JP3355728B2 - 陰極線管の蛍光面作成用露光方法および露光装置 - Google Patents

陰極線管の蛍光面作成用露光方法および露光装置

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JP3355728B2 JP26660193A JP26660193A JP3355728B2 JP 3355728 B2 JP3355728 B2 JP 3355728B2 JP 26660193 A JP26660193 A JP 26660193A JP 26660193 A JP26660193 A JP 26660193A JP 3355728 B2 JP3355728 B2 JP 3355728B2
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  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、陰極線管の蛍光面作成
用露光方法および露光装置に係り、さらに詳しくは、特
に超広角陰極線管の蛍光面を作成するために用いて好適
な露光方法および露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】カラー陰極線管のパネルガラス内面に形
成される蛍光体ストライプ(またはドット)およびブラ
ックストライプは、アパーチャグリルの孔と正確な位置
関係を保って形成されなければならない。このため、通
常アパーチャグリルを装着したパネルガラスの内面に、
露光用光を照射し、蛍光面を作成している。
【0003】広角(100〜115度)のカラー陰極線
管の蛍光面を作成するための露光方法の概略を図5に示
す。図5(A)に示すように、陰極線管のパネルガラス
2の内面に形成される蛍光面4に向けて、露光用光が照
射されるように、露光用光源6を配置する。パネルガラ
ス2と露光用光源6との間には、露光用光の軌跡を、陰
極線管内の電子ビームの軌跡に近似させるレンズ群5が
配置してある。
【0004】これらレンズ群5は、たとえばフラットレ
ンズ8、メインレンズ10、ディジタル(CAD)フィ
ルター12、サイドレンズ14、サブレンズ16および
プリズムレンズ18などで構成してある。CADフィル
ター12は、露光用光の強度分布を、中心領域と周辺領
域とで調節するためのものであり、中心領域に対する周
辺領域の光強度分布の比を1〜10倍に調節する。な
お、図5(A)では、パネルガラス2の内面に装着する
アパーチャグリルを図示省略してある。
【0005】このようなレンズ群5を用いて露光を行う
ことにより、パネルガラス2の内面には、図5(B)に
示すように、適切なストライプ幅で、ブラックストライ
プ20、赤色蛍光体ストライプ4r、緑色蛍光体ストラ
イプ4gおよび青色蛍光体ストライプ4bを順次得るこ
とができる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところが、最近では、
超広角(120〜130度)のカラー陰極線管が開発さ
れ、この超広角カラー陰極管のパネルガラスの内面に、
ブラックストライプまたは蛍光体ストライプを形成する
ための露光方法および露光装置が問題になっている。
【0007】すなわち、超広角カラー陰極管では、電子
銃からパネルガラスまでの長さが短くなるため、図5
(A)の点線で示すように、露光用光源6aを、従来よ
りレンズ群5に近づけなければならない。たとえば25
インチの広角カラー陰極線管におけるパネルガラスから
露光用光源までの距離は500〜600mmであったのに
対し、超広角カラー陰極線管の場合には、その距離が1
00〜150mm程度短くなる。
【0008】このため、CADフィルター12を通過す
る露光用光の通過点が、従来の場合に比較して内側にな
り、パネルガラス2内面の中心領域の光強度は向上する
が、周辺領域における光強度が著しく低下する。この原
因は、超広角カラー陰極管の露光時には、パネルガラス
の周辺領域を露光するための露光用光が、光強度を低下
させるCADフィルター12の中央領域を通過するため
である。
【0009】パネルガラス内面の周辺領域における光強
度が、中央領域に比較して著しく低下すれば、周辺領域
で適切なストライプ幅の蛍光体ストライプを形成するこ
とが困難になってくる。このような問題点を防止するた
めに、CADフィルター12を、できるだけ光源6aか
ら離し、パネルガラス2に近い側に配置し、レンズ群5
の配置順序を換えることも考えられる。しかしながら、
CADフィルター12をパネルガラス32に近づけすぎ
ると、このフィルター12に形成してあるストライプパ
ターン(線幅ピッチが0.3〜0.6mm)が、パネルガ
ラス2の内面に露光されてしまい、露光不良を生じる。
