JPS5873334A - オ−トレフラクトメ−タ - Google Patents

オ−トレフラクトメ−タ

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JPS5873334A
JPS5873334A JP56173526A JP17352681A JPS5873334A JP S5873334 A JPS5873334 A JP S5873334A JP 56173526 A JP56173526 A JP 56173526A JP 17352681 A JP17352681 A JP 17352681A JP S5873334 A JPS5873334 A JP S5873334A
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autorefractometer
eye
mask
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田巻 弘
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Tokyo Optical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、被検眼の屈折特性、主に球面屈折力、円柱屈
折力及びその軸角度を自動的に測定するオートレフラク
トメータに―する。
近年、被検眼の屈折特性を自動的に測定する言わゆるオ
ートレフラクトメータが種々実用化されている。
例えばモールマン(Mohrman )らの「オプティ
カル・エンジニアリングJ  (Optlcal En
gineer )結構15巻第4号g292〜295ペ
ージの論文’ Puttlng theにn目@ Ed
ge to th@Ey@’とマナリー(Munn*r
ly )らの米国特許第5888569号明細書には、
被検WL@底に一方向にスキャンニングするスリット儂
ヲ結儂させ、これt−測定用指標として使用し、この指
標t−測定用光学系で限外に結像させ、この指標の動き
が停止する位置まで測定用光学系を動かし、その停止位
置を遠点としてもとめ、その遠点距離から被検眼の屈折
特性をもとめる■従来の横形法を自動化したものが開示
されている。
また、コーンスウイー) (Cornsw・・t)もの
ジャーナル・オプ・デ・オプティカル・ソナエテイ・オ
プ・アメリカ(Journal oずth@0ptlc
alSociety of Amerlcs )IL第
60巻、第4号、第548〜554ページの論文 ’ 
5ervo−Control 1edInfrared
 Optom@t@r ’  及び米国特許第5556
385号明細書には、少なくとも2つの交互に点滅する
光源からの光を1つの被検眼網膜と共役な開口を通して
被検眼光軸と平行Kll底に投影し、その投影儂を網膜
と共役な位置におかれ九少なくとも2つの光検出器で検
出する構成とし、その検出器の差動出力に応じて測定光
学系管光軸内で移動させ、2つの検出器の差動出力がゼ
ロになったとき、すなわち2つの光源からの光が網膜上
で一致し九ときの測定光学系の位置から被検眼屈折力t
@定するものが示されている。
これら従来のオートレフラクトメータは、すべて被検眼
眼底に測定用指標を投影し、この指標から限外に射出さ
れる光束を結像光学系で検出器上に結儂させ、その検出
状態に応じて結像光学系を駆動し、その位置関係から被
検眼屈折力t−測測定るものであル、結儂状態で測定す
る光学系となっている。
さらに、測定光学系は、多くの可動部材から構成される
ため、装置は複雑化し、光学系の駆動系の調整がむずか
しいという欠点があった。
これら結像光学系を使用するかわシに非結儂系をもちい
て屈折力を測定する方法が米国特許第3880’525
号明細書に示されている。これは、被検眼の屈折特性測
定用でなく、主に眼鏡用レンズの屈折特性t−測測定る
もので、被検レンズに平行光束を入射させ被検し/ズの
屈折作用によシ偏向され九光束を少なくとも3点の点開
口を有するマスク手段で選択し、このマスク手段の点開
口を通過した光線を平面型の2イテクタで検出し、マス
ク手段の点間口位置とディテクタ面での光線の投影検出
位置の差から被検レンズの屈折特性を測定するものであ
る。
この装置に$Pいては、その被測定対象である被検し7
)eの屈折特性の定義付け、及び測定上の制約から、平
行光束を被検し/ズに入射させる必要がある。すなわち
、lll!鏡レンズにあっては、その屈折力の定義は、
第1図(A)K示すように平行光束を入射させ九ときく
出来る焦点Fまでの距1111を眼鏡レンズの後側頂点
から測った後側頂点距離fの逆数()=1/ftもって
眼鏡V 7 ! 0屈折力を定義している。従って、眼
鏡し/ズの屈折力を測定するためには、焦点Fの位#を
知る必要があシ、そのために被検レンズには平行光束を
入射させる必要がある。
これに対し、レフラクトメータで測定される被検眼屈折
力は、第1図(8)K示すようK例えば遠点FPが眼前
有限距離にある近視眼EKついては、中心窩Aに光源を
おい九と仮定し大場合、限外に射出する光束を平行光束
とするKは、眼前12111K眼眼底に指標光を投影し
、この指標光の網膜における拡散反射光による発散光束
が被検眼光学系を通過して限外に射出してくる光束をも
ちいて測定するものでらシ、上述の眼鏡レンズとは、屈
折力の定義が大きく異なっている。
また、上記米国特許第3880525号の装置は、マス
ク上の開口と検出面上の到達点との間の点対点の対応、
関係を正確に検出する必要があり、かつ各開口は必ず平
面的配置にして、かつ射出光束が非共面光束となるよう
にせねばならない。この九めに、2次平面の走査を行な
