JPS605589B2 - ピラゾ−ル誘導体の製造方法 - Google Patents
ピラゾ−ル誘導体の製造方法Info
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- JPS605589B2 JPS605589B2 JP14815282A JP14815282A JPS605589B2 JP S605589 B2 JPS605589 B2 JP S605589B2 JP 14815282 A JP14815282 A JP 14815282A JP 14815282 A JP14815282 A JP 14815282A JP S605589 B2 JPS605589 B2 JP S605589B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はピラゾール誘導体の製造方法に関する。
さらに詳しくは本発明は、一般式
〔式中Ｙは塩素原子またはニトロ基であり、Ｚはアリル
（ａｌｌｙｌ）基、プロパルギル基、４−ニトロペンジ
ル基、フェネチル基、フェナシル基「 ４−クロロフェ
ナシル基、２０４ージクロロフェナシル基、４ーメチル
スルホニルフェナシル基または２・４ージニトロフェニ
ル基である〕で表わされるピラゾール譲導体の製造方法
に係るものである。
（ａｌｌｙｌ）基、プロパルギル基、４−ニトロペンジ
ル基、フェネチル基、フェナシル基「 ４−クロロフェ
ナシル基、２０４ージクロロフェナシル基、４ーメチル
スルホニルフェナシル基または２・４ージニトロフェニ
ル基である〕で表わされるピラゾール譲導体の製造方法
に係るものである。
本発明に係るピラゾール誘導体は一般に下記の法で製造
される。
される。
（口） 十日ａｌ・Ｚ（ｍ）
溶媒，アルカリノ存在下＼
還流温度又はそれ以下
１〜１０時間
上記反応式中Ｙ及びＺは前述の通りであり、歌１はハロ
ゲン原子である。
ゲン原子である。
上記反応において使用する溶媒としてはアセトン、メチ
ルエチルケトン、ジメチルホルムアミドなどの非プロト
ン極性溶媒類があげられ、またアルカリとしては炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムなどがあげ
られる。なお、沃化鋼、弗化鋼などのハロゲン化第一銅
触媒を存在させた場合に、その反応性を向上させること
ができる。次に本発明による具体的合成例を記載する。
ルエチルケトン、ジメチルホルムアミドなどの非プロト
ン極性溶媒類があげられ、またアルカリとしては炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムなどがあげ
られる。なお、沃化鋼、弗化鋼などのハロゲン化第一銅
触媒を存在させた場合に、その反応性を向上させること
ができる。次に本発明による具体的合成例を記載する。
製造例 １１・３ージメチルー４一（２・４−ジクｏｏ
ベンゾイル）一５一（２・４−ジニトロフエノキシ）ピ
ラゾール４ツロフラスコに１・３ージメチル−４一（２
・４ージクロロベンゾイル）−５−ヒドロキシピラゾー
ル１．４３夕を入れてメチルエチルケトン１５の‘に溶
解させた。
ベンゾイル）一５一（２・４−ジニトロフエノキシ）ピ
ラゾール４ツロフラスコに１・３ージメチル−４一（２
・４ージクロロベンゾイル）−５−ヒドロキシピラゾー
ル１．４３夕を入れてメチルエチルケトン１５の‘に溶
解させた。
これに無水炭酸カリウム１．３８夕を加え鷹拝しながら
２・４ージニトロフェニルフルオリド０．９３夕を滴下
し、滴下終了後３時間還流条件下で反応させた。フラス
コ内容物を様遇しメチルエチルケトンを留去して反応沈
澱物を得、これを塩化メチレンに溶解させた。この溶液
と飽和炭酸水素ナトリウム水が溶液とを混合し分液して
有機層を取り出し、塩化メチレンを留去して固形物を得
た。この固形物をベンゼンで洗浄して融点１９０〜１９
〆○の目的物１．５８夕を得た。製造例 ２１・３ージ
メチル−４一（２１４−ジクロロベンゾイル）一５−プ
ロパルギルオキシピラゾーノレ２・４−ジニトロフヱニ