CADフィルター12をパネルガラス32に近づけすぎ
ると、フィルター12に形成してあるストライプパター
ンの拡散効果が不十分になるからである。
【0010】本発明は、このような実状に鑑みてなさ
れ、パネルガラスの中心領域に対する周辺領域の露光用
光の強度分布(周辺領域/中心領域)を適切な範囲と
し、特に超広角の陰極線管に用いるパネルガラスの内面
でも、正確な幅およびピッチで蛍光面パターンを形成す
ることができる露光方法および露光装置を提供すること
を目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る蛍光面作成用露光装置は、超広角の陰
極線管のパネルの面に沿って配設されるアパーチャグリ
ルを介して前記パネル面に蛍光体ストライプを作成する
蛍光面作成用露光装置であって、前記陰極線管のパネル
の中心部と対向する位置に位置し、点状または線状の露
光用光を発する光源と、前記光源と前記陰極線管のパネ
ルとの間に光軸が一致する位置に位置し、前記光源から
発せられた露光用光の軌跡を前記陰極線管における電子
ビームの移動軌跡に近似させるレンズと、前記光源から
発せられた露光用光の強度分布を前記陰極線管のパネル
の中心領域と周辺領域とで調整するため中央部から周辺
部に向かってストライプ幅が小さくなるようにストライ
プが形成されているディジタルフィルタと、前記フィル
タを通過して前記パネルに照射される前記露光用光の強
度分布を補正するため前記パネルの周辺領域に露光され
る光を前記パネルの中心領域より高い強度で露光させる
光透過率を有する光透過率調整手段とを有する光学系と
を有する。例えば、超広角とは、120から130度で
ある。
【0012】周辺領域の光透過率を上記中心領域の光透
過率よりも高く設定する前記光透過率調整手段として
は、前記一のレンズとして周辺領域の表面を無反射コー
ティング層で被覆されているレンズを用いる。または、
前記一のレンズとして中心領域の表面を光透過率低減層
で被覆されているレンズを用いる。
【0013】前記光透過率調整手段として、光透過率が
低い前記中心領域の範囲は、レンズの外径の10〜50
%であることが好ましい。この中心領域の範囲は、レン
ズの軸方向配置位置または露光が行われる陰極線管の種
類などに応じて適宜変更することができる。
【0014】本発明に係る陰極線管の蛍光面作成用露光
方法は、超広角の陰極線管のパネルの面に蛍光体ストラ
イプを作成する蛍光面作成用露光方法であって、前記陰
極線管のパネルの面に沿ってアパーチャグリルを配設
し、前記陰極線管のパネルの中心部と対向する位置に、
点状または線状の露光用光を発する光源を位置させ、前
記光源と前記陰極線管パネルとの間に位置し、前記光源
から発せられた露光用光の軌跡を前記陰極線管における
電子ビームの移動軌跡に近似させるレンズと、前記光源
から発せられた露光用光の強度分布を前記陰極線管のパ
ネルの中心領域と周辺領域とで調整するため中央部から
周辺部に向かってストライプ幅が小さくなるようにスト
ライプが形成されているディジタルフィルタと、前記フ
ィルタを通過して前記パネルに照射される前記露光用光
の強度分布を補正するため前記パネルの周辺領域に露光
される光を前記パネルの中心領域より高い強度で露光さ
せる光透過率を有する光透過率調整手段とを有する光学
系を位置させ、前記光源から発する露光用光を前記光学
系および前記アパーチャグリルを通過させて前記陰極線
管のパネルに照射させる。前記光透過率調整手段とし
て、前記レンズの周辺領域の表面または裏面に無反射コ
ーティング層を被覆させる。また、前記光透過率調整手
段として、前記レンズの中心領域の表面または裏面に光
透過率低減層を被覆させる。また、前記レンズの中心領
域は、前記レンズの直径の10から50%の範囲である
ことが好ましい。
【0015】
【作用】本発明に係る陰極線管の蛍光面作成用露光装置
を用いて、露光を行えば、CADフィルターによっても
補正できない光強度分布を、次に示す手段で適切な範囲
に補正することができる。すなわち、レンズまたはフィ
ルターの周辺領域を通過する光の透過率が中心領域に比
較して高くすることにより、または中心領域の光の透過
率を下げることにより、陰極線管のパネルガラス内面に
照射する露光用光の強度分布(中心領域に対する周辺領
域の光強度比)を、適切な範囲に設定することが可能に
なる。その結果、超広角陰極線管のパネルガラス内面に
対しても、正確な幅およびピッチで蛍光面パターンを形
成することができる。
【0016】
【実施例】以下、本発明に係る陰極線管の蛍光面作成用
露光方法および露光装置を、図面に示す実施例に基づ
き、詳細に説明する。図1は本発明の一実施例に係る陰
極線管の蛍光面作成用露光方法を示す概略図、図2は露
光装置の全体構成を示す概略図、図3(A)は本発明の