わねばならず、装置が全体として高価にならざるを得な
い。また、最低5点の座標情報によ)5元連立方程式を
解く必要があり、演算機構も複雑かつ高価となる。まえ
、被検レンズにボン、ホコリ等があると、点開口を通過
すべき光束が欠落するため測定不能となるおそれもある
という欠点tVしている。
同様の非結儂形式の屈折力測定装置として米国特許42
75964号明細書に、マスク手段の開口を円形開口と
し、かつ検出手段t’装装置細軸回転軸として回転する
り霜アセンサアレイを利用したレンズメーターが開示さ
れているが、これもリーアセンナアレイの回転駆動及び
その回転角検出の必要があ)、装置の複雑化はまぬがれ
得ない。
更に、被検レンズの屈折作用によ〕楕円となった円形開
口通過光束の楕円像の最低5点の位置座標を検出、演算
して、被検レンズの屈折力をもとめる必要があシ、その
情報処理)量も膨大であシ、大きな欠点となってい喪。
そこで本発明の第一の目的は、上述の欠点を解決した非
結像形式のオートレアラクトメータを提供するととKT
oる。
本発明の第二の目的は、可動光学系を有せず、簡単な光
学系の構成からなシ、しかも高精度、高速度の測定がで
きるオートレフラクトメータを提供することにある。
本発明の第三の目的は、検出系の検出演算処理が比較的
簡単でかつ、高速演算処理が可能なオートレフラクトメ
ータを提供することKある。
係る目的を達成する九めに、本発明の−っの特徴による
ならば、被検眼眼底に略点状の二次光源を形成する#W
N明手段と、この二次光源からの発散光束で被検rRt
−射出してくる光束を選択するマスク手段と、該マスク
手段により選択された光束を被検lul!底と非共役位
置で検出する検出手段と、この検出手段からの検出情報
をもとに被検眼の屈折特性をもとめるための演算手段か
らなるオートレフラクトメータが提供される。
以上の如く本発明のオートレフラクトメータは非結像形
式であるため、結偉元学系、特に従来のように可動光学
系を必要としないため、装置の構成が簡単でかつ組立て
調整が簡単である。また、測定速度が早くなるため、被
検眼の測定中の調節力の介入がなく正確な測定結果が得
られる。
本発明のオートレフラクトメータの実施Nにおいては、
前記マスク手段には直線間ロバターンが形成されてな夛
、この開ロバターンで選択された被検眼射出光束を互い
に実質的もしくは仮想的に交差する2本のりニアセンナ
アレイで検出し、゛この検出座標値から前記開口Iヤタ
ーンに対応した直線ノ中ターン偉の方程式をもとめ、こ
の直線方程式をもとに仮想交差点座標を演算でもとめ、
この仮想交差点の座標から被検眼レンズの屈折特性tも
とめる。従って、検出できる情報量は、従来の装置に比
して多くとれ、かつ演算処理は、簡単、高精度、高速度
のオートンフラクトメータとすることができる。
本発明の利点または効果は非結像形式であるため、結儂
光学系特に従来のように可動光学系を必要としないため
装置の構成が簡単でかつ組立て調整が簡単になる点にあ
る。i九欄定速度が早いため被検眼の測定中の調節力の
介入が碌〈正確な測定結果が得られる。
以下本発明の詳細な説明する。
第2図は、点開口を形成してな不マスクを使用した本発
明の第1の原理を説明するための斜視図である。
被検眼Eの中心窩に仮想光源1があるものと仮1i1L
は、屈折力01をもつ主径線と、屈折力D2をもつ第2
主径線とからなり、かつ第1主径線はx(1−yl)座
標系のxO軸と角度−で交差しているものとする。この
被検眼Eの眼前Δd の距離に点開口u、v%Wを有す
るマスクMが配置されている。またマスクMから距離d
離れて検出面りが配置されている。
今、仮想光源1を射出した光束は、被検眼の屈折11L
の屈折作用をうけ偏向され、その内の一部はマスクMO
点開口U%V%Wを通過して横面り上に投影点u’、v
’1w’を作る。この点開口と投影点を結ぶ光束の方向
は、被検眼Eの第1主径線010つくる第1遠点F1、
及び第2主径線の作シ第2遠点F2 K:向う方向にあ
ることは言うまでもない。
今、マスクM上の点開口U%v1及びWの座標ヲソれぞ
れU(×1、Yl)、V(X2、Y2)、W(XiS、
Ys)とし、また検出面0上の検出点u’、v’、w’
の座II t ツレツレu’ (x′17、Y、/)、
v’ (x2’、Y2’)、W’ (x!!’ 、Ys
”とし、さらに^12=(Xl−X1’ )−(X2−
X2’ )^1g=(Xl−)N’ )−(Xs−xs
’ )812=(Yl−Y1’ )・−(Y2−Y2’
 )81g−(Yl−Y1’ )−(Ys−Ys’ )
C12−Xl−X2 013”Xl−XiS C12−Yl−Y2 D13=Y1−”Ys と定義すると、被検眼Eの2つの主極IIO屈折力は (C1sD12−C12D1g)(g)”  + (A
12D1s+Ih5Dqtχ 一^13D12−812013) (−) + (A1
3812−^12B1g)=0・・−・・・・ (2) の2久方機式で表現される。
さらに1上紀係数のカッコ式を以下のもので再定義する
〔p%Q) E p12q1s−q12p1s〔p%q
) w−[q%p〕 ここでp%QFiそれぞれ^、8%C1Oのいずれかを
とるものとすると、(2)式は +〔^、B〕=0  ・・・・・・・・・ (3)とし
て表わされる。
この(3)弐においてdは第2図で示すようにマスクM
と検出面Oとの距離を、2はマスクMから遠点までの距
離をいう。
主径線O屈折力D2は (ここでCは被検眼とその屈折力補正用の眼鏡レンtと
の距離を表わし通常日本では12■である。) で求められる。また−1乱視軸■は第1主径線の傾き角
θとO+90°の関係があるので一* tow−・ (
5) と表わされる。
