JPS5849400A - 新規アンドロスタン誘導体 - Google Patents
新規アンドロスタン誘導体Info
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- JPS5849400A JPS5849400A JP57129742A JP12974282A JPS5849400A JP S5849400 A JPS5849400 A JP S5849400A JP 57129742 A JP57129742 A JP 57129742A JP 12974282 A JP12974282 A JP 12974282A JP S5849400 A JPS5849400 A JP S5849400A
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- Japan
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- hydroxy
- methyl
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J21/00—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen having an oxygen-containing hetero ring spiro-condensed with the cyclopenta(a)hydrophenanthrene skeleton
- C07J21/005—Ketals
- C07J21/006—Ketals at position 3
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P17/00—Drugs for dermatological disorders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J1/00—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen, not substituted in position 17 beta by a carbon atom, e.g. estrane, androstane
- C07J1/0003—Androstane derivatives
- C07J1/0033—Androstane derivatives substituted in position 17 alfa and 17 beta
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J53/00—Steroids in which the cyclopenta(a)hydrophenanthrene skeleton has been modified by condensation with a carbocyclic rings or by formation of an additional ring by means of a direct link between two ring carbon atoms, including carboxyclic rings fused to the cyclopenta(a)hydrophenanthrene skeleton are included in this class
- C07J53/002—Carbocyclic rings fused
- C07J53/004—3 membered carbocyclic rings
- C07J53/005—3 membered carbocyclic rings in position 12
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J53/00—Steroids in which the cyclopenta(a)hydrophenanthrene skeleton has been modified by condensation with a carbocyclic rings or by formation of an additional ring by means of a direct link between two ring carbon atoms, including carboxyclic rings fused to the cyclopenta(a)hydrophenanthrene skeleton are included in this class
- C07J53/002—Carbocyclic rings fused
- C07J53/004—3 membered carbocyclic rings
- C07J53/008—3 membered carbocyclic rings in position 15/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J71/00—Steroids in which the cyclopenta(a)hydrophenanthrene skeleton is condensed with a heterocyclic ring
- C07J71/0005—Oxygen-containing hetero ring
- C07J71/001—Oxiranes
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、特許請求の範囲に記載のアントロスタン−誘
導体、その製法及びその1種又は2種を含有する皮脂抑
制剤に関する。
導体、その製法及びその1種又は2種を含有する皮脂抑
制剤に関する。
特許請求の範囲第1項に記載の一般式Iの本発1111
によるアントロスタン−誘導体は、置換分&として水3
1111[子又は炭素原子数1〜8の直鎖又は分枝鎖の
アルキル基を有していてよい、好適なアルキル基馬は1
例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、インプロe
ル基、ブチル基。
によるアントロスタン−誘導体は、置換分&として水3
1111[子又は炭素原子数1〜8の直鎖又は分枝鎖の
アルキル基を有していてよい、好適なアルキル基馬は1
例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、インプロe
ル基、ブチル基。
イソブチル基、t−ブチル基、フェニル基、ヘキシル基
又はオクチル基fToる。
又はオクチル基fToる。
特許請求の範囲第1項の一般式lのアントロスタン−誘
導体(但し、主として中間体である一般式Vの化合物を
除く)は0局所適用時に。
導体(但し、主として中間体である一般式Vの化合物を
除く)は0局所適用時に。
意想外に優れた皮脂抑制作用を示す◎系統的適用の際に
、これら化合物は、内分泌副作用を示さない。エストロ
ゲン、抗エストロゲン、アンドロゲン、抗アンドロゲン
及びゲスタゲン作用に関するすべての試験t、これらは
無効であった・ 皮脂抑制作用は、ハムスターの皮脂腺の影譬に対する試
験により測定した。一般式■の化合物は、ハムスター耳
の皮脂腺の脂質合成を抑制し、皮脂腺の領域及び側腹組
織を小さくする6局所適用のために1本発明の化合物は
、慣用の担体物質と共に溶液、ゲル、軟膏、粉剤又は他
の製剤に加工することが1きる。好適な担体s質はn、
tは水、エタノール、プロパツール。
、これら化合物は、内分泌副作用を示さない。エストロ
ゲン、抗エストロゲン、アンドロゲン、抗アンドロゲン
及びゲスタゲン作用に関するすべての試験t、これらは
無効であった・ 皮脂抑制作用は、ハムスターの皮脂腺の影譬に対する試
験により測定した。一般式■の化合物は、ハムスター耳
の皮脂腺の脂質合成を抑制し、皮脂腺の領域及び側腹組
織を小さくする6局所適用のために1本発明の化合物は
、慣用の担体物質と共に溶液、ゲル、軟膏、粉剤又は他
の製剤に加工することが1きる。好適な担体s質はn、
tは水、エタノール、プロパツール。
グリセリン、メチルセルロース、ヒドロキ7プロビルセ
ルロース、カル−キシポリメチレン等1ある。皮脂抑制
剤は有利に製剤全霊量に対して0.05〜5.0重量−
の濃度〒存在するのが有利″1%ある。これら製剤は、
にきび及び脂漏症などの疾病の局所治療のために使用す
ることができる。
ルロース、カル−キシポリメチレン等1ある。皮脂抑制
剤は有利に製剤全霊量に対して0.05〜5.0重量−
の濃度〒存在するのが有利″1%ある。これら製剤は、
にきび及び脂漏症などの疾病の局所治療のために使用す
ることができる。
新規のアントロスタン−誘導体は一特許請求の範囲第4
8項〜第53項に記載の方法で製造することが1き、こ
れらは、轟業者に公知の条件下に実施することがfきる
。
8項〜第53項に記載の方法で製造することが1き、こ
れらは、轟業者に公知の条件下に実施することがfきる
。
例えば、特許請求の範囲第48項に記載の方法は、一般
式■のアントロスタン−誘導体を。
式■のアントロスタン−誘導体を。
塩基例えば炭酸カリウム、ピリジン又はコリジンの存在
マ、酸クロリド又は酸無水物fエステル化する方法f実
施することが1きる。他方。
マ、酸クロリド又は酸無水物fエステル化する方法f実
施することが1きる。他方。
この化合物を、エステル化触媒例えばカル−ニルジイミ
ダゾール、ジシクロへキシルカル−ジイミド又は無水ト
リフルオル酢酸の存在下に遊離ll〒エステル化するこ
と亀できる。
ダゾール、ジシクロへキシルカル−ジイミド又は無水ト
リフルオル酢酸の存在下に遊離ll〒エステル化するこ
と亀できる。
%齢請求の範囲第49項記載の方法を実施する九めに、
一般式■のアントロスタン誘導体を。
一般式■のアントロスタン誘導体を。
遣轟な溶剤例えば゛ジオキサン、テトラヒドロ7ラン又
はグリコールジメチルエーテルの存在下に、水含有カル
−ン酸例えば酢酸又は鉱酸水を用イて加水公簿すること
ができる豐 特許請求の範囲第50項に記載の方法を実施するために
、一般式■のアントロスタン−誘導体に、不活性溶剤例
えばエタノール、インプロパツール、酢酸エチル、テト
ラヒドロ7ラン。
はグリコールジメチルエーテルの存在下に、水含有カル
−ン酸例えば酢酸又は鉱酸水を用イて加水公簿すること
ができる豐 特許請求の範囲第50項に記載の方法を実施するために
、一般式■のアントロスタン−誘導体に、不活性溶剤例
えばエタノール、インプロパツール、酢酸エチル、テト
ラヒドロ7ラン。
ジオキサン、ペンゾール、ドルオール等中で。
白金−又はノ#ラジウム触媒例えば酸化白金触媒。
/#ラジウムー活性炭触媒又はリンドラ−触媒〔Lin
dlar−Katalysator : L、F、F
ieser及びM 、 Fleser。
dlar−Katalysator : L、F、F
ieser及びM 、 Fleser。
Reagents for organic 5ynt
hesis ; John Wiley& 8ons、
Inc、 Navr Yorket、e、 (196
7年)566頁参照〕の存在1.水素添加する。
hesis ; John Wiley& 8ons、
Inc、 Navr Yorket、e、 (196
7年)566頁参照〕の存在1.水素添加する。
特許請求の範囲第51項記載の方法を夾施すルタめに1
通例3−ヒドロキシステロイトノ酸化のために使用され
る酸化、剤を用いることがf龜る・適蟲な酸化剤は例え
ば氷酢酸中のクロム酸、氷酢酸中のクロム酸ナトリウム
又はジクaム酸ナトリウムマあるか又は、同時に5,6
−二重結合t−4,5−二重1合に異性化すべき場合に
は1例えばシクロヘキサン又はアセトン中のイソプロピ
ル酸アルミニウム″T!する。
通例3−ヒドロキシステロイトノ酸化のために使用され
る酸化、剤を用いることがf龜る・適蟲な酸化剤は例え
ば氷酢酸中のクロム酸、氷酢酸中のクロム酸ナトリウム
又はジクaム酸ナトリウムマあるか又は、同時に5,6
−二重結合t−4,5−二重1合に異性化すべき場合に
は1例えばシクロヘキサン又はアセトン中のイソプロピ
ル酸アルミニウム″T!する。
特許請求の範囲第52項記載の方法を実施するためKは
、一般式■のアントロスタン誘導体に鉱酸を反応させる
。この反応のために塩蒙を使用すると、一般式Iの養−
クロル誘導体が生じ、他の酸例えば稀硫酸又は稀過塩素
酸を使用すると、有利に一般式IO養−ヒドロキシ化合
物が生じる。
、一般式■のアントロスタン誘導体に鉱酸を反応させる
。この反応のために塩蒙を使用すると、一般式Iの養−
クロル誘導体が生じ、他の酸例えば稀硫酸又は稀過塩素
酸を使用すると、有利に一般式IO養−ヒドロキシ化合
物が生じる。
一般式■のアントロスタン誘導体中に二重結合を導入す
るために1例えば、C,ジメチル(Dj erassl
)のステロイド・リアクシ胃ンズ(Steroid
Reactiona、Ho1dsn Day Inc
、、 1hnFrancisco (1963年))2
27〜266頁に記載のような方法を使用することがで
きる。
るために1例えば、C,ジメチル(Dj erassl
)のステロイド・リアクシ胃ンズ(Steroid
Reactiona、Ho1dsn Day Inc
、、 1hnFrancisco (1963年))2
27〜266頁に記載のような方法を使用することがで
きる。
本発明方法の出発化合物は公知1あるか又は。
後の実施例に記載のように、公知方法1製造することが
!きる。
!きる。
岡l
A、ペンゾール1250d中の17β−ヒドロキシ−1
αメチル−4−アンドロステン−3−4y30POII
液にエチレングリコール3401及びp−)ルオールス
ルホン酸1.7)t′加え1反応時に生じる水を15分
がかって共沸蒸溜除去する。反応混合物の冷却後に。
αメチル−4−アンドロステン−3−4y30POII
液にエチレングリコール3401及びp−)ルオールス
ルホン酸1.7)t′加え1反応時に生じる水を15分
がかって共沸蒸溜除去する。反応混合物の冷却後に。
これにピリジン5Qa/を加え、水1洗浄し。
硫酸す)IJウム上ママ乾燥せ、真空中’?II縮する
□残分をシリカゲルのクロマトグラフィにかける。ヘキ
サン−酢酸エテル−勾配溶液(酢酸エチル43〜65%
)を用いて、3゜3−エチレンジオキシ−1α−メチル
−5−アンドロステン−17β−オール20.7)f:
溶離させる。
□残分をシリカゲルのクロマトグラフィにかける。ヘキ
サン−酢酸エテル−勾配溶液(酢酸エチル43〜65%
)を用いて、3゜3−エチレンジオキシ−1α−メチル
−5−アンドロステン−17β−オール20.7)f:
溶離させる。
”3t3−エチレンジオキシ−1α−メチル−5−アン
ドロステン−17β−オール20.71をジクロをメタ
ン47od中に溶かす。
ドロステン−17β−オール20.71をジクロをメタ
ン47od中に溶かす。
溶液にジクロム駿ピリジニウム20.77を加え、室温
′?15時間攪拌し、引続き水1洗浄し、乾燥させ、真
空中で蒸発濃縮させる。残分をシリカゲルのクロマトグ
ラフィKかけ。
′?15時間攪拌し、引続き水1洗浄し、乾燥させ、真
空中で蒸発濃縮させる。残分をシリカゲルのクロマトグ
ラフィKかけ。
ヘキサン−酢酸ニブル−勾配溶液(酢酸エチル16〜2
5 % ) チー 3 e 3− 工f v y I
#キシー1α−メチルー5−アンドロステン−7−オン
14.2sLを溶離させる。
5 % ) チー 3 e 3− 工f v y I
#キシー1α−メチルー5−アンドロステン−7−オン
14.2sLを溶離させる。
C1無水テトラヒドロフラン76−中の3゜3−エチレ