一実施例に係る露光装置に用いるレンズの断面図、図3
(B)は本発明の他の実施例に係る露光装置に用いるレ
ンズの断面図、図4はCADレンズの一例を示す斜視図
である。
【0017】図1に示すように、本発明の一実施例に係
る陰極線管の蛍光面作成用露光方法では、超広角(12
0〜130度)のカラー陰極線管のパネルガラス32の
内面に形成される蛍光面34に向けて、露光用光(紫外
光)が照射されるように、露光用光源36を配置する。
パネルガラス32と露光用光源36との間には、露光用
光の軌跡を、陰極線管内の電子ビームの軌跡に近似させ
るレンズ群35が配置してある。
【0018】図2に、露光装置30の一例を示す。パネ
ルガラス32は、露光装置30の上部に設置され、露光
用光源36とレンズ郡35の間、およびレンズ郡35と
パネルガラス32との間には、シャッター52,54が
それぞれ装着してある。
【0019】本実施例では、露光用光源36としては、
超高圧水銀灯などの線状光源を用いる。線状光源を用い
ることで、パネルガラス32の蛍光面34には、ブラッ
クストライプまたは蛍光体ストライプなどのストライプ
パターンを露光法により形成することができる。
【0020】なお、カラー陰極線管のパネルガラス32
の内面に形成される蛍光体ストライプまたはブラックス
トライプは、アパーチャグリルの孔と正確な位置関係を
保って形成されなければならない。このため、露光時に
は、パネルガラス32の内面には、図2に示すように、
アパーチャグリル50が装着してある。
【0021】前記レンズ群35は、たとえばフラットレ
ンズ38、メインレンズ40、ディジタル(CAD)フ
ィルター42、サイドレンズ44、サブレンズ46およ
びプリズムレンズ48などで構成してある。フラットレ
ンズ38は、ランディング補正レンズのシュミット成分
が大きい場合に、フラットレンズ38の肉厚を厚くし
て、それを軽減することができる。メインレンズ40お
よびサブレンズ46は、非球面レンズで構成され、主と
して、露光用光の軌跡を電子ビームの移動軌跡に近似さ
せる。プリズムレンズ48は、主として、メインレンズ
40の曲面の負担を軽減させる目的で用いる。これらレ
ンズの材質は、特に限定されないが、屈折率が1.51
7(波長365nm)のホウケイ酸クラウンガラスであ
ることが好ましい。この材質のガラスは、紫外線透過性
に優れている。
【0022】CADフィルター42は、図4に示すよう
に、たとえば直径230mm程度の透明なガラス円盤で構
成してあり、その表面に、縦150mmおよび横200mm
の範囲で、横縞のブラックストライプ43が等ピッチで
形成してある。ブラックストライプ43は、たとえばカ
ーボンストライプで構成され、中心部でストライプ幅が
広く、周辺部に近づくにつれてストライプ幅が小さくな
るように配置してある。このCADフィルター42は、
露光時に、横縞に対して直交する方向に微小往復移動さ
せることが好ましい。
【0023】このCADフィルター42を用いることに
より、露光用光の強度分布を、中心領域と周辺領域とで
調節することができ、このCADフィルター42を広角
(100〜115度)陰極線管のための露光に用いた場
合(図5参照)には、中心領域に対する周辺領域の光強
度分布の比(周辺領域/中心領域)を1〜10倍に調節
することができる。
【0024】ところが、従来では、CADフィルターを
含むレンズ郡を、超広角(120〜130度)のカラー
陰極線管のための露光に用いた場合には、露光用光がC
ADフィルターの中心領域のみを通過するため、CAD
フィルターのみでは、光強度分布の比(周辺領域/中心
領域)を適切に調節することができない。
【0025】そこで、本実施例では、図3(A)に示す
ように、レンズ群35の内、CADフィルター42を除
くレンズ38,40,44,46,48の周辺領域の表
面を、無反射コーティング層56で被覆し、この周辺領
域の光透過率を中心領域の光透過率よりも高く設定す
る。無反射コーティング層56としては、光の反射によ
る光減衰率を低下させる層であれば特に限定されず、フ
ッカマグネシウム層あるいは酸化シリコン層(屈折率が
小さい)などのARコート層を用いることができる。
【0026】無反射コーティング層56を形成すること
で、レンズにおける光の反射減衰率を極力下げることが
できる。通常の光学ガラスの場合には、光の反射減衰率
は、片面で約4%であるが、無反射コーティング層56
を形成することで、片面で0.2〜1.5%の減衰に下
げることができる。レンズが5枚配置されるとすると、
従来では40%の減衰率であるが、本実施例では、2〜
15%の減衰率まで低下させることができる。その結
果、周辺領域の光強度を、従来に比較して、25〜38
%向上させることができる。
【0027】図3に示すように、無反射コーティング層