第3a図及び第3b図は、マスク手段に交差する直線パ
ターンを形成したときの被検眼屈折力を測定する本発明
の第2の原理を示す図である。上記の第2図の原理で使
用したと同等の構成要素には同一〇符号を付して説明を
省略する。
マスクMにはX軸と角度01  で交差する直線開−D
/譬ターン^とX軸と角度#2 で交差する直線間ロバ
ターンBとが交点Uで、交差角rで交差している。
被検眼の仮想光源茸から発散光束が射出され、上記マス
クの直線間ロバターン^、Bで選択された光束は、検出
面り上で直線偉^′、B′をそれぞれ作る。ここで、被
検眼Eの屈折力は、マスクMO直線開口Δターン^の長
さをlA%傾きをm^、直線間ロバターンBの長さを’
Bs傾きをmB、検出面上の直線A′の長さをt^′、
傾きをm^′、直、li e /の長さをt e/、傾
きをm e/とそれぞれすると、 ψ^・ψa(m^−ms) (−+ 1)2一〔ψA 
(m* # me’ )+ψe (m^’ −me) 
〕(−+ 1)+(rn硫−s’)=O°−−−−=−
(6)但し として表わされるので、この方程式の2根z1、z2 
、すなわち被検眼の第1遠点F1.第2遠・点F2とマ
スクMとの距離をもとめ、これよ)被検眼の第1主径線
の屈折力01及び第2主径線の屈折力02はそれぞれ 一。
で求められ、乱視軸■は ■ =   #+90゜ として得られる。
測定にあたっては検出面0を走査して直線A′、B′を
もとめてもよいし、第3b図に示すようにマスクMK直
線開ロバターン^、Bの両方に交差する直IICを形成
し、これら直線開口Iリーン^、B%Cの検出面Oの座
標系z / −y /の投影像を^/ 、B/ 、C/
とするときX′軸とY′軸を走査して検出点x 1/、
X 2/、x s/及びY1’%Y2’、ys’を求め
て、買1′とy2’とから直線AIの方程式を、x 3
/とy1’とから直線8′の方程式を、X 2 /とy
 3/とから直線C′の方程式をそれぞれもとめて、こ
れら三つの直線^′、B′、C′の交点υ、vlWの座
標を決定し1./とV′間の長さを前述のt^/ 、u
l 、とW′間の長さを前述のtel  またそれぞれ
の傾きをm^’ 、mB’ とすれば前述の第(6)〜
(8)式を使って被検眼の屈折力等をもとめることがで
きる。
あるいは交点υ′、V′及びW′のそれぞれの座標u’
(x1’、Y1′)、v/ (X 2/ 、 Y 2 
/ )及びW’ (X!I’ 、 Y3’)。
から前述の原理でのべた第(1)〜(5)式を適用して
被検眼の屈折特性をもとめて屯よい。
第4図は本発明のマスクMK2組の平行直線群を形成し
九ときの被検眼の屈折特性を4とめる本発明の第3の原
理を示す斜視図である。マスクMにはピッチP1でX軸
からの傾きm1t)平行直線群L1が形成されている。
被検眼Eから射出した光束は、この平行直線群L1で選
択透過され九のち、検出面0上にX′軸との傾11m1
’  、♂ツチP1′の平行直線群L 1 /を形成す
る。この平行直線群L 1 /の傾きm 、 /は ・−一・−・ (9) で表わされ、またピッチP1  は、 として表わされる。
ここで、この方程式(9)、αQの未知数はzl、z2
.003つであるため、1つの平行直線群の変化からだ
けではこれらの未知数はもとめられないので、第4図に
示すように、もう−組の平行直線群L2をマスクMに形
成する。ここで平行直線群L2 FiそのピッチをP2
、X軸に対する傾きをm2としており、検出面り上の投
影像の平行直線群L 2/はそのピッチをP2′、傾き
を、2 /に変化されているものとする。
この平行直線群L2とその投影像L 2/との間にも上
記(9)、αQが成立するので、合計4つの方程式が出
来るので未知数χ1s”2、θを解くことができる。
上記(9)、(2)式の解法が演算時間の増加をまねく
のであれば、以下第5・図、第5b図にもとすいて説明
するように仮想平行四辺形を作シ、この4頂点の座標位
置費化から被検眼の屈折特性をもとめて本よい。
第5−図は第4図のマスクMK形成されたパターン開口
Ll、L2を示しているm  Llの傾きは町でピッチ
はP、、L2の傾きはm2でピッチはP2であることは
@4図と同様である。今、平行直線評し1のうちの1本
り目からピッチPIの0倍の距離・P箇へだてて平行線
面と、距離filの平行線QWを考える。
また平行直線群L2のうちの1本L21から距離gP2
の平行線VWと距離hP2の平行線υQを考え平行四辺
形UVWQが形成され、これら4頂点のx −y座標系
の仮想座標を、υ”+5yl)sv(” 2s V 2
 ) s W(y s 、ソIs)% Q(X4 s 
’14’)とする。
第5b図は、第51図の開ロバターンである平行直線群
り、、L2を通過した光線束による検出面O上への投影
平行直線群り、1% L21を示す図で。
仁のL 1 /は傾きm1′ ビ”) f p2/に、
L12は傾きm2’ 、ピッチp 2 /に変化してい
ることは第4図と同様である。この投影平行直線群を 
x / −y/座標の原点0′からx′軸方向にξ、y
′軸方向にηだけ平行移動された点に原点O“を有する
交差角rで交差するX’−Y“座標系のそれぞれの軸上
を走査して検出するものとすると、x#411の走査に
より検出点イ、口、ハ、−で投影平行直線群を検出し、
Y′軸の走査により検出点ホ、へ、ト、チで投影平行直
線群を検出する。そして検出点口、へから投影平行直線
群のうちの1本し11′  の方程式を演算し、また検
出点ハ、トからL21′  の方程式を演算する。1+
同様に検出点イ、ホから投影平行直線群のうちの他の1
本L12′の、検出点二、チからL22′  のそれぞ
れの方程式が演算できL11′、L12′のピッチ21
′も、L21′、L22′のピッチP2/も演算できる
