
壌表面にまいた。ホタルイが１葉期に達したときに湛水
して水深３ｃｍとし、所定量の各供試化合物の水分散液
を滴下処理した。薬液処理３週問後に生育状態を肉眼で
観察し、試験例１．の場合と同様の基準で生育抑制程度
を表わし、表４の結果を得た。
表４
試験例４゜
１／２，０００ｙ−ルボットにウリカワの塊茎を植え込
んで湛水して水深３ｃ−とし、温室内に生育させた。ウ
リカワが２Ｉ！期に達したときに、所定量の各供試化合
−の水分散液を滴下処理した。薬液処理３週間後に生育
状態を肉眼で観察し、試験例１．の場合と同様の基準で
生育抑制程度を表わし、表５の結果を得た。
んで湛水して水深３ｃ−とし、温室内に生育させた。ウ
リカワが２Ｉ！期に達したときに、所定量の各供試化合
−の水分散液を滴下処理した。薬液処理３週間後に生育
状態を肉眼で観察し、試験例１．の場合と同様の基準で
生育抑制程度を表わし、表５の結果を得た。
試験例５゜
１／２，０００ア−ルーットに水田土壌を詰めて飽水さ
せた後、２．５葉期の水稲苗を移植し湛水しで生育させ
た。
せた後、２．５葉期の水稲苗を移植し湛水しで生育させ
た。
移植後３日月に湛水深３ｃ−の躾態で供試化合物の水分
散液を所定の処理量になるよう滴下処理をおこなった。
散液を所定の処理量になるよう滴下処理をおこなった。
処理後４週間目に全個体を抜取り、風乾型を秤量して無
処理区を１００とする指数を求めた。
処理区を１００とする指数を求めた。
製剤例１゜
（１）ベントナイト ５８重量
部（２）ジ−クライト ３０
Ｉｔ（３） リグニンスルホン酸ソーダ ５
〃以上の各成分を混合、造粒し、これに適量のア七トン
で希釈した１、３−ツメチル−４−（２，４−ジクロロ
ベンゾイル）−５−（２，４−）ニトロ７１ノ斗シ）ピ
ラゾール７重量部をスプレーして本発明除草剤（粒剤）
を得た。
部（２）ジ−クライト ３０
Ｉｔ（３） リグニンスルホン酸ソーダ ５
〃以上の各成分を混合、造粒し、これに適量のア七トン
で希釈した１、３−ツメチル−４−（２，４−ジクロロ
ベンゾイル）−５−（２，４−）ニトロ７１ノ斗シ）ピ
ラゾール７重量部をスプレーして本発明除草剤（粒剤）
を得た。
製剤例２゜
（１） １．３−ジメチル・４−（２，４−ジクロロ
ベンゾイル）−５・アリロキシピラゾール ２０
重量部（２） キシレン ６０
＃（３）ツルポール２８０６Ｂ（商品名：東邦化学工
業製）２０ ＃ 以上の各成分番均−に混合して、本発明除草剤（乳剤）
を得た。 ′ 製剤例３゜ （１） １．３−ジメチル−４−（２，４−ジクロロ
ベンゾイル）−５・ベンゾイルメトキシピラゾール ２０重量部 （２）ノークライト ７５ ＃（
３） ラベリンＳ（商品名：第−工ＩＩｔ製薬製）２
〃 （４）９ゲニンスルホン酸ソーダ ３ ＃以上
の各成分を均一に混合しで、本発明除草剤（水和剤）を
得た。
ベンゾイル）−５・アリロキシピラゾール ２０
重量部（２） キシレン ６０
＃（３）ツルポール２８０６Ｂ（商品名：東邦化学工
業製）２０ ＃ 以上の各成分番均−に混合して、本発明除草剤（乳剤）
を得た。 ′ 製剤例３゜ （１） １．３−ジメチル−４−（２，４−ジクロロ
ベンゾイル）−５・ベンゾイルメトキシピラゾール ２０重量部 （２）ノークライト ７５ ＃（
３） ラベリンＳ（商品名：第−工ＩＩｔ製薬製）２
〃 （４）９ゲニンスルホン酸ソーダ ３ ＃以上
の各成分を均一に混合しで、本発明除草剤（水和剤）を
得た。
特許出願人 石原産業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ｃ）１ｇ 〔式中Ｙは塩素原子または二［０基である〕で表わされ
る化合物と一般式Ｈａ（！−Ｚ（式中Ｚはアリル（ａＯ
ａｙ（１）基、プロパルギル基、４−ニトロベンシル基
、７エネチル基、７エナシル基、４−りａロア１ナシル
基、２，４−ジクロロフェナシル基、４−メチルスルホ
ニル７エナシル基または２，４−ノニシロ７ｘニル基で
ある〕で表わされる化合物とを反応−ル誘導体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14815282A JPS605589B2 (ja) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | ピラゾ−ル誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14815282A JPS605589B2 (ja) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | ピラゾ−ル誘導体の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9611077A Division JPS5441872A (en) | 1977-08-12 | 1977-08-12 | Pyrazole derivative and herbicide containing the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5874669A true JPS5874669A (ja) | 1983-05-06 |