ンジオキシ−1α−メチル−5−アンドロステン−17
−オン7.6?の溶液に。
ンジオキシ−1α−メチル−5−アンドロステン−17
−オン7.6?の溶液に。
アルビン気中で、カリウムエチレー)12.6?の添加
の後に、テトラヒドロフラン7.6d中に溶カL、タフ
ロノ臂ルイルアルコール7.6 mを25分かかつて滴
加する。反応混合物をその後、なお3時間庫温1攪拌し
、水冷下K。
の後に、テトラヒドロフラン7.6d中に溶カL、タフ
ロノ臂ルイルアルコール7.6 mを25分かかつて滴
加する。反応混合物をその後、なお3時間庫温1攪拌し
、水冷下K。
濃酢酸9.8dを加え、真空下に充分に濃縮する。残分
に水を加え、酢酸エチル!抽出し。
に水を加え、酢酸エチル!抽出し。
抽出物を水1洗浄し、乾燥させ、真空中1蒸発濃縮させ
る・粗生成物をアセトン−ジクロルメタン勾配溶液を用
い、シリカゲルのクロマトグラフィKかける。アセトン
21〜28−を用いて、3.3−エチレンジオキシ−1
7α−(3−ヒドロキシ−1−プロピオニル)−1α−
メチル−5−アンドロステン−17β−オール6.0t
を溶離させる。アセトン−ジイソプロピルエーテルから
再結晶させた試料は207℃で融解する。〔α]” −
−84゜(c−0,5クロロホルム中)。
る・粗生成物をアセトン−ジクロルメタン勾配溶液を用
い、シリカゲルのクロマトグラフィKかける。アセトン
21〜28−を用いて、3.3−エチレンジオキシ−1
7α−(3−ヒドロキシ−1−プロピオニル)−1α−
メチル−5−アンドロステン−17β−オール6.0t
を溶離させる。アセトン−ジイソプロピルエーテルから
再結晶させた試料は207℃で融解する。〔α]” −
−84゜(c−0,5クロロホルム中)。
D、3.3−エチレンジオキシ−17α−(3−ヒドロ
キシ−1−プロピオニル)−1α−メチル−5−アンド
ロステン−17β−オール19.5Pをテトラヒドロ7
ランloomとイソプロピルアルコール140mとから
の混合物中に溶かし、パラジウム−炭酸カルシウム−触
媒900■の添加の後に水素添加する。
キシ−1−プロピオニル)−1α−メチル−5−アンド
ロステン−17β−オール19.5Pをテトラヒドロ7
ランloomとイソプロピルアルコール140mとから
の混合物中に溶かし、パラジウム−炭酸カルシウム−触
媒900■の添加の後に水素添加する。
100分後K1l Ol 8mb及び21℃1水宰11
収a 2225 mである。触媒をガラスフィルターを
通して吸引除去し、濾液を真空中1蒸発乾個させ、残分
を7セトンージクロルメタンー勾配溶液を用いるシリカ
ゲル1のクロマトグラフィにかける。アセトン32〜5
0−で溶離させ、アセトン−ジイソプロピルエーテルか
ら再結晶の後に、融点161℃の3.3−エチレンジオ
キシ−17α−(3−ヒドロキシプロピル)−1α−メ
チル−5−アンドロステン−17β、−オールl O,
15Fが得られる。〔α〕”−−36゛(C=!−0,
5クロロホルム中)。
収a 2225 mである。触媒をガラスフィルターを
通して吸引除去し、濾液を真空中1蒸発乾個させ、残分
を7セトンージクロルメタンー勾配溶液を用いるシリカ
ゲル1のクロマトグラフィにかける。アセトン32〜5
0−で溶離させ、アセトン−ジイソプロピルエーテルか
ら再結晶の後に、融点161℃の3.3−エチレンジオ
キシ−17α−(3−ヒドロキシプロピル)−1α−メ
チル−5−アンドロステン−17β、−オールl O,
15Fが得られる。〔α〕”−−36゛(C=!−0,
5クロロホルム中)。
E 3,3−エチレンジオキシ−17α−(3−(ヒド
ロキシプロピル)−1α−メチル−5−アンドロステン
−17β−オール3.0?にピリジン30d及び無水酢
酸16−を加える。混合物を室温”l’15時間放置し
、引続き反応生成物を氷水中に導入し、ジクロルメタン
1抽出することによシ単離する。ジクロルメタン溶液を
乾燥させ、真空中1蒸発濃縮畜せ、得られた残分を90
−酢酸1001j中に溶かす。この溶液を蒸気浴上−t
%30分加熱し。
ロキシプロピル)−1α−メチル−5−アンドロステン
−17β−オール3.0?にピリジン30d及び無水酢
酸16−を加える。混合物を室温”l’15時間放置し
、引続き反応生成物を氷水中に導入し、ジクロルメタン
1抽出することによシ単離する。ジクロルメタン溶液を
乾燥させ、真空中1蒸発濃縮畜せ、得られた残分を90
−酢酸1001j中に溶かす。この溶液を蒸気浴上−t
%30分加熱し。
その後、真空中、高めた温度1蒸発乾個させる。残分を
ヘキサンーア七トンー勾配溶液を用いてシリカゲルのク
ロマドグ2フイKかける。アセトン33〜39%を用い
、ジエチルエーテル−石油ベンジ/から再結晶の゛後K
。
ヘキサンーア七トンー勾配溶液を用いてシリカゲルのク
ロマドグ2フイKかける。アセトン33〜39%を用い
、ジエチルエーテル−石油ベンジ/から再結晶の゛後K
。
17α−(3−アセトキシプロピル)−17β−ヒドロ
キシ−1α−メチル−養−アンドロステン−3−オン2
.98 )が得られた。融点71℃。〔α)”−+70
°(0口0.5クロOyk k A中)o UV:’w
as−13400(メタノール中〕 例2 A、90−酢酸6011j中の3,3−エチレンジオキ
シ−17α−(3−ヒドロキシプロピル)−1α−メチ
ル−5−アンドロステン−17β−オールzO?の溶液
を60℃に2時間加熱し、引続き真空中、601:″1
%蒸発乾個させる。残分をヘキサン−アセトン−勾配溶
液を用いてシリカゲルのクロマドグ2フイKかける・ア
セトン55〜66チを用い、アセトン−ジイソプロピル
エーテルから再結晶の後に、17β−ヒドロキシ−17
α−(3−ヒドロキシプロピル)−1α−メチル−養−
アンドロステン−3−オン1.31?が得られる。融点
195℃。〔α〕鵞’−+ 91’(C=−05クロロ
ホルム中)、W:すam=14800(メタノール中)
。
キシ−1α−メチル−養−アンドロステン−3−オン2
.98 )が得られた。融点71℃。〔α)”−+70
°(0口0.5クロOyk k A中)o UV:’w
as−13400(メタノール中〕 例2 A、90−酢酸6011j中の3,3−エチレンジオキ
シ−17α−(3−ヒドロキシプロピル)−1α−メチ
ル−5−アンドロステン−17β−オールzO?の溶液
を60℃に2時間加熱し、引続き真空中、601:″1
%蒸発乾個させる。残分をヘキサン−アセトン−勾配溶
液を用いてシリカゲルのクロマドグ2フイKかける・ア
セトン55〜66チを用い、アセトン−ジイソプロピル
エーテルから再結晶の後に、17β−ヒドロキシ−17
α−(3−ヒドロキシプロピル)−1α−メチル−養−
アンドロステン−3−オン1.31?が得られる。融点
195℃。〔α〕鵞’−+ 91’(C=−05クロロ
ホルム中)、W:すam=14800(メタノール中)
。
B、17β−ヒドロキシ−17α−(3−ヒドロキシプ
ロピル)−1α−メチル−養−アンドロステン−3−オ
ン1.01ピリジン10−と無水プロピオン酸51Ij
とからの混合物中に溶かし、溶液を室温115時間放置
する。
ロピル)−1α−メチル−養−アンドロステン−3−オ
ン1.01ピリジン10−と無水プロピオン酸51Ij
とからの混合物中に溶かし、溶液を室温115時間放置
する。
反応生成物を氷水中に攪拌導入するととKよシ沈殿させ
、これを吸引分離し、乾燥させ。
、これを吸引分離し、乾燥させ。
カッジエチルエーテル−ペンタンから再結晶させる。収
量は、17β−ヒドロキシ−1α−メチル−17α−(
3−fロピオニルオキシゾロピル)−4−アンドロステ
ン−3−オン1.07P’t’あった。融点105℃。
量は、17β−ヒドロキシ−1α−メチル−17α−(
3−fロピオニルオキシゾロピル)−4−アンドロステ
ン−3−オン1.07P’t’あった。融点105℃。
〔α37日+73°(C−0,5クロロホルム中)・u
V:#14B−145oo(メタノール中)・例3 17β−ヒドロキシ−17α−(3−ヒドロキシプロピ
ル)−1α−メチル−養−アンドロステン−3−オン5
00Wvをピリジン5−及び無水酪酸2.5d中に溶か
す。20″C″1%15時間反応させる。生成物を氷水
中に注入することKよシ沈殿させる。1時間後に、吸引
し、乾燥させかつジエチルエーテル−ヘキサンから再結
晶させる。融点94℃の17α−(3−ブチリルオキシ
プロぜル)−17β−ヒドロキシ−1α−メチル−4−
アンドロステン−3−オン403?が得られた、((t
)”−+71°(C−0,5りクロホルム中)a U’
V:#tas−14900(メタノール中)。
V:#14B−145oo(メタノール中)・例3 17β−ヒドロキシ−17α−(3−ヒドロキシプロピ
ル)−1α−メチル−養−アンドロステン−3−オン5
00Wvをピリジン5−及び無水酪酸2.5d中に溶か
す。20″C″1%15時間反応させる。生成物を氷水
中に注入することKよシ沈殿させる。1時間後に、吸引
し、乾燥させかつジエチルエーテル−ヘキサンから再結
晶させる。融点94℃の17α−(3−ブチリルオキシ
プロぜル)−17β−ヒドロキシ−1α−メチル−4−
アンドロステン−3−オン403?が得られた、((t
)”−+71°(C−0,5りクロホルム中)a U’
V:#tas−14900(メタノール中)。
飼養
A、無水ナト2ヒドロフ2ン117 Qm中ノ3.3−
エチレンジオキシ−5α−プレグナン−17−オン11
7?の溶液に、アルノン寥囲気中1氷冷下にカリウムメ
チレート194)及び引続きテトラヒドロ7ラン122
11j中Oプロパルイルアルコール122−の溶液を3
0分かかつて滴加する。反応混合物を室温″?3時間攪
拌し、水冷下に濃酢112150111を加え、真空中
1濃縮乾個させる。残分く水を加え、ジクロルメタン抽
出し、有機相を乾燥させ、蒸発濃縮させ、粗生成物をジ
クロルメタン−アセトン−勾配溶液を用いてシリカゲル
のクロマドグ2フイKかける。80〜10oIJ11ア
七トン〒91.養tを溶離させ、これをジクロルメタン
−アセトンから再結晶させる。融点219℃の3,3−
エチレンジオキシ−17α−(′3−ヒドロΦシー1−
ゾロ♂ニル)−5α−アントロスタン−17β−ジオー
ル84.IPが得られる。
エチレンジオキシ−5α−プレグナン−17−オン11
7?の溶液に、アルノン寥囲気中1氷冷下にカリウムメ
チレート194)及び引続きテトラヒドロ7ラン122
11j中Oプロパルイルアルコール122−の溶液を3
0分かかつて滴加する。反応混合物を室温″?3時間攪
拌し、水冷下に濃酢112150111を加え、真空中
1濃縮乾個させる。残分く水を加え、ジクロルメタン抽
出し、有機相を乾燥させ、蒸発濃縮させ、粗生成物をジ
クロルメタン−アセトン−勾配溶液を用いてシリカゲル
のクロマドグ2フイKかける。80〜10oIJ11ア
七トン〒91.養tを溶離させ、これをジクロルメタン
−アセトンから再結晶させる。融点219℃の3,3−
エチレンジオキシ−17α−(′3−ヒドロΦシー1−
ゾロ♂ニル)−5α−アントロスタン−17β−ジオー
ル84.IPが得られる。
B、3.3−エチレンジオキシ−17ci −(3−ヒ
ドロキシ−1−プロピニル)−5α−アントロスタン−
17β−オール60.1PKNIDの条件下に水素添加
する。粗生成物をアセトンと擦し、濾過しかつ乾燥させ
る。3゜3−エチレンジオキシ−17α−(3−ヒドロ
キシプロピル)−5α〜アンドロメタン−17β−オー
ル55.0)が得られる・c、3.3−エチレンジオキ
シ−17α−(3−ヒドロキシツクビル)−5α−アン
トロスタン−17β−オール6、O?をピリジンのd及
び無水酢酸25wjと室温116時間反応させるn反応
生成物を氷水中に攪拌導入し。
ドロキシ−1−プロピニル)−5α−アントロスタン−
17β−オール60.1PKNIDの条件下に水素添加
する。粗生成物をアセトンと擦し、濾過しかつ乾燥させ
る。3゜3−エチレンジオキシ−17α−(3−ヒドロ
キシプロピル)−5α〜アンドロメタン−17β−オー
ル55.0)が得られる・c、3.3−エチレンジオキ
シ−17α−(3−ヒドロキシツクビル)−5α−アン
トロスタン−17β−オール6、O?をピリジンのd及
び無水酢酸25wjと室温116時間反応させるn反応
生成物を氷水中に攪拌導入し。
ジクロルメタンf抽出することによシ単離し。
引続き、シリカゲルのクロマトグラフィにかける・ヘキ
サン−酢酸エチル−勾配溶1[(27〜42−酢酸エチ
ル)を用いて、5.23Pを溶離させ、これをアセトン
−ジインプロピルエーテルから再結晶させると、17α
−(3−アセトキシプロピル)−3,3−エチレンジオ
キシ−δα−アントロスタンー17β−オール3.83
Fが得られる。融点187℃0〔α〕能−−1@(C
−0,5クロロホルム中)OD、90−酢酸2111中
の17α−(3−7セトキシプ四ビル)−3,3−エチ
レンジオキシ−5α−アントロスタン−17β−オール
zotoypa液を蒸気浴上で30分加熱し。
サン−酢酸エチル−勾配溶1[(27〜42−酢酸エチ
ル)を用いて、5.23Pを溶離させ、これをアセトン
−ジインプロピルエーテルから再結晶させると、17α
−(3−アセトキシプロピル)−3,3−エチレンジオ
キシ−δα−アントロスタンー17β−オール3.83
Fが得られる。融点187℃0〔α〕能−−1@(C
−0,5クロロホルム中)OD、90−酢酸2111中
の17α−(3−7セトキシプ四ビル)−3,3−エチ
レンジオキシ−5α−アントロスタン−17β−オール
zotoypa液を蒸気浴上で30分加熱し。
その後真空中”!’60分間蒸発濃縮させる。残分をシ
リカゲルのクロマトグラフィKかける。
リカゲルのクロマトグラフィKかける。
15%酢11エチルーヘキサンを用い、ジエチルエーテ
ル−石油ベンジンからの再結晶の後に、融点96℃の1
7α−(3−アセトキシプロピル)−17β−オール−
5α−アントロスタン−3−オン693即が得られる。
ル−石油ベンジンからの再結晶の後に、融点96℃の1
7α−(3−アセトキシプロピル)−17β−オール−
5α−アントロスタン−3−オン693即が得られる。
ガさ
A、9〇−酢酸3Qscj中の3.3−4チレンジオキ
シ−17α−(3−ヒドロキシプロピル)−5α−アン
トロスタン−17β−オール25Fの溶液を蒸気溶上1
30分加熱し。
シ−17α−(3−ヒドロキシプロピル)−5α−アン
トロスタン−17β−オール25Fの溶液を蒸気溶上1
30分加熱し。
その後氷水中に攪拌導入する。沈殿した生成物を濾過し
、洗浄し、乾燥させかつシリカゲルのクロマトグラフィ
にかける。ヘキサン30−、アセトン609G及びメタ
ノール10チよりなる混合物を用い、ジクロルメタン−
ジイソプロピルエーテルから再結晶の後に、WIA点2
16℃の17β−ヒドロキシ−17μ−(3−ヒドロキ
シプロピル)−5α−アントロスタン−3−オン1.8
31が得られた。
、洗浄し、乾燥させかつシリカゲルのクロマトグラフィ
にかける。ヘキサン30−、アセトン609G及びメタ
ノール10チよりなる混合物を用い、ジクロルメタン−
ジイソプロピルエーテルから再結晶の後に、WIA点2
16℃の17β−ヒドロキシ−17μ−(3−ヒドロキ
シプロピル)−5α−アントロスタン−3−オン1.8
31が得られた。
B、 17β−ヒドロキシ−17α−(3−ヒドロキシ
プロピル)−5α−アントロスタン−3−オン1.7?
を例2BK記載の条件下に17β−ヒドロキシ−17α
−(3−プロピオニルオキシプロビル)−5α−アント
ロスタン−3−オンに変じる。粗生成物をジエチルエー
テル−ジイソプロピルエーテルから再結晶させる。収量
:融点100℃のもの1.45?。〔α)”−+12°
CC−0,5クロロホシム中)。
プロピル)−5α−アントロスタン−3−オン1.7?
