JPS5861120A - ポリスルホンカ−ボネ−トの製造方法 - Google Patents

ポリスルホンカ−ボネ−トの製造方法

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JPS5861120A
JPS5861120A JP15863881A JP15863881A JPS5861120A JP S5861120 A JPS5861120 A JP S5861120A JP 15863881 A JP15863881 A JP 15863881A JP 15863881 A JP15863881 A JP 15863881A JP S5861120 A JPS5861120 A JP S5861120A
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JP
Japan
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compound
reaction
solvent
carbonyl
dihydroxy
Prior art date
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JP15863881A
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English (en)
Inventor
Hirosuke Wada
和田 裕助
Shiyuichi Suzuki
鈴木 脩一
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ポリスルホンカーlネートの製造方法に係り
、更に詳しくは、耐クラツク性、耐衝撃性、耐熱性、耐
光性及び耐化学薬品性等に優れた性質を有するポリスル
ホンカーlネートの新規かつ簡便な製造方法に関する。
従来、ポリスルホンカーlネート樹脂の製造方法として
は、次に示すような溶液重合法が知られている。即ち、
ジヒドロキシジアリールスルホン化合物と溶媒の混合物
に、ホスゲン(coci2)をエステル化剤として作用
せしめることにより、製造するものである。かかる製造
方法は、ジヒドロキシジアリールスルホン化合物として
代表的な、次式 で示されるビスフェノール5(BF2)を、例えば、水
着化ナトリウム処理塩化メチレン等のアルカリ処理ハロ
ゲン化炭化水素又は、例えば、ピリジン等の複素環化合
物等の溶媒に溶解し、該溶液に反応性に富なホスゲン(
C0CQ、 )をガス状で吹自込むものである。かかる
反応は次式の如く進行する啄のと考えられる。
上記反応により製造されるプリスルホンカーボネートは
、比較的低分子量のものであや、物理化学的特性が優れ
た高分子量のものを得ることは困■である。また、猛毒
ガスであるホスゲンを原料として使用するうえに、反応
生成物として塩化水素ガスが副生ずるために、毒ガス対
蒙、未反応ホスゲンの処理、塩化水素による装置の腐食
防止、アルカリによる塩化水素除去婚理後の脱塩工程が
必要である等の問題点がある。
更に、重合反応が気体ホスゲンと溶液との不均一系界面
重合であることに起因する反応の複雑さや、溶剤の除去
、重合体の乾燥・精製・固形化等反応終了後の処理工程
が多肢にわたることから、安定した品質を有するものを
得ることが困難である等の問題点がある。
プリスルホンカーボネートが、優れた種々の性能を有す
るにも拘らず、これまであtS爽用に供されていない理
由は、上記したような問題点を有するためであった。
本発明は、かかる18111点を解決せんとして成され
たものであ抄、その目的は、安全かつ簡便で、高分子量
を有するぎりスルホンカーlネートの製造方法を提供す
るにある。
本発明者らは、かかる軟泥にお−で、種々検討を重ねた
結果、N 、 N’−カルボニル結合を有する化合物を
、ホスゲンの代替物として使用することに想到し、本発
明を完成するに到った。
即ち、本発明のポリスルホンカーlネートの製造方法は
、ジヒドロキシジアリールスルホン化合物とN 、 N
’−力ルゼエル結合を有する化合物とを反応させること
を特徴とする−のである。
以下において、本発明の製造方法を更に詳しく説明する
本発明の製造方法は、従来法と同様に溶液重合法を採用
することができ、斐に、塊状重合法によることも可能で
ある。
溶液重合法においては、例えば、次のような方法を採用
することが可能である。即ち、先ず、溶媒に溶解したジ
ヒドロキシジアリールスルホン化合物に、同じく溶媒に
溶解したN 、 N’−カルボニル化合を有する化合物
を、室温から約70Cの間において、攪拌下、α5〜t
o時間かけて滴下し、更に10〜4.0時間攪拌を続け
る。
次いで、溶媒を追加して徐々に加温し、攪拌を続けなが
ら溶媒及び反応副生物を除去する。更に、30〜α1s
sHgに減圧し、反応副生物を留去した後、攪拌下、2
00〜300Cに加熱し反応を続けると、目的とするポ
リスルホンカーlネートが得られる。
また、塊状重合法による場合には、例えば、ジヒドロキ
シジアリールスルホン化合物とN。
N′−カルボニル化合物を混合し、60〜90rにおい
て、攪拌下、tO〜2.0時間反応させ、固溶体化後、
更に10〜4.0時間攪拌を続けるO次いで、徐々に加
温し、攪拌を続けながら反応副生物を除去する。更に、
30〜α1mHHに減圧し、反応副生物を留去した後、
攪拌下、200〜300Cに加熱することにより&リス
ルホンカーポネーFが得られる。
上記した何れの重合法においても、使用されるジヒドロ
キシジアリールスルホン化合物とN。
N′−カルボニル結合を有する化合物の配合比は、等モ
ル量で使用することが好ましい。
本発明の方法にお―て生成する、反応−生物である窒素
を環員に有する複素環化合物は、何れも常温で固体であ
るために、反応系からの除去は、減圧下、昇華させて除
去を行なうものである。
本発明において使用されるジヒドロキシジアリールスル
ホン化合物としては、前述したビスフェノール5(BP
S)の他に、例えば、4゜4′−ジヒドロキシ−3′−
クロロジフェニルスルホン、4.4′−ジヒドロキシ−
3,3′−ジクロロジフェニルスルホン、4.4’−ジ
ヒドロキシ−3′−ブロモジフェニルスルホン、4.4
’−ジヒドロキシ−3,3′−ジブロモジフェニルスル
ホン、4.4′−ジヒドロキシー3 、3’−ジエチル
ジフェニルスルホン、4.4’−1’ヒドロキシ−2′
−クロロジフェニルスルホン、4.4’−ジヒドロキシ
−2,2′−ジクロロジフェニルスルホン、4.4’−
ジヒドロキシ−2′−ブロモジフェニルスルホン、4.