ルフルオリド０．９３夕に代えてプロパルギルブロミド
０．７１夕を使用することを除いては、前記製造例１と
同様にして反応させ、精製して、屈折率皿２５１．５８
５の目的物０．９３夕を得た。
２・４ージニトロフェニルフルオリド０．９３夕を滴下
し、滴下終了後３時間還流条件下で反応させた。フラス
コ内容物を様遇しメチルエチルケトンを留去して反応沈
澱物を得、これを塩化メチレンに溶解させた。この溶液
と飽和炭酸水素ナトリウム水が溶液とを混合し分液して
有機層を取り出し、塩化メチレンを留去して固形物を得
た。この固形物をベンゼンで洗浄して融点１９０〜１９
〆○の目的物１．５８夕を得た。製造例 ２１・３ージ
メチル−４一（２１４−ジクロロベンゾイル）一５−プ
ロパルギルオキシピラゾーノレ２・４−ジニトロフヱニ
ルフルオリド０．９３夕に代えてプロパルギルブロミド
０．７１夕を使用することを除いては、前記製造例１と
同様にして反応させ、精製して、屈折率皿２５１．５８
５の目的物０．９３夕を得た。
製造例 ３１・３ージメチル−４一（２・４ージクロロ
ベンゾイル）−５−（４ークロロベンゾイルメトキシ）
ピラゾール２・４ージニトロフエニルフルオリド０．９
３夕に代えてｐークロロフェナシルブロミド１．０夕を
使用することを除いては、前記製造例１と同機にして反
応させ、精製して、茶褐色の半固状目的物１．７２夕を
得た。
ベンゾイル）−５−（４ークロロベンゾイルメトキシ）
ピラゾール２・４ージニトロフエニルフルオリド０．９
３夕に代えてｐークロロフェナシルブロミド１．０夕を
使用することを除いては、前記製造例１と同機にして反
応させ、精製して、茶褐色の半固状目的物１．７２夕を
得た。
製造例 ４
１・３ージメチルー４一（２・４ージクロロベンゾイル
）一５−ペンゾイルメトキシピラゾ−′レ４ツロフラス
コに１・３ージメチル−４一（２・４−ジクロロベンゾ
イル）一５一ヒドロキシピラゾール１．４３夕を入れて
、メチルエチルケトン１５叫に溶解させた。
）一５−ペンゾイルメトキシピラゾ−′レ４ツロフラス
コに１・３ージメチル−４一（２・４−ジクロロベンゾ
イル）一５一ヒドロキシピラゾール１．４３夕を入れて
、メチルエチルケトン１５叫に溶解させた。
これに無水炭酸カリウム１．３８夕を加えて鷹拝しなが
らフェナシルブロミド１．０夕を滴下し、滴下終了後３
時間還流条件下で反応させた。フラスコ内容物を櫨過し
、メチルエチルケトンを留去して反応沈澱物を得、これ
を塩化メチレンに溶解させた。この溶液と飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液とを混合し、分液して有機層を取り出
し、塩化メチレンを留去して融点１０２〜１０４午Ｃの
目的物１．９２夕を得た。上記製造法或いは製造例に準
じて製造した化合物を次表に記載する。
らフェナシルブロミド１．０夕を滴下し、滴下終了後３
時間還流条件下で反応させた。フラスコ内容物を櫨過し
、メチルエチルケトンを留去して反応沈澱物を得、これ
を塩化メチレンに溶解させた。この溶液と飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液とを混合し、分液して有機層を取り出
し、塩化メチレンを留去して融点１０２〜１０４午Ｃの
目的物１．９２夕を得た。上記製造法或いは製造例に準
じて製造した化合物を次表に記載する。
表 １
本発明のピラゾール誘導体は、後記試験例にみる通り、
除草剤の有効成分として使用した場合に好適な作用効果
を示す。
除草剤の有効成分として使用した場合に好適な作用効果
を示す。
特にィネなどの作物に対して実質的に害を与えることな
く、ヒヱ、カャツリグサ、キカシグサ、ホタルイ、ウリ
カワなどの有害雑草をよよく防除する。本発明除草剤は
各種雑草に対してすぐれた除草効果をもたらすので、そ
の適用範囲は水田をはじめ、畑地、果樹園、桑園、山林
、農道、グラウンド、工場敷地など多岐にわたり、適用
方法も±壌処理、茎葉処理を適宜選択できる。
く、ヒヱ、カャツリグサ、キカシグサ、ホタルイ、ウリ
