JPS5872217A - 温度制御ブロツクの温度制御装置 - Google Patents
温度制御ブロツクの温度制御装置Info
- Publication number
- JPS5872217A JPS5872217A JP56170307A JP17030781A JPS5872217A JP S5872217 A JPS5872217 A JP S5872217A JP 56170307 A JP56170307 A JP 56170307A JP 17030781 A JP17030781 A JP 17030781A JP S5872217 A JPS5872217 A JP S5872217A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat
- heating element
- temperature control
- control
- heat sensitive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D23/00—Control of temperature
- G05D23/19—Control of temperature characterised by the use of electric means
- G05D23/20—Control of temperature characterised by the use of electric means with sensing elements having variation of electric or magnetic properties with change of temperature
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D23/00—Control of temperature
- G05D23/19—Control of temperature characterised by the use of electric means
- G05D23/1919—Control of temperature characterised by the use of electric means characterised by the type of controller
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Control Of Temperature (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、被温度制御空間を包囲する凹鱒部をもつ温
度制御ブロックの一部に設は九空室に発熱体を、その空
室とは隔離した別の空室に感熱体を設置し、その温度制
御ブロックの伝導熱による温度変化を制御するようＫし
た温度制御装置に関する。
度制御ブロックの一部に設は九空室に発熱体を、その空
室とは隔離した別の空室に感熱体を設置し、その温度制
御ブロックの伝導熱による温度変化を制御するようＫし
た温度制御装置に関する。
一般に、発熱体と感熱体とを互いに分離させて固体内に
埋設して固体の温度を制御するようにしたものにおいて
は、発熱体と感熱体との間において熱伝導に遅れを生じ
るので、偏差に対する修正動作に遅れが生じ、その即応
性を悪くすることは良く知られている。
埋設して固体の温度を制御するようにしたものにおいて
は、発熱体と感熱体との間において熱伝導に遅れを生じ
るので、偏差に対する修正動作に遅れが生じ、その即応
性を悪くすることは良く知られている。
この発明は、このような固体の温度制御における即応性
の悪さを制御精度を保持しながら改善することのできる
温度制御ブロックに対する新たな温度制御装置を提供し
ようとするものである。
の悪さを制御精度を保持しながら改善することのできる
温度制御ブロックに対する新たな温度制御装置を提供し
ようとするものである。
すなわちこの発明は、被温度制御空間を包囲する凹廟部
を４つ温度制御ブロックの一部に設けた空室に発熱体を
、その空室とは隔離した別の空室に感熱体を設置し、そ
の温度制御ブロックの伝導熱による温度変化を制御する
ようにした温度制御装置において、発熱体を設置する空
室と感熱体を設置する空室との間に部分的に発熱体の外
面と感熱体の外面とが直接的に対向する直管連通路を穿