を例2BK記載の条件下に17β−ヒドロキシ−17α
−(3−プロピオニルオキシプロビル)−5α−アント
ロスタン−3−オンに変じる。粗生成物をジエチルエー
テル−ジイソプロピルエーテルから再結晶させる。収量
:融点100℃のもの1.45?。〔α)”−+12°
CC−0,5クロロホシム中)。
例6
17β−ヒドロキシ−17α−(3−ヒドロキシプロピ
ル)−5α−アントロスタン−3−オン3.0?をIP
I13と同様にして、17α−(3−ブチリルオキシプ
ロピル)−17β−ヒドロキシ−5α−アントロスタン
−3−オンに変える・粗生成物をジエチルエーテル−石
油ベンジンから再結晶の後に、融点72℃のもの258
?が得られた。
ル)−5α−アントロスタン−3−オン3.0?をIP
I13と同様にして、17α−(3−ブチリルオキシプ
ロピル)−17β−ヒドロキシ−5α−アントロスタン
−3−オンに変える・粗生成物をジエチルエーテル−石
油ベンジンから再結晶の後に、融点72℃のもの258
?が得られた。
例7
A、3.3−エチレンジオキシ−17α−(3−ヒドロ
キシ−1−プロピニル)−5α−アントロスタン−3β
−オール23.51−ラ。
キシ−1−プロピニル)−5α−アントロスタン−3β
−オール23.51−ラ。
N5Aの条件下で、17β−ヒドロキシ−17α−(3
−ヒドロキシ−1−プロピニル)−5α−アントロスタ
ン−3−オン16.3Fがiられる。融点211℃(ア
セトン−ジイソプロピルエーテルから)。〔αF−−1
7゜(C−クロロホルム中0.5)。
−ヒドロキシ−1−プロピニル)−5α−アントロスタ
ン−3−オン16.3Fがiられる。融点211℃(ア
セトン−ジイソプロピルエーテルから)。〔αF−−1
7゜(C−クロロホルム中0.5)。
B、17β−ヒドロキシ−17α−(3−ヒドロキシ−
1−プロぜニル)−5α−アントロスタン−3−オン5
.0?にぜリジン30wJ及び無水酪酸1511Zを加
える。16時間後K。
1−プロぜニル)−5α−アントロスタン−3−オン5
.0?にぜリジン30wJ及び無水酪酸1511Zを加
える。16時間後K。
生成物を氷水1の沈殿及びジクロルメタン1の抽出によ
シ単離し、ジエチルエーテル−ジイソプロピルエーテル
から再結晶させる・収量:17α−(3−ブチリルオキ
シ−1−プロピニル)−17β−ヒドロキシ−6α−ア
ントロスタン−3−オン5.13 F。
シ単離し、ジエチルエーテル−ジイソプロピルエーテル
から再結晶させる・収量:17α−(3−ブチリルオキ
シ−1−プロピニル)−17β−ヒドロキシ−6α−ア
ントロスタン−3−オン5.13 F。
C117α−(3−ブチリルオキシ−1−プロピニル)
−17β−ヒドロキシ−5α−アントロスタン−3−オ
ン1.2fに、リンドラ−触媒400■を含有するペン
ゾール5Qd及びテトラヒドロフラン25−中1.l轟
量の水素を吸収する壕1水素添加するO触媒を置去し、
濾液を真空中1濃縮乾個させ、残分なシリカゲルのクロ
マトグラフィKかける。
−17β−ヒドロキシ−5α−アントロスタン−3−オ
ン1.2fに、リンドラ−触媒400■を含有するペン
ゾール5Qd及びテトラヒドロフラン25−中1.l轟
量の水素を吸収する壕1水素添加するO触媒を置去し、
濾液を真空中1濃縮乾個させ、残分なシリカゲルのクロ
マトグラフィKかける。
20嘔酢酸エチル−ヘキサンを用い、ジエチルエーテル
−石油ベンジンから再結晶の後K。
−石油ベンジンから再結晶の後K。
融点109℃の17α−(3−ブチリルオキシ−1−f
aベニル)−17β−ヒドロキシ−5α−アントロスタ
ン−3−オン490WI9が得られた。
aベニル)−17β−ヒドロキシ−5α−アントロスタ
ン−3−オン490WI9が得られた。
F18
A、17β−ヒドロキシ−17α−(3−ヒドロキシ−
1−プロピニル)−5α−アントロスタン−3−オン5
80?を例2Bと同様にして17β−ヒドロキシ−17
α−(3−プロピオニルオキシプロビル)−5α−アン
ドロスタン−3−オン5.8?に変える。
1−プロピニル)−5α−アントロスタン−3−オン5
80?を例2Bと同様にして17β−ヒドロキシ−17
α−(3−プロピオニルオキシプロビル)−5α−アン
ドロスタン−3−オン5.8?に変える。
B、17β−ヒドロキシ−17α−(3−プロピオニル
オキシブ12セル)−5α−アントロスタン−3−オン
5.8PK、例IDの条件下に水素添加する。粗生成物
をシリカゲルのクロマトグラフィKかける。221G酢
酸エテル−ヘキサンを用い、ジエチルエーテル−石油ベ
ンジンから再結晶の後に、融点99℃の、17β−ヒド
ロキシ−17α−(3−プcIk!オニルオキシプロピ
ル)−5α−アントロスタン−3−オン2.62)が得
られた・〔α〕■静 口+11°(C−0,5クロロホルム中)0119 A、 17β−ヒドロキシ−1−メチル−δα−アンド
ロステー1−二ンー3−オン25)を例IAと同様にし
て、3,3−エチレンジオヤシ−1−メチレン−5α−
アントロスタン−17β−オールに変じる・例IB−C
と同様にして、これから、3.3−エチレンジオキシ−
17α−(3−ヒドロキシ−1−プロピニル)−1−メ
チレン−5α−アントロスタン−17β−オールを製造
し、これを例2A記載の方法1,17β−ヒドロキシ−
17α−(3−ヒドロキシ−1−プロピニル)−1−メ
チル−6α−アンドロステ−1−工ン−3−オンに変じ
る。収量:9.25P。
オキシブ12セル)−5α−アントロスタン−3−オン
5.8PK、例IDの条件下に水素添加する。粗生成物
をシリカゲルのクロマトグラフィKかける。221G酢
酸エテル−ヘキサンを用い、ジエチルエーテル−石油ベ
ンジンから再結晶の後に、融点99℃の、17β−ヒド
ロキシ−17α−(3−プcIk!オニルオキシプロピ
ル)−5α−アントロスタン−3−オン2.62)が得
られた・〔α〕■静 口+11°(C−0,5クロロホルム中)0119 A、 17β−ヒドロキシ−1−メチル−δα−アンド
ロステー1−二ンー3−オン25)を例IAと同様にし
て、3,3−エチレンジオヤシ−1−メチレン−5α−
アントロスタン−17β−オールに変じる・例IB−C
と同様にして、これから、3.3−エチレンジオキシ−
17α−(3−ヒドロキシ−1−プロピニル)−1−メ
チレン−5α−アントロスタン−17β−オールを製造
し、これを例2A記載の方法1,17β−ヒドロキシ−
17α−(3−ヒドロキシ−1−プロピニル)−1−メ
チル−6α−アンドロステ−1−工ン−3−オンに変じ
る。収量:9.25P。
B、17β−ヒドロキシ−17α−(3−ヒドロキシ−
1−プロピニル)−1−メチル−5α−アンドロステ−
1−エン−3−オン20に1例IDの条件下に水素添加
する。こうして生じた17β−ヒドロキシ−17α−(
3−ヒドロキシプロ2ル)−1−メfルー5α−アンド
ロステー1−工ン−3−#/1lF13と同様にして1
7α−(3−ブチリルオキシプロぜル)−1−メチル−
5α−アンドロステ−1−工ン−3−オンに変じる・粗
生成物をシリカゲルのクロマトグラフィKかける。
1−プロピニル)−1−メチル−5α−アンドロステ−
1−エン−3−オン20に1例IDの条件下に水素添加
する。こうして生じた17β−ヒドロキシ−17α−(
3−ヒドロキシプロ2ル)−1−メfルー5α−アンド
ロステー1−工ン−3−#/1lF13と同様にして1
7α−(3−ブチリルオキシプロぜル)−1−メチル−
5α−アンドロステ−1−工ン−3−オンに変じる・粗
生成物をシリカゲルのクロマトグラフィKかける。
20チ酢蒙エチル−ヘキサンを用いて、油状1908ダ
を溶離させる。
を溶離させる。
例1O
A、 )ルオール3o〇−及びエチレンクリコール9
〇−中の17β−ヒドロキシ−1α−メチル−5α−ア
ントロスタン−3−オン30fの1lHIKp−)ルオ
ールスルホン酸900■を加え、ゆっくり蒸榴しながら
6時間攪拌する。冷却後に、反応溶液にピリ、ジン3−
を加え、ジエチルエーテルで稀釈し、水で洗浄する。蒸
発濃縮の後に、3.3−エチレンジオキシ−1α−メチ
ル−5α−アントロスタン−17β−オール35fが得
られ九。
〇−中の17β−ヒドロキシ−1α−メチル−5α−ア
ントロスタン−3−オン30fの1lHIKp−)ルオ
ールスルホン酸900■を加え、ゆっくり蒸榴しながら
6時間攪拌する。冷却後に、反応溶液にピリ、ジン3−
を加え、ジエチルエーテルで稀釈し、水で洗浄する。蒸
発濃縮の後に、3.3−エチレンジオキシ−1α−メチ
ル−5α−アントロスタン−17β−オール35fが得
られ九。
B、3.3−エチレンジオキシ−1α−メチル−5α−
アントロスタン−17β−オール35?をジメチルホル
ムアミド350−中でピリジニウムジクロメート70f
と共に室温で17時間攪拌する。反応溶液を10倍量の
酢酸エチル中に攪拌導入し、その後、析出したクロム塩
を傾斜除去し、有機相を水で洗浄する。
アントロスタン−17β−オール35?をジメチルホル
ムアミド350−中でピリジニウムジクロメート70f
と共に室温で17時間攪拌する。反応溶液を10倍量の
酢酸エチル中に攪拌導入し、その後、析出したクロム塩
を傾斜除去し、有機相を水で洗浄する。
乾燥及び蒸発濃縮の徒に、融点154℃の3゜3−エチ
レンジオキシ−1α−メチル−δα−アンドロスタンー
17−オン35fが得うれる。
レンジオキシ−1α−メチル−δα−アンドロスタンー
17−オン35fが得うれる。
°C0無水テトラヒドロフラン100−中の3,3−ニ
チレンジオキシー1α−メチル−5α−アンドロスタン
ー17−オンLotの溶液を水浴中で冷却する。アルノ
ン気下にカリウムメチレート301を導入し、引続き、
テトラヒドロフラン4〇d中に溶かしたゾロノ(ルギル
アルコール2o−を30分かかつて滴加する。反応溶液
を室温で5.5時間後攪拌し、水浴中で冷却し、酢酸2
3−を加える。その後真空中で充分に濃縮し、残分を酢
酸エチル中に入れ、溶液を水及び飽和炭酸水素ナトリウ
ム溶液中で洗浄し、乾燥させ、かつ蒸発濃縮する。アセ
トンから再結晶させると、融点232℃の3.3−エチ
レンジオキシ−17α−(3−ヒドロキシ−1−プロピ
ニル)−1α−メチル−5α−アン−ロスタン−1フβ
−オール6.8tが得られる。
チレンジオキシー1α−メチル−5α−アンドロスタン
ー17−オンLotの溶液を水浴中で冷却する。アルノ
ン気下にカリウムメチレート301を導入し、引続き、
テトラヒドロフラン4〇d中に溶かしたゾロノ(ルギル
アルコール2o−を30分かかつて滴加する。反応溶液
を室温で5.5時間後攪拌し、水浴中で冷却し、酢酸2
3−を加える。その後真空中で充分に濃縮し、残分を酢
酸エチル中に入れ、溶液を水及び飽和炭酸水素ナトリウ
ム溶液中で洗浄し、乾燥させ、かつ蒸発濃縮する。アセ
トンから再結晶させると、融点232℃の3.3−エチ
レンジオキシ−17α−(3−ヒドロキシ−1−プロピ
ニル)−1α−メチル−5α−アン−ロスタン−1フβ
−オール6.8tが得られる。
D、3.3−エチレンジオキシ−17α−(3−ヒドロ
キシー1−7’ロビニル)−1α−メチル−5α−アン
−ロスタン−1フβ−オール15fをテトラヒドロフラ
ン150mg及びメタノール15〇−中で8憾硫酸15
−と共に室温で1.5時間攪拌する。反応溶液をジエチ
ルエーテルで抽出し、水で中性になる首で洗浄し、乾燥
させ、蒸発濃縮させる。17β−ヒドロキシ−17α−
(3−ヒドロキシ−1−プロピニル)−1α−メチル−
5α−アンPロスタンー3−オン12tがiられる。
キシー1−7’ロビニル)−1α−メチル−5α−アン
−ロスタン−1フβ−オール15fをテトラヒドロフラ
ン150mg及びメタノール15〇−中で8憾硫酸15
−と共に室温で1.5時間攪拌する。反応溶液をジエチ
ルエーテルで抽出し、水で中性になる首で洗浄し、乾燥
させ、蒸発濃縮させる。17β−ヒドロキシ−17α−
(3−ヒドロキシ−1−プロピニル)−1α−メチル−
5α−アンPロスタンー3−オン12tがiられる。
E、 17β−ヒrosシーl 7 α−(3−ピート
ロキシ−1−プロピニル)−1α−メfルー5α−アン
トロスタン−3−オン1.Ofをピリジン2−中で無水
プロピオン酸1−と共に室温で17時間放置する。反応
混合物を氷水中に攪拌導入する。生じた沈殿を濾過し、
ジエチルエーテル中に入れ、この溶液を炭酸水素ナトリ
ウム溶液で洗浄する。乾燥及び蒸発濃縮の後K、残分な
りロマトグラフィにかける。融点98℃の17β−とr
eIキシ−1α、−+ メチル−17α−(3−プロピ
オニルオキシ−1−プロピニル)−5α−アンrロスタ
ンー3−オン950ηが得られる。
ロキシ−1−プロピニル)−1α−メfルー5α−アン
トロスタン−3−オン1.Ofをピリジン2−中で無水
プロピオン酸1−と共に室温で17時間放置する。反応
混合物を氷水中に攪拌導入する。生じた沈殿を濾過し、
ジエチルエーテル中に入れ、この溶液を炭酸水素ナトリ
ウム溶液で洗浄する。乾燥及び蒸発濃縮の後K、残分な
りロマトグラフィにかける。融点98℃の17β−とr
eIキシ−1α、−+ メチル−17α−(3−プロピ
オニルオキシ−1−プロピニル)−5α−アンrロスタ
ンー3−オン950ηが得られる。
F、 17β−ヒドロキシーlα−メチル−17α−(
3−プロピオニルオ中シー1−/’ロピニル)−5α−
アンrロスタンー3−オン750岬を例12Aに記載の
条件下で2当量の水素が吸収されるまで水素添加する。
3−プロピオニルオ中シー1−/’ロピニル)−5α−
アンrロスタンー3−オン750岬を例12Aに記載の
条件下で2当量の水素が吸収されるまで水素添加する。
反応生成物をシリカゲルのクロマトグラフィにかける。
油状物としての17β−ヒドロキシ−1α−メチル−1
7α−(3−ゾロピオニルオキシゾロビル)−5α−ア
ントロスタン−3−オン673qが得られた。
7α−(3−ゾロピオニルオキシゾロビル)−5α−ア
ントロスタン−3−オン673qが得られた。
例11
A、 17β−ヒドロキシー17α−(3−ヒドロキシ
−1−1”ロピニル)−1α−メチル−5α−アンPロ
スタンー3−オン2.ofに、リンPラー触媒60C)
vを有するペンゾール6o−及びテトラヒドロ7ラン4
oII1g中で1当量の水素が吸収されるまで水素添加
する。
−1−1”ロピニル)−1α−メチル−5α−アンPロ
スタンー3−オン2.ofに、リンPラー触媒60C)
vを有するペンゾール6o−及びテトラヒドロ7ラン4
oII1g中で1当量の水素が吸収されるまで水素添加
する。
触媒を濾去し、蒸発乾個させる。残分なジイソゾロビル
エーテルと共に擦し、吸引する。
エーテルと共に擦し、吸引する。
融点184℃の17β−ヒドロキシ−17α−(3−ヒ
ドロキシ−1−ノロベニル)−1α−メチル−5α−ア
ンPロスタンー3−オン1.75fが得られた。
ドロキシ−1−ノロベニル)−1α−メチル−5α−ア
ンPロスタンー3−オン1.75fが得られた。
B、 17β−ヒドロキシ−17α−(3−ヒドロキシ
−1−プロピオニル)二1α−メチルー5α−アンrロ
スタン−3−オン800岬をピリジン1.6−及び無水
プロピオン酸0.8 d中で、例10Eの記載と同様に
反応させ、後処理する。、シリカゲルでのクロマドグ2
フイの徒に融点87℃の17β−ヒドロキシ−1α−メ
チル−17α−(3−プロピオニルオキシ−1−プロピ
ニル)−5α−アントロスタン−3−オン73ON9が
得られた。
−1−プロピオニル)二1α−メチルー5α−アンrロ
スタン−3−オン800岬をピリジン1.6−及び無水
プロピオン酸0.8 d中で、例10Eの記載と同様に
反応させ、後処理する。、シリカゲルでのクロマドグ2
フイの徒に融点87℃の17β−ヒドロキシ−1α−メ
チル−17α−(3−プロピオニルオキシ−1−プロピ
ニル)−5α−アントロスタン−3−オン73ON9が
得られた。
例12
A、3.3−エチレンジオキシ−17α−(3−ヒドロ
キシ−1−7”ロピニル)−1α−メチル−5α−アン
−ロスタン−1フβ−オール7.52に、ラネーニッケ
ル−触媒6ft有する2−ゾロノぐノール12〇−及び
テトラヒドロプラン1205g中で、2当量の水素が吸
収されるまで水素添加する。その後、触媒を濾去し、真
空中で蒸発乾禰させる。残分をシリカゲルのクロマトグ
ラフィにかける。・ジイソプロピルエーテル−アセトン
からの再結晶(7)iK、8点192℃の3.3−エチ
レンジオキシー17α−(3−ヒドロキシゾロビル)−
1α−メチル−5α−アントロスタン−17β−オール
3.5fが得−られた。
キシ−1−7”ロピニル)−1α−メチル−5α−アン
−ロスタン−1フβ−オール7.52に、ラネーニッケ
ル−触媒6ft有する2−ゾロノぐノール12〇−及び
テトラヒドロプラン1205g中で、2当量の水素が吸
収されるまで水素添加する。その後、触媒を濾去し、真
空中で蒸発乾禰させる。残分をシリカゲルのクロマトグ
ラフィにかける。・ジイソプロピルエーテル−アセトン
からの再結晶(7)iK、8点192℃の3.3−エチ
レンジオキシー17α−(3−ヒドロキシゾロビル)−
1α−メチル−5α−アントロスタン−17β−オール
3.5fが得−られた。
B、3.3−エチレンジオキシ−17α−(3−ヒドロ
キシゾロビル)−1α−メチル−5α−アンrロスタン
ー17β−オール3.32をメタノール66−中で、8
ヂ硫酸3.3−と共に室温で1時間攪拌する。反応溶液
をジエチルエーテルで稀釈し、水で洗浄し、乾燥させ、
かつ蒸発濃縮させる。残分をジイソプロピルエーテル−
アセトンから再MAさせる。
キシゾロビル)−1α−メチル−5α−アンrロスタン
ー17β−オール3.32をメタノール66−中で、8
ヂ硫酸3.3−と共に室温で1時間攪拌する。反応溶液
をジエチルエーテルで稀釈し、水で洗浄し、乾燥させ、
かつ蒸発濃縮させる。残分をジイソプロピルエーテル−
アセトンから再MAさせる。
収量=s点1aa℃の17β−ヒPロキシー17α−(
3−とPロキシゾロピル)−1α−メチル−5α−アン
トロスタン−3−オン2.3t0 C117β−ヒドロキシー17α−(3−ヒドロキシゾ
ロビル)−1α−メチル−5α−アンPロスタンー3−
オン500qをビlJ−、’ン2−及び無水プロピオン
酸1−中に室温で17時間放置する。例Logの記載と
同様に後処理する。シリカゲルでのクロマトグラフィの
後K、油状物としての17β−ヒ)10キシ−1α−メ
チル−17α−(3−プロピオニルオキシゾロビル)−
5α−アントロスタン−3−オン460qが得られた。
3−とPロキシゾロピル)−1α−メチル−5α−アン
トロスタン−3−オン2.3t0 C117β−ヒドロキシー17α−(3−ヒドロキシゾ
ロビル)−1α−メチル−5α−アンPロスタンー3−
オン500qをビlJ−、’ン2−及び無水プロピオン
酸1−中に室温で17時間放置する。例Logの記載と
同様に後処理する。シリカゲルでのクロマトグラフィの
後K、油状物としての17β−ヒ)10キシ−1α−メ
チル−17α−(3−プロピオニルオキシゾロビル)−
5α−アントロスタン−3−オン460qが得られた。
例13
17β−ヒドロキシ−17α−(3−ヒドロキシゾロビ
ル)−1α−メチル−5α−アンPロスタンー3−オン
1.Ofをピリジン養−と無水酪酸1−とからの混合物
中に室温で17時間放置する。例10Eの記載と同様に
後処理する。
ル)−1α−メチル−5α−アンPロスタンー3−オン
1.Ofをピリジン養−と無水酪酸1−とからの混合物
中に室温で17時間放置する。例10Eの記載と同様に
後処理する。
シリカゲルでのクロマトグラフィの後K、油状物として
の17α−(3−ブチリルオキシプロピル)−17β−
ヒドロキシ−1α−メチル−5α−アントロスタン−3
−オン860vが得られた。〔α〕二”=+3.5°(
c = 0.5クロロホルム中)。
の17α−(3−ブチリルオキシプロピル)−17β−
ヒドロキシ−1α−メチル−5α−アントロスタン−3
−オン860vが得られた。〔α〕二”=+3.5°(
c = 0.5クロロホルム中)。
例14
17β−ヒドロキシ−1“7α−(3−ヒドロキシゾロ
ビル)−1α−メチル−5α−アントロスタン−3−オ
ン800qをtリジン1.6−及び無水カプロン酸0.
