JPS5867039A - 暗視野照明装置 - Google Patents
暗視野照明装置Info
- Publication number
- JPS5867039A JPS5867039A JP16574481A JP16574481A JPS5867039A JP S5867039 A JPS5867039 A JP S5867039A JP 16574481 A JP16574481 A JP 16574481A JP 16574481 A JP16574481 A JP 16574481A JP S5867039 A JPS5867039 A JP S5867039A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- concave mirror
- parabolic concave
- points
- dark
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70605—Workpiece metrology
- G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70605—Workpiece metrology
- G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
- G03F7/7065—Defects, e.g. optical inspection of patterned layer for defects
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明扛ＬＳＩクエへなどのパターンの外観を自動的に
検査する装置等に用いられる暗視野照明装置に関するも
のである。
検査する装置等に用いられる暗視野照明装置に関するも
のである。
ＬＳＩクエ八とへ第１図１に示すように直径１００ｍ、
厚さａ５諺程度のシリコン単結晶の薄板であるが、表面
にチリプと呼ばれる多数の素子が形成されている。これ
らのチップ２拡一枚のクエへ上ではすべて同一のパター
ンを有しているので、テシプ内のパターンを検査する友
めＫは近接した二つのチップ（例えば３と４）内の同一
個所（例えば５と６）を顕微鏡で拡大し、これらの画像
を比較すれば不一致部分を欠陥と判定することが出来る
。
厚さａ５諺程度のシリコン単結晶の薄板であるが、表面
にチリプと呼ばれる多数の素子が形成されている。これ
らのチップ２拡一枚のクエへ上ではすべて同一のパター
ンを有しているので、テシプ内のパターンを検査する友
めＫは近接した二つのチップ（例えば３と４）内の同一
個所（例えば５と６）を顕微鏡で拡大し、これらの画像
を比較すれば不一致部分を欠陥と判定することが出来る
。
第２図はウニへ上の二点５，６を顕微鏡７．８で検出し
ている状ｌｉを示したものである。
ている状ｌｉを示したものである。
ウニへ上のパターンを検出する時の照明法には明・Ｉｌ
−視野複合照明が不可欠である。これは第３図でクエへ
上の一点９ｔ−明視野照明光１Ｇ、暗視野照明党１１で
同時に照明するものである。上記した比較検査の場合に
Ｆｉ＊４ｖＡのように検出する点５，６ｔ−明・暗視野
複合で照明する必要がある。
−視野複合照明が不可欠である。これは第３図でクエへ
上の一点９ｔ−明視野照明光１Ｇ、暗視野照明党１１で
同時に照明するものである。上記した比較検査の場合に
Ｆｉ＊４ｖＡのように検出する点５，６ｔ−明・暗視野
複合で照明する必要がある。
明視野照明線間図中に示し良ようにランプ１２゜１３を
用いて上方から照明すれば実現可能であるが、暗視野照
明に拡工夫が必要である。
用いて上方から照明すれば実現可能であるが、暗視野照
明に拡工夫が必要である。
二点５．６１に同時に暗視野照明するための従来技術と
して扛第−に従来の暗視野対物レンズを使用することが
考えられるが、この対物レンズは直径が太く、第４図で
２個の対物レンズ１ａ、１５を近接させることが出来な
いので、比較検査用対物レンズとしては使用出来ない。
して扛第−に従来の暗視野対物レンズを使用することが
考えられるが、この対物レンズは直径が太く、第４図で
２個の対物レンズ１ａ、１５を近接させることが出来な
いので、比較検査用対物レンズとしては使用出来ない。
ｉ九暗視野対物レンズの照明光は著しく暗いので通常の
光電素子では検出出来ない。
光電素子では検出出来ない。
第二の従来技術としては第５図に示すようにクエへの周
辺に多数のランプ（例えば１６）と多数の集光レンズ（
例えは１７）を設けて照明することも考えられるが、多
数の畏ンプとレンズが必要であ夛、これの保守点検の作
業が膨大になると共に、強力な照明が得られない欠点が
ある。
辺に多数のランプ（例えば１６）と多数の集光レンズ（
例えは１７）を設けて照明することも考えられるが、多
数の畏ンプとレンズが必要であ夛、これの保守点検の作
業が膨大になると共に、強力な照明が得られない欠点が
ある。
本発明の目的は上記した従来技術の欠点をなくし、ウェ
ハ上の二点を強力に暗視野照明できるようにした暗視野
