JPS585250B2 - ニツケル−コバルト溶液からニツケルの濃い溶液を製造する方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はニッケルとコバルトの湿式製錬方法、コバル
ト含有量の非常に低いニッケル溶液を造る方法、及び詳
しく述べればニッケルーコバルト溶液およびこれに類す
る溶液の中のコバルトからニッケルを分離する方法特に
ニッケル含有原料、例えば鉱石、酸化した硫化精鉱、水
酸化物精鉱、その他これに類する浸出した酸化ニッケル
ーコバルト含有原料のようなニッケル含有原料を浸出し
て得られたニッケルーコバルト溶液の中のコバルトから
ニッケルを分離する方法に関するものである。

ニッケルとコバルトとは自然に生ずる鉱物中には殆んど
相伴って見出され、そして普通の選鉱法は両者を分離す
るには効果がない為、浸出した酸化鉱、酸化した硫化精
鉱およびこれに類するニッケル及びコバルト含有原料を
浸出して得た溶液には殆んど両金属が−しよに見出され
る。

最近扛上鉱石および褐鉄鉱鉱石からニッケルやコバルト
を回収する二三の湿式製錬法が提案されて来ている。

一つの方法は、詳細に述べると、高圧下に高温で希硫酸
を浸出剤として用いることに在る。

粗鉱を微粉状となし、はぼ１０％〜２０％固体濃度のス
ラリーとし、次に濃縮器内で沈降と側湾によって濃縮し
３０％〜５０％固体の濃度を有する下層流を得る。

濃縮されたスラリーはオートクレーブ中で直接の高圧水
蒸気を用いて非常な高温にまで加熱され、その高温で浸
出又はその他の回収処理が行われるが、スラリーとなっ
て居る鉱石中に存するニッケルとコバルトとを溶解する
ためには硫酸の存在の下に３７ｋｇ／ｃｍ’のゲージ圧
力（以下単に圧力といえばゲージ圧力を示すものとする
）で通常２０５°Ｃ以上たとえば２４６℃に熱する。

オートクレーブ中での浸出に続いて、浸出されたパルプ
は冷却され、出来得れば向流清澄法で洗浄し、得られた
酸浸出液は次にニッケルとコバルトの硫化物沈殿にむけ
るために中和剤〔Ｍｇ（ＯＨ）２、珊瑚泥、その他〕で
処理してｐＨを例えば２．５〜２．８にあげる。

浸出液を１２２℃となし、種晶として硫化ニッケルを用
い、約１０．５ｋｇ／ｃｍ’まで圧力をあげてＨ２Ｓで
ニッケルとコバルトを硫化物として沈殿せしめる。

硫化物の沈殿を洗浄し、約６５％固体濃度にまで濃縮し
、次にオートクレーブ中において１％硫酸中で温度約１
７０℃、圧力約４９ｋｇ／ｃｍ’の下で酸化する。

ニッケルーコバルト溶液に中和剤としてアンモニアを加
へ、ｐＨをある水準（例えば５．３まで揚げ、酸化剤と
して空気を用いて浸出の間に不純物として入りこんだ鉄
、アルミニウムあるいはクロムを沈殿せしめる。

溶液を沈殿から分離した後、溶液を先づ酸で調整してｐ
Ｈを約１．５にまで下げ、沈殿剤としてＨ２Ｓを用い、
溶液中に含まれていた銅、鉛、亜鉛を硫化物として沈殿
せしめ除去する。

硫化物沈殿は次に溶液と分離され、溶液は次にニッケル
分離の段階に進む。

上記水溶液に含まれるコバルトからニッケルを分離する
については数多くの方法が提案されてきている。

成る方法では、金属ニッケルの回収の準備にアンモニア
で溶液を調整する。

４０〜５０ｇ／ｌのニッケル及び多少のコバルトを含む
調整したニッケル給液は、種晶としてニッケル粉を使用
し、オートクレーブ中で約１９０℃および約４６ｋｇ／
ｃｍ’の圧力下で水素により還元される。