。そしてL11′からピッチPj /に第5a図でかけ
た倍率と同じ倍率・をかけてeP1’のピッチの平行線
gl y/を考えることができ、同様にfP1’ ピッ
チの平行線Q’ W’  を、L21′からgP2’ 
ピッチの平行線v’ w’  をhP2’ ピッチの平
行線77を考えることができ、これら平行線U’V’ 
、Q’W’ 、  V’W’ 、U’Q’ カら仮想平
行四辺形U’y’W’Q’  をもとめることができる
。この仮想平行四辺形の四頂点6’x’−y’座標系に
おける仮想座標をu’ (x’1、y′1)、v’ (
X’2、y′2)、W/ (X/ !S、y’s)、 
 Q’ (X’ 4、y′4)とすると、第5−図の仮
想平行四辺形UVWQと第5b図の仮想平行四辺形jJ
’ V’ W’ Q’は対応しており、これら8点の座
標から上述の第(1)〜(5)式を適用して被検眼の屈
折特性をもとめることができる。
上述した第5a図、第5b図では、仮想平行四辺形をも
とめるのに、ピッチP1、’l’1’及びP 2/に任
意の倍率・、f、g%hをそれぞれ掛は九が実際には・
−1,gxlとして仮想平行四辺形UoVoWoQ、 
71F Uo’ Vo’ We’ Q’ を使ッテ演算
1゜た方が、処理はその分簡略化できる。
また、仮想平行四辺形の各頂点の座標をx−y直交座標
系、x /  y /直交座標系を使って説明したが、
斜交座標系X“−y#座標系の各軸上の走査を考えると
、×I%y /直交座標系と、〃−9メl斜交座−系間
の座標変換は第6図に示すように×′軸とX“軸が角度
αで交差し、y′軸とy“軸が角度βで交差し、かつX
“−y“座標系の原点02はx′−y′座標系の原点0
1からx /軸方向にξ、y′軸方向(ηずれている。
このときX“−y″座標系から、/−、/座標系への座
標変換は前記(1)式の一般式から ^13 = (XI −X’l) −(Xl −X’ 
l)−・−(1’)これにもυ式を代入して ^13 = (x’ 1 sinα+y’1slnβ+
ξ)−(X“l5ln α+y’sln β+ξ))−
((x’yslnα+y’3slnβ+ξ)−(X’ 
35ln(! −y# 35lnl+ξ))=slnα
((x’  l−X’l)  −(x’ )−買“1)
)十sinβ(y’t −y’+) −(y’l−y“
1))・=・・  ^’  11 5lnc!  −1
−B’  1jsln β    −−−−−・ −−
−−−(12m)ま九B量1 =x (yl−y’ +
) −(y3− y’3)で上記同様の計算で Blj=CO1β((y’ r −y’ +) −(y
’ 3− y’ 1)) −cosα((x’l −X
“+) −CX’1−X’1))= ”  lj  c
os  β −^’1JeoI  α  −−−−−・
−・  、(12b)以下同様に C13W C’ II sinα+D’ 11 sin
β−・−・・・(12c)Dlj = D’ lj C
o!β−C’ lj 06@α ・−−−−−−・(1
2d)となる。
ここでEC,D〕、〔8、C〕、(A、D]、〔^、8
〕を求めると、(12m ) 〜(12d )式から 〔0%  o  )  =  C+  IO+h  −
D+  IC+b=(σ111nα+” II Sin
 /) (D’ nees /−C’ 1 kcosα
)   (” +3 cosβ−C’ 11 cosα
)(C’ 11(sinα+D’ 11 slnβ)=
(1nα1nβ+cosα1nβ)(C′、o/)同様
K [8,C) = (sinα1nβ+1nβcos
α)(^′、B11〔^、 D)  =  (sinα
cosβ〔^’  、D’)−slnαcosα〔^′
、C’)+slnβcosβ(S/、D’ ) −5i
nβcosα(B’ 、C’ )〔^、B) = (s
lncLcosβ+cosα1nβ)〔八′、B′〕′
を走 (e%c) −C^、Q〕y= (11nαcosβ+
cosα1nβ)((B’、C’〕−(^′、01月 従って(3)式は sin (α十β)× +〔A′、a’))=。
となり、()内は(3)式と同一形式の二次方程式とな
り、このことから(3)式の二次方程式は、座標系の取
り方に無関係な不変方程式であることがわかる。このこ
とは、検出面の走査方向、Il/#にリニアセンサ等を
使用する場合、そのセンナの配置の自由度が非常に大き
いことを示す、すなわち、2本のリニアセンサを、t−
、I座標系の直交:座標軸上におく必要はなく、翼“−
y′座標系においてもよいことを意味するもので、リニ
アセンナの直交精度及び光軸合せはまったく考えカくと
も、測定精度に無関係にすることができる。そして測定
に際しては被検眼を測定しない状態の平行直線群パター
ンL1、L2を斜交座標系x /  y /座標のX/
軸、y′軸に配したリニアセンナ”1、’2で検出して
おき、この検出からつくられる仮想平行四辺形υ、V、
W%Qを基準仮想平行四辺形とし、つぎに測定し良い被
検眼を測定光学系で測定し、このときの投影仮想平行四
辺形u’ v’ w’Q′をつくり、基準仮想平行四辺
形と投影仮想平行四辺形とから被検眼の屈折特性を求め
るものである。そしてこのとき両平行四辺形は任意に選
択できる斜交座標系X # +++ y I座標系に対
してのみ座標系を考えていることとなり、かつこの斜交
座標系X′−y′は、上述したようにその選択は被検眼
の屈折特性演算の内屈折力計算のための二次方程式に対
し、無関係な不変式であり、本発明によればリニアセン
サ31.82の配置に対して、何ら組立上も、メンテナ
ンス上も調整を必要としないという非常に有利な効果を
もつ。
被検眼の乱視軸即ち円柱軸方向は、(5)式で与えられ
る。(5)式は直交座標系時の式であるが、斜交座標系