8−中で室温で24時間放置する。反応溶液を氷水中に
攪拌導入し、次いでジエチルエーテルで抽出し、エーテ
ル相を炭酸水素す) IJウム溶液及び水で洗浄する。
ビル)−1α−メチル−5α−アントロスタン−3−オ
ン800qをtリジン1.6−及び無水カプロン酸0.
8−中で室温で24時間放置する。反応溶液を氷水中に
攪拌導入し、次いでジエチルエーテルで抽出し、エーテ
ル相を炭酸水素す) IJウム溶液及び水で洗浄する。
乾燥及び蒸発濃縮の後に残分をシリカゲルのクロマトグ
ラフィにかける。油状物としての17α−(3−ヘキサ
ノイルオキシゾロビル)−17β−ヒドロキシー1α−
メチルー5α−アントロスタン−3−オン960qが得
られる。〔α3品3= + 3.8°(C=0.5クロ
ロホルム中)。
ラフィにかける。油状物としての17α−(3−ヘキサ
ノイルオキシゾロビル)−17β−ヒドロキシー1α−
メチルー5α−アントロスタン−3−オン960qが得
られる。〔α3品3= + 3.8°(C=0.5クロ
ロホルム中)。
例15
A、3.3−エチレンジオキシ−1α−メチル−5α−
アンげロスタン−17−オン10fを無水テトラヒドロ
フラン10〇−中に溶かす。引続き、亜鉛−銅一対20
tを加え、少量の沃素の添加の後に、30分かかつて、
ブロム酢酸エチルエステル40−を滴加する。
アンげロスタン−17−オン10fを無水テトラヒドロ
フラン10〇−中に溶かす。引続き、亜鉛−銅一対20
tを加え、少量の沃素の添加の後に、30分かかつて、
ブロム酢酸エチルエステル40−を滴加する。
部分的に固定した反応の終了後に、室温で30分間後攪
拌する。引続き、飽和塩化アンモニウム溶液を滴加し、
反応溶液をジエチルエーテルで稀釈し、水で洗浄する。
拌する。引続き、飽和塩化アンモニウム溶液を滴加し、
反応溶液をジエチルエーテルで稀釈し、水で洗浄する。
乾燥及び蒸発濃縮の後に、残分なシリカゲルのクロマト
グラフィにかける。油状物としての(3,3−エチレン
ジオキシ−17β−ヒドロキシー1α−メチルー5α−
アンPロスタン−17α−イル)−酢1エチルエステル
7.9tが得られる。
グラフィにかける。油状物としての(3,3−エチレン
ジオキシ−17β−ヒドロキシー1α−メチルー5α−
アンPロスタン−17α−イル)−酢1エチルエステル
7.9tが得られる。
B、(3,3−エチレンジオキシ−17β−ヒドロヤシ
−1α−メチル−5α−アンPロスpy−17α−イル
)−酢酸エチルエステル7.5fに、無水テトラヒドロ
72ン225−中で水冷下に少量宛リチウムアラネート
2.5fを加える。冷却下に1.5時間後攪拌し、次に
順次に水2.5d、15憾苛性ソーダ25−及び水7.
5−をこの反応混合物に加える。引続き、生じた沈殿を
吸引し、テトラヒドロフ。
−1α−メチル−5α−アンPロスpy−17α−イル
)−酢酸エチルエステル7.5fに、無水テトラヒドロ
72ン225−中で水冷下に少量宛リチウムアラネート
2.5fを加える。冷却下に1.5時間後攪拌し、次に
順次に水2.5d、15憾苛性ソーダ25−及び水7.
5−をこの反応混合物に加える。引続き、生じた沈殿を
吸引し、テトラヒドロフ。
ランで徒洗し、真空中で蒸発数個させる。残分菅シリカ
ゲルのクロマトグラフィにかけると、3,3−エチレン
ジオキシ−17α−(2−ヒドロキシエチル)−1α−
メチル−5α−アントロスタン−17β−オール4.2
9が得られる。アセトン−ジクロルメタンから再結晶し
た試料は、229℃で融解する。
ゲルのクロマトグラフィにかけると、3,3−エチレン
ジオキシ−17α−(2−ヒドロキシエチル)−1α−
メチル−5α−アントロスタン−17β−オール4.2
9が得られる。アセトン−ジクロルメタンから再結晶し
た試料は、229℃で融解する。
C,3,3−エチレンジオキシ−17α−(2−ヒドロ
キシエチル)−1α−メチル−5α−アントロスタン−
17β−オール4. Of ’1′メタノール8o−及
びテトラヒドロフラン20−中で、8憾硫酸4−と共に
室温で2時間攪拌する。反応混合物をジエチルエーテル
で稀釈し、水で洗浄し、乾燥させ、かつ蒸発濃縮させる
。残分として、融点192℃の17β−ヒドロキシ−1
7α−(2−ヒドロキシエチル)−1α−メチル−5α
−アントロスタン−3−オン3.5tが得られる。
キシエチル)−1α−メチル−5α−アントロスタン−
17β−オール4. Of ’1′メタノール8o−及
びテトラヒドロフラン20−中で、8憾硫酸4−と共に
室温で2時間攪拌する。反応混合物をジエチルエーテル
で稀釈し、水で洗浄し、乾燥させ、かつ蒸発濃縮させる
。残分として、融点192℃の17β−ヒドロキシ−1
7α−(2−ヒドロキシエチル)−1α−メチル−5α
−アントロスタン−3−オン3.5tが得られる。
I)、l’7β−ヒPロキシー17α−(2−とPロキ
シエチル)−1α−メチル−5α−アン10スタン−3
−オン1.2tをピリジン4.8−及び無水ゾロピオン
酸1.2−中、室温で6時間攪拌する。例10Eの記載
と同様Km処理する。シリカゲルでのクロマトグラフィ
の稜に、融点124℃の17β−ヒドロキシ−1α−メ
チル−17α−(2−+’ロピオニルオキシエチル)−
5α−アントロスタン−3−オン1.26fが得られた
。
シエチル)−1α−メチル−5α−アン10スタン−3
−オン1.2tをピリジン4.8−及び無水ゾロピオン
酸1.2−中、室温で6時間攪拌する。例10Eの記載
と同様Km処理する。シリカゲルでのクロマトグラフィ
の稜に、融点124℃の17β−ヒドロキシ−1α−メ
チル−17α−(2−+’ロピオニルオキシエチル)−
5α−アントロスタン−3−オン1.26fが得られた
。
例16
A、 リチウム1.δfに、無水テトラヒドロフ2ン5
o−中、アルヅンノンで1−クロル−養−(1−エトキ
シエトキシ)−ブタン1oadを加える。水冷下に、3
.3−エチレンジオ。
o−中、アルヅンノンで1−クロル−養−(1−エトキ
シエトキシ)−ブタン1oadを加える。水冷下に、3
.3−エチレンジオ。
キシ−1α−メチル−5α−アン−ロスタン−1フーオ
ン5.o?を添加し、引続き、室温で3時間後攪拌する
。反応溶液を未反応のリチウムから傾斜注出し、氷水中
に攪拌導入する。沈殿した物質をジエチルエーテルで抽
出する。乾燥及び蒸発濃縮の後に、残分なシリカゲルの
クロマトグラフィにかける。油状物としての17α−〔
牛−(l−エトキシエトキシ)−ブチル)−3,3−工
tレンジオキシー1α−メチル−5α−アンPロメタン
ー17β−オール2.4Fが得られる。
ン5.o?を添加し、引続き、室温で3時間後攪拌する
。反応溶液を未反応のリチウムから傾斜注出し、氷水中
に攪拌導入する。沈殿した物質をジエチルエーテルで抽
出する。乾燥及び蒸発濃縮の後に、残分なシリカゲルの
クロマトグラフィにかける。油状物としての17α−〔
牛−(l−エトキシエトキシ)−ブチル)−3,3−工
tレンジオキシー1α−メチル−5α−アンPロメタン
ー17β−オール2.4Fが得られる。
B、17α−〔キー(l−エトキシエトヤシ)−ブチル
”]−]3.3−エチレンジオキシー1αメチル−5α
−アンPロスタンー17β−オール2.42をメタノー
ル24−中で8係硫酸2.4−と共に室温で1時間攪拌
する。ジエチルエーテルで稀釈し、水で洗浄し、乾燥さ
せかつ蒸発濃縮させる。残分なシリカゲルのりaマドグ
ラフィにかける。ジイソプロピルエーテルから再結晶さ
せると、融点131℃の17β−ヒPロキシー17α−
(4−ヒドロキシブチル)−1α−メチル−5α−アン
−ロスタン−3−オン1.32が得うレタ。
”]−]3.3−エチレンジオキシー1αメチル−5α
−アンPロスタンー17β−オール2.42をメタノー
ル24−中で8係硫酸2.4−と共に室温で1時間攪拌
する。ジエチルエーテルで稀釈し、水で洗浄し、乾燥さ
せかつ蒸発濃縮させる。残分なシリカゲルのりaマドグ
ラフィにかける。ジイソプロピルエーテルから再結晶さ
せると、融点131℃の17β−ヒPロキシー17α−
(4−ヒドロキシブチル)−1α−メチル−5α−アン
−ロスタン−3−オン1.32が得うレタ。
C017β−ヒドロキシ−17α−(4−ヒドロキシブ
チル)−1α−メチル−5α−アン−ロスタン−3−オ
ン1.1fttぎりジン2.2−及び無水ゾロピオン酸
1.1−中、室温で45時間放置する。例10Eの記載
と同様に後処理する。シリカゲルでのクロマトグラフィ
の後に、油状物としての17β−ヒドロキシ−1α−メ
チル−17α−(4−ニア”ロピオニルオキシプチル)
−5α−アントロスタン−3−:t y 1.2 f
カ得C:5t1−*。((11%”=+1.1°(C=
0.5クロロホルム中)。
チル)−1α−メチル−5α−アン−ロスタン−3−オ
ン1.1fttぎりジン2.2−及び無水ゾロピオン酸
1.1−中、室温で45時間放置する。例10Eの記載
と同様に後処理する。シリカゲルでのクロマトグラフィ
の後に、油状物としての17β−ヒドロキシ−1α−メ
チル−17α−(4−ニア”ロピオニルオキシプチル)
−5α−アントロスタン−3−:t y 1.2 f
カ得C:5t1−*。((11%”=+1.1°(C=
0.5クロロホルム中)。
例117
ん 無水テトラヒドロフラン70+d中の3.3−エチ
レンジオキシ−1α−メチル−6α−アンPロスタンー
17−オン7、Of(DMflK、55チ水素化ナトリ
ウム−油懸濁液4.42f並びに沃化メチル6.1−を
加え、24時間加熱沸騰させる。冷却後にジエチルエー
テルで稀釈し、水で洗浄し、乾燥させ、蒸発濃縮させる
。3,3−エチレンジオキシ−1α、16゜16−)ジ
メチル−6α−アントロスタンー1フーオン9.02が
得られる。70優メタノール水と共に擦した試料は12
5℃で融解する。
レンジオキシ−1α−メチル−6α−アンPロスタンー
17−オン7、Of(DMflK、55チ水素化ナトリ
ウム−油懸濁液4.42f並びに沃化メチル6.1−を
加え、24時間加熱沸騰させる。冷却後にジエチルエー
テルで稀釈し、水で洗浄し、乾燥させ、蒸発濃縮させる
。3,3−エチレンジオキシ−1α、16゜16−)ジ
メチル−6α−アントロスタンー1フーオン9.02が
得られる。70優メタノール水と共に擦した試料は12
5℃で融解する。
B、無水の水冷テトラヒドロフラン50mK、アルノン
気下でヘキサン中の1.4モルブチルリチウム溶液52
−を加える。その後、無水テトラヒPロフラン10−中
に溶かした蒸溜ゾロノ9ルイルアルコール2.3−を徐
々に滴加し、引続き無水テトラヒドロフラン3−〇−中
に溶かした3、3−エチレンジオキシ−1α−メチル−
6α−アン−ロスタン−1フーオン3.Ofを加える。
気下でヘキサン中の1.4モルブチルリチウム溶液52
−を加える。その後、無水テトラヒPロフラン10−中
に溶かした蒸溜ゾロノ9ルイルアルコール2.3−を徐
々に滴加し、引続き無水テトラヒドロフラン3−〇−中
に溶かした3、3−エチレンジオキシ−1α−メチル−
6α−アン−ロスタン−1フーオン3.Ofを加える。
水冷下に3時間かつ室温で17時時間後拌する。反応溶
液を氷水中に攪拌導入し、ジクロルメタンで抽出し、水
で洗浄し、乾燥させかつ蒸発濃縮させる。残分なシリカ
ゲルのクロマトグラフィにかける。
液を氷水中に攪拌導入し、ジクロルメタンで抽出し、水
で洗浄し、乾燥させかつ蒸発濃縮させる。残分なシリカ
ゲルのクロマトグラフィにかける。
収量:3.3−エチレンジオキシ−17α−(3−ヒP
ロキシー1−プロピニル)−1α。
ロキシー1−プロピニル)−1α。
16.16−ドリメチルー5α−アントロスタン−17
β−オール1.65f0 C,3,3−エチレンジオキシ−17α−(3−ヒドロ
キシ−1−プロピニル)−1α、16゜16−)ジエチ
ル−5α−アントロスタン−17β−オール1.62を
メタノール16wIt中で、8憾硫酸1.6−と共に室
温で1時間攪拌する。反応溶液をジエチルエーテルで稀
釈し、水で洗浄し、乾燥させ、かつ蒸発濃縮させる。
β−オール1.65f0 C,3,3−エチレンジオキシ−17α−(3−ヒドロ
キシ−1−プロピニル)−1α、16゜16−)ジエチ
ル−5α−アントロスタン−17β−オール1.62を
メタノール16wIt中で、8憾硫酸1.6−と共に室
温で1時間攪拌する。反応溶液をジエチルエーテルで稀
釈し、水で洗浄し、乾燥させ、かつ蒸発濃縮させる。
17β−ヒドロキシ−17α−(3−ヒドロキシ−1−
プロピニル)−1α、16.16−トリ/+ルーδα−
アントロスタン−3−オン1.4fが得られる。
プロピニル)−1α、16.16−トリ/+ルーδα−
アントロスタン−3−オン1.4fが得られる。
D、17β−ヒro*シー17(X−(3−ヒ¥ロキシ
ー1−プロピニル)−1α、16.↓6− ) ジエチ
ル−5α−テンドロスタン−3−オン1.42に、テト
ラヒドロフラン1〇−及□ び2−ゾロノ臂ノール1od中、1o嗟パラジウム−炭
酸カルシウム−触媒200Qの存在下K、2当量の水素
が吸収されるまで水素添加する。触媒を濾去し、櫂液を
真空中で蒸発乾個させる。残分をシリカゲルのクロマト
グラフィにかける。油状物としての17β−ヒドロキシ
−17α−(3−ヒドロキシゾロビル)−1α、16.
16−)ジエチル−5α−アンPロスタン−3−オン1
.2Fが得うれた。
ー1−プロピニル)−1α、16.↓6− ) ジエチ
ル−5α−テンドロスタン−3−オン1.42に、テト
ラヒドロフラン1〇−及□ び2−ゾロノ臂ノール1od中、1o嗟パラジウム−炭
酸カルシウム−触媒200Qの存在下K、2当量の水素
が吸収されるまで水素添加する。触媒を濾去し、櫂液を
真空中で蒸発乾個させる。残分をシリカゲルのクロマト
グラフィにかける。油状物としての17β−ヒドロキシ
−17α−(3−ヒドロキシゾロビル)−1α、16.
