JPS585251B2 - ニツケルおよびコバルトを分離する方法 - Google Patents

ニツケルおよびコバルトを分離する方法

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JPS585251B2
JPS585251B2 JP50015915A JP1591575A JPS585251B2 JP S585251 B2 JPS585251 B2 JP S585251B2 JP 50015915 A JP50015915 A JP 50015915A JP 1591575 A JP1591575 A JP 1591575A JP S585251 B2 JPS585251 B2 JP S585251B2
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cobalt
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separating
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ビ− ニコリツク チユベトウコ
ピ− ズンデル ウエルドン
エス リツカ−ド ロバ−ト
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    • C22B3/20Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
    • C22B3/42Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by ion-exchange extraction
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明はニッケルとコバルトの湿式製錬法に係り、特
にコバルトがコバルト〔■〕の状態(Co+3)で存す
るコバルト及びニッケルを含む原料からニッケルーコバ
ルトを分離するすぐれた方法に関する。
この方法はニッケル鉱又は酸化した硫化精鉱の湿式製錬
処理に於て副産物として生ずる水酸化コバルト〔■〕沈
殿の処理に特に応用できる。
ニッケルとコバルトとは自然に生ずる鉱物中では一般に
一緒に見出され、通常の選鉱法は2者を分離するには効
果がないため、両金属は一般に浸出した酸化鉱、硫化精
鉱、その他これに類するニッケル及びコバルト含有原料
を浸出して得られる溶液中に一緒に見出される。
最近、扛上鉱石および褐鉄鉱鉱石からニッケルやコバル
トを回収するために数多の湿式製錬法が提案されてきて
いる。
成る方法は、詳しく述べると、高温高圧下で、浸出剤と
して希硫酸を使用することにある。
その際、粗鉱は微粉状となし、次にこれを大体10%な
いし20%固体濃度のスラリーとなし、更に濃縮器中で
沈降と側湾によって濃縮し、大体30%ないし50%の
固体濃度を有する下層流を得る。
濃縮されたスラリーはオートクレーブ中で、直接の高圧
水蒸気によって高温に加熱され、その温度で浸出乃至そ
の他の回収処理が行われるが、通常は樹酸存在の下で2
05℃以上、例えば約246℃で37kg/cm2のゲ
ージ圧力(以下圧力といえばゲージ圧力を示すものとす
る)でスラリーになった鉱石中に存するニッケル及びコ
バルトを可溶性にする。
オートクレーブ中での浸出に続いて、浸出されたパルプ
は冷却され、でき得れば向流上澄法で洗浄し、得られた
酸浸出液は次に中和剤〔Mg(OH)2、さんご泥、或
いはこれに類するもの〕で処理して、ニッケルおよびコ
バルトを硫化物沈殿にするためpHを例えば2.5〜2
.8に上げる。
浸出液は大体122℃の温度となし、ニッケルとコバル
トは、種晶として硫化ニッケルを用いて10.5kg/
cm2に及ぶ圧力のH2Sで硫化物として沈殿せしめら
れる。
硫化物沈殿は洗浄され、大体65%固体濃度に濃縮され
、オートクレーブ中の1%硫酸中で、大体177℃ 4
9kg/cm2の圧力の下に酸化される。
ニッケルーコバルト溶液に中和剤としてアンモニアを加
え、−を一定水準(たとえば5.3)まで上げ、酸化剤
