JPS5850618A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
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- JPS5850618A JPS5850618A JP14733781A JP14733781A JPS5850618A JP S5850618 A JPS5850618 A JP S5850618A JP 14733781 A JP14733781 A JP 14733781A JP 14733781 A JP14733781 A JP 14733781A JP S5850618 A JPS5850618 A JP S5850618A
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- Japan
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- thin film
- film magnetic
- magnetic
- cores
- conductor
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- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 10
- 238000004804 winding Methods 0.000 abstract description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3116—Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、薄膜磁気ヘッドの改良に係わる。
第１図乃至菖３図は、代表的な多チャンネルの薄膜磁気
ヘッドを示すものであり、共通の下部磁性基板（１）上
に絶縁膜（２）な介して複数の巻線導体（３）を形成し
、各導体（３）上に夫々絶縁Ｊｉｉ（４）な介して下部
磁性基板（１）と共に巻線導体（３）な囲んで磁気回路
を構成する上部薄膜磁気コア（５）を形成して構成され
る。（６）は各作動ギャップｇの形成されたヘッド第２
図（３８１図のＡ−ＡＩＩＲ面）及び第３図（第１図の
Ｂ−Ｂ［面）で示すように、薄膜磁気コア（５）の４部
、屑謂エッヂ鄭（７）が角形ななして形成されるために
、このエッヂ５（７）に磁界が集中し、薄膜磁気コア（
５）が磁気飽和し易くなる。薄膜磁気コア（５）が磁気
飽和すると、漏れ磁束が多くなり、隣接。
ヘッドを示すものであり、共通の下部磁性基板（１）上
に絶縁膜（２）な介して複数の巻線導体（３）を形成し
、各導体（３）上に夫々絶縁Ｊｉｉ（４）な介して下部
磁性基板（１）と共に巻線導体（３）な囲んで磁気回路
を構成する上部薄膜磁気コア（５）を形成して構成され
る。（６）は各作動ギャップｇの形成されたヘッド第２
図（３８１図のＡ−ＡＩＩＲ面）及び第３図（第１図の
Ｂ−Ｂ［面）で示すように、薄膜磁気コア（５）の４部
、屑謂エッヂ鄭（７）が角形ななして形成されるために
、このエッヂ５（７）に磁界が集中し、薄膜磁気コア（
５）が磁気飽和し易くなる。薄膜磁気コア（５）が磁気
飽和すると、漏れ磁束が多くなり、隣接。
チャンネル間のクロストークが増し、これは薄Ｍａｌ気
ヘッドの多チャンネル化の妨げとなる。
ヘッドの多チャンネル化の妨げとなる。
本発明は、上述の点に鑑み、隣接チャンネル間のクロス
トークを低減し、多チャンネル化な可能ならしめた薄層
磁気ヘッドな提供するものである。
トークを低減し、多チャンネル化な可能ならしめた薄層
磁気ヘッドな提供するものである。
以下、第４図乃至第６図な用いて本発明による薄膜磁気
ヘッドについて説明する。尚、同図において１８１図乃
至＠３図と対応する部分には同一符号２が付す。
ヘッドについて説明する。尚、同図において１８１図乃
至＠３図と対応する部分には同一符号２が付す。
本発明においては、共通の下部磁性基板（１，）上に５
ｉＯｚ等の絶縁膜（２）す介して蒸着スパッタリング等
による複数の巻線導体（３）Ｉｋ′一方向に所定間隔を
置いて配列形成し、各導体（３）上に夫々Ｓ ｉＯ＊等
の絶縁１［１４１に介して磁性基板（１）と共に導体（
３）な竹こんで磁気回路を構成する上部薄膜磁気コア（
５）な蒸着、スパッタリング等により形成し、各作動ギ
ャップｇｌｋ有する複数のヘッド素子（６）す形成し【