16−)ジエチル−5α−アンPロスタン−3−オン1
.2Fが得うれた。
E、 17β−ヒドロキシ−17α−(3−ヒドロキシ
ゾロビル)−1α、16.16−)ジエチル−5α−ア
ンげロスタン−3−オン1.12をピリ・ジン2.2
d及び無水ゾロピオン酸1.1−中、室温で4.5時間
放置する。例10Fの記載と同様に徒処理する。シリカ
ゲルでのクロマトグラフィの後に、油状物としての17
β−ヒドロキシ−1α、16.16−)ジエチル−17
α−(3−プロピオニルオキシゾロビル)−5α−アン
トロスタン−3−オン1.15Fが得られた。
ゾロビル)−1α、16.16−)ジエチル−5α−ア
ンげロスタン−3−オン1.12をピリ・ジン2.2
d及び無水ゾロピオン酸1.1−中、室温で4.5時間
放置する。例10Fの記載と同様に徒処理する。シリカ
ゲルでのクロマトグラフィの後に、油状物としての17
β−ヒドロキシ−1α、16.16−)ジエチル−17
α−(3−プロピオニルオキシゾロビル)−5α−アン
トロスタン−3−オン1.15Fが得られた。
例18
A、テトラしPセフラン4o−中の17β−ヒドロキシ
−1α、2α−メチレン−5α−アントロスタン−3−
オン8.Ofの溶液に3゜牛−ジヒPロー2H−ピラン
8−及びオキシ塩化燐3滴を加え、室温で30分攪拌す
る。
−1α、2α−メチレン−5α−アントロスタン−3−
オン8.Ofの溶液に3゜牛−ジヒPロー2H−ピラン
8−及びオキシ塩化燐3滴を加え、室温で30分攪拌す
る。
引続きジエチルエーテルで稀釈し、炭酸水素す) +3
ウム及び水で洗沖し、乾燥させかつ蒸発濃縮させる。1
α、2α−メチレン−17β−(テトラヒドロピラン−
2−イルオキシ)−5α−アントロスタン−3−オン9
.Ofが得られる。
ウム及び水で洗沖し、乾燥させかつ蒸発濃縮させる。1
α、2α−メチレン−17β−(テトラヒドロピラン−
2−イルオキシ)−5α−アントロスタン−3−オン9
.Ofが得られる。
El、 lα、2α−メチレン−17β−(テトラヒ
ドロビランー2−イルオキシ)−6α−アンrロスタン
ー3−オン9.Ofをテトラヒドロフラン9〇−中でリ
チウム−t−デトキシアラネー)10fと共に室温で2
.5時間放置する、反応溶液をジエチルエーテルで稀釈
し、2N硫酸及び水で洗浄し、″乾燥させかつ蒸発濃縮
させる。残分として1α、2α−メチレン−17β−(
テトラヒPロビランー2−イルオキシ)−5α−アント
ロスタン−3−オール9.Ofが得られる。
ドロビランー2−イルオキシ)−6α−アンrロスタン
ー3−オン9.Ofをテトラヒドロフラン9〇−中でリ
チウム−t−デトキシアラネー)10fと共に室温で2
.5時間放置する、反応溶液をジエチルエーテルで稀釈
し、2N硫酸及び水で洗浄し、″乾燥させかつ蒸発濃縮
させる。残分として1α、2α−メチレン−17β−(
テトラヒPロビランー2−イルオキシ)−5α−アント
ロスタン−3−オール9.Ofが得られる。
C,lα、2α−メチレン−17β−(テトラヒPロビ
ランー2−イルオキシ)−5α−アントロスタン−3−
十−ルQ、 Ot %: ヒ+J シy20m及び無水
酢W11〇−中、室温で20時間放置する。溶液を氷水
中に攪拌導入し、生じる沈殿を濾去し、ジエチルエーテ
ル中に入れ、水で洗浄しかつ乾燥させる。蒸発濃縮の後
に、′3−アセトキシー1α、2α−メチレン−17β
−(テトラヒPロビランー2−イルオキシ)−5α−ア
ントロスタンllfが得られる。
ランー2−イルオキシ)−5α−アントロスタン−3−
十−ルQ、 Ot %: ヒ+J シy20m及び無水
酢W11〇−中、室温で20時間放置する。溶液を氷水
中に攪拌導入し、生じる沈殿を濾去し、ジエチルエーテ
ル中に入れ、水で洗浄しかつ乾燥させる。蒸発濃縮の後
に、′3−アセトキシー1α、2α−メチレン−17β
−(テトラヒPロビランー2−イルオキシ)−5α−ア
ントロスタンllfが得られる。
D、テトラヒドロフラン55−及びメタノール55−中
の3−アセトキシ−1α、2α−メ’fV7−17β−
(テトラヒドロフラン−2−イルオキシ)−5α−アン
トロスタン11tの溶液に8嗟硫酸11−を加え、室温
で3時間攪拌する。反応溶液をジエチルエーテルで稀釈
し、水で洗浄し、・乾燥させかつ蒸発濃縮させる。残分
なシリカゲルのクロマトグラフイにかける。収量!3−
アセトキシ−1α。
の3−アセトキシ−1α、2α−メ’fV7−17β−
(テトラヒドロフラン−2−イルオキシ)−5α−アン
トロスタン11tの溶液に8嗟硫酸11−を加え、室温
で3時間攪拌する。反応溶液をジエチルエーテルで稀釈
し、水で洗浄し、・乾燥させかつ蒸発濃縮させる。残分
なシリカゲルのクロマトグラフイにかける。収量!3−
アセトキシ−1α。
2α−メチレン−5α−アン−ロスタン−1フβ−オー
ル7、Of。
ル7、Of。
E、ジクロルメタン68−中の3−アセトキシ−1α、
2α−メチレン−5α−アン#′ロスタンー17β−オ
ールの溶液に、ピリジニウムクロルクロメート10.2
fを添加し、重置で1時間攪拌する。引続き・ジエチル
エーテルで稀釈し、水で洗浄しかつ乾燥させる。蒸発濃
縮の後に、3−アセトキシ−1α、2α−メチレン−5
α−エンrロスタンー17−オン7、Ofが得られる。
2α−メチレン−5α−アン#′ロスタンー17β−オ
ールの溶液に、ピリジニウムクロルクロメート10.2
fを添加し、重置で1時間攪拌する。引続き・ジエチル
エーテルで稀釈し、水で洗浄しかつ乾燥させる。蒸発濃
縮の後に、3−アセトキシ−1α、2α−メチレン−5
α−エンrロスタンー17−オン7、Ofが得られる。
F、3−アセトキシ−1α、2α−メチレン−5α−ア
ントロスタン−17−オン7、 Of 全無水テトラヒ
ドロフラン70−中に溶かし、溶液を水浴中で冷却し、
アルザンノンにカリウムメチレート17tを加える、そ
の後、無水テトラヒrロフランl O,φ−中に溶かし
九蒸溜ゾロ/eルイルアルコール10.5sdlll加
し、引続き、室温で3時間攪拌する。例1Cの記載と同
様に後処理し、残分なジイソゾロピルエーテルと共に擦
する。融点136℃の17α−(3−ヒrロキシーl−
プロピニル)−1α、2α−メチレン−5α−アンPロ
メタンー3,17β−ジオール7.3fが得られる。
ントロスタン−17−オン7、 Of 全無水テトラヒ
ドロフラン70−中に溶かし、溶液を水浴中で冷却し、
アルザンノンにカリウムメチレート17tを加える、そ
の後、無水テトラヒrロフランl O,φ−中に溶かし
九蒸溜ゾロ/eルイルアルコール10.5sdlll加
し、引続き、室温で3時間攪拌する。例1Cの記載と同
様に後処理し、残分なジイソゾロピルエーテルと共に擦
する。融点136℃の17α−(3−ヒrロキシーl−
プロピニル)−1α、2α−メチレン−5α−アンPロ
メタンー3,17β−ジオール7.3fが得られる。
G、 17α−(3−ヒドロキシ−1−プロピニル)−
1α、2α−メチレン−5α−アントロスタン−3,1
7β−ジオール4.OfにテトラヒPロフラン4〇−及
び2−ゾロノ臂ノール60−中で、10憾パラジウム−
炭酸カルシウム−触媒400qと共に2当曽の水素が吸
収されるまで水素添加する。触媒を濾去し、濾液を真空
中で蒸発乾個させる。17α−(3−ヒドロキシプロピ
ル)−1α、2α−メチレン−5α−エンrロスタンー
3,17β−ジオール4.Ofが得られる。
1α、2α−メチレン−5α−アントロスタン−3,1
7β−ジオール4.OfにテトラヒPロフラン4〇−及
び2−ゾロノ臂ノール60−中で、10憾パラジウム−
炭酸カルシウム−触媒400qと共に2当曽の水素が吸
収されるまで水素添加する。触媒を濾去し、濾液を真空
中で蒸発乾個させる。17α−(3−ヒドロキシプロピ
ル)−1α、2α−メチレン−5α−エンrロスタンー
3,17β−ジオール4.Ofが得られる。
H,17α−(3−ヒドロキシプロピル)−1α、2α
−メチレン−5α−エンPロスタンー3.17β−ジオ
ール20FをジメチルホJl/ A 7ミP1〇−中で
、無水プロピオン酸2−と共に酢酸鉛(II)1.2r
の存在で、室温で24時間攪拌する。反応溶液を氷水中
に攪拌導入し、生じる沈殿を濾過し、ジエチルエーテル
中に入れる。溶液を炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗
浄し、乾燥させ、かつ蒸発濃縮させる。残分なシリカゲ
ルのクロマトグラフィにかける。lα、2α−メチレン
−17α−(3−プロピオニルオキシプロビル)−6α
−エンPロスタンー3.17β−ジオール970qが得
られ九。
−メチレン−5α−エンPロスタンー3.17β−ジオ
ール20FをジメチルホJl/ A 7ミP1〇−中で
、無水プロピオン酸2−と共に酢酸鉛(II)1.2r
の存在で、室温で24時間攪拌する。反応溶液を氷水中
に攪拌導入し、生じる沈殿を濾過し、ジエチルエーテル
中に入れる。溶液を炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗
浄し、乾燥させ、かつ蒸発濃縮させる。残分なシリカゲ
ルのクロマトグラフィにかける。lα、2α−メチレン
−17α−(3−プロピオニルオキシプロビル)−6α
−エンPロスタンー3.17β−ジオール970qが得
られ九。
1、 lα、2α−メチレン−17α−(3−プロピ
オニルオキシプロビル)−5α−77rロスタ/−31
17β−−)*−ル970m1t、ジメチルホルムアミ
)’12.5d中、ピリジエウムジクロメー)2.Ql
Fと共に室温で2時間攪拌する。反応溶液を10倍量の
酢酸エチル中に攪拌導入し、その後、析出したクロム塩
を傾斜除来し、有機相を水で洗浄する。乾燥及び濃縮の
後に、残分をシリカダルのクロマトグラフィにかける。
オニルオキシプロビル)−5α−77rロスタ/−31
17β−−)*−ル970m1t、ジメチルホルムアミ
)’12.5d中、ピリジエウムジクロメー)2.Ql
Fと共に室温で2時間攪拌する。反応溶液を10倍量の
酢酸エチル中に攪拌導入し、その後、析出したクロム塩
を傾斜除来し、有機相を水で洗浄する。乾燥及び濃縮の
後に、残分をシリカダルのクロマトグラフィにかける。
ジイソゾロピルエーテル−アセトンからの再結晶の徒に
、融点210℃の17β−ヒドロキシ−1α、2α−メ
チレン−17α−(3−プロピオニルオキシプロビル)
−5α−アントロスタン−3−オン560m19が得ら
れた。
、融点210℃の17β−ヒドロキシ−1α、2α−メ
チレン−17α−(3−プロピオニルオキシプロビル)
−5α−アントロスタン−3−オン560m19が得ら
れた。
19
A、 2−クロル−17β−ヒPロキシー6α−アン
Pロスチー1−エン−3−オン151をベンソール30
0−及びエチレングリコール45−中で、p−)ルオー
ルスルホン酸750−と共K、水分離機の使用下に還流
器を付して2.5時間加熱する。冷却後に、この溶液に
ピリジン2−を加え、ジエチルエーテルで稀釈し、水で
洗浄し、乾燥させかつ蒸発濃縮さセル。2−クロル−3
,3−エチレンジオキシ−5α−アン−ロスチー1−エ
ン−1フβ−オール17.2Fが得られた。ジイソプロ
ピルエーテルと擦した試料は191℃で融解する。
Pロスチー1−エン−3−オン151をベンソール30
0−及びエチレングリコール45−中で、p−)ルオー
ルスルホン酸750−と共K、水分離機の使用下に還流
器を付して2.5時間加熱する。冷却後に、この溶液に
ピリジン2−を加え、ジエチルエーテルで稀釈し、水で
洗浄し、乾燥させかつ蒸発濃縮さセル。2−クロル−3
,3−エチレンジオキシ−5α−アン−ロスチー1−エ
ン−1フβ−オール17.2Fが得られた。ジイソプロ
ピルエーテルと擦した試料は191℃で融解する。
B、2−クロル−3,3−エチレンジオキシ−5α−フ
yl’ロヌf−1−エン−17β−オール5.Ofをジ
メチルホルムアミド5〇−中、ピリジニウムジクロメー
ト10fと共に室温で17時間攪拌する。例10Bの記
載と同様に後処理する。蒸発濃縮後に、2−クロル−3
,3−エチレンジオキシ−5α−アンPロスチー1−エ
ンー17−オン5fが得られた。
yl’ロヌf−1−エン−17β−オール5.Ofをジ
メチルホルムアミド5〇−中、ピリジニウムジクロメー
ト10fと共に室温で17時間攪拌する。例10Bの記
載と同様に後処理する。蒸発濃縮後に、2−クロル−3
,3−エチレンジオキシ−5α−アンPロスチー1−エ
ンー17−オン5fが得られた。
C6無水テトラヒドロフラン4さ一中の2−クロル−3
,3−エチレンジオキシ−5α−アン−ロスチー1−エ
ン−1フーオンキ、5tの溶液を水浴中で冷却し、アル
ザンノンにカリウムメチレート10.8Fを加える。こ
れに、テトラヒドロフラン13.5−中の蒸溜プロパル
イルアルコール6.75−の溶液を滴加シ、引続き室温
で2時間攪拌する。反応溶液をジクロルメタンで稀釈し
、稀硫酸及び水で洗浄しかつ乾燥させる。蒸発後に得ら
れる残分なシリカゲルのクロマトグラフィにかける。2
−クロル−3,3−エチレンジオキシ−17α−(3−
ヒPロキシー1−プロぎニル)−5α−アンドロステー
】−エン−17β−オール3.75Fが得られる。
,3−エチレンジオキシ−5α−アン−ロスチー1−エ
ン−1フーオンキ、5tの溶液を水浴中で冷却し、アル
ザンノンにカリウムメチレート10.8Fを加える。こ
れに、テトラヒドロフラン13.5−中の蒸溜プロパル
イルアルコール6.75−の溶液を滴加シ、引続き室温
で2時間攪拌する。反応溶液をジクロルメタンで稀釈し
、稀硫酸及び水で洗浄しかつ乾燥させる。蒸発後に得ら
れる残分なシリカゲルのクロマトグラフィにかける。2
−クロル−3,3−エチレンジオキシ−17α−(3−
ヒPロキシー1−プロぎニル)−5α−アンドロステー
】−エン−17β−オール3.75Fが得られる。
D、2−クロル−3,3−エチレンジオキシ−17α−
(3−ヒPロキシー1−プロピニル)−5α−アンPロ
スチー1−エンー17β−オール3.75 tに、テト
ラヒドロフラン2〇−及び2−プロノ々ノール20nt
中で、10%パラジウム−炭酸カルシウム−触媒500
岬と共VC2当量の水素が吸収されるまで水素添加する
。引続き、触媒を濾去し、真空中で蒸発乾個させる。残
分をシリカゲルでのクロマトグラフィにかける。2−ク
ロル−3,3−エチレンジオキシ−17α−(3−ヒド
ロキシゾロビル)−5α−アンドロステ−1−エン−1
7β−オール450qが得らねる。
(3−ヒPロキシー1−プロピニル)−5α−アンPロ
スチー1−エンー17β−オール3.75 tに、テト
ラヒドロフラン2〇−及び2−プロノ々ノール20nt
中で、10%パラジウム−炭酸カルシウム−触媒500
岬と共VC2当量の水素が吸収されるまで水素添加する
。引続き、触媒を濾去し、真空中で蒸発乾個させる。残
分をシリカゲルでのクロマトグラフィにかける。2−ク
ロル−3,3−エチレンジオキシ−17α−(3−ヒド
ロキシゾロビル)−5α−アンドロステ−1−エン−1
7β−オール450qが得らねる。
E、2−クロル−3,3−エチレンジオキシ−17α−
(3−ヒドロキシゾロビル)−5α−アンrロスチー1
−エンー17β−オール440qをテトラヒドロフラン
4.4−及びメタノール4.4−中に溶かす。溶液を8
憾硫酸0.88−の添加の徒に、室温で5時間攪拌し。
(3−ヒドロキシゾロビル)−5α−アンrロスチー1
−エンー17β−オール440qをテトラヒドロフラン
4.4−及びメタノール4.4−中に溶かす。溶液を8
憾硫酸0.88−の添加の徒に、室温で5時間攪拌し。
ジエチルエーテルで稀釈し、水で洗浄し、乾燥させ、か
つ蒸発濃縮させる。収量:2−クロル−17β−ヒPロ
キシー17α−(3−ヒドロキシゾロビル)−5α−ア
ン−ロスチー1−エン−3−オン415′q。
つ蒸発濃縮させる。収量:2−クロル−17β−ヒPロ
キシー17α−(3−ヒドロキシゾロビル)−5α−ア
ン−ロスチー1−エン−3−オン415′q。
F、 2−クロル−17β−ヒドロキシ−17α−(
3−ヒドロキシゾロビル)−5α−アンドロステ−1−
エン−3−オン415qをピリジン1.6−及び無水!
ロビオン酸0.8−中に室温で16時間放置する。例1
0にの記載と同様に後処理し、残分をシリカゲルのクロ
、マドグラフィにかける。′油状物としての2−クロル
−17β−ヒドロキシ−17α−(3−プロピオニルオ
キシプロビル)−6α−アンドロースチー1−エン−3
−オン3701qが得られた。〔α発”=+15°(C
=0.5クロロホルム中)。
3−ヒドロキシゾロビル)−5α−アンドロステ−1−
エン−3−オン415qをピリジン1.6−及び無水!