56は、レンズ38,40,44,46,48の周辺領
域のみに形成され、中心領域には形成されない。無反射
コーティング層56が形成されない中心領域の範囲A
は、レンズの外径Bの10〜50%であることが好まし
い。この中心領域の範囲Aは、レンズの軸方向配置位置
または露光が行われる陰極線管の種類などに応じて適宜
変更することができる。たとえば、図1に示す露光用光
源36に近い位置に配置されるレンズ38の中心領域A
は、比較的小さく設計し、パネルガラス32に近い位置
に配置されるレンズ48の中心領域Aは比較的大きく設
計することが好ましい。
【0028】本実施例の露光装置30を用いて、露光を
行えば、CADフィルター42によっても補正できない
光強度分布を、次に示す手段で適切な範囲に補正するこ
とができる。すなわち、レンズ38,40,44,4
6,48の周辺領域を通過する光の透過率が中心領域に
比較して高いことから、陰極線管のパネルガラス内面に
照射する露光用光の強度分布(周辺領域/中心領域の光
強度比、グレードとも言う)を、適切な範囲(たとえば
3〜5倍)に設定することが可能になる。その結果、超
広角陰極線管のパネルガラス32内面に対しても、正確
な幅およびピッチで蛍光面ストライプパターンを形成す
ることができる。
【0029】また、本実施例では、レンズの中心領域に
おける光透過率を低下させることはないので、従来の広
角カラー陰極線管のための露光時間と同様な露光時間
(1〜40秒)で、適切な幅およびピッチの蛍光面スト
ライプパターンを形成することができる。
【0030】次に、図3(B)に示す実施例について説
明する。図3(B)に示す実施例では、レンズ38,4
0,44,46,48の表裏面の中心領域を、光透過率
低減層58で被覆してある。光透過率低減層58として
は、そこを通過する光の透過率を低下させる層であれば
特に限定されず、クロム蒸着層などを例示することがで
きる。このクロム蒸着層を約10〜100オングストロ
ーム程度の膜厚で形成することにより、各レンズにおけ
る中心領域の光透過率を、0.2〜50%程度低下させ
ることができる。
【0031】光透過率低減層58が形成される範囲C
は、レンズの外径Dの10〜50%であることが好まし
い。この中心領域の範囲Cは、レンズの軸方向配置位置
または露光が行われる陰極線管の種類などに応じて適宜
変更することができる。たとえば、図1に示す露光用光
源36に近い位置に配置されるレンズ38の中心領域C
は、比較的小さく設計し、パネルガラス32に近い位置
に配置されるレンズ48の中心領域Cは比較的大きく設
計することが好ましい。
【0032】なお、光透過率低減層58の膜厚は、膜面
に沿って必ずしも均一である必要はなく、中心領域で厚
く、周辺領域で薄く形成することもできる。本実施例の
露光装置30を用いて、露光を行えば、CADフィルタ
ー42によっても補正できない光強度分布を、次に示す
手段で適切な範囲に補正することができる。すなわち、
レンズ38,40,44,46,48の中心領域を通過
する光の透過率が周辺領域に比較して高いことから、陰
極線管のパネルガラス内面に照射する露光用光のグレー
ドを、適切な範囲(たとえば3〜5倍)に設定すること
が可能になる。その結果、超広角陰極線管のパネルガラ
ス32内面に対しても、正確な幅およびピッチで蛍光面
ストライプパターンを形成することができる。
【0033】なお、本発明は、上述した実施例に限定さ
れるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変するこ
とができる。たとえば、本発明に係る陰極線管の蛍光面
作成用露光方法は、超広角カラー陰極線管のストライプ
パターンを作成する際のみに使用されるものではなく、
ドットパターンなどのその他の蛍光面パターンを作成す
る際にも用いることができる。
【0034】また、本発明の方法で用いることができる
露光用光源としては、線状光源に限定されず、点状光源
であっても良い。さらに、無反射コーティング層56ま
たは光透過率低減層58は、必ずしも全てのレンズに対
して形成する必要はなく、いずれか一以上のレンズまた
はCADフィルター自体に形成することもできる。
【0035】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、陰極線管のパネルガラス内面に照射する露光用光の
強度分布(中心領域に対する周辺領域の光強度比)を、
適切な範囲に設定することが可能になる。その結果、超
広角陰極線管のパネルガラス内面に対しても、正確な幅
およびピッチで蛍光面パターンを形成することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の一実施例に係る陰極線管の蛍光
面作成用露光方法を示す概略図である。