成る薄膜磁気ヘッドにおいて、その薄膜磁気コア（５）
のＪｍｌ、所謂エッヂ部を曲面（８）で構成する。この
とき、エッヂ部の曲率半径Ｒは薄膜磁気コア（５）の膜
厚をＬとすると、）≦Ｒ≦８Ｌの範囲に遺ぷな可とする
。また、上部に薄膜磁気コア（５）が設けられる部分の
導体（３）もエッヂ部は曲面で形成する。
ｉＯｚ等の絶縁膜（２）す介して蒸着スパッタリング等
による複数の巻線導体（３）Ｉｋ′一方向に所定間隔を
置いて配列形成し、各導体（３）上に夫々Ｓ ｉＯ＊等
の絶縁１［１４１に介して磁性基板（１）と共に導体（
３）な竹こんで磁気回路を構成する上部薄膜磁気コア（
５）な蒸着、スパッタリング等により形成し、各作動ギ
ャップｇｌｋ有する複数のヘッド素子（６）す形成し【
成る薄膜磁気ヘッドにおいて、その薄膜磁気コア（５）
のＪｍｌ、所謂エッヂ部を曲面（８）で構成する。この
とき、エッヂ部の曲率半径Ｒは薄膜磁気コア（５）の膜
厚をＬとすると、）≦Ｒ≦８Ｌの範囲に遺ぷな可とする
。また、上部に薄膜磁気コア（５）が設けられる部分の
導体（３）もエッヂ部は曲面で形成する。
第７図はかかるエッヂ部の曲面加工法の８ｊＩｌす示す
。本例では、先づ第７図人に示すように例えばＭｎ −
Ｚｎフェライトの磁性基板（１）上にＳ ｉＯｚ膜（２
）を介して金属層（３つを蒸着して後、この上に巻線。
。本例では、先づ第７図人に示すように例えばＭｎ −
Ｚｎフェライトの磁性基板（１）上にＳ ｉＯｚ膜（２
）を介して金属層（３つを蒸着して後、この上に巻線。
導体（３）と同じパターンのホトレジスト層（９）を被
着形成する。次に、ｗＸ７図Ｂに示すように、このホト
レジスト層（９）＆１６０℃〜１７０℃で熱処理すると
変形してそのエッヂ部翰が、、丸くなる。この熱処理の
前に紫外線を照射すると変形の度合が強くなる。
着形成する。次に、ｗＸ７図Ｂに示すように、このホト
レジスト層（９）＆１６０℃〜１７０℃で熱処理すると
変形してそのエッヂ部翰が、、丸くなる。この熱処理の
前に紫外線を照射すると変形の度合が強くなる。
次に、このホトレジスト層（９）をマスクとして金属ｍ
＜ｓ’＞１ｋｈｒイオンエツチング、Ａｒスノくツタエ
ツチング等の手段な用いて選択エツチングし、これによ
って、エッチ部が曲面となされた巻線導体（３）な形成
する。次に、ｓ ｉｏ２ ｊｌｌ ｆ４） ｋ介して導
体（３）上を含／、でパーマロイを例えばスパッタリン
グにより被着して後、上述と回様に一ホトレジストを塗
布し、薄膜磁性コアと１りじパターンに膓光し、現像し
て後、熱処理してそのホトレジストマスクのエッヂ部を
丸め、次でＡ「イオンエツチングあるいはＡｒスパッタ
リング等によってパーマロイを選択エツチングしてエッ
チ部が曲面（８）となされた薄膜磁気コア（５）を形成
する。なお、ホトレジスト層に代えて８１０２等のマス
ク材も考えられる。
＜ｓ’＞１ｋｈｒイオンエツチング、Ａｒスノくツタエ
ツチング等の手段な用いて選択エツチングし、これによ
って、エッチ部が曲面となされた巻線導体（３）な形成
する。次に、ｓ ｉｏ２ ｊｌｌ ｆ４） ｋ介して導
体（３）上を含／、でパーマロイを例えばスパッタリン
グにより被着して後、上述と回様に一ホトレジストを塗
布し、薄膜磁性コアと１りじパターンに膓光し、現像し
て後、熱処理してそのホトレジストマスクのエッヂ部を
丸め、次でＡ「イオンエツチングあるいはＡｒスパッタ
リング等によってパーマロイを選択エツチングしてエッ
チ部が曲面（８）となされた薄膜磁気コア（５）を形成
する。なお、ホトレジスト層に代えて８１０２等のマス
ク材も考えられる。
上述せる構成にょｎば、薄ｊｉｌｉ！気コア（５）のエ
ッヂ部な曲面（８）とすることにより、この部分での磁
界の集中が一相され、薄膜磁気コア（５）の磁気飽和が
生じにくくなり、隣猛チャンネル間のクロストークが減
少し、多チヤンネル比が促進される。因みに、最大テー
パエッチ／グ角６０’、パーマＯイによる薄膜磁気コア
（５）の膜厚１ｏ■、曲率半径Ｒ≦２０ ｐｍとした曲
面加工を施した薄膜磁気ヘッドを作成したところ、曲面
加工しない薄膜磁気ヘッドに比べて２ ｄＢのクロスト
ーク改善が見られた。また、巻線導体（３）のエッヂ部
分を曲面にすることにより、薄膜磁気コアの膜厚分布が
良くなり、曲面加工しない場合に見られるような段差部
での飽和が起りにくくなり、より薄膜磁気コアの飽和に
よるクロストークが減少する。
ッヂ部な曲面（８）とすることにより、この部分での磁
界の集中が一相され、薄膜磁気コア（５）の磁気飽和が