4’−ジヒドロキシ−2゜2′−ジブロモジフェニルス
ル*>、4.4’−ジヒドロキシ−3、3’ 、 5 
、5’−テトラクロロジフェニルスルホン、4.4’−
ジヒドロキシ−3,3’、5.5’−テトラブロモジフ
ェニルスルホン、4.4′−ジヒドロキシ−2,2′−
ジメチルジフェニルスルホン、3.3’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホン、3.5’−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホン、3.3’−ジヒドロキシ−4゜4′−ジク
ロロジフェニルスルホン、3.5’−ジヒドロキシ−4
,4′−ジクロロジフェニルスルホン等が挙げられ、こ
れらから選ばれた1種もしくは2種以上のものが使用さ
れる。
また、本発明において使用されるN 、 N’−カルl
ニル結合を有する化合物としては、N、N’−力ルlニ
ル結合を有するものであればいかなるものでも使用可能
であや、とりわけ窒素を環員に含む複素環基を有するも
のであることが好ましい。かかる化合物としては、例え
ば、N。
N′−力ル〆ニルージイミダゾール、N 、 N’ −
カルがニルージビロール、N、N’−カルボニル−ジト
リアゾール、N、N’−カルボニル−ジインドール、N
、NZ−力ルlニル−ジベンズイミダゾール、N、N′
−力ルlニル−ジベンズトリアゾール6、N 、 N’
−力ルlニル−ジブリン、N。
N’−カルポニルージビペリジン、N、NZ−カルポニ
ルージプラチアジン、 N、N’−力ルIニルージブロ
リン、N、N’−カルポニルージビラゾール、N、N’
−カルポニルージビロリイジン、N 、 N’−カルl
ニルージビ田リン、N 、 N’−力ルがエル−ジー2
−ピロリドン等が挙けられ、これから選ばれた1種もし
くは2種以上の4のが使用される。
本発明の溶液重合法の際に使用される溶媒は、上記ジヒ
ドロキシジフェニルスルホン化合物及びN 、 N’−
カルボニル結合を有する化合物を溶解する本のであれば
いかなるものでも使用可能であり、例えば、ピリジン、
N−メチルピロリドン、スルホラン、ビロール等の複素
環化合物、屯しくは、塩化メチレン、塩化エチレン、塩
化メチル、塩化エチル、塩化メタン、塩化エタン、四埴
化脚素、クロロホルム等の炭素数1〜4を有するハロゲ
ン化炭化水素が挙けられ、これらから選ばれた1種もし
くは2種以上のものが使用される。
本発明において使用されるN 、 Nl−カルボニル結
合を有する化合物は、ホスゲンと比較して、ポリスルホ
ンカーlネート製造上にお―で、次表に示すような利点
を有している。
表 以上の利点を有するN 、 N’−カルボニル結合を有
する化合物と、ジヒドロキシジアリールスルホン化合物
よりポリスルホンカーボネートを製造する本発明の方法
は、次に示すような種々の特徴を有するものである。
(1)  無毒の化合物を使用するために、環境汚′染
等の心配がない。そのため、対毒ガス対策を要せず、反
応装置も比較的簡単なものでよい。
(2)原料が固体であるために、取扱いが容易であゆ、
ピリジンもしくはハロゲン化炭化水素系溶媒中において
は反応が均一に進行し、得らレルポリスルホンカーボネ
ートも均質なものである。
(3)反応副生物である複素環化合物は、無負の固体で
あるためにぎりスルホン力−メネート樹脂からの分離が
容易であや、かつN、N/−カルボニル化合物の原料と
なるためのリサイクル機構の設定が可能である。
(4)゛塩化水素ガスの発生を伴わないため、アルカリ
処理及び脱塩工程が省略でき、かつ塩化水素ガスによる
腐蝕の恐れがない等、工程・装置のコストダウ′ンが可
能である。
上記した特徴を有する本発明の製造方法により得られる
がリスルホンカーボネートは、その特性を利用して種々
の用途が期待されるものである。
以下において、実施例を掲げ、本発明を更に具体的に説
明する。
実施例1゜ 4.4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン(BPS)
5OJF&:溶媒トシテビリシン110Fを加え、攪拌
しながらこの溶液に、N 、 N’−カルlニル−ジイ
ミダゾール44!をピリジン801に溶解した溶液を、
室温で30分か1すて滴下し導入した。次いで、室温で
150分攪拌を続け、得られた粘稠性液体に、ピリジン
65りを添加し、更に攪拌を続けながら加温したところ