ד−y“(センサがある場合は、以下の式を使って斜
交座標系で求めた結果を直交座標系を使用したときの円
柱軸として計算することができる。
となり、円柱軸o#i。
O=  −+?O’ として屯とめられる。
第7図は、マスクMに半径jの円周開口ΔターンSを形
成したときの本発明の測定原理を示す斜視図である。
被検眼Eを射出した光束は、この円周間ロバターンSで
選択透過されると、検出面>Xは被検眼Eの屈折特性に
応じた楕円に変形されて投影される。この楕円は ・・・・−・・・0 但し の方椙式で表わすことができる。
ここで口1は第1主径線のIIA折力、02は第2主径
線の屈折力、−は@1主lIT線のマスクMのX−Y座
標系のX軸と交わる角度であることは上述の填1から第
3の原理と同様である。なお、α、βはそれぞれ楕円中
心の水平、ri直力方向ズレ量であゐ、このように上記
方1式am(L4には、5つの未知数があるため、この
楕円上の5点を検出すれば上記方程式を解くことができ
、これよシ被検眼の屈折力は測定できる。
実際OII定にあたっては、検出面Oに平面型センナを
利用し走査した〕、あるいはリニアセンナを装量光軸を
回転軸として検出面O内で回転して楕円投影倫中05点
を検出してもよいが、よシ構成を簡単にするためKは、
第8図に示すようにマスク−の円周開ロノ々ターンSK
臂わる少なくとも一本のW線開口Aターンを形成するき
よい、この構成によシ、第9図に示す如く、検出面0に
は2本のりニアセンf 81.32を交差させて配電す
石だけで、楕円投影偉S#04点と、直線投影像の2点
が検出できるので、構成を非常に簡単にできる。第8図
では直線−ロバターンをtH,t2の互いに平行な二本
の直線Aターンとしたのは、リニアセンサS1%S2の
交点に直線投影像のうちの1本が重なっても他の1本の
投影像の2点が検出できるようKしたためである。なお
、X軸との轢き角αの直線間ロバターン投影像の傾きを
α′とすると、直線/脅ターンと直線投影像の聞には、
(H−α−v・α’ )tan #+(H−V)(1−
α・α’ )tar+#+(V・αt−H・α)=0 
        ・・・・・・(至)の関係がある、但
し、ここでH,Vは第一式を表わしている。そして、第
9図に示すように検出点(X% s Y+”) 〜(X
4’ % Y4’ )を*OK代入し。
検出点(X5’ s Y4’ ) (X6’ 、Y4’
 )を第−弐に代入して、これら2つのオ一式を解決す
れば被検眼の屈折特性は測定できる。
以下本発明の詳細な説明する。
第10図は上述の第1〜#!4の測定原理を通用できる
オートレフラクトメータの光学系配置を示す概略図及び
検出演算処理装置のブロック図である。
本実施例のオートレフラクトメータの光学系は、大きく
測定光学系1、固視標光学系2、照準用光学系3m、3
b及び光源投影用光学系4とから構成される。
測定光学系10光軸01  に画、直な平面内には、上
述の第1〜第4の原理で説明したいずれかのマスク開ロ
バターンを形成して成るマスクMが配置されている。t
たその後方に1■一光軸01  にそって離れた位置に
平面型センサアレイOが配置されてiる。仁の平面形セ
ンlアレイ0は、光電子倍増用Oマルチチャネルプレー
ト層D1  と、蓄積効果型センナ素子を平面状に多数
配列してなるCCO層02  と、ペルチェ効果を利用
して上記CCOサアレイ0は、すV−レンズ5によシ、
その共役era’ % D’ tそれぞれ被検1111
1前に形成される。
ここでマスクMの共役p M /は、被検眼眼前から距
離ΔdllI!iれた位置に配置されることは上述の原
理と同様である。
光源投影光学系4は、G−^a半導体V−デからなる光
源6と、コリメーターレンズ7、アパーチャー8、ミラ
ー9a、9bよシ構成され、光源6からの900nmの
近赤外光が装置光軸01  Kそって被検眼Eに細いビ
ーム党として照射され、被検眼εの網膜上にスポット光
を投影する。この投影され九ス4ット光が二次元源諺と
して働く。
ま九、被検眼の視線を装置光軸01  と一致させるた
めに利用される固視目標光学系3は、光源10で照明さ
れる。第12図(C) K示すような固視目標11及び
、この固視目標を被検眼に投影するレンズ12と、この
レンズ12から光束を装置光軸01  方向に反射させ
るための光軸01  K対し、斜設され九11−フミラ
ー13から構成されている。
ここでハーフミラ−13は党11[6からの900 n
mの近赤外光を透過し、レン、e12からの可視光を反
射する町視光反射赤外党透過型のミラーである。
照準用光学系は、照準ターゲット投影系3mと照準受光
系3bとからな夛、照準ターゲット投影系31は、装置
光軸0.t−含む垂直面内に配置され、その光軸02 
 は光軸01  と交点Pで交わるように配置される。
この照準ターグツト投影系3aは、光源13と、この光
源13から光束の内赤外光成分のみを透過させる赤外フ
ィルター14と、この赤外光によシ照明されるターゲツ
ト板15と、ターゲットを交差点pl含む面内に投影す
る投影レンズ16.17及び、し/ズ16と17の間に
配置され、光源13から光を光軸o3 Kそって反射す
るきラー18とから構成されている。ここでターゲツト
板15には、第12図(^)に示すように水平な2本の
平行スリット線15畠、15bが形成されている。
一方、照準受光系3bは、第11図に示すようにその光
軸03が装置光軸01を含む水平面内にあ夛、かつ光軸
O1と点Pで交差するようになっている。受光系3bは
、対物レンズ19とその焦点面におかれるスプリットプ
リズム20、リレーレン−e21、絞シ22、結儂レン
ズ23及び撮儂管24とから構成されている。ことで撮
偉管24はCRTディスグレイ100K接続されてi?