ロビオン酸0.8−中に室温で16時間放置する。例1
0にの記載と同様に後処理し、残分をシリカゲルのクロ
、マドグラフィにかける。′油状物としての2−クロル
−17β−ヒドロキシ−17α−(3−プロピオニルオ
キシプロビル)−6α−アンドロースチー1−エン−3
−オン3701qが得られた。〔α発”=+15°(C
=0.5クロロホルム中)。
例20
17β−ヒPロキシー17α−(3−ヒ10キシプロピ
ル)−i+−アン10ステン−3−オン20fをイ酸7
−中に溶かす。この溶液K、水冷下に無水酢酸4−を加
え、5℃で1.5時間攪拌する。引続き、氷水中に攪拌
導入し、ジエチルエーテルで抽出し、炭酸水素ナトリウ
ム及び水で洗浄する。硫酸マグネシウム上での乾燥の後
K、真空中で濃縮する。得られた粗生成物をジクロルメ
タン−アセトンを用h、シリカゲルのクロマトグラフィ
にかける。17α−(3−ホルミルオキシゾロビル)−
17β−ヒドロキシ−蚤−アンPロステンー3−オン1
.1Fが得うレタ。((X)、;”=+68°(C=0
.5クロaytcルh中)。
ル)−i+−アン10ステン−3−オン20fをイ酸7
−中に溶かす。この溶液K、水冷下に無水酢酸4−を加
え、5℃で1.5時間攪拌する。引続き、氷水中に攪拌
導入し、ジエチルエーテルで抽出し、炭酸水素ナトリウ
ム及び水で洗浄する。硫酸マグネシウム上での乾燥の後
K、真空中で濃縮する。得られた粗生成物をジクロルメ
タン−アセトンを用h、シリカゲルのクロマトグラフィ
にかける。17α−(3−ホルミルオキシゾロビル)−
17β−ヒドロキシ−蚤−アンPロステンー3−オン1
.1Fが得うレタ。((X)、;”=+68°(C=0
.5クロaytcルh中)。
lI21
17β−とドロキシ−17α−(3−ヒドロキシゾロビ
ル)−4−アンPロステンー3−オン202をピリジン
1〇−中に溶かし、無水)酸養−と共に室温で1時間攪
拌する。氷水中での沈殿の後に、得られた沈殿を濾過し
、水で洗浄し、ジクロルメタン中に入れる。溶液を硫酸
マグネシウム上で乾燥させ、真9中で濃縮する。
ル)−4−アンPロステンー3−オン202をピリジン
1〇−中に溶かし、無水)酸養−と共に室温で1時間攪
拌する。氷水中での沈殿の後に、得られた沈殿を濾過し
、水で洗浄し、ジクロルメタン中に入れる。溶液を硫酸
マグネシウム上で乾燥させ、真9中で濃縮する。
得られる粗生放物を、ジクロルメタン−アセトンを用い
るシリカゲルでのクロマトグラフィで精製スる。17α
−(3−アセトキシプロピル)−17β−ヒトミキシ−
4−アンドロステン−3−1ン1.2 f カaラレf
c。(α)82 == 63°(C=0.5クロロホル
ム中)。
るシリカゲルでのクロマトグラフィで精製スる。17α
−(3−アセトキシプロピル)−17β−ヒトミキシ−
4−アンドロステン−3−1ン1.2 f カaラレf
c。(α)82 == 63°(C=0.5クロロホル
ム中)。
例22
17β−ヒトミキシ−17α−(3−ヒドロキシゾロビ
ル)−+−アンPロステンー3−オン2.Ofをピリジ
ン1〇−中に溶かし、無水!ロビオン酸4−と共に室温
で1時間攪拌する。
ル)−+−アンPロステンー3−オン2.Ofをピリジ
ン1〇−中に溶かし、無水!ロビオン酸4−と共に室温
で1時間攪拌する。
引続き水で稀釈し、ジエチルエーテルで抽出し、集めた
エーテル相を水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥さ
せかつ真空中で濃縮させる。得られた粗生成物をジクロ
ルメタン−アセトンを用いるシリカゲルでのクロマトグ
ラフィにかける。17β−ヒトミキシー17α−(3−
プロピオニルオキシゾロビル)−養−アンドロステン−
3−オン1.4tが得られた。〔α);’−+eo。
エーテル相を水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥さ
せかつ真空中で濃縮させる。得られた粗生成物をジクロ
ルメタン−アセトンを用いるシリカゲルでのクロマトグ
ラフィにかける。17β−ヒトミキシー17α−(3−
プロピオニルオキシゾロビル)−養−アンドロステン−
3−オン1.4tが得られた。〔α);’−+eo。
(C−0,5クロロホルム中)。
例23
17β−ヒyaキシ−17α−(3−ヒドロキシゾロビ
ル)−4−アンげロステン−3−オン2.Ofをビリシ
ソ1 Otd中に溶かし、無水酪酸牛−と共に室温で1
時間攪拌する。引続き、水で稀釈し1.ジエチルエーテ
ルで抽出し、集めたエーテル相を水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥させ、真空中で濃縮させる。得られた
粗生成物をジクロルメタン−アセトンを用いて、シリカ
ゲルでのクロマトグラフィにかける。17α−(3−ブ
チリルオキシゾロシル)−17β−ヒトaキシ−4−ア
ンドロステン−3−オン1.2F#得られた。(a )
、;” 2+57°(C−0,5クロロホルム中)。
ル)−4−アンげロステン−3−オン2.Ofをビリシ
ソ1 Otd中に溶かし、無水酪酸牛−と共に室温で1
時間攪拌する。引続き、水で稀釈し1.ジエチルエーテ
ルで抽出し、集めたエーテル相を水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥させ、真空中で濃縮させる。得られた
粗生成物をジクロルメタン−アセトンを用いて、シリカ
ゲルでのクロマトグラフィにかける。17α−(3−ブ
チリルオキシゾロシル)−17β−ヒトaキシ−4−ア
ンドロステン−3−オン1.2F#得られた。(a )
、;” 2+57°(C−0,5クロロホルム中)。
1124
17β−ヒfa*シー17(X−(3−ヒドロキシゾロ
ビル)−4−アンPロステンー3−オン2.Ofをピリ
ジン10−中で無水ピノ々リン酸3−及びジメチルアミ
ノピリジン3oOqと共に室温で2時間攪拌する、引続
き水で稀釈し、ジエチルエーテルで抽出し、集めた有機
相を水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、真空
中で濃縮する。得られ九粗生放物をジクロルメタン−ア
セトンを用するシリカゲルでのクロマトグラフィにかけ
る。17β−とPクキシー1フα−(3−ピノマロイル
オキシプロピル)−4−アンPロステンー3−オン1,
3fが得うした。〔α:l:”=a+51’ (C−0
,5りo aホルム中)。
ビル)−4−アンPロステンー3−オン2.Ofをピリ
ジン10−中で無水ピノ々リン酸3−及びジメチルアミ
ノピリジン3oOqと共に室温で2時間攪拌する、引続
き水で稀釈し、ジエチルエーテルで抽出し、集めた有機
相を水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、真空
中で濃縮する。得られ九粗生放物をジクロルメタン−ア
セトンを用するシリカゲルでのクロマトグラフィにかけ
る。17β−とPクキシー1フα−(3−ピノマロイル
オキシプロピル)−4−アンPロステンー3−オン1,
3fが得うした。〔α:l:”=a+51’ (C−0
,5りo aホルム中)。
例25
A、 1’L/−ヒPry+シー17(X−(3−ヒ
ドロキシゾロビル)−4−アンドロステン−3−オン2
0fをメタノール400−及びジクロルメタン4o−中
に溶かし、0℃で2N苛性ソーダ4o−及び30%過酸
化水素50wtと共に18時間攪拌する。反応混合物を
氷水中に攪拌導入し、生じた沈殿な濾通し、水で洗浄し
、ジクロルメタン中に入れる。溶液を硫酸マグネシウム
上で乾燥させ、真空中で濃縮する。得られる粗生成物を
ジクロルメタン−アセトンを用いるシリカゲルでのクロ
マトグラフィにかける。4β、5−ニーキシ−17β−
ヒドロキシ−17α−(3−ヒドロキシゾロビル)−5
β−アンrロスタンー3−オン14.5Fが得られる1
、 B、4β、5−エポキシ−17β−とPクキシー1フα
−(3−ヒドロキシゾロビル)−5β−アンPロスタン
ー3−オン14.6 fから、IpH22に記載の条件
下で、養β、5−エイヤシー17β−ヒrロキシー17
α−(3−プロピオニルオキシゾロビル)−5β−アン
Pロスタンー3−オン15.6fが得られた。
ドロキシゾロビル)−4−アンドロステン−3−オン2
0fをメタノール400−及びジクロルメタン4o−中
に溶かし、0℃で2N苛性ソーダ4o−及び30%過酸
化水素50wtと共に18時間攪拌する。反応混合物を
氷水中に攪拌導入し、生じた沈殿な濾通し、水で洗浄し
、ジクロルメタン中に入れる。溶液を硫酸マグネシウム
上で乾燥させ、真空中で濃縮する。得られる粗生成物を
ジクロルメタン−アセトンを用いるシリカゲルでのクロ
マトグラフィにかける。4β、5−ニーキシ−17β−
ヒドロキシ−17α−(3−ヒドロキシゾロビル)−5
β−アンrロスタンー3−オン14.5Fが得られる1
、 B、4β、5−エポキシ−17β−とPクキシー1フα
−(3−ヒドロキシゾロビル)−5β−アンPロスタン
ー3−オン14.6 fから、IpH22に記載の条件
下で、養β、5−エイヤシー17β−ヒrロキシー17
α−(3−プロピオニルオキシゾロビル)−5β−アン
Pロスタンー3−オン15.6fが得られた。
C,アセトン175−中の4β、5−エポキシ−17β
−とPクキシー1フα−(3−プロピオニルオキシゾロ
ビル)−5β−アントロスタン−3−オン8.9Fの溶
液に濃塩酸8.9−を加え、室温で6.5時間攪拌する
。引続き、氷水中に注ぎ、生じる固体なS過し、水で洗
浄し、ジクロルメタン中に入れた。溶液を硫酸マグネシ
ウム上で乾燥させ、真空中で濃縮する。得られる粗生成
物をジクロルメタンを用いるシリカゲルでのクロマトグ
ラフィKかける。養−クロル−17β−ヒrロキシー1
7α−(3−7’ロビオニルオキシゾロビル)−4−ア
ンPロステンー3−オン+、9tがaられ九。〔α〕シ
”−+72°(C−0,5クロロホルム中)。
−とPクキシー1フα−(3−プロピオニルオキシゾロ
ビル)−5β−アントロスタン−3−オン8.9Fの溶
液に濃塩酸8.9−を加え、室温で6.5時間攪拌する
。引続き、氷水中に注ぎ、生じる固体なS過し、水で洗
浄し、ジクロルメタン中に入れた。溶液を硫酸マグネシ
ウム上で乾燥させ、真空中で濃縮する。得られる粗生成
物をジクロルメタンを用いるシリカゲルでのクロマトグ
ラフィKかける。養−クロル−17β−ヒrロキシー1
7α−(3−7’ロビオニルオキシゾロビル)−4−ア
ンPロステンー3−オン+、9tがaられ九。〔α〕シ
”−+72°(C−0,5クロロホルム中)。
例26
養β、5−エイキシー17β−ヒPロキシー17α−(
3−プロピオニルオキシゾロビル)−5β−アンげロス
タン−3−オンB、Ofを酢酸320−及び2倍稀釈し
た濃硫酸8−中で、70℃で2時間攪拌する、真空中で
、酢酸の大部分を溜去し、残分にジクロルメタンを加え
、稀苛性ンーダ及び水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で
乾燥させ、真空中で摂縮させる。得られる粗生成物を、
ジクロルメタン−アセトンを用いるシリカゲルでのクロ
マトグラフィにかける。
3−プロピオニルオキシゾロビル)−5β−アンげロス
タン−3−オンB、Ofを酢酸320−及び2倍稀釈し
た濃硫酸8−中で、70℃で2時間攪拌する、真空中で
、酢酸の大部分を溜去し、残分にジクロルメタンを加え
、稀苛性ンーダ及び水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で
乾燥させ、真空中で摂縮させる。得られる粗生成物を、
ジクロルメタン−アセトンを用いるシリカゲルでのクロ
マトグラフィにかける。
冬、17β−ジヒドロキシ−17α−(3−プロピオニ
ルオキシプロビル)−4−アンPロステンー3−オン5
.2fが得られた。〔α〕ら2=+21’(C−0,5
クロロポルム中)。
ルオキシプロビル)−4−アンPロステンー3−オン5
.2fが得られた。〔α〕ら2=+21’(C−0,5
クロロポルム中)。
g@27
ん 17β−ヒPロキシー17α−(3−ヒドロキシプ
ロピル)−4,6−アンrロスタジエン−3−オン9.
84fがら、例22に記載の条件下に、17β−ヒPロ
キシー17α−C3−fロビオニルオΦシゾロビル)−
4,6−アンドロスタジエン−3−オンlo、2Fが得
られる。
ロピル)−4,6−アンrロスタジエン−3−オン9.