として空気を用い、浸出の際に不純物として持ち込まれ
た鉄、アルミニウム又はクロムを全て沈殿せしめる。
沈殿から溶液を分離した後に、溶液を先ず酸で調整して
pHを約1.5まで下げ、沈殿剤としてH2Sを用いて
溶液中に含まれる銅、鉛、或いは亜鉛をすべて硫化物と
して沈殿させる。
次に溶液から硫化物沈殿を分離し、溶液は金属ニッケル
の回収に備えてアンモニアで調整する。
リットル中40〜50グラムのニッケルおよび少量のコ
バルトを含む調整したニッケル給液は、種晶としてニッ
ケル粉を用い、オートクレーブ中で190℃および46
kg/cm2の圧力下に水素で還元され、残った希薄に
なった母液は既知の方法を用いるコバルト回収に送る。
しかし、少量のコバルトが還元したニッケル生成品中に
現われる。
ニッケルからコバルトを分離する提案されもしくは工業
上用いられている方法のうちに、水酸化ニッケル印によ
って硫酸ニッケルーコバルト水溶液からコバルトを分離
し、得られた沈殿中のニッケルから米国特許No、2,
767.053及びNo。
2.767.054に述べであるペンタアンミン法を用
いて引き続いてコバルトを分離する方法がある。
ここに沈殿中のコバルトはコバルト印の状態で存する。
コバルト〔■〕沈殿はなおニッケルをも含むが、コバル
ト〔■〕イオン1モルに対して5モルのNH3、ニッケ
ル〔■〕イオン1モルに対して5モルのNH3、を供す
るに充分な量のアンモニアを加えて、コバルト〔■〕ペ
ンタアンミンとニッケル〔■〕アンミンに変える。
溶液は酸素で酸化し、次に硫酸で酸性にし、−を少なく
も4にし、ニッケルアンモニウム複塩の形でニッケルを
含む沈殿を造るが、複塩は晶出器で形成される。
上述の技術は主流の硫酸ニッケルーコバルト溶液からコ
バルトを抽出し回収する点に於ては有用であるが、一方
では成る種の不利の点がある。
まず第一に、ペンタアンミンを形成せしめる試薬の費用
が高い。
次に、コバルト〔■〕イオンがペンタアンミン法を遂行
するについて欠くことのできないであるので、硫酸のコ
バルト〔■〕イオンに対する還元効果を防ぐために、溶
液は一般に酸素付加反応を必要とすることである。
我々はコバルト〔■〕沈殿を処理するすぐれた方法を発
見したが、その方法ではコバルト〔■〕沈殿の溶解は、
硫酸アンモニウム晶出器からの残留液を利用すると、速
やかに且つ完全に行われる。
したがって、この発明の一つの目的は、種々のニッケル
ーコバルト含有原料、たとえばニッケル及びコバルト含
有硫酸塩溶液のニッケルからコバルトを分離する一つの
すぐれたプロセスを提供することにある。
も一つの目的は、コバルトからニッケルを分離し、そし
て生成品中のニッケル対コバルト比が、できれば少なく
も1000:1から2000:1及びそれ以上の範囲の
コバルト含有量の非常に低いニッケル生成品を製造する
ことを含むプロセスを提供することにある。
以上述べた目的およびその他の目的は次の説明と図面と
を併せて考えるならば一層間らかになるであろう。
なお図面は発明を遂行する1つの具体例を説明するフロ
ーシートを示す。
概括的に述べると、本発明はコバルト〔■〕状態のコバ
ルトをもつコバルト−ニッケル沈殿からニッケルとコバ
ルトを分離する方法を提供するものであるが、その方法
はまず大体80℃乃至120℃の温度範囲、少なくも1
.4kg/cm2の圧力の下で、リットル当り少なくも
100グラム(例えばリットル当り100ないし450
グラム)の (NH4)2SO4と、リットル当り少なくも50グラ
ム(例えばリットル当り50ないし170グラム)のN
H3を含む硫酸アンモニウム溶液中に沈殿を溶解し、こ
の溶液を酸性にしてpHを大体1.5ないし3.0とな
し、溶液を冷却してニッケルが増加した硫酸ニッケルア
ンモニウム沈殿を作り、この溶液から沈殿を分離し、こ
の溶液をニッケルを選択的に除去するイオン交換カラム
を通してこの溶液を通過せしめ、これによってコバルト
が増加した溶液を得て、この溶液をコバルト回収に渡す
ことなどを含んでいる。
コバルト〔■〕沈殿は、酸化鉄、焙焼した硫化精鉱その
他これに類するニッケルーコバルト含有原料を選択的に
浸出して得られる硫酸ニッケルーコバルト溶液を処理す