〕、またスプリットプリズム200後面絋第12(a)
図に示すような垂直な2本の平行なスリット線20a1
20bが形成されている。
また平面型センサアレイOはマイクロノロセッサ101
のクロックパルス201の制御を受けてセンナ素子t−
順次走査駆動する駆動回路102に接続されている。ま
た、センナアレイOは、その出力端をアナログスイッチ
103に接続しておシ、このアナログスイッチはA /
 D変換器104に接続されている。^10変換器10
4はマイクロノロセッサ101に接続される。
マイクロノロセッサl0IKは、ま* RA M (ラ
ンIム・アクセス・メモリー)等からなる記憶回路10
5と、インターフェース回路106が接続されている。
インタ−1シ4回路106は〇−丁デイスプレー100
に接続されている。そして史に、!イクログロセツナ1
01は、プログラムメモリ108に記憶されたプログラ
ムに従って処理を行う。
次に本実施例の作用を説明する。まず光源1st点燈し
、被検眼Eの前眼部を照明する、この被検眼前眼部′/
II′f:照準受光系で照準受光子の像をCRTディス
グレーKuii儂表示する。
ここで受光系31)Kはスプリットプリズム20が配置
されているので、被検眼と装置との距離が予め定められ
た距離Δdと異っているとCRTディスプレイ100の
前眼部画gIはスゲリットプリズム200作用によシ第
13図(〜に示すように左右にズレを生じた1儂として
受像される。そこで、装置を前後方向に微少移動させ、
スゲリットイメージが合致するようにワー中/グデイス
タンスを調整する。Iま九CRTディスプレイの前眼部
画像には、スリット11151.15t)及び20a。
201)も同時に撮されておシ、上記のワーキングディ
スタンス謂整をすると第1!1(8)図に示すようにス
リット線は、視野中央で交差し、四辺形を形成する。こ
の四辺形内に被検眼の瞳孔がくるように装置を上下、左
右に微少移動しアライメントをする。次に光源1Gを点
燈し被検INK固視標11を固視させる。以上の準備操
作が完了しえら光源6を点燈しスポット元を被検風網膜
に照射する。
網膜からの反射発散光束は被検眼瞳孔を通して、限外に
射出され、このとき射出光末拡被検眼の屈折特性によシ
偏向されて射出される。この射出光束は、マスクMO開
口で選択透過され、センサアレイ0に入射する。センサ
アレイ0は、マスクの開口/fターンに対応しかつ被検
眼の屈折特性に応じて変形された投影像を検出する。そ
して、!ログラムメモリ108の!ロダラムに従って、
センサアレ(l)ti%マイクロfaセッサ101のク
ロックパルスに周期して駆動回路102e’Cよシ順次
セ/す素子が走査され、各センサ素子出力はクロックパ
ルスに同期してアナログスイッチ103に入力される。
アナログスイッチ103紘マイクログロセツナの制御で
センサアレイからの検出出力を^10変換器104に入
力する。A / D変換器104は入力された各センナ
素子の検出アナログ出力t−デジタル値に変換し、1イ
クロ7′″ロセツサ105の制御によシ記憶回路105
のあらかじめ定められた番地Kl[次書込まれる。この
記録され九データをもとに、マイクロ7”aセッサ10
1の演算部で前述の原理説明でのべた検出点座標をもと
め、この座標値をもとく上記の方程式をもとに被検眼の
屈折特性を計算する。この計算結果はインターフェース
回路を介してCRTディスプレイ100に表示される。
また必要に応じてプリンター107で印字出力される。
第14図は、上述の第1の原理を利用する場合のマ不夕
一の開ロア1ターンを示す図であ)、点開口201が複
数十字型に配列し九マスクを用いるとよい。
また、検出器としては第15図に示すような多数のセン
サ素子を直線状に配列してなるリニアセンサアレイL口
を使用し、これを光軸01t−回転中心トしてΔシスモ
ータ210で回転してもよい。
この74ルスモー!21Gはマイクロプロセッサの制御
を受けるノ譬ルスモーター駆動回路211で駆動制御さ
れる。
第16図は本発明の第2の原理を利用した場合のマスク
Mの開ロノ母ターンの一例を示すものである。
マスクMには、太い直線開口Δターン220aと220
bとからなる第1平行直線評220と、これに直交する
細い3本の直線から成る平行直線群221・と221b
からなる第2平行直線群221とが形成されている。
ま九、測定光学系の検出器としては第17図に示すよう
に2本のりニアセンサアレイLD1 、LD!を使用さ
れる。マスク鯖の後方には、はね上はミラー230が配
置されている。はね上げミラー230の反射光軸01′
上には、図面に対して直角な方向に延在するリニアアレ
イLt)jが配置され、まえ、はね上げミラーがはね上
げられ九ときの光軸01  の延長上にはリニアセンサ
アレイLD1がそれぞれ集積検出面01上で直交するよ
うに配置されている。共役検出面σ上での投影像は第1
8図に示すように被検眼の屈折特性により変形される。
測定に際しては、まずはね上げミラー230を第17図
に実線で示す位置におき、リニアセンサアレイLDfを
走査し、マイクロプロセッサで検出点×1’、”2’ 
、)(sl 、X4’を決定する。次にはね上げミラー
230を破線で示す位置にはね上げ、リニアセンナLD
1を走査して、検出点Y1’ 、Y2’ %Y3’ 、
Y4’を決定する。そしてX′とy ztで投影直線2
211・の方程式を、x2′ と5(41で投影直線2
2G’ ・の方程式を、×51 とylFで投影直線2
20’bの方程式を、x4′ とy slで投影直線2
21’bの方程式をそれぞれ演算し、これら4つの直線
の方程式のから、4直線の交点Ul 、yt 、V、Q
′ の座標を算出し、この座標値と、あらかじめ設計値
としてメモリーされているマスク上の直線開口Δターン
の交点u、v、W、Qの座標値とをもとに、上述の第(