そして残りの母液は既知の方法によってコバルトの回収
に進む。

しかし、多少のコバルトは還元ニッケル生成品中に見出
される。

コバルトをニッケルから分離するための提案されている
かもしくは工業的に用いられて居る方法はまだ幾つかほ
かにあるが、アンモニア−炭酸アンモニウム溶液から硫
化コバルトを沈殿せしめる方法、硫酸溶液から水酸化ニ
ッケル〔■〕を用いてのコバルトの分離する方法、およ
び米国特許第２７６７０５３号および第２７６７０５４
号に記載しであるペンタアンミン法を使用してコバルト
をニッケルから分離し、然る後水素還元によってコバル
トを優先的に金属状態で回収する方法等がある。

この方法は詳しく述べると、コバルト〔■〕イオンの１
モル毎にアンモニア５モルそしてニッケル〔２〕イオン
の１モルごとにアンモニア５モルを供給するに充分な量
のアンモニアを加えることにより、コバルト〔■〕ペン
タアンミン及びニッケル〔■〕アンミンを含む溶液を形
成する工程を包含する。

溶液は酸素で酸化され、次いでＨ２ＳＯ，で酸性となし
、ｐＨを少くも４までにし、ニッケルーアンモニウム複
塩の形でニッケルを伴なう沈殿をつくる。

もしも最終の使用がニッケル中にコバルトが在ることを
許容するならば、上述の諸方法は一応満足するに足るニ
ッケル製品を供したが、純ニツケル製品の製造という点
に関するかぎりこれらの方法はその内部に又は方法自体
に成る種の限界があった。

例えば、高純度ニッケルについての新しい仕様書に適合
するには、ニッケルーコバルト溶液の水素還元によるニ
ッケルの回収方法は最上のものではない。

硫化物及びペンタアンミン沈殿法は一般には特殊のニッ
ケルーコバルト含有溶液に限られて居り、硫化物沈殿法
は一般には硫化剤（例へばＨ２Ｓ）を著しく多量用いる
ことが必要である。

水酸化ニッケル〔■〕法は非常に費用がかゝり又一般に
少なからぬ量の苛性ソーダ及び酸化剤を必要とし、而も
濾過速度が非常におそい。

水酸化ニッケル〔■〕と硫化物沈殿の両方法は、コバル
ト含有沈殿がコバルトよりもニッケルを余計に含むため
に、沈殿したコバルトに伴なう著しいニッケルの損失を
来すことが普通である。

この発明はニッケルーコバルト溶液からコバルトを分離
する優れた方法を提供す不ものである。

従ってこの発明の一つの目的は、ニッケルとコバルトと
を含む溶液からニッケル対コバルト比が非常に高いニッ
ケル含有製品を造ることによりニッケルを分離するすぐ
れた方法を提供するにある。

も一つの目的は、得られるニッケル含有製品のニッケル
対コバルト比が２０１：１以上１００００：１乃至それ
以上の範囲であるような、コバルトからニッケルを分離
する経済的な湿式製錬法を提供するにある。

これら及びその他の目的は次の明細書と図面とを併せ考
えれば一層間らかに判るであろう。

大まかに従べると、本発明はニッケル〔■〕イオンとコ
バルト〔■〕イオンとを含むニッケルーコバルト溶液か
らニッケルの濃い溶液を製造する方法であって、ニッケ
ル対コバルト比が５：１乃至２００：１の範囲である主
流ニッケルーコバルト溶液を供給する工程と、この主流
からニッケルーコバルト溶液の区切りよい分量を分取す
る工程であるが、その区切りよい分取量はニッケルを充
分含んでいて、その量がニッケル〔■〕の状態に酸化さ
れた場合に少なくも次に主流溶液中のコバルトをコバル
ト〔■〕の状態に酸化するのに充分間に合う量であるよ
うな分取工程と、その区切りよい分取量からニッケルを
、ＣＯ□、ＮＨ３および両者の混合より成るグループか
ら選ばれた沈殿剤を加えて、ニッケル（９）として沈殿
させる工程と、ニッケル〔■〕沈殿を酸化してニッケル
〔■〕状態となす工程と、この酸化したニッケル沈殿を
溶液から分離する工程と、この酸化した沈殿に主流溶液
を接触せしめ、この主流溶液中のコバルト〔■〕イオン
を酸化してコバルト〔■〕の状態になして前記溶液から
コバルトを沈殿せしめ又ニッケル〔■〕イオンを還元し
てニッケル〔■〕の状態になし、これによって主流溶液
中のニッケルはコバルトに比べて大幅に濃縮され、この
溶液中のニッケル：コバルト比が一般に２０００ ：
１以上の値となるような工程とを含むニッケルーコバル
ト分離方法である。