照明装置を提供することにある。
ハ上の二点を強力に暗視野照明できるようにした暗視野
照明装置を提供することにある。
即ち、本発明は放物凹面鏡を用いてウニ八１上のである
。以下本発明を図に示す実施例にもとづいて具体的に説
明する０本発明の原理は第６図でウニへ上に２個の放物
凹面鏡２１．２２ｔ−設け、２１で点５を照明し、２２
で点６ｔ−照明するものである。２１．２２を同時に設
ける九めに１各々を半径方向に切断し、交互に組み合せ
ている。
。以下本発明を図に示す実施例にもとづいて具体的に説
明する０本発明の原理は第６図でウニへ上に２個の放物
凹面鏡２１．２２ｔ−設け、２１で点５を照明し、２２
で点６ｔ−照明するものである。２１．２２を同時に設
ける九めに１各々を半径方向に切断し、交互に組み合せ
ている。
クエへ上の検出すべき２点５．６の間隔は目的に応じそ
変える必要がある。第６図で対物レンズ１を固定レンズ
とし、対物レンズ８を可動レンズとする。両者の基準間
隔ｔ−ｗとし、８が基準位置から±８７２だけ動き、こ
れに伴い放物凹面鏡２２も基準位置から±８／２だけ動
くものとする。
変える必要がある。第６図で対物レンズ１を固定レンズ
とし、対物レンズ８を可動レンズとする。両者の基準間
隔ｔ−ｗとし、８が基準位置から±８７２だけ動き、こ
れに伴い放物凹面鏡２２も基準位置から±８／２だけ動
くものとする。
始めに放物凹面鏡の半径方向の切断法を述べる。
第８図でリング状放物凹面鏡２５の中心を２４とｔ幅旦
で放射状に一定角度ずつ切断する。第７図は−周Ｙｔ４
８等分した場合を示している。
で放射状に一定角度ずつ切断する。第７図は−周Ｙｔ４
８等分した場合を示している。
次ＫｊｌＦ７図で、切断された凹面鏡を、斜線を施した
ように一つおきに取や上げて、点２５を中心に１８０＠
回転させて再度下に置けば、凹面鏡は第８Ｅのように配
置される。ここで便宜上斜Ｉ！を施した凹面鏡をＢ部、
施さない凹面鏡［−Ａ部と名付ける。Ａ部の中心は２４
であるが、Ｂ部の中心は２６となシ、羊の間隔はＷであ
る。ｔたＡ部とＢ部の間には９士号の間隙があ）、８４
部を士号だけ２７の方向に動かすことが出来るので、ウ
ニへ上の暗視野照明点を変化させることが出来る。
ように一つおきに取や上げて、点２５を中心に１８０＠
回転させて再度下に置けば、凹面鏡は第８Ｅのように配
置される。ここで便宜上斜Ｉ！を施した凹面鏡をＢ部、
施さない凹面鏡［−Ａ部と名付ける。Ａ部の中心は２４
であるが、Ｂ部の中心は２６となシ、羊の間隔はＷであ
る。ｔたＡ部とＢ部の間には９士号の間隙があ）、８４
部を士号だけ２７の方向に動かすことが出来るので、ウ
ニへ上の暗視野照明点を変化させることが出来る。
次に放物凹面鏡Ａ部とＢ１１５を独立に固定し、Ｂ部を
２７の方向に動かす一実施例を述べる。第９図で放物凹
面鏡Ａ部祉サポータ２８を介して下側ベース２９に固定
されておシ、Ｂ部はサポータ３゜を介して上鉤ベース３
１に固定されている。３１位ローラガイドによってサイ
ドベース３２に固定されておシ、電動機！１５、ねじ３
４によって５５の方向に自由に動き得る。これによって
第６図に於けるＷを自由に変化させることが出来る。
２７の方向に動かす一実施例を述べる。第９図で放物凹
面鏡Ａ部祉サポータ２８を介して下側ベース２９に固定
されておシ、Ｂ部はサポータ３゜を介して上鉤ベース３
１に固定されている。３１位ローラガイドによってサイ
ドベース３２に固定されておシ、電動機！１５、ねじ３
４によって５５の方向に自由に動き得る。これによって
第６図に於けるＷを自由に変化させることが出来る。
本装置を応用し友パターン検出装置の一実施例を第１０
図に示す。放物凹面鏡３６の焦点位置く置いた水銀灯又
はハロゲンランプ３７からの光は３６で反射し死後平行
光線になって上方に向い、反射鏡３８で反射し良後、合
流鏡３９で反射し、再度平行光線になって上方に向う。
図に示す。放物凹面鏡３６の焦点位置く置いた水銀灯又
はハロゲンランプ３７からの光は３６で反射し死後平行
光線になって上方に向い、反射鏡３８で反射し良後、合
流鏡３９で反射し、再度平行光線になって上方に向う。
この集光系は左側にもあ）、そこからの光は左側から３
９に当って同様に上方に向う、これらの元が放物凹面鏡
Ａ部４０、放物凹面鏡８部４１に当ってウニへ上の二点
４２．４５を照明する。本装置によってウニへ上の二点
を同時に周囲から一様且つ強力に照明することが出来る
。クエへ１はウニへチャヴク４４にチヤプタされてお夛
、クエへチャックはＸＹテーブル４５に固定されている
。ＸＮｚテーブルがＸ、Ｙ方向に動くことによ少りエハ
１もＸＹ方向に移動し、対物レンズ７．８扛ウエへ上の
全面を検査する。
９に当って同様に上方に向う、これらの元が放物凹面鏡
Ａ部４０、放物凹面鏡８部４１に当ってウニへ上の二点
４２．４５を照明する。本装置によってウニへ上の二点
を同時に周囲から一様且つ強力に照明することが出来る
。クエへ１はウニへチャヴク４４にチヤプタされてお夛
、クエへチャックはＸＹテーブル４５に固定されている
。ＸＮｚテーブルがＸ、Ｙ方向に動くことによ少りエハ