1)式から第(5)式を利用して、被検眼の屈折特性か
もとめられる。
第3の原理を第10図あるいは第17図の実施例に適用
する場合のマスクMの開口Δターンは第19図に示すよ
うな開口Δターンにすればよい。
第19図においてマスクMKは、♂ツチPで傾きml 
 の平行直線群300・と、ピッチは同一で傾きml 
の平行直線群aoobとが形成されている。
また、それぞれの平行直線群には、他の直線開口/#タ
ーンと区別するための太さ、あるいは透過率の異なる直
線/ぐターン301m、301bが形成しである。この
様に多数の平行直線からなる平行直線群をマスクノダタ
ーンとして使用すると、リニアセンサアレイでの投影像
検出点数が多くとれ投影直線の方程式の傾き、及びピッ
チが平均化でき、よシ測定精度をあげることができる。
tた直線I4り、−ン301m、301bを形成し九の
は、検出点の2点を結び投影直線の方程式を4とめると
き、どの検出点を結ぶかを決定する基準とするためであ
る。このマスクイターンを通過した検出面O上での投影
ノ量ターンを上述と同様の平面蓋センナアレイ0やりエ
アセンサアレイLO1、U)1で検出し、以下同様の演
算処理をはどこして被検眼の屈折特性を算出する。同、
第17図の実施例を適用させる場合はリニアセンサアレ
イしDl、LD!はそれぞれ共役検出面D′で角[rで
交差するように配置する必要がある。
第2011tli、第3の原理を適用する他の実施例を
示す部分光学配置図である。第10図、第17図と同様
の構成要素には同一の符号を附して説明は省略する。
はね上げミラ・−の反射光軸上にはミラー310”が配
置され、このきツー310て反射された光束はマスクM
1を通過後、ハーフミラー312の半透過1!1312
−で2分割され、2分割され走光束のそれぞれがリニア
センサアレイLD1、LD2に入射する。tた、はね上
げミラー230をはね上げ九ときの装置光軸01 の延
長上にはミラー311が配置されてお夛、その反射光束
は!スクM2を通過後^−)ミラー312の半透過11
312 mで2分割され、それぞれリニアセンチアレイ
to1、LD!に入射する。なお、本與施例のマスクM
1には、第19図に示しえ第1平行直線群300−のみ
がマスクM2 には、第2平行直線群300bのみがそ
れぞれ全面に形成されておシ、且つこれら平行直線群3
00・、300klはりレーレンf5によシその共役マ
スク面M′で互の配列方向が異なるようにiスクMl−
Mtは配置されている。測定に際しては、まずはね上げ
ンツ−230を実線の位置に保持し、リレーレンje5
1通る被検l[Eからの射出光束をマスクM1で選択さ
せる。マスクM1で選択された光束はりニアセンサアレ
イLD1、山。
の両方に投影され、リニアセンサアレイLD1 f 4
ず走査し、検出点をもとめる。つぎに、リニアセンナア
レイLDj t−走査し、検出点をもとめ、これら検出
点によりマスクM1に形成された第1平行直纏5soo
―に対応し先投影像の方程式を決定する。
次に、はね上げミラーzsotはね上げ、被検眼Eから
の射出光束をiスタM!で選択させ、リニアセンサアレ
イLD1、LDIに入射させろ、以下Mlllにリニア
センサアレイu)1、LD2で検出点を得たのちマスク
M2 K形成された第2平行直線詳300bl(対応し
九投影僚の直線の方程式をもとめる。これら2回の測定
で得られた直線儂の方程式から、ピッチP′と傾きM1
’ 、M2’をもとめ、以下、前述の第5−図、第5b
図の方法にしたがって第(1)式から第(5)式を使っ
て被検眼の屈折特性をもとめる。
第21図は、第2a図の実施例では2枚のマスクM1、
M2を使用したかわシに、172M1  を一枚のみ使
用し、マスク町 をΔシスモータ210で回転させ、第
20図の実施例と同様の作用効果をも九せた実施例であ
る。
また、第22図は、!スクM1  を固定して、そのか
わ夛にマスクM1  で選択された光束自身をΔにヌモ
ー!で回転されるイメージpテータ400で回転し、同
様の作用・効果を4たせた実施例である。
このイメージロテーメ400t−使用する方法は、第1
5図のりエアセンtLDを回転する方法のかわ)K使用
することも出来る。
なお、第4の原理である円形−ロノメーンを使用する実
施例は、記載しないが、第1Q図、第7!図の実施例を
その重重利用でき、また、円形開口・−ターンと直線開
口/fターンの両方を有するマスクの場合は第1を図板
下の他の実施例が利用できることは理解出来るであろう
。また、以上述べた原理翫実施例が開口・譬ターンを使
用しているが、これに限定されずに一マスクのl−ター
ンは反射型/#ターンでもよいことも当業者であれば理
解されよう。また、リニア七ンサアレイあるいは平面型
センサアレイを検出子役としてもちいたが、これに限定
されずに、すでに公知の直線内あるいは平面内を走査し
、光検知できる走査子役を利用してもよい。
【図面の簡単な説明】
第1図(^)、―)は、レンズ屈折力と眼の屈折力の定
義を説明するための図、第2図は、本発明の第1の原理
を説明すゐ光学系の斜視図、第31図は、本発明の第2
の原理を説明する光学系の斜視図、第3bllは、第2
の原理のマスクパターンの他の例を示す図、第4図は、
本発明の第5の原理を説明するための光学系の斜視図、
第5a図及び第5b図は、本発明の第3の原理の他の方
法を示す図、第6図は、直交座標系と斜交座標系の関係
を示す図、第7図は、本発明の第4の原理を説明する光
学系の斜視図、第8図及び第9図は、第4の原理の他の
例を示す図、第10図は、本発明の第1の実施例を示す
光学配置図、第11図は、第1集施例の光学配置を示す
部分平面図、第12図(^)及び伸)は、ターゲツト板
を示す図、第12図仲)は固視標を示す図、第15図か
)及び−)は、照準方法を説明するための図、第14図
は、マスク/臂ターンの第1の実施例を示す図、第15