る時の副産物として製造される。
かかる原料を浸出する結果として、ニッケル対コバルト
比が大体5:1乃至200:1の範囲の主流硫酸ニッケ
ルーコバルト溶液が生ずる。
副産物としてコバルト〔■〕沈殿を製造するには、上記
主流から区切りよい分量のニッケルーコバルト溶液を分
取するが、この区切りよい分取量は、それに含まれるニ
ッケルがニッケル〔■〕の状態に変化されたときに次に
主流中のコバルトをコバルト〔■〕に酸化するのに充分
足りるような量にしておく。
この区切りよい分取量にはCO2とNH3の混合物及び
NH3のみよりなるグループから選んだ沈殿剤を加え、
NH3のみの場合は沈殿の温度を50℃以上でニッケル
をニッケル〔■〕沈殿として沈殿せしめる。
そしてニッケル〔■〕沈殿は酸化されてニッケル〔■〕
状態となり、溶液から分離され、主流溶液と充分な時間
接触して、主流溶液中のコバルト〔■〕イオンを大体5
0℃以上で酸化してコバルト〔■〕状態となして溶液か
らコバルトを沈殿せしめ、ニッケル印イオンを還元して
ニッケル〔■〕状態とし、以上によって主流溶液中のニ
ッケルはコバルトに比較して大いに増大しこの溶液中の
ニッケル:コバルト比に2000:1以上を供する。
沈殿は一般に25%〜45%ニッケル及び20%〜5%
コバルトを含み、コバルト対ニッケル比は0.8:1〜
110:1に亘って変化する。
この関係については同一の出願人名でこれと同日に出願
した特願昭5O−15914(特開昭5O−11511
4)を参考にされたい。
本発明はコバルトがコバルト印の状態であり、ニッケル
がニッケル〔■〕の状態である沈殿については如何なる
沈殿にも応用できる。
一般に、主流溶液からニッケル及びコバルトの両者が分
離された後は、溶液は前記元素が希薄になっており、硫
酸アンモニウムを回収するために硫酸アンモニウム晶出
器に送られる。
この発明の経済的利点の1つは硫酸アンモニウム晶出器
からの残液がそのまま前記のコバルト〔■〕沈殿の溶解
に使用できることである。
溶解は速やかで完全であり、鉄は溶解中に沈殿として除
去される。
一つの具体例では、コバルト〔■〕沈殿は密栓話中で、
1.4kg//cm2の圧力下80℃で、300g/l
の(NH4)2SO4及び50g/lのNH3を含む溶
液中に溶解した。
溶解は2〜3時間で完了した。溶解に続いて、溶液は溶
解した沈殿とともに酸性にしてpHを大体1.5〜3と
し、冷却に続いてニッケルの複塩沈殿が得られたが、複
塩のNi:C。
比は非常に高く、たとえば2000:1であった。
溶解したコバルト及び残留ニッケルを含む残りの溶液(
例えば10:1〜20:1のCo:Ni比は次にニッケ
ルを選択的に除去する樹脂のカラムを通過せしめ、残余
の実質的にはニッケル皆無のコバルト溶液は次に通常の
方法でコバルト回収の処理を行う。
一般の工程は図面中で説明されているが、コバルト〔■
〕沈殿は工程1で溶解されると記述されている。
その際、できれば300g/lの(NH4)2SO4と
50g/lのNH3とを含む硫酸アンモニウム溶液とア
ンモニアを用い、溶解を3.5kg/cm2の加圧の下
に約2時間、できれば80℃の温度で遂行する。
水酸化鉄の如き不溶残渣は工程2で除去され、残された
溶液は冷却し工程3で濃硫酸で酸性にして大体1.5乃
至3のpHの水準になし、複塩(Ni(NH4)2(S
O4)2を沈殿せしめる。
溶液と沈殿は工程4で固体−液体分離を行わしめ、コバ
ルト及び残留ニッケルを含む溢流溶液はニッケルを選択
的に除去するため工程6の樹脂のカラムにゆき、複塩は
工程5で涙過されそして洗浄されて非常に高純度のニッ
ケル製品を提供し、樹脂によって吸収されたニッケルは
工程7で樹脂のカラム中を希硫酸を通過せしめて溶離せ
しめる。
溶離したニッケル溶液は次の回収を行うため主流溶液に
還流せしめる。
上記の処理を遂行するにあたって見出されたことだが、
コバルト〔■〕沈殿をアンモニア−硫酸アンモニウムが
溶解する反応速度は室温では非常に遅いが、しかし、成
る温度たとえば80℃では、密栓容器中で例えば3.5
kg/cm2の圧力の下では反応は2時間かかるだけで
ある。