、100C前後でピリジン及びイミダゾールが留出を始
めた。ピリジン及びイミダゾールを全て留去するために
、次いで30〜αlswsHgに減圧してそれらを除来
した。得られた高粘稠性液体を、更に250rtで昇温
したところ、攪拌不能となり、常温で固体の高粘度ぎり
スルホンカーボネート樹脂が得られた。
かかるマリスルホンカーメネート樹脂について、ウベロ
ーデ粘度計を用いて粘膚瀾定(溶媒二N−メチルピロリ
ドン)を行なったところ、比粘度1,12を有するもの
であることが確認された。
実施例2 4.4′−ジヒドロキシ−2,2′−ジメチル−ジフェ
ニルスルホン55Fに、溶媒としてピリジン1201を
加え、実施例1と同様の操作にて、ピリジン100Fに
溶解したN 、 N’−カルボニル−ジトリアゾール5
0Fの溶液を加え、重合を行なわしめた。同様の操作に
て、ピリジン及びトリアゾールを留夫した・ところ、常
温で固体の高粘度ポリスルホンカーボネー)樹脂が得ら
れた。
かかるがリスルホンカーボネート樹脂について、実施例
1と同様の方法で粘度測定を行なったとζろ、比粘度1
.51を有するものであることが確認された。また、そ
の融点を測定したところ、250Cであることが確認さ
れた。更に、上記により得られた樹脂を、従来のぎりス
ルホンカーボネート樹脂と共にlss厚の試験片を作成
し、その耐薬品性(アセトン、メタノール、テトラヒド
ロ7ラレ、トルエン蓼室温×120H及び601:’X
24H,)及び耐光性(ウェザ−メーターで4〜5年間
分)につ−て試験を行なったところ、本発明品は試験前
と比べて殆んど変化がなく、従来品と比較して格段に優
れていることが確認さ−れた。
実施例1 0 4.4′−ジヒドロキシ−3,3/−ジクooジフェニ
ルスルホン106y(α33mole)ニN 、 N/
−カルがニル−ジイミダゾール54y(0,33mo、
le )を加え、脱水テトラヒドロ7ラン(THF)1
00−を滴下し、均一溶液となるまで攪拌した。その後
、徐々に加温し、約60分かけて65C1で昇温したと
ころ、TI−IF’が徐太に留出を始めた。更に、65
Cで約120仕損#したところ、THFは留出しなくな
った。
次いで、高沸点溶媒であるヘキサメチレン本スホリクト
リアミド(HMPA、bpx 233C)75−を徐々
に滴下した。約20分でHMPAを滴下後、約150分
かけてI!麿を15Octで昇温すると、イミダゾール
が留出を始めた。ここで、約30〜10−1膓Hgに減
圧し、イミダゾ−#とHMPAを留去したところ、後に
粘稠な液体が残った。更に、加温、攪拌を続けると、2
20rで攪拌不能となり反応を停止した。
得られたポリスルホンカーボネート樹脂について、実施
例1と同様の方法で粘fil定を行なったところ、比粘
度LIOを有するものであることが確認された。
実施例4゜ 4.4′−ジヒドロキシ−3,3′−ジメトキシジフェ
ニルスルホン′94りにN 、 N’−ヵルボニルージ
ビラゾール54りを加え、実施例3と同様の方法で反応
を行なったところ、比粘度1.Olを有する高分子量l
リスルホンカーメネート樹脂が得られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)  ジヒドロキシジアリールスルホン化合物とN
     、 N’−カルボニル結合を有する化合物とを反応さ
    せることを特徴とするポリスルホンカーlネートの製造
    方法。 (21N、N’−カルボニル結合を有する化合物が窒素
    を環員に含な複素環基を有するものである特許請求の範
    囲第1項記載の製造方法。 (3)反応が、溶液重合法で行なわれるものである特許
    請求の範囲第1項記載の製造方法。 (4)溶液重合が、ジヒドロキシジアリールスルホン化
    合物とN 、 N’−カルボニル結合を有する化合物を
    、先ず室温から約70Cの間で重合せしめ、次いで、加
    温した後、減圧下反応副成物を留去するものである特許
    請求の範囲第3項記載の製造方法。 (5)反応が、塊状重合法で行なわれるものである特許
    請求の範囲第1項記載の製造方法。
JP15863881A 1981-10-07 1981-10-07 ポリスルホンカ−ボネ−トの製造方法 Pending JPS5861120A (ja)

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