JPS5851933Y2 - ガス冷却装置 - Google Patents
ガス冷却装置Info
- Publication number
- JPS5851933Y2 JPS5851933Y2 JP9088579U JP9088579U JPS5851933Y2 JP S5851933 Y2 JPS5851933 Y2 JP S5851933Y2 JP 9088579 U JP9088579 U JP 9088579U JP 9088579 U JP9088579 U JP 9088579U JP S5851933 Y2 JPS5851933 Y2 JP S5851933Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- cooling device
- particulate matter
- cooling
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
高温ガスに含有されるダストを集塵する電気集塵装置に
は通常、冷却装置が前置されており、集塵の前処理とし
て、これを通過する高温被処理ガスに冷却水を噴霧して
、これを冷却して居るが、かかる冷却装置に於ては、そ
の底部の加湿による腐蝕を防止する為、冷却水を完全に
蒸発させる必要があり、これが為に冷却水の噴霧粒径を
できるだけ小さくする為、噴霧圧力を増大したり、処理
時間を長くする必要があり、自ら冷却装置が大型化する
欠点があった。
は通常、冷却装置が前置されており、集塵の前処理とし
て、これを通過する高温被処理ガスに冷却水を噴霧して
、これを冷却して居るが、かかる冷却装置に於ては、そ
の底部の加湿による腐蝕を防止する為、冷却水を完全に
蒸発させる必要があり、これが為に冷却水の噴霧粒径を
できるだけ小さくする為、噴霧圧力を増大したり、処理
時間を長くする必要があり、自ら冷却装置が大型化する
欠点があった。
本願に係る考案はこれ等の欠点を解決するもので、装置
を小型とし、且つ、装置の底部を完全な乾燥状態にする
ことを可能とする新規なるガス冷却装置を提供するもの
である。
を小型とし、且つ、装置の底部を完全な乾燥状態にする
ことを可能とする新規なるガス冷却装置を提供するもの
である。
次に図によって本考案の詳細を説明する。
第１図は本考案のガス冷却装置の１実施例を示すもので
、ガス導入ダクト１よりケーシング２の底部６に導かれ
た高温被処理ガスは粒状物の移動層８を通過、その間に
粒状物移動層を加熱して、熱を奪われ、ケーシング内を
上昇し、上部に設置されるノズル４より噴霧された冷却
水で更に冷却された後、排気ダクト３より装置外に排出
され、図示せざる後置の電気集塵装置等に送られる。
、ガス導入ダクト１よりケーシング２の底部６に導かれ
た高温被処理ガスは粒状物の移動層８を通過、その間に
粒状物移動層を加熱して、熱を奪われ、ケーシング内を
上昇し、上部に設置されるノズル４より噴霧された冷却
水で更に冷却された後、排気ダクト３より装置外に排出
され、図示せざる後置の電気集塵装置等に送られる。
該移動層８は比熱の大きい粒状物質よりなる２段の移動
層を形成しており、冷却はその液滴径が比較的大であっ
ても、この加熱された粒状物移動層を通過する間に完全
に蒸発される。
層を形成しており、冷却はその液滴径が比較的大であっ
ても、この加熱された粒状物移動層を通過する間に完全
に蒸発される。
従って、ノズル４での媒体の噴射圧力は低く、又、処理
時間が短かくてもホッパ一部６及びダスト排出装置７は
完全に乾燥状状況に維持される。
時間が短かくてもホッパ一部６及びダスト排出装置７は
完全に乾燥状状況に維持される。
粒状物質は垂直コンベヤ９にてケーシングの上部に運ば
れて循環使用の為好ましき角度（約２６°）に設置され
た多孔の又は金網製の底板を有する柵に落下され、その
斜面を好ましい厚みの層を形成して自重により下方に移
動する。
れて循環使用の為好ましき角度（約２６°）に設置され
た多孔の又は金網製の底板を有する柵に落下され、その
斜面を好ましい厚みの層を形成して自重により下方に移
動する。
粒状物質は移動する間に高温ガスに接触して常に高温に
加熱されているので保有熱量が大であり、これに接触す
る冷却水の液滴を完全に蒸発する。
加熱されているので保有熱量が大であり、これに接触す
る冷却水の液滴を完全に蒸発する。
液滴量が多過ぎる為に第１段の移動粒状物層が湿り状態
となった場合にも第２段目の層で完全に乾燥、加熱が行
われ、ガス量、ガス温度等の入口のガス状態が異る場合
でも、比較的微量の液量調整で充分に底部を乾燥状態に
制御することが可能である。
となった場合にも第２段目の層で完全に乾燥、加熱が行
われ、ガス量、ガス温度等の入口のガス状態が異る場合
でも、比較的微量の液量調整で充分に底部を乾燥状態に
制御することが可能である。
第２図は被処理ガス導入ダクト１が上部にあり、高温被
処理ガスと冷却水が平行して下方に同一方向に流れる平
行流型の冷却装置の他の実施例を示して居る。
処理ガスと冷却水が平行して下方に同一方向に流れる平
行流型の冷却装置の他の実施例を示して居る。
この場合には加熱高熱部が上部に位置し、第１段移動層
と第２段移動層との間に垂直な落下部が備けられており
、粒状物質を上部の加熱部から下部の蒸発部へ導く落下
部分の落差が大となるが、蒸発の機能、及び底部を完全
乾燥の状態にすることは第１図と同一である。
と第２段移動層との間に垂直な落下部が備けられており
、粒状物質を上部の加熱部から下部の蒸発部へ導く落下
部分の落差が大となるが、蒸発の機能、及び底部を完全