上記方法は高純度のニッケル製造に対して非常に優れた
ものである点で新奇である。

プロセスは管理および操業が非常に容易であり、その上
操業費が安価である。

又このプロセスの各工程に於ける沈殿物の全てが本質的
に非常に速い濾過速度を持っている。

この発明の好ましい面として、沈殿する間に形成される
固相の結晶化度を制御することにより著しくすぐれた濾
過性を供することができる。

コバルトが沈殿する間に得られたコバルト精鉱は一般に
ニッケル対コバルト比が大体２．５：１乃至３：１であ
るが、１０：１までも高くすることができ、コバルト沈
殿又は精鉱からのニッケルとコバルトの分離はニッケル
とコバルトの原子価の状態の差によって可能となってき
た。

ニッケルの原子価は２価にニッケル〔■〕）であり又コ
バルトの原子価は３（コバルト〔■〕）である。

以上の点に関しては、本願と同じ出願人名で且つ同一の
日限で出願した特許出願を参考にしている（特願昭５０
−１５９１５、特開昭５Ｏ−１１５１１５）。

前に述べた如く、この発明を遂行するに当っては、主流
溶液たとえば硫酸ニッケルーコバルト溶液の区切りのよ
い分量を分取してニッケルの沈殿に供する。

一つの実施例では、主流溶液の約１３．５容量％を分取
し、充分なアンモニアを加えてニッケル１モルに対して
１〜２モルのＮＨ３を含む溶液を得る。

次にＣＯ２を溶液に泡立たせて通じ、ニッケルの約５０
％、コバルトの９８％以上を沈殿せしめる。

この方法で得た第一次の１炭酸塩”沈殿は濾過が容易で
、速かに濾過し得る。

前記の第１次の１炭酸塩”組成は操業系の条件の如何に
よって水酸化ニッケルから塩基性炭酸ニッケルを経て比
較的純粋な炭酸ニッケルに至るまで種々の形になる。

溶液の区切りよい分取量は、残りの主流溶液中のコバル
ト〔■〕イオンを酸化してコバルト〔■〕イオンにする
ための充分のニッケル沈殿を供給するよう予め定めてお
く。

前記の第一次炭酸ニッケル沈殿は、次に Ｎａ０Ｃ１，ＣａＯＣ１２、オゾン及び（ＮＨ４） ２
Ｓｒ ０３の如き強い酸化剤によるか、又は電解によ
って酸化される。

濾過洗浄後ニッケル〔■〕沈殿は残りの主流溶液と接触
させられ、次の式に従ってコバルト〔■〕イオンをコバ
ルト〔■〕に酸化する。

Ｎｉ＋３（固体）＋ｃｏ＋２（水溶液） →Ｃｏ＋３（固体） ＋Ｎｉ 十” （水溶液）コバル
トが酸化されて、ニッケルを少量含んだコバルト〔■〕
沈殿として溶液から出るに従って、ニッケルが溶液中に
入ってゆく。

処理した主流溶液は実質的に２０００：１以上１０００
０： １乃至それ以上のニッケル対コバルト比をもって
居る。

別の具体例では、主流溶液の区切りよい前記分取量を約
７５℃〜８０℃の温度に熱し、ＮＨ８：Ｎｉのモル比が
ほぼ１．６：１乃至４：１又出来得れば１．６：１乃至
２．５：１となるようアンモニアを加える。

