JPS5849635B2 - 真空シ−ル装置及び設備 - Google Patents

真空シ−ル装置及び設備

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JPS5849635B2
JPS5849635B2 JP1943579A JP1943579A JPS5849635B2 JP S5849635 B2 JPS5849635 B2 JP S5849635B2 JP 1943579 A JP1943579 A JP 1943579A JP 1943579 A JP1943579 A JP 1943579A JP S5849635 B2 JPS5849635 B2 JP S5849635B2
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JP
Japan
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roll
vacuum
strip
cover
vacuum sealing
Prior art date
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Expired
Application number
JP1943579A
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English (en)
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JPS55113875A (en
Inventor
昭 加藤
平三郎 古川
寿三郎 今村
大蔵 山崎
誠治 西川
義清 中川
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5849635B2 publication Critical patent/JPS5849635B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J3/00Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
    • B01J3/03Pressure vessels, or vacuum vessels, having closure members or seals specially adapted therefor
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16JPISTONS; CYLINDERS; SEALINGS
    • F16J15/00Sealings
    • F16J15/16Sealings between relatively-moving surfaces
    • F16J15/168Sealings between relatively-moving surfaces which permits material to be continuously conveyed

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Mechanical Engineering (AREA)
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  • Sealing Using Fluids, Sealing Without Contact, And Removal Of Oil (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は帯鋼のメッキ処理や清浄処理を行なう真空室の
帯鋼出入口部に設置する真空シール装置及び設備Iこ関
する。
従来、このような液体等を使用しない機械的真空シール
装置や設備として、第1,2図に示したような、真空室
の帯鋼出入口部に、帯鋼1を直行状に挾持通過させる一
対のロール2を配置し、このロール部にロール形状に添
って隙MB,Cが微少となるようlこ被包したカバー3
b,3cを装着し、このロールとカバーによって帯鋼搬
出人に伴なう気体流入量を微少6こした真空シール装置
や、第3図に示したような、真空室10の帯鋼出入口部
に、第1、第2図の真空シール装置を多数配置し、この
真空シール装置間に予備室8aを設置し、この真空シー
ル装置と予備室によって帯鋼搬出人に伴なう気体流入量
を微少6こした真空シール設備が知られている。
ところが、この第1,2図6こ示した真空シール装置は
気体の最短通路となる帯鋼端部隙間Aやロール側面隙間
CのA近傍部分が近似的にOの通路長さを持つノズル状
となるので、通気抵抗が小さく、気体が真空室へ流入し
易い欠点がある。
また、このため第3図に示したように予備室を多数配置
しなければ高真空を得ることができない。
本発明はこのような従来装置の欠点を排除するためIこ
なされたものであり、真空室の帯鋼出入口部に、帯鋼を
挾持してS字状に巻架通過させる一対のロールを配置し
、該ロール部全体lこ該ロール形状に添って隙間が微少
となるように被包したカバーを装備し、該ロールと該カ
バーCこよって帯鋼搬出人に伴なう気体流入量を微少に
したことを特徴とした真空シール装置、及び真空室の帯
鋼出入口部に、帯鋼を挾持してS字状に巻架通過させる
一対のロールを配置し、該ロール部全体に該ロール形状
に添って隙間が微少となるように被包したカバーを装着