生じにくくなり、隣猛チャンネル間のクロストークが減
少し、多チヤンネル比が促進される。因みに、最大テー
パエッチ／グ角６０’、パーマＯイによる薄膜磁気コア
（５）の膜厚１ｏ■、曲率半径Ｒ≦２０ ｐｍとした曲
面加工を施した薄膜磁気ヘッドを作成したところ、曲面
加工しない薄膜磁気ヘッドに比べて２ ｄＢのクロスト
ーク改善が見られた。また、巻線導体（３）のエッヂ部
分を曲面にすることにより、薄膜磁気コアの膜厚分布が
良くなり、曲面加工しない場合に見られるような段差部
での飽和が起りにくくなり、より薄膜磁気コアの飽和に
よるクロストークが減少する。
第８図はエッヂ部の曲率半径Ｒとクロストーク改善量と
の関係を示す特性曲−図である。同一から、タロストー
クの改善効果は曲率半径Ｒの増大と共に大きくなる１＠
向がある。しがし、Ｒ）８Ｌでは巻線導体（３）の断面
積が小さくなり過ぎて発熱が無視できなくなる。またコ
アに関してはトラックピッチが大きくなり好ましくな一
″・。一方Ｒ＜許ではクロストーク改善蓋が１ ｄＢ以
下となり十分な効果が期待できない。従って曲率半径Ｒ
を上記のμくＲ≦８Ｌの範８に選ぶととＫより実用上申
− 分なりロストークの改善効果が得られるものである。
の関係を示す特性曲−図である。同一から、タロストー
クの改善効果は曲率半径Ｒの増大と共に大きくなる１＠
向がある。しがし、Ｒ）８Ｌでは巻線導体（３）の断面
積が小さくなり過ぎて発熱が無視できなくなる。またコ
アに関してはトラックピッチが大きくなり好ましくな一
″・。一方Ｒ＜許ではクロストーク改善蓋が１ ｄＢ以
下となり十分な効果が期待できない。従って曲率半径Ｒ
を上記のμくＲ≦８Ｌの範８に選ぶととＫより実用上申
− 分なりロストークの改善効果が得られるものである。
第１図は代表的な薄膜磁気ヘッドの平面図、第２図及び
第３図は夫々そのＡ−Ａ、ｉＢｉ上の断面図及びＢ−Ｂ
、ｉｉ上の断面図、第４Ｖは本発明の薄膜磁気ヘッドの
平面図、第５図及び縞６図はそのＣ−Ｃ１ＩＩｉ１上の
断面図及びＤ−Ｄ線上の断面図、第７図人 −Ｄは本発
明の表法例を示す工程図、ｇ８図は不発明の説明に供す
る１￥牛住Ｒとクロストーク改善ｉｔ （ｄＢ）の関係
を示す特性曲線図である。 （１）は磁性基板、（２） （４）は絶縁膜、（３）は
巻−導体、（５）は薄膜磁気コアである。 第１図 １ 第４図 第５図 第６図 第８図 ＊十１−怪（Ｒ）
第３図は夫々そのＡ−Ａ、ｉＢｉ上の断面図及びＢ−Ｂ
、ｉｉ上の断面図、第４Ｖは本発明の薄膜磁気ヘッドの
平面図、第５図及び縞６図はそのＣ−Ｃ１ＩＩｉ１上の
断面図及びＤ−Ｄ線上の断面図、第７図人 −Ｄは本発
明の表法例を示す工程図、ｇ８図は不発明の説明に供す
る１￥牛住Ｒとクロストーク改善ｉｔ （ｄＢ）の関係
を示す特性曲線図である。 （１）は磁性基板、（２） （４）は絶縁膜、（３）は
巻−導体、（５）は薄膜磁気コアである。 第１図 １ 第４図 第５図 第６図 第８図 ＊十１−怪（Ｒ）
Claims (1)
- 磁性基板と、該磁性基板から絶縁されて配された導体と
、該導体上に導体から絶縁されて配され上記磁性基板と
共に導体なかこむ磁気回路を構成する磁性材料からなる
薄膜磁気コアとより成る薄膜磁気ヘッドにおいて、上記
薄膜磁気コア端部を曲面で構成したことを特徴とする薄
展轍気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14733781A JPS5850618A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14733781A JPS5850618A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5850618A true JPS5850618A (ja) | 1983-03-25 |
Family
ID=15427891
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14733781A Pending JPS5850618A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5850618A (ja) |
-
1981
- 1981-09-18 JP JP14733781A patent/JPS5850618A/ja active Pending
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