JPS5856976B2 - ウエハ保持治具 - Google Patents
ウエハ保持治具Info
- Publication number
- JPS5856976B2 JPS5856976B2 JP4765776A JP4765776A JPS5856976B2 JP S5856976 B2 JPS5856976 B2 JP S5856976B2 JP 4765776 A JP4765776 A JP 4765776A JP 4765776 A JP4765776 A JP 4765776A JP S5856976 B2 JPS5856976 B2 JP S5856976B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- movable support
- claw
- claws
- holding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はウェハ保持治具に関するもので、主として半導
体ウェハの如き脆性ウェハ(薄板)の保持治具を対象と
するものである。
体ウェハの如き脆性ウェハ(薄板)の保持治具を対象と
するものである。
半導体装置の製造において、シリコン半導体ウェハにA
7等の金属を蒸着するときには、半導体ウェハを適当な
ウェハ保持治具に支持させた状態で行われるが、かかる
処理のときに用いるウェハ保持治具は、円板状ウェハ保
持板の周端部の一部に半導体ウェハを支持するための固
定支持ツメが間をおいて2個設けられ、それとは反対側
にあたる周端部の一部に可動支持ツメが設けられ、保持
すべきウェハの大きさによりウェハ保持板中心からその
周囲に向かって移動させ、同時に可動支持ツメに取付け
られた引張バネのバネ力によって半導体ウェハを一方か
ら弾力的に押えることによって三つの支持ツメにより半
導体ウェハを支持するようになっている。
7等の金属を蒸着するときには、半導体ウェハを適当な
ウェハ保持治具に支持させた状態で行われるが、かかる
処理のときに用いるウェハ保持治具は、円板状ウェハ保
持板の周端部の一部に半導体ウェハを支持するための固
定支持ツメが間をおいて2個設けられ、それとは反対側
にあたる周端部の一部に可動支持ツメが設けられ、保持
すべきウェハの大きさによりウェハ保持板中心からその
周囲に向かって移動させ、同時に可動支持ツメに取付け
られた引張バネのバネ力によって半導体ウェハを一方か
ら弾力的に押えることによって三つの支持ツメにより半
導体ウェハを支持するようになっている。
かかるウェハ保持治具によれは、半導体ウェハのウェハ
外径が大きいものにおいては、引張コイルバネのバネ力
が大きくなり、一方ウェハ外径が小さいものにおいては
コイルバネのバネ力が小さくなる。
外径が大きいものにおいては、引張コイルバネのバネ力
が大きくなり、一方ウェハ外径が小さいものにおいては
コイルバネのバネ力が小さくなる。
そのために、ウェハ大径のものはバネ力が強いことから
、ウェハ保持が確実であるが、割れ易く、一方、ウェハ
小径のものはバネ力が弱いことから、ウェハ保持が不確
実で治具からはずれるなどの欠点があった。
、ウェハ保持が確実であるが、割れ易く、一方、ウェハ
小径のものはバネ力が弱いことから、ウェハ保持が不確
実で治具からはずれるなどの欠点があった。
本発明は上記欠点を解消するためになされたもQで、そ
の目的はウェハの大きさに関係なく確実にウェハを保持
するウェハ治具を提供することにある。
の目的はウェハの大きさに関係なく確実にウェハを保持
するウェハ治具を提供することにある。
上記目的を達成するための本発明の基本構成は、ウェハ
保持板に配設された3つ以上の支持ツメによってウェハ
を支持するウェハ保持治具において、上記支持ツメはす
べて移動可能な可動ツメからなり、そのうち少くとも一
つの可動支持ツメにはウェハを弾力的に支持するための
コイルバネが取付けられていることを特徴とする。
保持板に配設された3つ以上の支持ツメによってウェハ
を支持するウェハ保持治具において、上記支持ツメはす
べて移動可能な可動ツメからなり、そのうち少くとも一
つの可動支持ツメにはウェハを弾力的に支持するための
コイルバネが取付けられていることを特徴とする。
以下、本発明の一実施例を図面を参照して具体的に説明
する。
する。
第1図は本発明〇一実施例Qウェハ保持治具である。
同図a及びbにおいて、1はウェハ保持治具の円板状ウ
ェハ保持板である。
ェハ保持板である。
この保持板の周端部の一部に周端部から保持板中心に向