カワなどの有害雑草をよよく防除する。本発明除草剤は
各種雑草に対してすぐれた除草効果をもたらすので、そ
の適用範囲は水田をはじめ、畑地、果樹園、桑園、山林
、農道、グラウンド、工場敷地など多岐にわたり、適用
方法も±壌処理、茎葉処理を適宜選択できる。
本発明除草剤は、前述の有効成分すなわち、ピラゾール
誘導体を水に直接溶解ないしは分散させて、水溶液或は
水分散液とするほか、桂藻±、消石灰、炭酸カルシウム
、猪石、、ホワイトカーボン、カオリン、ベントナイト
、ジークライトなどの損体：ベンゼン、トルェン、キシ
レン・ソルベソトナフサ、エタノール、ジオキサン、ア
セトン、イソホロン、メチルイソブチルケトン、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、水などの溶剤
：さらに必要に応じてアルキル硫酸ソーダ、アルキルベ
ンゼンスルホン酸ソーダ、リグニンスルホン酸ソーダ、
ボリオキシェチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチ
レンアルキルアリールェーテル、ポリオキシェチレン脂
肪酸ェステル、ポリオキシェチレンソルピタン脂肪酸ェ
ステルなどのアニオン系或いは、非イオン系界面活性剤
などを適宜配合し、乳剤、水和剤、液剤、粉剤、粒剤の
形態に製剤して使用できる。
誘導体を水に直接溶解ないしは分散させて、水溶液或は
水分散液とするほか、桂藻±、消石灰、炭酸カルシウム
、猪石、、ホワイトカーボン、カオリン、ベントナイト
、ジークライトなどの損体：ベンゼン、トルェン、キシ
レン・ソルベソトナフサ、エタノール、ジオキサン、ア
セトン、イソホロン、メチルイソブチルケトン、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、水などの溶剤
：さらに必要に応じてアルキル硫酸ソーダ、アルキルベ
ンゼンスルホン酸ソーダ、リグニンスルホン酸ソーダ、
ボリオキシェチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチ
レンアルキルアリールェーテル、ポリオキシェチレン脂
肪酸ェステル、ポリオキシェチレンソルピタン脂肪酸ェ
ステルなどのアニオン系或いは、非イオン系界面活性剤
などを適宜配合し、乳剤、水和剤、液剤、粉剤、粒剤の
形態に製剤して使用できる。
製剤時の配合割合は例えば、有効成分を１〜９頂重量％
、望ましくは１〜７の重量％、担体または溶剤を５〜９
９重量％、望ましくは２５〜９＄重量％、界面活性剤を
０〜３の重量％、望ましくは１〜２の重量％とするのが
適当である。また、本発明除草剤は他の除草剤、殺虫剤
、殺菌剤などの農薬類、或は肥料、土壌などと混用、併
用することができ、この場合に一層すぐれた効果を示す
場合もある。
、望ましくは１〜７の重量％、担体または溶剤を５〜９
９重量％、望ましくは２５〜９＄重量％、界面活性剤を
０〜３の重量％、望ましくは１〜２の重量％とするのが
適当である。また、本発明除草剤は他の除草剤、殺虫剤
、殺菌剤などの農薬類、或は肥料、土壌などと混用、併
用することができ、この場合に一層すぐれた効果を示す
場合もある。
本発明除草剤の施用適量は気象条件、土壌条件、薬剤の
製剤形態、施用時期、施用方法、対象雑草の種類などの
相違により一概に規定できないが、一般に１アール当り
の施用有効成分量として１〜５００夕、望ましくは１０
〜１００夕である。次に、本発明に係る除草剤の植物試
験及び製剤の実施例を記載するが、勿論本発明はこれら
の記載のみに限定されるものではない。試験例 １ １／２０００アールポットに、水田土壌をいれて飽水さ
せた後、食餌ビヱ種子を播種し、軽く覆土して畑状態で
発芽させた。
製剤形態、施用時期、施用方法、対象雑草の種類などの
相違により一概に規定できないが、一般に１アール当り
の施用有効成分量として１〜５００夕、望ましくは１０
〜１００夕である。次に、本発明に係る除草剤の植物試
験及び製剤の実施例を記載するが、勿論本発明はこれら
の記載のみに限定されるものではない。試験例 １ １／２０００アールポットに、水田土壌をいれて飽水さ