設し九ことを特徴とする温度制御ブロックの温度制押装
置にかかるものである。
を４つ温度制御ブロックの一部に設けた空室に発熱体を
、その空室とは隔離した別の空室に感熱体を設置し、そ
の温度制御ブロックの伝導熱による温度変化を制御する
ようにした温度制御装置において、発熱体を設置する空
室と感熱体を設置する空室との間に部分的に発熱体の外
面と感熱体の外面とが直接的に対向する直管連通路を穿
設し九ことを特徴とする温度制御ブロックの温度制押装
置にかかるものである。
前述の如く、固体の温度制御系に時間遅れが生じる主な
原因は、発熱体と感熱体との間において熱伝導に遅れが
生じることである。この発明では温度制御ブロック内に
埋設される発熱体と感熱体との間に、部分的に発熱体の
外面と感熱体の外面とが直接的に対向する直管連通路を
設け、この連通路を介して発熱体の熱光線を感熱体の一
部分に直接照射するのである。これによりブロックを介
して行なわれる伝導熱制御に部分的に輻射熱制御が加え
られ、全体として制御精度を保持しながら温度制御系の
即応性を良くすることができる。この場合、感熱体が発
熱体から直接受ける輻射熱量は、温度制御ブロックに対
する温度制御を不安定にするものであってならない。し
たがって感熱体が受けるブロックからの伝導熱量と発熱
体からの輻射熱量との割合が問題となるが、その割合は
前記直管連通路の開口面積の割合によって決定される〇 一般には、まず直管連通路のない場合の温度制御ブロッ
クの温度制御特性を求め、次にこの温度制御ブロックに
直管連通路を設けた時のその直管連通路に関する温度制
御特性を求めて、この両制御系を重ね合わせた時に、直
管連通路に関する温度制御特性が温度制御ブロックの温
度制御特性を改善しうるように、この直管連通路に関す
る温度制御特性を設定する。この場合直管連通路に関す
る温度制御系の特性は、主として直管連通路の開口面積
によって決定される。し九がってミこの特性が決定され
ると、一義的に感熱体に対する伝導熱量と輻射熱量との
割合を求めることができる。
原因は、発熱体と感熱体との間において熱伝導に遅れが
生じることである。この発明では温度制御ブロック内に
埋設される発熱体と感熱体との間に、部分的に発熱体の
外面と感熱体の外面とが直接的に対向する直管連通路を
設け、この連通路を介して発熱体の熱光線を感熱体の一
部分に直接照射するのである。これによりブロックを介
して行なわれる伝導熱制御に部分的に輻射熱制御が加え
られ、全体として制御精度を保持しながら温度制御系の
即応性を良くすることができる。この場合、感熱体が発
熱体から直接受ける輻射熱量は、温度制御ブロックに対
する温度制御を不安定にするものであってならない。し
たがって感熱体が受けるブロックからの伝導熱量と発熱
体からの輻射熱量との割合が問題となるが、その割合は
前記直管連通路の開口面積の割合によって決定される〇 一般には、まず直管連通路のない場合の温度制御ブロッ
クの温度制御特性を求め、次にこの温度制御ブロックに
直管連通路を設けた時のその直管連通路に関する温度制
御特性を求めて、この両制御系を重ね合わせた時に、直
管連通路に関する温度制御特性が温度制御ブロックの温
度制御特性を改善しうるように、この直管連通路に関す
る温度制御特性を設定する。この場合直管連通路に関す
る温度制御系の特性は、主として直管連通路の開口面積
によって決定される。し九がってミこの特性が決定され
ると、一義的に感熱体に対する伝導熱量と輻射熱量との
割合を求めることができる。
実際にガスクロマトグラフ質量分析針のイオン源容器体
において、その容器体の温度制御系における定常偏差が
１度々２度の範囲にあったもの力ζＱＯＩ度程度に収め
ることができた。
において、その容器体の温度制御系における定常偏差が
１度々２度の範囲にあったもの力ζＱＯＩ度程度に収め
ることができた。
このようにこの発明Ｋかかる温度制御装置は、高精度な
温度制御を必要とするものに適用した場合に効果を発揮
する。そこで次にこの発明の具体 、的な構成をガスク
ロマトグラフ質量分析針のイオン源容器に適用した場合
について述べる。
温度制御を必要とするものに適用した場合に効果を発揮
する。そこで次にこの発明の具体 、的な構成をガスク
ロマトグラフ質量分析針のイオン源容器に適用した場合
について述べる。
第１図は、この発明にかかる温度制御機構をガスクロマ
トグラフ質量分析針のイオン源に適用した場合の構成を