アンモニア溶液は前記温度に約３０〜６０分保たれる。

ニッケルの約５０％、コバルトの約９８％が沈殿する。

例えば沈殿がＮａ０Ｃ１で酸化されると、第一次沈殿は
第一番に母液から濾過される。

残りの濾液は最初のニッケル含有量の約５０％を含み、
これはニッケルの回収のためにその後精製された主流と
ともに処理される。

沈殿は８０℃で３０分間Ｎａ０Ｃ１で酸化され酸化ニッ
ケル〔■〕となる。

沈殿は仮像結晶構造をもち容易に濾過される。

塩素イオンが沈殿中にあっても洗浄によって効果的に除
さ得られる。

酸化剤として濾過硫酸アンモニウムが用いられた場合は
、反応生成物が硫酸アンモニウムであるために濾過は必
要でない。

母液より分取した区切りよい分量からコバルトが沈殿し
た後、生じたパルプは過硫酸アンモニウムが加えられて
から１５〜３０分間８０℃に保持される。

酸化された沈殿は溶液から容易に濾過され、遊離アンモ
ニウムイオンは洗い落される。

電解酸化は次のように行う。

すなわち、前に述べた如く、溶液から”炭酸”ニッケル
が沈殿される。

しかし電解酸化は炭酸塩なしにアンモニア沈殿について
も使用し得られる。

炭酸塩は濾過され水洗され、Ｎ ａ ２ ＣＯｓ （無
水物）を７０ｇ／ｌ（１リツトル中のグラム数）含む炭
酸ソーダ溶液中にスラリーとされ、電槽中で酸化される
。

槽には１対の電極があるが、陽極はニッケル板、陰極は
鉄線網より成る。

３．２ボルトの電位差を使用し、電流密度は大体１４０
アンペア／ｍが用いられる。

通電時間は大体６〜８時間で充分であることが判明した
が、消費電力は大体１．９ＫＷＨ／ｋｇである。

上述の何れかの方法で作った、酸化された沈殿は主流溶
液中に導入され、混合物は１〜３時間大体７５〜８０℃
に保たれる。

溶液中のコバルトは酸化されて、液から析出沈殿し、そ
の代りに酸化したニッケル沈殿が還元されて主流溶液中
に溶解する。

コバルト沈殿は容易に渥濾過でき、沈殿は大体２：１〜
４：１のＮｉ ：Ｃｏ比をもっている。

この沈殿は直接又は酸浸出の後にニッケルーコバルト分
離を更に行い、コバルト対ニッケルが３：１〜５：１の
品位の上ったコバルト精鉱を造り出すことができる。

第１図は本発明のプロセスのフローシートを示したもの
で、この図から明らかなように、第一次の沈殿は工程１
で主流の硫酸ニッケルーコバルト溶液にＣＯ２とＮＨ８
を加えてニッケル及びコバルトを含む炭酸塩沈殿を生成
することによって遂行され、溶液と沈殿は工程２で固体
−液体分離を行わしめ、沈殿は沈水で洗浄される。

ニッケル〔■〕沈殿は工程３で酸化されて酸化ニッケル
〔■〕になる。

溶液と酸化されたニッケル沈殿は工程４で固体−液体分
離を行うが、４は洗浄の段階も含んで居る。

そして主流溶液は工程５で酸化された沈殿と混合してコ
バルトをコバルト〔■〕沈殿として沈殿せしめる。

工程６で溶液は沈殿から分離され、溶液は純ニッケル粉
を作るため水素還元に、コバルト沈殿はＮ ｉ ／ Ｃ
ｏ分離に向けられる。

本発明の利点を例証するものとして次の実例を挙げる。

例１ ｐＨ約５〜６の主流硫酸ニッケルーコバルト溶液の一部
を濃■、ＯＨで処理してＮ Ｈａ ／ Ｎ ｓ モル比
を大体１．６：１とした。

次に室温で約３０分間、溶液中に炭酸ガスを吹き込んだ
。

ニッケルの約３０％、コバルトの約９５％が沈殿した。

沈殿は容易に濾過し得、溶液から分離され、水で洗浄さ
れた。

濾液のニッケル対コバルト比は１２２０ ：１であった
。

次に沈殿は、７５℃、ｐＨ約６〜７で３０分間、５％Ｎ
ａ０Ｃ１溶液で酸化された。

黒色の酸化された沈殿が得られたが、速やかに濾過され
、塩素イオンを洗って皆無にした。

酸化された生成品は次に残余の主流硫酸ニッケルーコバ
ルト溶液と混合され、溶液中のコバルトは７５℃、ｐＨ
５，５で各酸化された生成品にについて種々の時間酸化
された。

コバルトの酸化は０゜３０．６０及び９０分に定め、濾
液のＮ ｉ ／ Ｃ。

比が前記時間毎に測定された。

第２図に得られた結果を示す。

第２図をみて分るように、主流溶液を酸化された生成品
又は沈殿をもってする処理を３０分間行った後は、得ら
れた濾液はＮ ｉ ／ Ｃｏ比が２０００ ：１以上に
なり、処理の９０分後には１００００：１に達する。