図は1本発明の第2の実施例な示す部分図9m16図は
、ffスクノ譬ターンの第2の実施例を示す図、第17
図は、本発明の第3の実施例を示す部分図、IJ/l1
lt図は、検出方法を説明するための図1第1り図は、
マスク/中ターンの第3の実施例を示す図、第20図は
本発明の第グの実施例を示す光学系配置の部分図、第2
7図は本発明の第!の実施例を示す光学配置の部分図、
干して1第、22図は本発明の第4の実施例を示す光学
配置の部分図である。 MO・・・拳マスク、D・・・・一平面mセンナアレイ
、LD、 LD  、 LD  ・・・・・リニア竜ン
サアレイ、IJ! E・・・・・被検眼、l・・・・・測定光学系、2・・
・・・固視標光学系、3a#3b・・・・・照準光学系
、4・・・・・光源投影光学系、210・・・・・−f
ルスモーター、400・・・・・イメージロテータ。 篤16図 第18図 馬19図

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)被検隈眼底に略点状の二次光源を形成する照明手
    段と、 該二次光源からの発散光束で該被検眼を射出してくる光
    束を選択するマスク手段と、該マスク手段により選択さ
    れ九光束を前記被検III!底と非共役位置で検出する
    検出手段と。 該検出手段の検出情報(基づいて被検眼の屈折特性を演
    算■閣する演算手段と から構成されてなることを特徴とすゐオートレフラクト
    メータ。
  2. (2)、前記−f’Xり手段と被検眼の間には前記マス
    ク手段及び前記検出手段のそれぞれの光学的共役偉を前
    記被検眼眼前に形成するためのリレー光学手段が配置さ
    れている仁とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    オートレアラクトメータ。
  3. (3)前記マスク手段は前記光束を選択的に透過する開
    口/4ターンが形成されていることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項または第2項記載のオートレフラクトメ
    ータ。
  4. (4)前記開口Δターンは少なくとも3点の点状開口で
    あることを特徴とする特許請求の範囲第3項記載のオー
    トレフラクトメータ。
  5. (5)前記開口Δターンは少なくとも2本で少々くとも
    1点で実質約4しくは仮想的に交差する直線部ロバター
    ンであることを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の
    オートレフラクトメータ。
  6. (6)  前記直纏開ロノfターンのうち少なくとも1
    本は他の直線部ロバターンとその太さもしくけ透過率を
    異にしていることを特徴とする特許請求の範囲第5項記
    載のオートレフラクトメータ。
  7. (7)前記直線部ロバターンは少なくとも2本の平行か
    直線部ロバターンからなる第1の平行直線群と、・該第
    1の平行直線群に交差しかつ該直線開口I譬ターンとそ
    の本数を異にする少なくとも2組の平行直線・fターン
    から成る第20平行直線群とから構成されていることを
    特徴とする特許請求の範囲第5項記載のオートレフラク
    トメータ。
  8. (8)前記マスク手段は、少なくとも2本の平行な直線
    開ロバターンからなる第1の平行直線群と、該第1の平
    行直線群の配列方向と異なる方向に配列された複数の平
    行な直線開ロバターンからなる第2の平行直線群とを有
    することを特徴とする特許請求の範囲第3項記載のオー
    トレフラクトメータ。
  9. (9)前記マスク手段は第1と第2のマスク手段からな
    シ、第1のマスク手段KFi前記第1の平行直線群が、
    第2のマスク手段Ktf第2の平行直線群がそれぞれ形
    成され、前記リレー光学手段による共役面内で該第1及
    び第2の平行直線群が交差することを特徴とする特許請
    求の範囲第8項記載のオートレフラクトメータ。 (至)前記開ロバターンは円形開口/fターンであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第3項記載のる少なくと
    も1本の直線開ロバターンを有してなることを特徴とす
    る特許請求の範囲第10項記載のオートレフラクトメー
    タ。 tlz  前記光源は赤外光を照射する半導体レーザで
    あることを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第1
    1項のいずれかに記載のオートレフラクトメータ a3  前記検出手段は多数の受光素子を平面状に配列
    してなる平面型センサーアレイであることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項ないし第12項いずれかに記載の
    オートレフラクトメータ。 a4  前記検出手段は多数の受光素子を直線状に配列
    してなりかつ実質的もしくは前記共役面内で仮想的に互
    いに交差する少なくとも2本のリニアセンナアレイから
    なることを特徴とする特許請求の範囲第5項ないし第1
    3項いずれがに記載のオートレフラクトメータ。 a9  前記検出手段は実質的もしくは前記共役面内で
    仮想的に平行な少なくとも2本のリニアセンサアレイで
    あることを特徴とする特許請求の範囲第5項ないし第1
    3項いずれかに記載のオートレフラクトメータ〇
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