試験によって、溶液中のコバルトは全部コバルト〔■〕
の状態のままで残ることを確認した。
そのために相当高純度のニッケル複塩の形成を可能にす
るので、このことは大へん重要である。
発明の説明として次に例を挙げる。
例1 酸化剤としてNa0C1溶液を用いて、まず水酸化ニッ
ケル〔■〕を水酸化ニッケル印に酸化して、コバルト〔
■〕沈殿を製した。
代表的な溶液はNa0C1を5.25重量%含んでいる
酸化された沈殿は次に硫酸ニッケル及びコバルトを含む
パイロットプラント溶液中に導入され、90ないし95
℃で約1時間後Ni:Co比が3.5:1のコバルト〔
■〕沈殿が生成された。
この沈殿は表1に示されるように、300g/lの(N
H4)2SO4と種々の量のアンモニアを含んだ一連の
溶解試験に使用した。
溶解は大体80℃で3.5kg/cm2の圧力の下に遂
行された。
表から明らかなように、溶解は一般に2〜3時間で完了
する。
特に注目すべきことは、NH3を含んだ300g/1(
NH4)2SO4へのコバルト〔■〕沈殿の溶解が成功
したことである。
沈殿の溶解に続いて、こんどは12.8g/lNiと3
.84g/lCoを含んだ溶液を濃硫酸で処理してニッ
ケル複塩(Ni(NH4)2(SO4)2を沈殿せしめ
る。
表2以下に示すように一連の沈殿が行われた。
H2SO4を添加する間に、液温は65℃に昇った。
最終欄から気がつくことであるが、ニッケル複塩は非常
に低いコバルト含有量を示す。
得られたNi:Co比を表3にして次に示す。
表3 試験番号 Ni:Co比 1 1200:1 2 2000:1 3 1640:1 4 2180:1 この表で判るように、複塩中のNi:Co比は1000
:1を超し、2000:1までまたそれ以上にまで及ぶ
複塩沈殿からの残りの溶液はコバルト及び少量のニッケ
ルを含んでいるが、選択的にニッケルを吸着するカチオ
ン型キレートイオン交換樹脂を容れたカラムを通過せし
めてニッケルを除去する。
樹脂はアンモニウム型のイミノジ酢酸カチオンキレート
樹脂で、商標DOWEX A1.DOWEXXF−40
45およびAmberlite XE−318で売られ
ている典型的な工業上有用な樹脂である。
試験では流出液がlppmもの低いニッケルを含むよう
な抽出が行われることを示した。
カラムによるニッケルの吸着に続いて、ニッケルはカラ
ムに4規定のH2SO4を通して除去する。
ニッケルを溶離した後、交換樹脂はそのベッド容積の3
ないし4倍の20%NH4OH溶液をカラムを通して流
すことにより再生される。
試験はCo:Ni比がほぼ3:1のコバルト〔■〕浴溶
液ついて行われた。
樹脂は使用に先立って、ガラスカラムを上に向って20
%NH4OH溶液を流すことによりアンモニア型に変え
る。
コバルト印溶液は次にカラムを通し洗浄の工程と同様に
下方に給液される。
ニッケルの吸着の次に水洗が行われ、次に5%(NH4
)2SO4と1規定のNH4OHの溶液で洗浄する。
これによって樹脂のベッドの孔に残されたコバルトおよ
びニッケルの溶液が除去される。
再び水洗を行なった後に4規定のH2SO4溶液でニッ
ケルを剥離又は溶離せしめる。
樹脂中に残る溶離剤は水洗によって除き、樹脂は再生さ
れてアンモニア型になる。
3:1及び20.2:1のCo:Ni比のコバルト〔■
〕浴溶液ついて得られた結果を次の如く表4及び5にそ
れぞれ示す。
上記2表はコバルト〔■〕浴溶液らのニッケルの分離が
充分に行われることを示す。
分析の結果はコバルト流出液中のニッケルが、スタート
に用いた液では208ppmであったにも拘らず、lp
pmにも低くなったことを示す。
ニッケルを除去するとコバルト:ニッケル比は1175
:1にも及ぶ高い値となる。
吸着カラムの流速は試験に於ては吸着及び溶離能の両工
程とも樹脂1000c、c、当り毎分130c、c、な
いしそれ以下であった。
4規定のH2SO4を使用する樹脂からのニッケルの溶
離は速やかで且つ完全であった。
この発明は特殊な具体例に関連して説明したが、この方
面に於ける練達の士であるならばすぐ理解できるが、変
形ないし変化はこの発明の精神、範囲から外れることな
しに可能であると理解さるべきである。