かって細い切込溝2が形成され、この溝2にはこれを案
内として水平移動できる可動支持ツメ3が設けられてい
る。
かって細い切込溝2が形成され、この溝2にはこれを案
内として水平移動できる可動支持ツメ3が設けられてい
る。
可動支持ツメ3には引張コイルバネ4が取付けられ、常
にそのバネのバネ力により保持板中心部の方向に引付け
るようになっている。
にそのバネのバネ力により保持板中心部の方向に引付け
るようになっている。
保持される半導体ウェハ5はその一部でこの可動支持ツ
メ3により弾力的に支持される。
メ3により弾力的に支持される。
6.6は上記可動支持ツメ3と対応する保持板1周端部
に任意の間隔を隔てて配設された回転可動支持ツメで、
保持板の裏面に取付けられている。
に任意の間隔を隔てて配設された回転可動支持ツメで、
保持板の裏面に取付けられている。
この可動支持ツメ3はCに示すようにピン7と曲げられ
た板バネ部8と先端ツメ部9とからなり、ピン7を回動
軸として先端ツメ部9を、板バネ部8の長さを半径とす
る円軌道上を移動することができるようになっている。
た板バネ部8と先端ツメ部9とからなり、ピン7を回動
軸として先端ツメ部9を、板バネ部8の長さを半径とす
る円軌道上を移動することができるようになっている。
ちょうど、先端ツメ部9が移動する保持板の円軌道上に
は、aに示すように所定間隔に先端ツメ部が通り貫けら
れる程度の貫通孔10がそれぞれ数個配設されている。
は、aに示すように所定間隔に先端ツメ部が通り貫けら
れる程度の貫通孔10がそれぞれ数個配設されている。
そして、半導体ウェハ5を保持するとき、ウェハ外径に
応じた位置の貫通孔10から、回転可動ツメの先端ツメ
部9のみを保持板1のウェハチャージ面側(表面)に突
出させて半導体ウェハ5を保持するときのストッパ支持
ツメとする。
応じた位置の貫通孔10から、回転可動ツメの先端ツメ
部9のみを保持板1のウェハチャージ面側(表面)に突
出させて半導体ウェハ5を保持するときのストッパ支持
ツメとする。
任意のウェハ外径(例えば50φ、60φ。
76φ)の半導体ウェハ5を保持するときは、そのウェ
ハ外径に応じて、2つQ回転支持ツメ6を回動させそれ
ぞれその先端ツメ部9を所定の貫通孔10から突出させ
ておき、可動支持ツメ8を保持板中心部から周端部側に
移動して適当なところで放し、半導体ウェハ5をバネ力
のある可動支持ツメ3と一旦固定された二つの回転可動
支持ツメの先端ツメ部9,9からなる三つの支点で支持
してウェハを保持する。
ハ外径に応じて、2つQ回転支持ツメ6を回動させそれ
ぞれその先端ツメ部9を所定の貫通孔10から突出させ
ておき、可動支持ツメ8を保持板中心部から周端部側に
移動して適当なところで放し、半導体ウェハ5をバネ力
のある可動支持ツメ3と一旦固定された二つの回転可動
支持ツメの先端ツメ部9,9からなる三つの支点で支持
してウェハを保持する。
このようにして、保持すべき半導体ウェハ5の大きさに
対応させて回転可動支持ツメ6の先端ツメ部9を移動さ
せて、各種外径の異なった半導体ウェハに兼用できるも
のである。
対応させて回転可動支持ツメ6の先端ツメ部9を移動さ
せて、各種外径の異なった半導体ウェハに兼用できるも
のである。
第2図は本発明の他の実施例のウェハ保持治具である。
この場合、ウェハ保持板1の周端部に周端部から保持板
中心に向かって形成する細い切込溝2を三方に設けて、
それぞれの切込溝2にこの溝を案内にして板中心から周
端部に向かって水平移動できる可動支持ツメ3,3.3
を設け、それぞれの可動支持ツメ3には引張コイルバネ
4が取付けられ常にそのバネのバネ力により保持板中心
部に向かって引付けられるようになって、半導体ウェハ
5を3方からバネ力で弾力的に押えながら支持するよう
になっている。
中心に向かって形成する細い切込溝2を三方に設けて、
それぞれの切込溝2にこの溝を案内にして板中心から周
端部に向かって水平移動できる可動支持ツメ3,3.3
を設け、それぞれの可動支持ツメ3には引張コイルバネ
4が取付けられ常にそのバネのバネ力により保持板中心
部に向かって引付けられるようになって、半導体ウェハ
5を3方からバネ力で弾力的に押えながら支持するよう
になっている。
前記実施例の場合、回転可動支持ツメは段階的移動であ
るが、この場合は可動支持ツメは連続的移動となる。
るが、この場合は可動支持ツメは連続的移動となる。
この場合も前記実施例のように各種ウェハ外径の異なっ
たウェハの保持に兼用できるものである。
たウェハの保持に兼用できるものである。
