JPS5856954B2 - 粒子線マイクロアナライザ− - Google Patents

粒子線マイクロアナライザ−

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Publication number
JPS5856954B2
JPS5856954B2 JP9187278A JP9187278A JPS5856954B2 JP S5856954 B2 JPS5856954 B2 JP S5856954B2 JP 9187278 A JP9187278 A JP 9187278A JP 9187278 A JP9187278 A JP 9187278A JP S5856954 B2 JPS5856954 B2 JP S5856954B2
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JP
Japan
Prior art keywords
light
objective lens
sample
lens
light source
Prior art date
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Expired
Application number
JP9187278A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5519722A (en
Inventor
俊明 御代川
進 高嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Nihon Denshi KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Denshi KK filed Critical Nihon Denshi KK
Priority to JP9187278A priority Critical patent/JPS5856954B2/ja
Publication of JPS5519722A publication Critical patent/JPS5519722A/ja
Publication of JPS5856954B2 publication Critical patent/JPS5856954B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光学顕微鏡を備えた粒子線マイクロアナライザ
ーに関する。
一般に、X線マイクロアナライザーやイオンマイクロア
ナライザーの如き粒子線マイクロアナライザーでは、被
検試料に電子線あるいはイオンを・1・′1射した際に
発生するX線や二次イオンを検出して試料表面の分析を
行なうと同時に、可視光線による光学顕微鏡を用いて被
検試料の予備観察や該観察による照射系の軸合わせやス
ペクトロメータの位置合わせ等を行なっている。
しかし乍ら、光反射率の高い試料を光学顕微鏡にて観察
する場合、試料像の中にフレア(f fare )が生
じ、該フレアによって像のコントラストが著しく悪くな
るという欠点があった。
本発明はこの様な欠点を解決する為になされたもので、
新規な粒子線マイクロアナライザーを提供するものであ
る。
以下、X線マイクロアナライザーに本願発明を適用した
場合について詳説する。
先ず、本発明の詳細な説明に入る前に、本発明の原理に
ついて説明する。
第1図は光学顕微鏡1を備えたX線マイクロアナライザ
ーの概略図で、電子銃2から射出された電子線は集束レ
ンズ3により集束されて、被検試料4を照射する。
そして、この電子線照射により被検試料から発生するX
線2反射電子線及び二次電子線は図示外の検出器により
検出される。
又、前記電子銃2と集束レンズ3の間には、光源5゜コ
ンデンサレンズ6、投影レンズ7、半透明ミラー8、反
射ミラー9、反射型対物レンズ10.11及び接眼レン
ズ12から成る光学顕微鏡1が配置されている。
この顕微鏡の鏡体2反射ミラー9及び反射型対物レンズ
10.11には電子線の通過を妨げない様に、各々引が
設けられでいる。
そして、光源5からの光はコンデンサレンズ6及び投影
レンズ7を介して半透明ミラー82反射ミラー9により
反射され、対物レンズ10.11を通過して試料4を照
射する。
該試料からの反射光は対物レンズ10゜11、反射ミラ
ー9.半透明ミラー8.接眼レンズ12を介して外部へ
導き出される。
この導き出された試料からの反射光、いわゆる試料像S
中には、前述したフレアF(第2図参照)が生じている
本発明者は、このフレアの原因を先ず探った。そして、
該フレアを形成しているものが反射型対物レンズ11の
孔を通過する光線(第1図中に示された点線)であるこ
とを発見した。
この様子を光学図にて示したものが、第4図a、bであ
る。
尚、第4図では便宜上反射型対物レンズ10.ILの代
りに、第3図13に示す如き等価対物レンズ13に置き
換えられている。
又、コンデンサレンズ6、投影レンズ7は第4図では単
レンズで示したが実際には二枚以上のレンズで構成され
ることが多い。
第4図aは光源5と試料4間の光学図で、光源5からの
光はコンデンサレンズ6によす第1光源tAとなり、該
光源像Aは投影レンズ7により対物レンズ13の前方集
点面に拡大投影される。
この様にして拡大投影された第2光源偉Bの各点から出
た光は、対物レンズ13を通って試料4を照射する。
この第2光源像Bの各点から出た光の内、比較的、中心
付近から外れた部分から出た光は、対物レンズ13の孔
を通らず、該レンズによって試料上に視野制限絞り14
の縮小像を作って試料を照射する。
そして該試料で反射され再び対物レンズ13を通って行
く。
この光は実線で示した、いわゆる光源5の中心付近を外
れた部分から出た光である。
一方、中心付近から出た光は、対物レンズ13の孔を通
る為、該レンズによって試料上で集束されずに試料に照
射され、更に、該試料で反射され再び対物レンズ13の
孔を通って行く。
この光は点線で示した、いわゆる光源5の中心付近から
出た光である。
第4図すはこの様にして光源5からの光が試料に照射さ
れることによっつで生じる試料4からの反射光が、接眼
レンズ12を介して眼15に入射する様子を示した光学
図である。
該光学図によれば、試料4からの反射光の内、実線で示
す如き対物レンズ13の孔を通らないものは、接眼レン
ズ12によって眼球15の網膜上に結像され、該眼は二
点鎖線で示した虚像Cをあたかも見ることになる。
一方、破線で示す如き対物レンズ13の孔を通ったもの
は、接眼レンズ12によって結像されずに前記網膜上に
結像されたものに重なり、像のコントラストを悪化させ
る。
而して、フレアを形1戊しているものが、前述の如く、