示す説明図、第２図はイオン源容器本体の構成を示す側
断面図、第３図はこのイオン源容器本体の平面図を示す
。
トグラフ質量分析針のイオン源に適用した場合の構成を
示す説明図、第２図はイオン源容器本体の構成を示す側
断面図、第３図はこのイオン源容器本体の平面図を示す
。
これらの図においてＱＣ′）はガスクロマトグラフ（１
）はカラム（２）はセパレータ、（３）はその内室が高
真空に保持される真空チャンバ、（４）は前記セパレー
タ（２）で分離された試料をイオン化室（５）に導入す
る導入路、■はイオン化室（５）を形成するイオン源容
器体、０はイオン源容器（Ｂ）の体内に空間部（Ｅ＋）
を介して埋設される発熱体、（ロ）はイオン源容器体（
Ｂ）の温度を検出する感熱体、（Ｃ）は感熱体＠の検出
値を内部設定値と比較しその偏差に基づいて発熱体０の
発熱量を操作する調節計、■は発熱体＠と感熱体■との
間に穿設される直管連通路である０イオン源容器体（Ａ
）は、ステンレス材からなる温度制御ブロックを形成す
る。発熱体（ロ）は、イオン源容器体（Ａ）内に設けら
れた空室ωよ）に電気絶縁管（６）を介して挿脱可能に
収納される。（７）は、この電気絶縁管（６）を封止す
る電気絶縁蓋であシ、この絶縁蓋（７）を介して発熱体
υに接続されるリード線（ｐｌ）がイオン源容器体■外
に導出される。尚、電気絶縁管（６）の直管連通路■の
開口面と対向する箇所には、発熱体■の熱光線を直管連
通路（Ｄ）内に導入する貫通穴（６）が設けである。
）はカラム（２）はセパレータ、（３）はその内室が高
真空に保持される真空チャンバ、（４）は前記セパレー
タ（２）で分離された試料をイオン化室（５）に導入す
る導入路、■はイオン化室（５）を形成するイオン源容
器体、０はイオン源容器（Ｂ）の体内に空間部（Ｅ＋）
を介して埋設される発熱体、（ロ）はイオン源容器体（
Ｂ）の温度を検出する感熱体、（Ｃ）は感熱体＠の検出
値を内部設定値と比較しその偏差に基づいて発熱体０の
発熱量を操作する調節計、■は発熱体＠と感熱体■との
間に穿設される直管連通路である０イオン源容器体（Ａ
）は、ステンレス材からなる温度制御ブロックを形成す
る。発熱体（ロ）は、イオン源容器体（Ａ）内に設けら
れた空室ωよ）に電気絶縁管（６）を介して挿脱可能に
収納される。（７）は、この電気絶縁管（６）を封止す
る電気絶縁蓋であシ、この絶縁蓋（７）を介して発熱体
υに接続されるリード線（ｐｌ）がイオン源容器体■外
に導出される。尚、電気絶縁管（６）の直管連通路■の
開口面と対向する箇所には、発熱体■の熱光線を直管連
通路（Ｄ）内に導入する貫通穴（６）が設けである。
感熱体＠としては、ガラス材あるいはセラｉック等に封
入される白金測温抵抗体が用いられ、イオン源容器体（
Ａ）の平均的な温度を検出しうる位置に設は九この容器
体■の空室（Ｂ２）内Ｖｃ１ｊ１設される。
入される白金測温抵抗体が用いられ、イオン源容器体（
Ａ）の平均的な温度を検出しうる位置に設は九この容器
体■の空室（Ｂ２）内Ｖｃ１ｊ１設される。
（ム）はこの感熱体＠から導出するリード線で、前記リ
ード？ｆＪ（ｎ＋）とともに調節計Ｃ）に接続される。
ード？ｆＪ（ｎ＋）とともに調節計Ｃ）に接続される。
（８）は、この感熱体の）をイオン源容器体■内に固定
する金具である。
する金具である。
調節器０には、イオン源容器体■を所望温度に設定する
設定器が内蔵される。
設定器が内蔵される。
直管連通路■は、発熱体０を収容する空室ＣＢ、）と感
熱体＠を収容する空室ＣＢ、）との間に穿設せしめられ
、この直管連通路＠を介して発熱体０の一部外面と、感
熱体（Ｂ）の一部外面とが直接的に対向せしめられる。
熱体＠を収容する空室ＣＢ、）との間に穿設せしめられ
、この直管連通路＠を介して発熱体０の一部外面と、感
熱体（Ｂ）の一部外面とが直接的に対向せしめられる。
この発明は、以上の如く発熱体と感熱体との間に発熱体
の熱光線を感熱体の一部分に直接照射する直管連通路を
設けたので、温度制御ブロックにおける伝導熱制御に部
分的に輻射熱制御が加えられ、全体として制御精度を保
ちながら即応性を改善することができる。を九偏差に対
する修正動作の遅れによって生じる発熱体の過度ガ加熱
も防止することができるので、発熱体の耐用年数を向上
させることができる。さらには、その構成も極めて簡単
であるので、あらゆる固体の温度制御において容易に適
用することができる等の効果を奏する。
の熱光線を感熱体の一部分に直接照射する直管連通路を