本発明は上記実施例に限定されるものでなく、可動支持
ツメは4個設けて半導体ウェハを4点支持で保持するよ
うにしてもよい。
ツメは4個設けて半導体ウェハを4点支持で保持するよ
うにしてもよい。
また保持するウェハは半導体ウェハの如き脆薄ウェハに
限らず、金属板の如き丈夫なウェハの保持にも利用でき
るものである。
限らず、金属板の如き丈夫なウェハの保持にも利用でき
るものである。
以上のような本発明によれば、ウェハの大きさに対応し
て支持ツメを移動させて一定のバネ力で支持するために
、ウェハを大きさに関係なく確実に保持可能になる。
て支持ツメを移動させて一定のバネ力で支持するために
、ウェハを大きさに関係なく確実に保持可能になる。
またほぼ一定のバネ力でウェハを支持することから、ウ
ェハの破損がなくなり歩留が向上し、ウェハ外径が変化
しても、治具を毎回交換する必要がなく、ウェハ保持作
業の大幅な低減が図れるなどの顕著な効果を発揮するも
のである。
ェハの破損がなくなり歩留が向上し、ウェハ外径が変化
しても、治具を毎回交換する必要がなく、ウェハ保持作
業の大幅な低減が図れるなどの顕著な効果を発揮するも
のである。
第1図は本発明の一実施例で、aはその平面図、bはそ
の側面図、Cはその要部断面頃、第2図は本発明の他の
実施例の平面図である。 1・・・・・・ウェハ保持板、2・・・・・・切込溝、
3・・・・・・可動支持ツメ、4・・・・・・引張コイ
ルバネ、5・・・・・・半導体ウェハ、6・・・・・・
回転可動支持ツメ、7・・・・・・ピン、8・・・−・
・・板バネ部、9・・・・・・先端ツメ部、10・・・
・・・貫通孔。
の側面図、Cはその要部断面頃、第2図は本発明の他の
実施例の平面図である。 1・・・・・・ウェハ保持板、2・・・・・・切込溝、
3・・・・・・可動支持ツメ、4・・・・・・引張コイ
ルバネ、5・・・・・・半導体ウェハ、6・・・・・・
回転可動支持ツメ、7・・・・・・ピン、8・・・−・
・・板バネ部、9・・・・・・先端ツメ部、10・・・
・・・貫通孔。
Claims (1)
- 1 ウェハ保持板に配設された3つ以上の支持ツメによ
ってウェハを支持するウェハ保時治具において、上記支
持ツメはすべて可動支持ツメからなり、そのうち少なく
とも一つの可動支持ツメにはウェハを弾力的に支持する
ためのバネが取付けられていることを特徴とするウェハ
保持治具。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4765776A JPS5856976B2 (ja) | 1976-04-28 | 1976-04-28 | ウエハ保持治具 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4765776A JPS5856976B2 (ja) | 1976-04-28 | 1976-04-28 | ウエハ保持治具 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS52131473A JPS52131473A (en) | 1977-11-04 |
JPS5856976B2 true JPS5856976B2 (ja) | 1983-12-17 |
Family
ID=12781318
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4765776A Expired JPS5856976B2 (ja) | 1976-04-28 | 1976-04-28 | ウエハ保持治具 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5856976B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5769737A (en) * | 1980-10-17 | 1982-04-28 | Hitachi Ltd | Coating method and device for resist on both side surfaces of wafer |
-
1976
- 1976-04-28 JP JP4765776A patent/JPS5856976B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS52131473A (en) | 1977-11-04 |
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