コバルト酸化−沈殿段階では、給液中の約６．２の高い
ｐＨは、還元されたニッケル沈殿の溶解を阻げることが
観察された。

沈殿中の還元したニッケルの全部が溶解するということ
はないので、Ｎｉ（■）をＣｏ（■）より分離するため
に、選択的浸出に頼らねばならない。

例えば、第一次のコバルト沈殿がｐＨ３，９、温度９０
℃で希硫酸溶液で浸出されると、溶液はＣｏ／Ｎｉ比が
３０：１を含むものが得られ、第二次コバルト沈殿はＣ
ｏ／Ｎｉ比が２．４：１に濃縮される。

浸出段階から得られる溶液は主流又は炭酸ニッケル沈殿
段階に循環して戻すことができる。

第３図はフローシートの形式の物質収支の詳細な例を示
したもので、７４．８ｇ／ｌＮ ｉ 、 ０．６４ｇ／
ｌＣｏ （Ｎ ｉ ／ Ｃｏ比は大体１１６：１）を
含む主流溶液（流れ■） １５４３ リットルについて
得られた結果を示す。

この場合含有ニッケルは約１１５．５ｋｇとなる。

流れ■の区切りよい分量１３．４容量％を分取して流れ
■とし、工程Ａで７．２ｋｇＮＨ３およびほぼ化学量論
的量のＣＯ２を加えてニッケルの沈殿用にする。

得られた沈殿は流れ■として分離され工程Ｂでの酸化に
向けられ、涙液あるいは流れ■は５０ｇ／ｌＮｉ 、０
．０４１ｇ／ｌＣｏを含む２２０リツトル（全Ｎｉは１
１ｋｇ）より成り、ニッケル還元又はくり返しのいずれ
でもよい方に向けられる。

工程Ｂにゆく沈殿は約９．９８ゆで、４４．６チＮ ｉ
、 １．２４ ％Ｃｏで全ニッケル含量は４．５ｋｇ
である。

前述の沈殿は、流れ［相］として示しである５、２５重
量％Ｎａ０Ｃ１溶液をほぼ７５〜１２０リツトル用いて
、約７５〜８０℃で３０分間酸化せしめられる。

酸化の間に幾分ニッケルが溶解するものと推測される。

そして洗浄後流れ■として２２０〜３６０リツトルが得
られたが、全量で３００ｇのニッケルを含む。

酸化された沈殿は流れ■として示すが、重さ約８．２ユ
で５０％ニッケルと１．５％コバルトを含みニッケルを
全量で４．２ユ含む。

沈殿はコバルト分離工程Ｃに、残余の主流、即ち流れ■
とともに送りこまれる。

流れ■は１．３３６リツトルで、７４．８ｇ／ｌＮｉ
、０．６４ｇ／１ｌｃｏを含み、全ニッケル含有量はほ
ぼ１００ｋｇである。

酸化された沈殿と溶液は約６０〜９０分の滞留時間の間
７５〜８０℃に保たれる。

それで流れ■中のコバルトはすっかりコバルＨｔｐ沈殿
として酸化しつくされ、生じた流れ■は、７８ｇ／１ｌ
Ｎｉ 、０．００８〜０．０１ｇ／１１ Ｃｏを含む１
２８２リツトルの溶液から成り、Ｎ ｉ ／ Ｃｏ比が
非常に高＜７８００もあり、全ニッケル含有量が出発ニ
ッケル溶液中の約８７％すなわち約１００ｋｇを含んで
いる。

沈殿（流れ■）の重量は約１０．２ｋｇで、４０．３φ
Ｎ ｉ 、 ９．４ ％Ｃｏを含み、ニッケルの全量は
約４．１ユである。

この沈殿は工程りで希Ｈ２ＳＯ４で電解して、Ｎ ｉ
／ Ｃｏ比が大体３０：１の溶液を供するが、主流溶液
に戻すのが適当である（流れ＠）。

最後の沈殿（流れ０）は浸出後型量は約２．２ｋｇとな
り、３８チＣｏ、１６％Ｎｉを含み、全ニッケル含有量
は約０．３ｋｇにも達する。

前述したことをまとめると、本発明はＮｉ／Ｃ。

比の範囲が５＝１〜２００：１、そして望み得るならば
１００：１〜１６０：１の硫酸ニッケルーコバルト溶液
に含まれて居るニッケルをコバルトから分離する方法を
提供するものである。