設けたので、温度制御ブロックにおける伝導熱制御に部
分的に輻射熱制御が加えられ、全体として制御精度を保
ちながら即応性を改善することができる。を九偏差に対
する修正動作の遅れによって生じる発熱体の過度ガ加熱
も防止することができるので、発熱体の耐用年数を向上
させることができる。さらには、その構成も極めて簡単
であるので、あらゆる固体の温度制御において容易に適
用することができる等の効果を奏する。
第１図は、この発明Ｋかかる温度制御ブロックの温度制
御装置をガスクロマトグラフ質量分析計のイオン源容器
体に適用し九場合の一例を示す構成説明図、第２図はこ
のイオン源容器体の構成を示す側断面図、第３図はその
平面図である。 （Ａ）・・・・・・温度制御ブロック（イオン源容器体
）ω１）乱）・・・・・・空室 （Ｈ）・・・・・・
発熱体ω）・・・・・・感熱体 （Ｄ）・・・・・
・直管連通路（５）・・・・・・凹捌部 第 ブト ８１ ■ ■ ３図
御装置をガスクロマトグラフ質量分析計のイオン源容器
体に適用し九場合の一例を示す構成説明図、第２図はこ
のイオン源容器体の構成を示す側断面図、第３図はその
平面図である。 （Ａ）・・・・・・温度制御ブロック（イオン源容器体
）ω１）乱）・・・・・・空室 （Ｈ）・・・・・・
発熱体ω）・・・・・・感熱体 （Ｄ）・・・・・
・直管連通路（５）・・・・・・凹捌部 第 ブト ８１ ■ ■ ３図
Claims (1)
- 被温度制御空間を包囲する凹蛎部（５）をもつ温度制御
ブロック（Ａ）の一部に設けた空室色）に発熱体０を、
その空室Ｑ３．）とは隔離した別の空室（８ｔ）に感熱
体（ト）を設置し、その温度制御ブロック（ム）の伝導
熱による温度変化を制御するようにした温度制御装置に
おいて、発熱体０を設置する空室（Ｂ、）と感熱体＠を
設置する空室（Ｂ２）との間に部分的に発熱体０の外面
と感熱体（Ｂ）の外面とが直接的に対向する直管連通路
＠を穿設したことを特徴とする温度制御ブロックの温度
制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56170307A JPS5872217A (ja) | 1981-10-23 | 1981-10-23 | 温度制御ブロツクの温度制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56170307A JPS5872217A (ja) | 1981-10-23 | 1981-10-23 | 温度制御ブロツクの温度制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5872217A true JPS5872217A (ja) | 1983-04-30 |
| JPH0211921B2 JPH0211921B2 (ja) | 1990-03-16 |
Family
ID=15902539
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56170307A Granted JPS5872217A (ja) | 1981-10-23 | 1981-10-23 | 温度制御ブロツクの温度制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5872217A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4840043A (ja) * | 1971-09-25 | 1973-06-12 | ||
| JPS5464363U (ja) * | 1977-10-15 | 1979-05-07 |
-
1981
- 1981-10-23 JP JP56170307A patent/JPS5872217A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4840043A (ja) * | 1971-09-25 | 1973-06-12 | ||
| JPS5464363U (ja) * | 1977-10-15 | 1979-05-07 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0211921B2 (ja) | 1990-03-16 |
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