84fがら、例22に記載の条件下に、17β−ヒPロ
キシー17α−C3−fロビオニルオΦシゾロビル)−
4,6−アンドロスタジエン−3−オンlo、2Fが得
られる。
B、 17β−ヒPロキシー17α−(3−プロピオニ
ルオキシプロビル)−4,6−アンPロスタシエン−3
−オン2.52ヲベンゾール125d中に溶かし、ジク
ロルジシアンベンゾキノン25tと共に還流下に6時間
煮沸する。冷却後に生じる固体を濾去し、濾液をIN苛
性7−/及び水で洗浄し、硫酸マグネシウム士で乾燥さ
せ、真空中で濃縮させる。得られた粗生成物を、ジクロ
ルメタン−アセトンを用いるシリカゲルのクロマトグラ
フィKかける。、17β−ヒPロキシー17α−(3−
ソロピオニルオキシプロピル)−1,,4゜6−アンド
ロスタ・ジエン−3−オン1.2F#得られた。〔α)
82−4g°((’==Q、5りoaホルム中)。
ルオキシプロビル)−4,6−アンPロスタシエン−3
−オン2.52ヲベンゾール125d中に溶かし、ジク
ロルジシアンベンゾキノン25tと共に還流下に6時間
煮沸する。冷却後に生じる固体を濾去し、濾液をIN苛
性7−/及び水で洗浄し、硫酸マグネシウム士で乾燥さ
せ、真空中で濃縮させる。得られた粗生成物を、ジクロ
ルメタン−アセトンを用いるシリカゲルのクロマトグラ
フィKかける。、17β−ヒPロキシー17α−(3−
ソロピオニルオキシプロピル)−1,,4゜6−アンド
ロスタ・ジエン−3−オン1.2F#得られた。〔α)
82−4g°((’==Q、5りoaホルム中)。
1128
A、 15β、16β−1’fレン−3β−(テトラヒ
ドロビラン−2−イルオキシ)−5−アンドロステン−
7−オン221を無水テトラヒPロアラン400−中に
溶がし、これに、水冷下に、カリウムメチレー)65f
を加える。この懸濁液に、攪拌下に無水テトラヒrロフ
ラン88d中のプロパルゼルアルコール44−の溶液を
滴加する。反応溶液を室温で4時間攪拌し、その蕾、氷
水5を中に攪拌導入し、酢酸で中和する。沈殿を濾過し
、機浄しかつ乾燥させる。得られた粗生成物を酢酸エチ
ルと共に擦する。融点196℃の17α−(3−ヒrロ
キシーl−ピロビニル)−15β、16β−メチレン−
3β−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−5−
アン−ロステン−1フβ−オール239が得られた。
ドロビラン−2−イルオキシ)−5−アンドロステン−
7−オン221を無水テトラヒPロアラン400−中に
溶がし、これに、水冷下に、カリウムメチレー)65f
を加える。この懸濁液に、攪拌下に無水テトラヒrロフ
ラン88d中のプロパルゼルアルコール44−の溶液を
滴加する。反応溶液を室温で4時間攪拌し、その蕾、氷
水5を中に攪拌導入し、酢酸で中和する。沈殿を濾過し
、機浄しかつ乾燥させる。得られた粗生成物を酢酸エチ
ルと共に擦する。融点196℃の17α−(3−ヒrロ
キシーl−ピロビニル)−15β、16β−メチレン−
3β−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−5−
アン−ロステン−1フβ−オール239が得られた。
B、 メタノール1.3を中の17α−(3−ヒドロキ
シ−1−プロピニル)−15β、16β−メチレンニ3
β−(テトラヒrロビランー2−4ルオキシ)−5−ア
ンドロステン−17β−オー ル(D 溶液にラネーニ
ッケル3匙を加え、水素吸収が止むまで水素添加する。
シ−1−プロピニル)−15β、16β−メチレンニ3
β−(テトラヒrロビランー2−4ルオキシ)−5−ア
ンドロステン−17β−オー ル(D 溶液にラネーニ
ッケル3匙を加え、水素吸収が止むまで水素添加する。
その後、触媒を濾去し、溶液を真空で濃縮し、残分を酢
酸エチルから再結晶させる。融点160℃の17α−(
3−ヒドロキシプロピル)−15β、16β−メチレン
−3β−(テトラヒドロピランー2−イルオキシ)−5
−アン−ロステン−1フβ−オール14.1fが得られ
る。
酸エチルから再結晶させる。融点160℃の17α−(
3−ヒドロキシプロピル)−15β、16β−メチレン
−3β−(テトラヒドロピランー2−イルオキシ)−5
−アン−ロステン−1フβ−オール14.1fが得られ
る。
C017α−(3−とPロキシプロピル)−15β、1
6β−メチレン−3β−(テトラヒドロピラン−2−イ
ルオキシ)−5−アン−ロステン−1フβ−オール14
?がら、例22に記載の条件下に15β、16β−メチ
レンー17α−(3−プロピオニルオキシプロビル)−
3β−(テトラヒPロピランー2−イルオキシ)−5−
アンPロステンー17β−オール13.2Fが得られる
。
6β−メチレン−3β−(テトラヒドロピラン−2−イ
ルオキシ)−5−アン−ロステン−1フβ−オール14
?がら、例22に記載の条件下に15β、16β−メチ
レンー17α−(3−プロピオニルオキシプロビル)−
3β−(テトラヒPロピランー2−イルオキシ)−5−
アンPロステンー17β−オール13.2Fが得られる
。
D、 15β、16β−メチレン−17α−(3−プロ
ピオニルオキシプロビル)−3β−(テトラヒrロビラ
ンー2−イルオキシ)−5−“°Tアンロステンー17
β−オール13Fをメタノール390−及び水40−中
でピリジントシレート4ooWqと共に50℃で3時間
攪拌する。真空中で溶剤の半分を溜去し、残分な氷水中
で沈殿させろ。沈殿する生成物をジクロルメタン中に入
れ、溶液を炭酸水素ナトリウム及び水で洗浄し、硫酸マ
グネシウム上で乾燥させ、真空中で濃縮する。得られる
粗生成物を1.ジクロルメタンーアセトンを用いるシリ
カゲルでのクロマトグラフィにかける。
ピオニルオキシプロビル)−3β−(テトラヒrロビラ
ンー2−イルオキシ)−5−“°Tアンロステンー17
β−オール13Fをメタノール390−及び水40−中
でピリジントシレート4ooWqと共に50℃で3時間
攪拌する。真空中で溶剤の半分を溜去し、残分な氷水中
で沈殿させろ。沈殿する生成物をジクロルメタン中に入
れ、溶液を炭酸水素ナトリウム及び水で洗浄し、硫酸マ
グネシウム上で乾燥させ、真空中で濃縮する。得られる
粗生成物を1.ジクロルメタンーアセトンを用いるシリ
カゲルでのクロマトグラフィにかける。
15β、16β−メチレン−17α−(3−プロピオニ
ルオキシプロビル)−5−アンドロステン−3β、〕〕
7β−ジオール8.2が得られる。
ルオキシプロビル)−5−アンドロステン−3β、〕〕
7β−ジオール8.2が得られる。
K、 )ルオール300−中の15β、16β−メチ
レン−17α−(3−プロピオニルオキシプロビル)−
5−アン10ステン−3β。
レン−17α−(3−プロピオニルオキシプロビル)−
5−アン10ステン−3β。
17β−ジオール7.52の溶液にシクロへキサノン1
5−を加え、加熱沸騰させる。約30−のドルオールを
溜去した後に、アルミニウムイソゾロビレ−)3Fを加
え、更に3時間ゆっくり蒸溜させる。酢酸エチルで稀釈
し、2N硫酸及び水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾
燥させ、真空中で濃縮させる。得られる粗生成物をヘキ
サン−アセトンを用いるシリカゲルでのクロマトグラフ
ィにかける。17β−とrロキシ−15β、16β−メ
チレン−17α−(3−プロピオニルオキシプロビル)
−4−アンrロステンー3−オン5.12カqs ラレ
タ。〔α〕r−+41°(C=0.5りCI+:1ホル
ム中)。
5−を加え、加熱沸騰させる。約30−のドルオールを
溜去した後に、アルミニウムイソゾロビレ−)3Fを加
え、更に3時間ゆっくり蒸溜させる。酢酸エチルで稀釈
し、2N硫酸及び水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾
燥させ、真空中で濃縮させる。得られる粗生成物をヘキ
サン−アセトンを用いるシリカゲルでのクロマトグラフ
ィにかける。17β−とrロキシ−15β、16β−メ
チレン−17α−(3−プロピオニルオキシプロビル)
−4−アンrロステンー3−オン5.12カqs ラレ
タ。〔α〕r−+41°(C=0.5りCI+:1ホル
ム中)。
例29
ん 例IA−E及び2 A −Bに記載の条件下に、1
7β−ヒPロキシー18−メチルー養−アンPロステン
−3−オン17.5 Fを17β−ヒPロキシー18−
メチル−17α−(3−プロピオニルオキシプロビル)
−4−アン−ロステン−3−オン4.2tに変シル。
7β−ヒPロキシー18−メチルー養−アンPロステン
−3−オン17.5 Fを17β−ヒPロキシー18−
メチル−17α−(3−プロピオニルオキシプロビル)
−4−アン−ロステン−3−オン4.2tに変シル。
B、 17β−ヒ10キシー18−メチル−17α−(
3−プロピオニルオキシプロビル)−4−7y )’
o スf y −3−ylr 74.Ot f t −
ブタノール200−中でクロラニル10Fと共に還流下
に3時間煮沸する。反応溶液を冷却し、濾過しかつに空
中で濃縮する。得られる残分をクロロホルム中に溶かし
、溶液を水、IN苛性ソーダ及び水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥させ、真空中で濃縮させる。
3−プロピオニルオキシプロビル)−4−7y )’
o スf y −3−ylr 74.Ot f t −
ブタノール200−中でクロラニル10Fと共に還流下
に3時間煮沸する。反応溶液を冷却し、濾過しかつに空
中で濃縮する。得られる残分をクロロホルム中に溶かし
、溶液を水、IN苛性ソーダ及び水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥させ、真空中で濃縮させる。
得られる粗生成物をヘキサン−アセトンを用いるシリカ
ゲルでのクロマトグラフィにかける。融一点169℃の
17β−ヒPロキシー18−メチル−17α−(3−プ
ロピオニルオキシプロビル’) −4、6−アンドロス
タジエン−3−オン2.31が得られた。
ゲルでのクロマトグラフィにかける。融一点169℃の
17β−ヒPロキシー18−メチル−17α−(3−プ
ロピオニルオキシプロビル’) −4、6−アンドロス
タジエン−3−オン2.31が得られた。
例30
ん 無水テトラヒPロフラン40−に、新しく切り取っ
たリチウム片1,5fを加え、アルノン気下に1−クロ
ル−4−(1−エトキシエトキシ)−ブタンlO−を加
え、室温で5分間攪拌し、次いで0℃まで冷却する。こ
れにテトラヒPロフラン5〇−中の3−メトキシ−3,
5−アンPロスタジエンー17−オン5fを加え、0℃
で養時間攪拌する。その後、消費されなかったり〜チウ
ムを傾斜除去し、飽和塩化アンモニウム溶液中に注ぐ。
たリチウム片1,5fを加え、アルノン気下に1−クロ
ル−4−(1−エトキシエトキシ)−ブタンlO−を加
え、室温で5分間攪拌し、次いで0℃まで冷却する。こ
れにテトラヒPロフラン5〇−中の3−メトキシ−3,
5−アンPロスタジエンー17−オン5fを加え、0℃
で養時間攪拌する。その後、消費されなかったり〜チウ
ムを傾斜除去し、飽和塩化アンモニウム溶液中に注ぐ。
ジクロルメタンで抽出の後に、有機相を水で洗浄し、硫
酸マグネシウム上で乾燥させ、真空中で濃縮させる。得
られる粗生成物を、ジクロルメタン−アセトンを用いる
シリカゲルでのクロマトグラフィにかける。17β−ヒ
Pロキシ−17α−〔養−(1−エトキシエトキシ)−
ブチル)−4−アン−ロステン−3−オン1、42 t
が得られる。
酸マグネシウム上で乾燥させ、真空中で濃縮させる。得
られる粗生成物を、ジクロルメタン−アセトンを用いる
シリカゲルでのクロマトグラフィにかける。17β−ヒ
Pロキシ−17α−〔養−(1−エトキシエトキシ)−
ブチル)−4−アン−ロステン−3−オン1、42 t
が得られる。
B、 メタノール25d中の17β−ヒPロキシ−17
α−(4−41−エトキシエトキシ)−ブチル) −4
−’アンrロステンー3−オン1.4Fの溶液に水2.
5−及び蓚酸400qを加え、室温で3時間攪拌し、真
空中で濃縮させる。残分をジクロルメタン中に入れ、溶
液を水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、真空
中で濃縮させる。17β−ヒrロキシー17α−(4−
ヒドロキシブチル)−4−アンPロステンー3−オン9
8011Fが得られる。
α−(4−41−エトキシエトキシ)−ブチル) −4
−’アンrロステンー3−オン1.4Fの溶液に水2.
5−及び蓚酸400qを加え、室温で3時間攪拌し、真
空中で濃縮させる。残分をジクロルメタン中に入れ、溶
液を水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、真空
中で濃縮させる。17β−ヒrロキシー17α−(4−
ヒドロキシブチル)−4−アンPロステンー3−オン9
8011Fが得られる。
C0例22に記載の条件下で、17β−ヒドロキシ−1
7α−(4−ヒドロキシブチル)−4−アンPロステン
ー3−オン94C)vから、17β−ヒPロキシー17
α−(4−プロピオニルオキシブチル)−4−アントロ
スタン−3−、t y75011F2¥得うtLり。(
α)、7−+49°(C−Q、5クロロホルム中)。
7α−(4−ヒドロキシブチル)−4−アンPロステン
ー3−オン94C)vから、17β−ヒPロキシー17
α−(4−プロピオニルオキシブチル)−4−アントロ
スタン−3−、t y75011F2¥得うtLり。(
α)、7−+49°(C−Q、5クロロホルム中)。
例31
17β−ヒPロキシー17α−(3−ヒドロキシプロピ
ル)−1α−メチル−5α−アントロスタン−3−オン
700vをピリ、ジン2.8−及び無水酢酸0.7−中
、室温で16時間放置する。例10gK記載と同様に後
処理し、かつクロマトグラフィにかける。粗生成物をジ
イソゾロビルエーテルから再結晶させる。収量は、融点
64℃の17α−(3−アセトキシプロピル)−17β
−ヒrロキシー1α−メチルー5α−アンrロスタン−
3−オン510”fが得られた。
ル)−1α−メチル−5α−アントロスタン−3−オン
700vをピリ、ジン2.8−及び無水酢酸0.7−中
、室温で16時間放置する。例10gK記載と同様に後
処理し、かつクロマトグラフィにかける。粗生成物をジ
イソゾロビルエーテルから再結晶させる。収量は、融点
64℃の17α−(3−アセトキシプロピル)−17β
−ヒrロキシー1α−メチルー5α−アンrロスタン−
3−オン510”fが得られた。
例32
ん 無水テトラヒrロフラン3o−中の3.3−ニチレ
ンジオキシー1α−メチル−5α−アンPロスタンー1
7−オンの溶液を氷浴中、アルザンノンにカリウムメチ
レー)9.ofを加える。引続き、無水テトラヒドロフ
ラン9−中に溶かしたブチン−1−オール4.5 mg
ヲ滴加し、室温で2.5時間攪拌する。反応混合物をジ
クロルメタンで稀釈し、溶液を稀硫酸及び水で洗浄し、
乾燥させかつ蒸発濃縮させる。残分なシリカゲルのクロ
マトグラフィにかける。油状物として3,3−エチレン
ジオキシ−17α−(4−ヒPロキシー1−ブチニル>
−1α−メチル−6α−アンPロステンー17β−オー
ル5.1fが得られる。
ンジオキシー1α−メチル−5α−アンPロスタンー1
7−オンの溶液を氷浴中、アルザンノンにカリウムメチ
レー)9.ofを加える。引続き、無水テトラヒドロフ
ラン9−中に溶かしたブチン−1−オール4.5 mg
ヲ滴加し、室温で2.5時間攪拌する。反応混合物をジ
クロルメタンで稀釈し、溶液を稀硫酸及び水で洗浄し、
乾燥させかつ蒸発濃縮させる。残分なシリカゲルのクロ
マトグラフィにかける。油状物として3,3−エチレン
ジオキシ−17α−(4−ヒPロキシー1−ブチニル>
−1α−メチル−6α−アンPロステンー17β−オー
ル5.1fが得られる。
B、 3.3−エチレン、クオキシ−17α−(4−ヒ
Pロキシー1−ブチニル)−1α−メチル−5α−アン
Pロスタンー17β−オール640119をピリジン2
.71Rtと無水ゾロピオン酸0.64 mgとの混合
物中で、室温で17時間放置する。例Logに記載と同
様に後処理する。シリカゲルでのクロマトグラフィの後
K。
Pロキシー1−ブチニル)−1α−メチル−5α−アン
Pロスタンー17β−オール640119をピリジン2
.71Rtと無水ゾロピオン酸0.64 mgとの混合
物中で、室温で17時間放置する。例Logに記載と同
様に後処理する。シリカゲルでのクロマトグラフィの後
K。
油状物としての3.3−エチレンジオキシ−1α−メチ
ル−17α−(4−プロピオニルオキシ−1−ブチニル
)−5α−アンrロスタンー17β−オール540wi
が得られた。
ル−17α−(4−プロピオニルオキシ−1−ブチニル
)−5α−アンrロスタンー17β−オール540wi
が得られた。
C,3,3−エチレンジオキシ−1α−メチル−17α
−(4−プロピオニルオキシ−1−フチニル)−5α−
アンドロスタy−17β−オール53C)1をメタノー
ル5.3−中、8憾硫−と共に室温で45分間攪拌する
。例10Dの記載と同様に後処理する。残分なシリカゲ
ルのクロマトグラフィにかける。融点120.5℃の1
7β−ヒPロキシー1α−メチル−17α−(4−プロ
ピオニルオキシ−1−ブチニル)−5α−アンrロスタ
ンー3−オン420■が得られる。
−(4−プロピオニルオキシ−1−フチニル)−5α−
アンドロスタy−17β−オール53C)1をメタノー
ル5.3−中、8憾硫−と共に室温で45分間攪拌する
。例10Dの記載と同様に後処理する。残分なシリカゲ
ルのクロマトグラフィにかける。融点120.5℃の1
7β−ヒPロキシー1α−メチル−17α−(4−プロ
ピオニルオキシ−1−ブチニル)−5α−アンrロスタ
ンー3−オン420■が得られる。
D、17β−ヒドロキシ−lα−メチル−17α−(4
−、’ロピオニルオキシー1−ブーニル)−アントロス
タン−3−オン400svK、P112AK記載の条件
下に、2当量の水素が吸収されるまで水素添加する。粗
生成物をシリカゲルでのクロマトグラフィにかける。油
状物としての17β−ヒドロキシ−1α−メチル−17
α−(4−プロピオニルオキシブチル)−5α−アント