し、該ロールと該カバーCこよって帯鋼搬出人に伴なう
気体流入量を微少にした真空シール装置を2つ以上配置
し、該真空シール装置間に排気ポンプを装備した予備真
空室を設置し、該真空シール装置と該予備真空室によっ
て帯鋼搬出人に伴なう気体流入量を微少にしたことを特
徴とした真空シール設備である。
すなわち、この第4,5図に示した真空シール装置は帯
鋼端部隙間Aと帯鋼表面及びロール表面隙間Bが約ロー
ル半円周×2の最短通路長さとなり、ロール側面隙間C
が約ロール直径×2の最短通路長さとなるので、通気抵
抗が大きく、気体が真空室へ流入しにくい長所がある。
また、第6図に示したように予備室を予備真空室とした
ことにより、小数の予備真空室で高真空を得ることが可
能である。
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例 1 第4,5図に真空シール装置を示す。
2つの口−ル2の軸4は軸受5で支持され、オイルシー
ルや0−IJングなどの軸シール6でカバー3cと結合
している。
カバーは帯鋼表面カバー3a、ロール表面カバー3b、
ロール側面カバー3cに分割でき、これらは各々帯鋼表
面、ロール表面、ロール側面との隙間が数朋となるよう
に装着され、相互にO−リングやパッキンなどでシール
して組み立てられる。
帯鋼1は、ロール2をS字状に巻架通過して真空室に入
る。
気体は、帯鋼端部隙間Aと帯鋼表面及びロール表而隙間
Bが約ロール半円周×2の最短通路長さとなり、ロール
側面隙間Cが約ロール直径×2の最短通路長さとなるの
で,各通路の通気抵抗が大きく真空室に流入しにくい。
実施例 2 第6図に真空シール設備を示す。
実施例1の真空シール装置を直列に数個配置し、これら
の真空シール装置間に排気ポンプ9を装備した予備真空
室8bを設置し、さらに真空ポンプ11を装備した真空
室10を設置している。
帯鋼1は実施例1の真空シール装置と予備真空室8bを
交互に通過して真空室10に入る。
予備真空室8bは順次に高真空となり真空室10で所定
の真空度を得ることが可能である。
実施例 3 実施例1の真空シール装置を6個、予備真空室を5個配
置した実施例3の真空シール設備を使用して、各予備真
空室及び真空室の真空度を測定した。
帯鋼の板厚は0.3〜L2mm、帯鋼の板巾は600〜
1300皿、帯鋼の通板速度は150mlmm、帯鋼の
温度は250℃、ロールの直径は720mm、ロールの
巾は1500mm、帯鋼巻架側のロール表面隙間は2〜
3朋、ロール表面隙間は15mm、ロール側面隙間は1
.5朋である。
以上の条件で測定した結果、大気中は780Torr、
真空予備室は各々真空室に向かって順次に40Torr
,1 0−1Torr,1 0−2Torr,10−3
Torr, 10”−’Torr,真空室は10−4T
o r rであった。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の、第4図は本発明の真空シール装置の断
面図である。 また、第2図は第1図のX−X断面図、第5図は第4図
のY−Y断面図、である。 さらに、第3図は従来の、第6図は本発明の真空シール
設備の概略配置断面図である。 1・・・帯鋼、2・・・ロール,3a・・・帯鋼表面カ
バー3b・・・ロール表同カバー、3c・・・ロールI
Utllハ、4・・・軸、5・・・軸受、6・・・軸シ
ール、7・・・7L/ーム、8a・・・予備室、8b・
・・予備真空室、9・・・排気ポンプ、10・・・真空
室、11・・・真空ポンプ、A・・・帯鋼端部隙間、B
・・・帯鋼及びロール表面隙間、C・・・ロール側面隙
間。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 真空室の帯鋼出入口部Iこ、帯鋼を挾持してS字状
    に巻架通過させる一対のロールを配置し、該ロール部全
    体に該ロール形状に添って隙間が微少となるように被包
    したカバーを装着し、該ロールと該カバーlこよって帯
    鋼搬出人に伴なう気体流入量を微少にしたことを特徴と
    した真空シール装置。 2 真空室の帯鋼出入口部に、帯鋼を挾持してS字状(
    こ巻架通過させる一対のロールを配置し、該ロール部全
    体に該ロール形状に添って隙間が微少となるように被包
    したカバーを装着し、該ロールと該カバーIこよって帯
    鋼搬出人に伴なう気体流入量を微少lこした真空シール
    装置を2つ以上配置し、該真空シール装置間に排気ポン
    プを装備した予備真空室を設置し、該真空シール装置と
    該予備真空室によって帯鋼搬出人に伴なう気体流入量を
    微少にしたことを特徴とした真空シール設備。
JP1943579A 1979-02-21 1979-02-21 真空シ−ル装置及び設備 Expired JPS5849635B2 (ja)

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JPS55113875A JPS55113875A (en) 1980-09-02
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JPH02258049A (ja) * 1989-09-08 1990-10-18 Shin Etsu Chem Co Ltd 真空処理装置用シール装置

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