そして、このような変形変化はこの発明及び請求範囲の
範囲内にあると考える。
【図面の簡単な説明】
図は全般的な製造工程のフローシートを示す。 記号の説明、1ないし7は各工程を順番に示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 コバルトがコバルト〔■〕の状態で含まれているニ
    ッケルーコバルト沈殿より、ニッケル及びコバルトを分
    離する方法であって、(NH4)2SO4をリットル当
    り少なくも100グラム、NH3をリットル当り少なく
    も50グラムを含む硫酸アンモニウム溶液に、80℃な
    いし120℃の範囲の温度で、少なくも1.4kg/c
    m2のゲージ圧力の下で前記沈殿を溶解する工程と、こ
    の溶液を酸性にしてpHを1.5ないし3.0とし且つ
    この溶液を冷却してニッケル含有が非常に高くなった硫
    酸ニッケルアンモニウム沈殿を製造する工程と、コバル
    ト及び残留ニッケルを含んでいる溶液から前記沈殿を分
    離する工程と、前記溶液を前記残留ニッケルを選択的に
    除去するイオン交換カラムを通過せしめ、実質的にニッ
    ケルのないコバルトを含んだ溶液を残す工程と、次にこ
    の溶液をコバルト回収にむける工程とを含む、ニッケル
    およびコバルトを分離する方法。 2 ニッケル〔■〕イオンとコバルト〔■〕イオンを含
    む主流のニッケルーコバルト溶液からニッケル及びコバ
    ルトを分離する方法であって、ニッケル対コバルト比が
    5:1乃至200:1の範囲である主流のニッケルーコ
    バルト溶液を用意する工程と、その主流からニッケルー
    コバルト溶液の区切りよい分量を分取する工程であるが
    、その区切りよい分取量はニッケルを充分に含んでいて
    、その量がニッケル〔■〕の状態に酸化された場合に少
    なくも次に主流溶液中のコバルトをコバルト〔■〕の状
    態に酸化するのに充分間に合う量であるような分取工程
    と、その区切りよい分取量からニッケルを、CO2とN
    H3との混合物およびNH3のみよりなるグループから
    選んだ沈殿剤を加え、NH3のみ用いた場合は50℃以
    上の温度で、ニッケル〔■〕沈殿として沈殿せしめる工
    程と、ニッケル〔■〕沈殿をニッケル〔■〕の状態に酸
    化する工程と、前記酸化したニッケル沈殿を溶液から分
    離する工程と、この酸化した沈殿に主流溶液を、この溶
    液中のコバルト〔■〕イオンを50℃以上で酸化してコ
    バルト〔■〕の状態にするのに充分な時間接触せしめ、
    その結果、溶液中からコバルトをニッケルと共に沈殿さ
    せニッケル師イオンを還元してニッケル〔■〕状態にし
    、これによって主流溶液中のニッケル含有量がコバルト
    含有量に比べて相当に増大するようにした接触工程と、
    リットル当り少なくも100グラムの(NH4)2SO
    4と少なくも50グラムのNH3とを含む硫酸アンモニ
    ウム溶液中に、80℃ないし120℃の温度範囲で、少
    なくも1.4kg/cm2のゲージ圧力の下で前記コバ
    ルト〔■〕沈殿を溶解する工程と、前記溶液を酸性にし
    てpHを1.5ないし3.0とし、この溶液を冷却して
    非常にニッケル分が増大した硫酸ニッケルアンモニウム
    沈殿を製造する工程と、前記沈殿を前記コバルトと残留
    ニッケルを含む前記溶液から分離する工程と、この溶液
    を残留ニッケルの除去を選択的にするイオン交換カラム
    を通過せしめ、それによってニッケルのほとんど入って
    いないコバルトを含む溶液を得、次にこの溶液をコバル
    ト回収に回す工程とを含む、ニッケルおよびコバルトを
    分離する方法。
JP50015915A 1974-02-08 1975-02-08 ニツケルおよびコバルトを分離する方法 Expired JPS585251B2 (ja)

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