【図2】図2は露光装置の全体構成を示す概略図であ
る。
【図3】図3(A)は本発明の一実施例に係る露光装置
に用いるレンズの断面図、図3(B)は本発明の他の実
施例に係る露光装置に用いるレンズの断面図である。
【図4】図4はCADレンズの一例を示す斜視図であ
る。
【図5】図5(A)は従来例に係る陰極線管の蛍光面作
成用露光方法を示す概略図、同図(B)は蛍光面の一例
を示す概略図である。
【符号の説明】
30… 露光装置 32… パネルガラス 34… 蛍光面 35… レンズ郡 36… 露光用光源 38… フラットレンズ 40… メインレンズ 42… CADフィルター 44… サイドレンズ 46… サブレンズ 48… プリズムレンズ 56… 無反射コーティング層 58… 光透過率低減層

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 超広角の陰極線管のパネルの面に沿って
    配設されるアパーチャグリルを介して前記パネル面に蛍
    光体ストライプを作成する蛍光面作成用露光装置であっ
    て、 前記陰極線管のパネルの中心部と対向する位置に位置
    し、点状または線状の露光用光を発する光源と、 前記光源と前記陰極線管のパネルとの間に光軸が一致す
    る位置に位置し、前記光源から発せられた露光用光の軌
    跡を前記陰極線管における電子ビームの移動軌跡に近似
    させるレンズと、 前記光源から発せられた露光用光の強度分布を前記陰極
    線管のパネルの中心領域と周辺領域とで調整するため中
    央部から周辺部に向かってストライプ幅が小さくなるよ
    うにストライプが形成されているディジタルフィルタ
    と、 前記フィルタを通過して前記パネルに照射される前記露
    光用光の強度分布を補正するため前記パネルの周辺領域
    に露光される光を前記パネルの中心領域より高い強度で
    露光させる光透過率を有する光透過率調整手段とを有す
    る光学系とを有する蛍光面作成用露光装置。
  2. 【請求項2】 前記超広角は120から130度である
    請求項1記載の蛍光面作成用露光装置。
  3. 【請求項3】 前記光透過率調整手段は、前記レンズの
    周辺領域の表面または裏面に被覆された無反射コーティ
    ング層である請求項1または2に記載の蛍光面作成用露
    光装置。
  4. 【請求項4】 前記光透過率調整手段は、前記レンズの
    中心領域の表面または裏面に被覆された光透過率低減層
    である請求項1または2に記載の蛍光面作成用露光装
    置。
  5. 【請求項5】 前記レンズの中心領域は、前記レンズの
    直径の10から50%の範囲である請求項3または4記
    載の蛍光面作成用露光装置。
  6. 【請求項6】 超広角の陰極線管のパネルの面に蛍光体
    ストライプを作成する蛍光面作成用露光方法であって、 前記陰極線管のパネルの面に沿ってアパーチャグリルを
    配設し、 前記陰極線管のパネルの中心部と対向する位置に、点状
    または線状の露光用光を発する光源を位置させ、 前記光源と前記陰極線管パネルとの間に位置し、前記光
    源から発せられた露光用光の軌跡を前記陰極線管におけ
    る電子ビームの移動軌跡に近似させるレンズと、 前記光源から発せられた露光用光の強度分布を前記陰極
    線管のパネルの中心領域と周辺領域とで調整するため中
    央部から周辺部に向かってストライプ幅が小さくなるよ
    うにストライプが形成されているディジタルフィルタ
    と、 該フィルタを通過して前記パネルに照射される前記露光
    用光の強度分布を補正するため前記パネルの周辺領域に
    露光される光を前記パネルの中心領域より高い強度で露
    光させる光透過率を有する光透過率調整手段とを有する
    光学系を位置させ、 前記光源から発する露光用光を前記光学系および前記ア
    パーチャグリルを通過させて前記陰極線管のパネルに照
    射させる蛍光面作成用露光方法。
  7. 【請求項7】 前記光透過率調整手段として、前記レン
    ズの周辺領域の表面または裏面に無反射コーティング層
    を被覆させる請求項6に記載の蛍光面作成用露光方法。
  8. 【請求項8】 前記光透過率調整手段として、前記レン
    ズの中心領域の表面または裏面に光透過率低減層を被覆
    させる請求項6に記載の蛍光面作成用露光方法。
  9. 【請求項9】 前記レンズの中心領域は、前記レンズの
    直径の10から50%の範囲である請求項7または8記
    載の蛍光面作成用露光方法。
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