せた後、食餌ビヱ種子を播種し、軽く覆土して畑状態で
発芽させた。
子葉鞘が出現したときに湛水して水深３肌とし、各供試
化合物の水分散液を有効成分当り１００タ′ａになるよ
うに滴下処理した。薬液処理３週間後に生育状態を肉眼
で観察し、下記基準（１〜５の５点法）に基づいて生育
抑制程度を表わし、表２に掲載した。生育抑制程度 ５
：完全な枯死状態 １：無処理区と同様の生育 表 ２ 試験例 ２ 有効成分の施用量を減少させて処理することを除いては
、前記試験例１と同様にして試験を行なつた。
化合物の水分散液を有効成分当り１００タ′ａになるよ
うに滴下処理した。薬液処理３週間後に生育状態を肉眼
で観察し、下記基準（１〜５の５点法）に基づいて生育
抑制程度を表わし、表２に掲載した。生育抑制程度 ５
：完全な枯死状態 １：無処理区と同様の生育 表 ２ 試験例 ２ 有効成分の施用量を減少させて処理することを除いては
、前記試験例１と同様にして試験を行なつた。
表３
試験例 ３
１／２０００アールポットに水田土壌を入れて飽水させ
た後、ホタルィ種子を多量に含む土壌を各ポットの土壌
表面にまいた。
た後、ホタルィ種子を多量に含む土壌を各ポットの土壌
表面にまいた。
ホタルイが１葉期に達したときに湛水して水深３肌とし
、所定量の各供試化合物の水分散液を滴下処理した。薬
液処理３週間後に生育状態を肉眼で観察し、試験例１の
場合と同様の基準で生育抑制程度を表わし、表４の結果
を得た。表４ 試験例 ４ １′２０００アールポットにウリカワの塊茎を植え込ん
で湛水して水深３肌とし、温室内に生育させた。
、所定量の各供試化合物の水分散液を滴下処理した。薬
液処理３週間後に生育状態を肉眼で観察し、試験例１の
場合と同様の基準で生育抑制程度を表わし、表４の結果
を得た。表４ 試験例 ４ １′２０００アールポットにウリカワの塊茎を植え込ん
で湛水して水深３肌とし、温室内に生育させた。
ウリカワが２葉期に達したときに、所定量の各供試化合
物の水分散液を滴下処理した。薬液処理３週間後に生育
状態を内眼で観察し、試験例１の場合と同様の基準で生
育抑制程度を表わし、表５の結果を得た。表５ 試験例 ５ １／２０００アールポットに水田土壌を詰めて飽水させ
た後、２．真庭期の水稲苗を移植し湛水して生育させた
。
物の水分散液を滴下処理した。薬液処理３週間後に生育
状態を内眼で観察し、試験例１の場合と同様の基準で生
育抑制程度を表わし、表５の結果を得た。表５ 試験例 ５ １／２０００アールポットに水田土壌を詰めて飽水させ
た後、２．真庭期の水稲苗を移植し湛水して生育させた
。
移植後３日目に湛水深３肌の状態で供試化合物の水分散
液を所定の処理量になるよう滴下処理をおこなった。処
理後４週間目に全個体を抜取り、風乾車を秤量して無処
理区を１００とする指数を求めた。表６ 製剤例 １ ‘１）ベントナィト ５頚重量部
（２１ジークライト ３０
〃【３｝ＩＪグニンスルホン酸ソーダ ５
″以上の各成分を混合、造粒し、これに適量のアセト
ンで希釈した１・３−ジメチルー４一（２１４−ジクロ
ロベンゾイル）一５一（２・４ージニトロフェノキシ）
ピラゾール７重量部をスプレーして本発明除草剤（粒剤
）を得た。
液を所定の処理量になるよう滴下処理をおこなった。処
理後４週間目に全個体を抜取り、風乾車を秤量して無処
理区を１００とする指数を求めた。表６ 製剤例 １ ‘１）ベントナィト ５頚重量部
（２１ジークライト ３０
〃【３｝ＩＪグニンスルホン酸ソーダ ５
″以上の各成分を混合、造粒し、これに適量のアセト
ンで希釈した１・３−ジメチルー４一（２１４−ジクロ
ロベンゾイル）一５一（２・４ージニトロフェノキシ）
ピラゾール７重量部をスプレーして本発明除草剤（粒剤
）を得た。
製剤例 ２
（１）１・３ージメチル−４一（２・４一ジクロロべン
ゾイル〉一５一アリロキシピラゾール２の重量部 （２）キシレン ６０
〃（３｝ソルボール２８０組（商品名：東邦化学工業
製）２０ 〃以上の各成分を均一に混合して、本発明除
草剤（乳剤）を得た。