１もＸＹ方向に移動し、対物レンズ７．８扛ウエへ上の
全面を検査する。
以上説明したように本発明によれば、検出すべき２個所
について暗視野照明が簡単な光学系によって達成できる
効果を奏する。従って試料上の２個所からのパターンを
撮像出来、との撮像によって得られる映倫信号を比較す
ることによって検査が可能となり１例えばＬＳＩウニへ
上のアルミニラムパターンの自動検査が可能となり、従
来の目視検査の１０〜５０倍以上の高速化が図れ、しか
も検査の信頼性も格段に向上させることが出来る。
について暗視野照明が簡単な光学系によって達成できる
効果を奏する。従って試料上の２個所からのパターンを
撮像出来、との撮像によって得られる映倫信号を比較す
ることによって検査が可能となり１例えばＬＳＩウニへ
上のアルミニラムパターンの自動検査が可能となり、従
来の目視検査の１０〜５０倍以上の高速化が図れ、しか
も検査の信頼性も格段に向上させることが出来る。
第１図はＬＳＩウニへのｔｔ明図、第２図灯比較検出法
の説明図、第３図位明・暗視野複合照明法の説明図、第
４図は２位置暗視野照明法の説明図、第５図は２位置暗
視野照明法の従来技術の説明図、第６図は本発明による
２位置暗視野照明法の説明図、第７図は本発明による放
物凹面鏡の切断法の説明図、第８図は本発明による放物
凹面鏡の組立法の説明図、第９図は本発明の一実施例を
示す図、第１０図線本発明の他の一実施例を示す図であ
る。 ２１・２２−−゛方吏で空回（ｍ＃ λ３・・・
Ｊノニフ”板′オニｒ杓ハクｉ口範りり ／ 図 グ２ 図 才 ３ 図 ′ｒ４図 ）Ｘｓ 間 ｖ オ６図 オフｙＡ 貌。 グ ＠ 図 ケラ 記 （ｔＵ
の説明図、第３図位明・暗視野複合照明法の説明図、第
４図は２位置暗視野照明法の説明図、第５図は２位置暗
視野照明法の従来技術の説明図、第６図は本発明による
２位置暗視野照明法の説明図、第７図は本発明による放
物凹面鏡の切断法の説明図、第８図は本発明による放物
凹面鏡の組立法の説明図、第９図は本発明の一実施例を
示す図、第１０図線本発明の他の一実施例を示す図であ
る。 ２１・２２−−゛方吏で空回（ｍ＃ λ３・・・
Ｊノニフ”板′オニｒ杓ハクｉ口範りり ／ 図 グ２ 図 才 ３ 図 ′ｒ４図 ）Ｘｓ 間 ｖ オ６図 オフｙＡ 貌。 グ ＠ 図 ケラ 記 （ｔＵ
Claims (3)
- （１） ウニへ又鉱基板の表面上、検出すべき少くと
も２個所を焦点位置とする組み合せ放物凹面鏡を使用し
て上記２個所を暗視野照明する・ことｔ−特徴とする暗
視野照明装置。 - （２）上記放物凹面鏡を、放物凹面鏡の中心から一定距
離隔った点を中心にして放射状に切断し、切断し九放物
凹面鏡を、それぞれの放物凹面鏡の焦点位置が異なる２
点［＝なるように再配置し九こと・・を特徴とする特許
請求範囲第１項記載の暗視野照明装置。 - （３） 上記組み合せ放物凹面鏡の間隔を可変にして
、異なる２点の焦点位置の間隔【変化できるようにし九
ことを特徴としｆｔ、、４Ｉ許請求範囲第１項また轄第
２項記載の暗視野照明装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16574481A JPS5867039A (ja) | 1981-10-19 | 1981-10-19 | 暗視野照明装置 |
| DE8282106185T DE3274015D1 (en) | 1981-07-14 | 1982-07-12 | Pattern detection system |
| EP82106185A EP0070017B1 (en) | 1981-07-14 | 1982-07-12 | Pattern detection system |
| US06/397,900 US4508453A (en) | 1981-07-14 | 1982-07-13 | Pattern detection system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16574481A JPS5867039A (ja) | 1981-10-19 | 1981-10-19 | 暗視野照明装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5867039A true JPS5867039A (ja) | 1983-04-21 |
Family
ID=15818247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16574481A Pending JPS5867039A (ja) | 1981-07-14 | 1981-10-19 | 暗視野照明装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5867039A (ja) |
-
1981
- 1981-10-19 JP JP16574481A patent/JPS5867039A/ja active Pending
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