前述の溶液の一部が採られ、その溶液からニッケルがニ
ッケル（９）沈殿として次の２つの方法のうちのいずれ
かの方法で沈殿した。

（１）Ｃ０２とＮＨ３が溶液に加えられるが、Ｃ０２の
量は少くも炭酸ニッケルを沈殿せしめる化学量的な量で
なければならない。

ＮＨ３の量は溶液中にｐＨ７〜７．５の範囲でＮＨ３／
Ｎｉモル比が大体１．５：１〜２．５：１を生じ得るよ
う充分にする。

その後沈殿はさきに述べた如く酸化ニッケル〔■〕に酸
化されるが、電解酸化では大体１５℃以上、例へば２５
℃〜３０℃の温度で行われ、化学酸化では６０℃〜９０
℃、でき得れば７５℃〜８５℃で行われる。

酸化された沈殿は洗浄され、次に５０℃以上で残余の溶
液と混合し、コバルト〔■〕イオンを酸化してコバルト
〔■〕となし、溶液から沈殿せしめ、Ｎ ｉ ／ Ｃｏ
比が２０００ ： １以上１００００：１の範囲、又は
もつと高い溶液を後に残す。

（２）他の方法では、溶液の区切りよい分取量にＮＨ３
のみを加えて水酸化ニッケル〔■〕を沈殿せしめるが、
加えたＮＨ８量はＮＨ３／Ｎｉ モル比が大体１．６
：１〜４：１、でき得れば１．６＝１〜２．５：１を作
り得るよう充分にし、温度は５０℃以上、或は６０℃〜
９０℃、でき得れば７５℃〜８５℃、溶液のｐＨは７〜
８の範囲にする。

沈殿は次にニッケル〔■〕状態に酸化され、そして主溶
液中のコバルト〔■〕イオンを酸化してコバルト〔■〕
イオンとなし、溶液中からコバルトを沈殿せしめ、コバ
ルト含有量に比しニッケルが増加した溶液、即ちＮ ｉ
／ Ｃｏモル比が２０００：１以上１００００：１な
いしそれ以上高い溶液を供する。

この発明は特定の実施例と関連して述べてきたが、この
方面に熟練の人ならすぐ諒解出来るように、この発明の
主旨及び範囲を逸脱しないで種々の変形、変化が用いら
れる。

かゝる変形変化は発明の項目及び特許請求の範囲 る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の製造方法のフローシートの一例、第２
図は溶液中のＮｉ／Ｃｏ比と酸化の時間の関係、第３図
は物質収支で示した本発明の製造方法のフローシートの
他の例を示す。 記号の説明、１ないし６およびＡないしＤはいずれも工
程を、■ないし＠は物質の流れを示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ ニッケル〔■〕イオンとコバルト〔■〕イオンとを
   含む主流のニッケルーコバルト溶液からニッケルの濃い
   溶液を製造する方法であって、ニッケル対コバルト比が
   ５：１ないし２００：１の範囲のニッケルーコバルト溶
   液の主流を供給する工程と、このニッケルーコバルト溶
   液の主流から区切りよい分量を分取する工程であるが、
   その区切りよい分取量はニッケルを充分に含んでいて、
   その量がニッケル〔■〕の状態に酸化された場合に少な
   くも次に主流溶液中のコバルトをコバルト〔■〕の状態
   に酸化するのに充分間に合う量であるような分取工程と
   、この分取した区切りよい分量からニッケルを、ＣＯ２
   とＮＨ３との混合物およびＮＨ３のみから成るグループ
   の中から選んだ沈殿剤を加え、ＮＨ３のみ用いる時は５
   ０℃以上で、ニッケル〔■〕沈殿として沈殿せしめる工
   程と、前記ニッケル〔■〕沈澱をニッケル〔■〕の状態
   に酸化する工程と、前記の酸化したニッケル沈殿を溶液
   から分離する工程と、前記の酸化したニッケル沈殿に主
   流溶液を接触せしめ、この主流溶液中のコバルト〔■〕
   イオンを５０℃以上で酸化してコバルト〔■〕の状態と
   なして前記溶液からコバルトを沈殿せしめ又ニッケル〔
   ■〕イオンを還元してニッケル〔■〕の状態となるまで
   充分な時間置き、このようにして主流溶液中のニッケル
   がコバルトに比べて大幅に濃縮され、この溶液のニッケ
   ル：コバルト比が２０００ ： １以上になるような接
   触工程とを含む、ニッケルーコバルト溶液からニッケル
   の濃い溶液を製造する方法。