ゾイル〉一５一アリロキシピラゾール２の重量部 （２）キシレン ６０
〃（３｝ソルボール２８０組（商品名：東邦化学工業
製）２０ 〃以上の各成分を均一に混合して、本発明除
草剤（乳剤）を得た。
製剤例 ３
○｝１・３ージメチルー４一（２・４ージクロロベンゾ
イル）−５ーベンゾイルメトキシピラゾール
２の重量部（２）ジークライ
ト ７５ 〃｛３’ラベリンＳ
（商品名：第一工業製薬製）２ 〃（４｝リグニンスル
ホン酸ソーダ ３ 〃以上の各成分を均一に混
合して、本発明除草剤（水和剤）を得た。
イル）−５ーベンゾイルメトキシピラゾール
２の重量部（２）ジークライ
ト ７５ 〃｛３’ラベリンＳ
（商品名：第一工業製薬製）２ 〃（４｝リグニンスル
ホン酸ソーダ ３ 〃以上の各成分を均一に混
合して、本発明除草剤（水和剤）を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｙは塩素原子またはニトロ基である〕で表わされ
る化合物と一般式Ｈａｌ−Ｚ〔式中Ｚはアリル（ａｌｌ
ｙｌ）基、プロパルギル基、４−ニトロベンジル基、フ
エネチル基、フエナシル基、４−クロロフエナシル基、
２・４−ジクロロフエナシル基、４−メチルスルホニル
フエナシル基または２・４−ジニトロフエニル基である
〕で表わされる化合物とを反応させて、一般式▲数式、
化学式、表等があります▼ 〔式中Ｙ及びＺは前述の通りである〕で表わされるピラ
ゾール誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14815282A JPS605589B2 (ja) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | ピラゾ−ル誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14815282A JPS605589B2 (ja) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | ピラゾ−ル誘導体の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9611077A Division JPS5441872A (en) | 1977-08-12 | 1977-08-12 | Pyrazole derivative and herbicide containing the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5874669A JPS5874669A (ja) | 1983-05-06 |
| JPS605589B2 true JPS605589B2 (ja) | 1985-02-12 |
Family
ID=15446422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14815282A Expired JPS605589B2 (ja) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | ピラゾ−ル誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS605589B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0770629B2 (ja) * | 1990-03-20 | 1995-07-31 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置の製造方法 |
-
1982
- 1982-08-26 JP JP14815282A patent/JPS605589B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5874669A (ja) | 1983-05-06 |
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