対物レンズの孔を通過する光線なので、フレアを無くす
るには、対物レンズの孔を通過する光線をシャットアウ
トすればよい。
この原理に基づき本発明では、光の回り込み等の少ない
点を考慮して第1九原像のできる面に光軸周辺部の光を
カットする遮蔽板を置いた点に特徴かある。
この遮蔽板は例えば透明のガラス板に、アルミニウムや
クローム等の金属を、例えば数千Å以上の厚さに蒸着し
たもので、該蒸着部の径は、対物レンズの引を通過する
光線をほぼ完全にシャットアウトできるように、該対物
レンズの孔径を投影レンズの倍率で割つれ値に近似した
大きさに形成される(実際には投影レンズの収差による
光の回り込みを防止する為に該値より僅かに大きくする
)。
尚、上記金属としては、薄くても光の透過率が小さい物
質であれば良く、AI、Crに限定されるものではない
又、遮蔽板として黒色塗料を適宜な方法によりガラス板
、プラスチック板等の透明基板上に塗ったものでも良く
、又、第6図に示す様に支持枠20に取り付けた細い支
柱21で薄い金属板22を支えたものでもよい。
さて、斯くの如き遮蔽板16を第1光源偉Aの位置に置
いた時の光源5と試料4間の光学図が第5図で、図中、
遮蔽板16を第1光源像Aの右側に記載しているが、便
宜上そうしたものであって、実際には遮蔽板16と第1
光源像Aは同一位置にある。
図中、破線で示す様に、光源5の中央部から発せられた
光はコンデンサレンズ6により遮蔽板16の位置に結像
するが、該遮蔽板の蒸着部17によりカットされる。
一方、実線で示す様に、光源5の中央部より外れた部分
から発せられた光は、コンデンサレンズ6により遮蔽板
16の位置に第1光源像Aとして結像され、遮蔽板16
の蒸着部17の外側を通過して、投影レンズ7により対
物レンズ13の前方焦点面に拡大投影される。
この様にして拡大投影された実線で示す如き第2光源像
Bから出た光は対物レンズ13の孔以外の部分を通過し
て、試料4上に照射される。
而して該試料4から出た反射光は対物レンズ13の孔以
外の部分を通過して行く。
この反射光は第4図すの実線に示す様に接眼レンズ12
によって眼球15の網膜上に結像される。
この時、光源5の中央から発せられた光は尽く遮蔽板1
6上の蒸着部17によりカットされているので、対物レ
ンズ13の孔を通過する光も無く、それ故、該網膜上に
結像されたものにフレアの原因となる不要な光線が重な
ることはなく像のコントラストが向上する。
尚、本実施例では遮蔽板を第1光源像の位置に配置した
が、光学顕微鏡の光軸上で粒子線の通路以外の所でしか
も対物レンズの孔を通過する光をカット出来る位置なら
伺処でもよい。
又、前記遮蔽板として対物レンズの孔径を投影レンズの
倍率で割った値に近似した大きさの遮蔽部分を有する透
明板を用いたが、要するに対物レンズの孔を通過する光
をカット出来る構造のものならこの様な構造に限定され
ない。
本発明によれば光学顕微鏡で得られる試料像の中にフレ
アが生じないので、像のコントラストカ著しく向上し、
光学顕微鏡による予備観察や該観察による照射系の軸合
わせ等が精確に出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図はX線マイクロアナライザーの概略図、第2図は
フレアの生じている試料像の図、第3図は等価対物レン
ズ、第4図a、bは各々光源と試料間の光学図、試料と
眼間の光学図、第5図は本発明の一実施例の光源と試料
間の光学図、第6図は遮蔽板の一実施例図を示したもの
である。 1:光学顕微鏡、2:電子銃、4:被検試料、5:光源
、6:コンデンサレンズ、7:投影レンズ、8:半透明
ミラー、9:反射ミラー、12:接眼レンズ、13:等
価対物レンズ、16:遮蔽板、17:蒸着部。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 光源、コンデンサレンズ、投影レンズ、中央部に孔
    を有する対物レンズ及び接眼レンズから戒る光学顕微鏡
    を備えた粒子線マイクロアナライザーにむいて、前記光
    学顕微鏡の光軸上で粒子線の通路以外の適宜位置に前記
    対物レンズの孔に入射する光を制限する為の不透明板を
    配置したことを特徴とする粒子線マイクロアナライザー
JP9187278A 1978-07-27 1978-07-27 粒子線マイクロアナライザ− Expired JPS5856954B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9187278A JPS5856954B2 (ja) 1978-07-27 1978-07-27 粒子線マイクロアナライザ−

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JP9187278A JPS5856954B2 (ja) 1978-07-27 1978-07-27 粒子線マイクロアナライザ−

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JPS5519722A JPS5519722A (en) 1980-02-12
JPS5856954B2 true JPS5856954B2 (ja) 1983-12-17

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ID=14038642

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JP9187278A Expired JPS5856954B2 (ja) 1978-07-27 1978-07-27 粒子線マイクロアナライザ−

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60253856A (ja) * 1984-05-30 1985-12-14 Fujitsu Ltd 炉芯管汚染監視方法

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JPS628437A (ja) * 1985-07-04 1987-01-16 Jeol Ltd 粒子線マイクロアナライザ−
JPS6241660U (ja) * 1985-07-25 1987-03-12
JPS62167210U (ja) * 1986-04-11 1987-10-23
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TWI565861B (zh) * 2016-01-14 2017-01-11 臺灣塑膠工業股份有限公司 多層井管

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