| JPS605589B2 JPS605589B2 (ja) | 1985-02-12 |
Family
ID=15446422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14815282A Expired JPS605589B2 (ja) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | ピラゾ−ル誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS605589B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5208173A (en) * | 1990-03-20 | 1993-05-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing non-volatile semiconductor memory device |
-
1982
- 1982-08-26 JP JP14815282A patent/JPS605589B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5208173A (en) * | 1990-03-20 | 1993-05-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing non-volatile semiconductor memory device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS605589B2 (ja) | 1985-02-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5874669A (ja) | ピラゾ−ル誘導体の製造方法 | |
| JPH0248550B2 (ja) | ||
| US4266963A (en) | Pyrazole derivatives, herbicidal compositions containing the same, and a process for the preparation of the same | |
| JPH01275565A (ja) | 置換キノリン系化合物、それらの製造方法及びそれらを有効成分として含有する除草剤 | |
| JPS6029388B2 (ja) | ピラゾール誘導体及びそれらを含有する除草剤 | |
| KR840000194B1 (ko) | 피라졸 유도체의 제조방법 | |
| JP2696252B2 (ja) | シクロヘキサンカルボン酸誘導体並びにそれを含有する除草剤及び植物生長調節剤 | |
| JPH0583555B2 (ja) | ||
| JPS6155506B2 (ja) | ||
| JPS6334870B2 (ja) | ||
| JPS605588B2 (ja) | ピラゾ−ル誘導体 | |
| JPS6155505B2 (ja) | ||
| JPH04112876A (ja) | ピリミジンまたはトリアジン誘導体及び除草剤 | |
| JPH01199978A (ja) | チアジアザビシクロノナン誘導体及び除草剤 | |
| JPH01180886A (ja) | チアジアゾロアジン系化合物及びそれらを含有する除草剤 | |
| JPS608286A (ja) | フラン酸アミド誘導体及び除草剤 | |
| JPH0142262B2 (ja) | ||
| JPS608243A (ja) | α，αジメチルベンジルヒドロキシルアミン誘導体及び除草剤 | |
| JPS60252457A (ja) | シクロヘキセンジカルボン酸ジアミド類およびこれを有効成分とする除草剤 | |
| JPS6126991B2 (ja) | ||
| JPS625424B2 (ja) | ||
| JPS6334867B2 (ja) | ||
| JPS60218379A (ja) | １，２，４−トリアゾリン−５−オン誘導体及びその製造方法並びにその用途 | |
| JPS61280480A (ja) | ピラゾ−ルカルボキサミド化合物およびそれを有効成分とする殺菌剤 | |
| JPS6122083A (ja) | 置換チオフエンスルホンアミド系化合物及びそれらを含有する除草剤 |