乾燥の状態にすることは第１図と同一である。
一般に冷却装置に於て被処理ガスは高速（１５ｍ／ｓ）
で、且つ、曲り部のある入口ガスダクト１を経て低速（
３ｍ／ Ｓ ）でケーシング内に導入される為、ケーシ
ング内のガス流速を均一にすることが困難である。
で、且つ、曲り部のある入口ガスダクト１を経て低速（
３ｍ／ Ｓ ）でケーシング内に導入される為、ケーシ
ング内のガス流速を均一にすることが困難である。
ガス流速が不均一となる場合には部分的に蒸発が不完全
となり、水滴が底部のホッパに落下することの危険があ
る。
となり、水滴が底部のホッパに落下することの危険があ
る。
しかるに、本考案に於ては、粒動物移動層を通過する際
、ガス流量は均一化され、ガス整流の効果を生ずるので
入口ダクト部に特にガス整流装置を設置する必要が無い ポンプ５で供給される水量は出口ガスダクト３中に設置
された温度検出装置１１及び図示していない制御装置よ
りの信号にて制御弁１２を開閉する。
、ガス流量は均一化され、ガス整流の効果を生ずるので
入口ダクト部に特にガス整流装置を設置する必要が無い ポンプ５で供給される水量は出口ガスダクト３中に設置
された温度検出装置１１及び図示していない制御装置よ
りの信号にて制御弁１２を開閉する。
本願考案の冷却装置はそのままＨＣｌＳＯｘ等の有害ガ
スの中和する吸収装置として本装置を使用することがで
き、その場合は中和剤のスラリ液を制御弁１０で冷却液
ラインに連結してノズル４より噴霧して高温ガスを吸収
処理し、これによって生成された反応生成物はダストと
してダスト排出装置７より乾燥状態で回収する。
スの中和する吸収装置として本装置を使用することがで
き、その場合は中和剤のスラリ液を制御弁１０で冷却液
ラインに連結してノズル４より噴霧して高温ガスを吸収
処理し、これによって生成された反応生成物はダストと
してダスト排出装置７より乾燥状態で回収する。
平行流噴射の方法に於て上部の第１段の移動粒状物層を
設けず垂直コンベヤより下部の第２移動粒状物層に直接
粒状物を流下させる方法でも充分効果が得られる。
設けず垂直コンベヤより下部の第２移動粒状物層に直接
粒状物を流下させる方法でも充分効果が得られる。
第１図は本願考案のガス冷却装置のｌ実施例の垂直断面
図、第２図はその他の実施例の垂直断面図である。 尚、図中の主要部の符号は次の通りである。 １・・・・・・ガス導入ダクト、２・・・・・・ケーシ
ング、３・・・・・・排気ダクト、４・・・・・・ノズ
ル、５・・・・・・ポンプ、６・・・・・・ホッパ一部
、７・・・・・・ダスト排出装置、８・・・・・・粒状
物の移動層、９・・・・・・垂直コンベヤ、１０・・・
・・・制御弁、１１・・・・・・温度検出装置、１２・
・・・・・制御弁。
図、第２図はその他の実施例の垂直断面図である。 尚、図中の主要部の符号は次の通りである。 １・・・・・・ガス導入ダクト、２・・・・・・ケーシ
ング、３・・・・・・排気ダクト、４・・・・・・ノズ
ル、５・・・・・・ポンプ、６・・・・・・ホッパ一部
、７・・・・・・ダスト排出装置、８・・・・・・粒状
物の移動層、９・・・・・・垂直コンベヤ、１０・・・
・・・制御弁、１１・・・・・・温度検出装置、１２・
・・・・・制御弁。
Claims (1)
- 高温ガス流に冷却水又は中和剤を含むスラリー等の冷却
媒体を噴霧して、これを冷却する装置に於て比熱の大き
な粒状物質の移動層を装置内に設けて、粒状物の保有熱
により冷却媒体を完全に蒸発させることにより装置の底
部を完全なる乾燥状態にすることを特徴とするガス冷却
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9088579U JPS5851933Y2 (ja) | 1979-07-03 | 1979-07-03 | ガス冷却装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9088579U JPS5851933Y2 (ja) | 1979-07-03 | 1979-07-03 | ガス冷却装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5610922U JPS5610922U (ja) | 1981-01-30 |
| JPS5851933Y2 true JPS5851933Y2 (ja) | 1983-11-26 |
Family
ID=29323979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9088579U Expired JPS5851933Y2 (ja) | 1979-07-03 | 1979-07-03 | ガス冷却装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5851933Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5994166U (ja) * | 1982-12-16 | 1984-06-26 | 三菱重工業株式会社 | 燃料噴射ポンプ |
-
1979
- 1979-07-03 JP JP9088579U patent/JPS5851933Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5610922U (ja) | 1981-01-30 |
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