ロスタン−3−オン265岬が得られた。
−、’ロピオニルオキシー1−ブーニル)−アントロス
タン−3−オン400svK、P112AK記載の条件
下に、2当量の水素が吸収されるまで水素添加する。粗
生成物をシリカゲルでのクロマトグラフィにかける。油
状物としての17β−ヒドロキシ−1α−メチル−17
α−(4−プロピオニルオキシブチル)−5α−アント
ロスタン−3−オン265岬が得られた。
例33
人 3.3−エチレンジオキシ−17α−(4−ヒドロ
キシ−1−ブチニル)−1α−メチル−5α−アントロ
スタン−17β−オールaooqに、リンドラ−触媒2
40qを含有するドルオール24−及びテトラヒドロフ
ラン16d中で、例11Aの記載と同様に水素添加する
。、13,3−エチレンジオキシ−17α−(4−ヒP
ロキシー1−デテニル)−1α−メチル−5α−アン−
ロスタン−1フβ−オール80oWI9が得られ友。
キシ−1−ブチニル)−1α−メチル−5α−アントロ
スタン−17β−オールaooqに、リンドラ−触媒2
40qを含有するドルオール24−及びテトラヒドロフ
ラン16d中で、例11Aの記載と同様に水素添加する
。、13,3−エチレンジオキシ−17α−(4−ヒP
ロキシー1−デテニル)−1α−メチル−5α−アン−
ロスタン−1フβ−オール80oWI9が得られ友。
B、3.3−エチレンジオキシ−17α−(4−ヒPロ
キシー1−プ?ニル)−1α−メチル−5α−アンPロ
スタンー17β−オールaooqo溶液に、81G硫酸
0.8−を加え、室温で2時間攪拌する。反応混合物を
例10Dの記載と同様に後処理し、残分をシリカゲルの
クロマトグラフィKかける。17β−ヒPロキシー17
α−(4−ヒPロキシー1−フテニル)−1α−メチル
−5α−アンPロスタンー3−オン450qが得られる
。
キシー1−プ?ニル)−1α−メチル−5α−アンPロ
スタンー17β−オールaooqo溶液に、81G硫酸
0.8−を加え、室温で2時間攪拌する。反応混合物を
例10Dの記載と同様に後処理し、残分をシリカゲルの
クロマトグラフィKかける。17β−ヒPロキシー17
α−(4−ヒPロキシー1−フテニル)−1α−メチル
−5α−アンPロスタンー3−オン450qが得られる
。
C017β−ヒP口ヤシー17α−(4−ヒドロキシ−
1−デテール)−1α−メチル−5α−アンPロスタン
ー3−オン440IllFをピリジン1.6−中に溶か
し、溶液に無水プロピオン#0.4511Itを加え、
室温で6時間放置する。引続き、例1ogの記載と同様
に昔処理する、残分として、融点94−℃の17β−ヒ
ドロキシ−1α−メチル−17α−(4−プロピオニル
オキシ−1−ブテニル)−5α−アントロスタン−3−
オン520+vが得られた。
1−デテール)−1α−メチル−5α−アンPロスタン
ー3−オン440IllFをピリジン1.6−中に溶か
し、溶液に無水プロピオン#0.4511Itを加え、
室温で6時間放置する。引続き、例1ogの記載と同様
に昔処理する、残分として、融点94−℃の17β−ヒ
ドロキシ−1α−メチル−17α−(4−プロピオニル
オキシ−1−ブテニル)−5α−アントロスタン−3−
オン520+vが得られた。
例34
ん 3.3− エチレンジオキシ−17α−(4−ヒ
Pロキシーl−デチニル)−1α−メチル−6α−アン
Pロス、タン−17β−オール1.2tに、ラネーニッ
ケル触媒ltを有する2−プロ/9ノール25−とテト
ラヒドロフラン20d中でfll12*の記載と同様に
水素添加する。粗生成物をシリカゲルのクロマトグラフ
ィKかけると、3.3−エチレンジオキシ−17α−(
4−ヒドロキシブチル)−1α−メチル−5α−アント
ロスタン−17β−オール710vが得られる。
Pロキシーl−デチニル)−1α−メチル−6α−アン
Pロス、タン−17β−オール1.2tに、ラネーニッ
ケル触媒ltを有する2−プロ/9ノール25−とテト
ラヒドロフラン20d中でfll12*の記載と同様に
水素添加する。粗生成物をシリカゲルのクロマトグラフ
ィKかけると、3.3−エチレンジオキシ−17α−(
4−ヒドロキシブチル)−1α−メチル−5α−アント
ロスタン−17β−オール710vが得られる。
B、3.3−エチレンジオキシ−17α−(4−ヒドロ
キシブチル)−1α−メチル−5α−アンPロスタンー
17β−オール700町をメタノール7−中で8憾硫酸
0.7−と共に室温で1.5時間放置する。例10Dの
記載と同様に後処理する。・クイソゾロビルエーテルか
ら再結晶させると、融点129.5℃の17β−ヒPロ
キシー17α−(4−ヒドロキシブチル)−1α−メチ
ル−5α−アンPロスタンー3−オン390qが得られ
る。
キシブチル)−1α−メチル−5α−アンPロスタンー
17β−オール700町をメタノール7−中で8憾硫酸
0.7−と共に室温で1.5時間放置する。例10Dの
記載と同様に後処理する。・クイソゾロビルエーテルか
ら再結晶させると、融点129.5℃の17β−ヒPロ
キシー17α−(4−ヒドロキシブチル)−1α−メチ
ル−5α−アンPロスタンー3−オン390qが得られ
る。
C017β−ヒ10キシ−17α−(4−ヒドロキシブ
チル)−5α−アンPロスタンー3−オン350qを例
3に記載の条件下で、油状の17α−(4−ブチリルオ
キシブチル)−17β−ヒPロキシー1α−メチルー5
α−7ンPロスタン−3−オン284岬Klじる。
チル)−5α−アンPロスタンー3−オン350qを例
3に記載の条件下で、油状の17α−(4−ブチリルオ
キシブチル)−17β−ヒPロキシー1α−メチルー5
α−7ンPロスタン−3−オン284岬Klじる。
例35
ん 無水テトラヒPロフラン3o−中の3.3−エチレ
ンジオキシ−1α−メチル−5α−アンPロスタンー1
7−オン3.Ofの溶液に、氷浴中、アルザンノンにカ
リウムメチレート9、Ofを加える。引続き、無水テト
ラヒPロフラン9−中に溶かした牛−ペンチン−1−オ
ール4.5−を滴加する。反応混合物を室温で番時間攪
拌し、引続き、例32Aの記載と同様に後処理する。残
分なシリカゲルのクロマトグラフィにかける。3.3−
エチレンジオキシ−17α−(5−ヒPロギシー1−ペ
ンチニル)−1α−メチル−5α−アン−ロスタン−1
フβ−オール2.4tが得うレル。
ンジオキシ−1α−メチル−5α−アンPロスタンー1
7−オン3.Ofの溶液に、氷浴中、アルザンノンにカ
リウムメチレート9、Ofを加える。引続き、無水テト
ラヒPロフラン9−中に溶かした牛−ペンチン−1−オ
ール4.5−を滴加する。反応混合物を室温で番時間攪
拌し、引続き、例32Aの記載と同様に後処理する。残
分なシリカゲルのクロマトグラフィにかける。3.3−
エチレンジオキシ−17α−(5−ヒPロギシー1−ペ
ンチニル)−1α−メチル−5α−アン−ロスタン−1
フβ−オール2.4tが得うレル。
B、3.3−エチレン、ジオキシ−17α−(5−ヒP
ロキシー1−ペン舛ル)−1α−メチル−5α−アン−
ロスタン−1フβ−オール2゜3fをメタノール24d
とテ゛トラヒPロフラン24−との混合物中で炭酸カル
シウム上の10憾ノぐラジウム24011Pと共に例1
2Aの記載と同様に水素添加する。粗生成物をシリカゲ
ルのクロマトグラフィにかける。収量=3.3−エチレ
ンジオキシ−17α−(5−ヒドロキシブチル)−1α
−メチル−5α−アンドロスクン−17β−オール2.
2 f。
ロキシー1−ペン舛ル)−1α−メチル−5α−アン−
ロスタン−1フβ−オール2゜3fをメタノール24d
とテ゛トラヒPロフラン24−との混合物中で炭酸カル
シウム上の10憾ノぐラジウム24011Pと共に例1
2Aの記載と同様に水素添加する。粗生成物をシリカゲ
ルのクロマトグラフィにかける。収量=3.3−エチレ
ンジオキシ−17α−(5−ヒドロキシブチル)−1α
−メチル−5α−アンドロスクン−17β−オール2.
2 f。
C6ピリジン6.6w1を及び無水ゾロピオン酸2.2
d中の3,3−エチレンジオキシ−17α−(5−ヒP
ロキシベンチル)−1α−メチル−5α−アンrロスタ
ンー17β−オール2.22の溶液を室温で16時間放
置し、例1oEの記載と同様に後処理すると、3.3−
エチレンジオキシ−1α−メチル−17α−(5−プロ
ピオニルオキシ−ペンチル)−5α−アンPロスタンー
17β−オール2.7fが得られる。
d中の3,3−エチレンジオキシ−17α−(5−ヒP
ロキシベンチル)−1α−メチル−5α−アンrロスタ
ンー17β−オール2.22の溶液を室温で16時間放
置し、例1oEの記載と同様に後処理すると、3.3−
エチレンジオキシ−1α−メチル−17α−(5−プロ
ピオニルオキシ−ペンチル)−5α−アンPロスタンー
17β−オール2.7fが得られる。
D、 メタノール27−中の3.3−エチレンジオキシ
−1α−メチル−17α−(5−プロピオニルオキシ−
被ンチル)−5α−アントロスタン−17β−オール2
.72の溶液に8畳硫酸2.7−を加え、室温で1時間
放置する。
−1α−メチル−17α−(5−プロピオニルオキシ−
被ンチル)−5α−アントロスタン−17β−オール2
.72の溶液に8畳硫酸2.7−を加え、室温で1時間
放置する。
反応混合物を例1oDの記載と同様に後処理し、残分な
シリカゲルのクロマトグラフィKかける。収量富油状物
としての17β−ヒPロキシー1α−メチル−17α−
(5−ゾロピオニルオキシペンチル)−5α−アンPロ
:xllン−3−#7590W。
シリカゲルのクロマトグラフィKかける。収量富油状物
としての17β−ヒPロキシー1α−メチル−17α−
(5−ゾロピオニルオキシペンチル)−5α−アンPロ
:xllン−3−#7590W。
例36
A、4.5−エポキシ−17β−ヒPロキシー17α−
(3−ヒドロキシプロピル)−アンドロス“タン−3−
オン7.5Fから、N21に記載の条件下で、17α−
(3−アセトキシゾロピル)−4,5−エポキシ−17
β−ヒPロキシー了ンPロスタンー3−オン7.2fが
得られる。
(3−ヒドロキシプロピル)−アンドロス“タン−3−
オン7.5Fから、N21に記載の条件下で、17α−
(3−アセトキシゾロピル)−4,5−エポキシ−17
β−ヒPロキシー了ンPロスタンー3−オン7.2fが
得られる。
B、 17α−(3−アセトキシゾロピル)−冬。
6−エボキシー17β−ヒ10キシアンーロスタンー3
−オン6.8fから、例26に記載の条件下に、17α
−(3−アセトキシプロピル)−4,17−ジヒPロキ
シー養−アンIF aステン−3−オン5.6tが得ら
れた。
−オン6.8fから、例26に記載の条件下に、17α
−(3−アセトキシプロピル)−4,17−ジヒPロキ
シー養−アンIF aステン−3−オン5.6tが得ら
れた。
例37
17β−ヒドロキシ−17α−(3−ヒドロキシプロピ
ル)−4,6−アンPロスタジエン−3−オン3.2.
4 tから、例23に記載の条件下で、17α−(3−
ブチリルオキシゾロビル)−17β−ヒドロキシ−4,
6−アンPロスタジエン−3−オy3.36fが得られ
た。UV : t 、4゜−9600(メタノール中)
。
ル)−4,6−アンPロスタジエン−3−オン3.2.
4 tから、例23に記載の条件下で、17α−(3−
ブチリルオキシゾロビル)−17β−ヒドロキシ−4,
6−アンPロスタジエン−3−オy3.36fが得られ
た。UV : t 、4゜−9600(メタノール中)
。
例38
17β−ヒドロキシ−17α−(3−ヒドロキシプロピ
ル)−1−メ+ルー5α−アンrロスチー1−二ンー3
−オン240fをfl12BK記載の条件下K17β−
ヒドロキシ−1−7’?ルー17α−(プロピオニルオ
キシ)−5α−47ンーrロスチー1−エン−3−オン
に変eる。
ル)−1−メ+ルー5α−アンrロスチー1−二ンー3
−オン240fをfl12BK記載の条件下K17β−
ヒドロキシ−1−7’?ルー17α−(プロピオニルオ
キシ)−5α−47ンーrロスチー1−エン−3−オン
に変eる。
収量:油状物として1.21t。
例39
A、テトラヒPロフラン140−中の3.3−エチレン
ジオキシ−1α−メチル−5−アンrロxfy−17−
#714.OfO溶液に、水冷下にカリウムメチレー)
42Fを加エル。
ジオキシ−1α−メチル−5−アンrロxfy−17−
#714.OfO溶液に、水冷下にカリウムメチレー)
42Fを加エル。
引続き、テトラヒF& e+フラン605g中KIIか
した5−ブチン−1−オール21−を30分かかつて滴
加し、その後、反応混合物を室温で4時間攪拌する。ジ
クロルメタンで稀釈し、0.4Nil酸及び水で洗浄し
、乾燥させ、かつ真空中で濃縮させる。残分をシリカゲ
ルでのクロマトグラフィにかける。3.3−エチレンジ
オキシ−17α−(4−ヒPロキシー1−−fチニル)
−1α−メチル−5−7ンドロステンー17β−オール
14.26Fが得られる。試料をヘキサン−酢酸から再
結晶させると、163℃で融解する。
した5−ブチン−1−オール21−を30分かかつて滴
加し、その後、反応混合物を室温で4時間攪拌する。ジ
クロルメタンで稀釈し、0.4Nil酸及び水で洗浄し
、乾燥させ、かつ真空中で濃縮させる。残分をシリカゲ
ルでのクロマトグラフィにかける。3.3−エチレンジ
オキシ−17α−(4−ヒPロキシー1−−fチニル)
−1α−メチル−5−7ンドロステンー17β−オール
14.26Fが得られる。試料をヘキサン−酢酸から再
結晶させると、163℃で融解する。
B、3.3−エチレンジオキシ−17α−(4−ヒPロ
キシーl−ブチニル)−1α−メチル−5−アンPロス
テンー17β−オール179fKノ臂ラジウム−炭酸カ
ルシウム触媒(10m)840vを有するテトラヒPロ
フランQOd及び2−プロノ9ノール145−中で、2
機量の水素が吸収されるまで水素添加する。その後触媒
を濾去し、真空中で蒸発乾個させる。
キシーl−ブチニル)−1α−メチル−5−アンPロス
テンー17β−オール179fKノ臂ラジウム−炭酸カ
ルシウム触媒(10m)840vを有するテトラヒPロ
フランQOd及び2−プロノ9ノール145−中で、2
機量の水素が吸収されるまで水素添加する。その後触媒
を濾去し、真空中で蒸発乾個させる。
残分をシリカゲルのクロマトグラフィにかける。粘稠性
油状物としての3,3−エチレンジオキシ−17α−(
4−ヒPロキシブチル)−1α−メチル−5−アンPロ
ステンー17β−オール17.4Fが得られた。
油状物としての3,3−エチレンジオキシ−17α−(
4−ヒPロキシブチル)−1α−メチル−5−アンPロ
ステンー17β−オール17.4Fが得られた。
C,3,3−エチレンジオキシ−17α−(4−ヒドロ
キシブチル)−1α−IPk−5−アンPロステンー1
7β−オール17.4Fを9o係酢酸250−中でaO
Cに2時間加熱する。溶液を真空中で蒸発乾個し、残分
なシリカゲルのクロマトグラフィにかける。収量:融点
202℃(ジクロルメタン−ジイソプロピルエーテルカ
ラ)の17β−ヒPロキシー17α−(4−ヒドロキシ
ブチル)−1α−メチル−4−アンrロステンー3−オ
ン7.78?。
キシブチル)−1α−IPk−5−アンPロステンー1
7β−オール17.4Fを9o係酢酸250−中でaO
Cに2時間加熱する。溶液を真空中で蒸発乾個し、残分
なシリカゲルのクロマトグラフィにかける。収量:融点
202℃(ジクロルメタン−ジイソプロピルエーテルカ
ラ)の17β−ヒPロキシー17α−(4−ヒドロキシ
ブチル)−1α−メチル−4−アンrロステンー3−オ
ン7.78?。
D、17β−ヒドロキシ−17α−(4−とドロキシブ
チル)−1α−メチル−養−アンPロステンー3−オン
2.Ofを例21の条件下にアシル化する。粗生成物を
ヘキサン−酢酸エステルを用いるシリカゲルでのクロマ
トグラフィにかける。無学形17α−(4−ア七トキシ
プチル)−17β−ヒドロキシ−1α−メチル−4−ア
ンPロステンー3−オン1.70fが得られた。〔α)
? −+ 67°(C=Q、5;)o。
チル)−1α−メチル−養−アンPロステンー3−オン
2.Ofを例21の条件下にアシル化する。粗生成物を
ヘキサン−酢酸エステルを用いるシリカゲルでのクロマ
トグラフィにかける。無学形17α−(4−ア七トキシ
プチル)−17β−ヒドロキシ−1α−メチル−4−ア
ンPロステンー3−オン1.70fが得られた。〔α)
? −+ 67°(C=Q、5;)o。
ホルム中)。TJV: g24、=14100(メタノ
ール中)。
ール中)。
PI4゜
例2に記載の条件下に17β−ヒPロキシー17α−(
4−ヒドロキシブチル)−1α−メチル−4−アンrロ
ヌテンー3−オン1. Ofから17β−とrロキシー
1α−メチル−17α−(4−プロピオニルオキシブチ
ル)−4−アンPロステンー3−オン997qが得られ
た。
4−ヒドロキシブチル)−1α−メチル−4−アンrロ
ヌテンー3−オン1. Ofから17β−とrロキシー
1α−メチル−17α−(4−プロピオニルオキシブチ
ル)−4−アンPロステンー3−オン997qが得られ
た。
〔α〕rロ+65′(C−0,5クロロホルム中)。
tJv: g24□=14600 (メタノール中)。
例41
例3に記載の条件下に、17β−ヒPロキシー17α−
(4−ヒドロキシブチル)−1α−メチル−4−アンド
ロ漬テンー3−オン2.Ofカラ、17α−(4−ブチ
リルオキシブチル)−17β−ヒ10キシー1α−メチ
ルー4−アンPロステン−3−オン1. Q Ot カ
得うレタ。
(4−ヒドロキシブチル)−1α−メチル−4−アンド
ロ漬テンー3−オン2.Ofカラ、17α−(4−ブチ
リルオキシブチル)−17β−ヒ10キシー1α−メチ
ルー4−アンPロステン−3−オン1. Q Ot カ
得うレタ。
〔α〕シ2= + 52’ (C= 0.5クロロホル
ム中)。
ム中)。
第1頁の続き
0発 明 者 ルドルフ・ヴイーヒエルトドイツ連邦共
和国ベルリン39ペ ッッオヴアー・シュトラーセ8 アー 0発 明 者 マンフレート・アルプリングドイツ連邦
共和国ランゲンゼル ボルト・イム・エルレンビュー ゲル81 0発 明 者 アンネローゼ・シュロイゼナードイツ連
邦共和国ベルリン38イ ルゼンシュタインヴエーク1べ
和国ベルリン39ペ ッッオヴアー・シュトラーセ8 アー 0発 明 者 マンフレート・アルプリングドイツ連邦
共和国ランゲンゼル ボルト・イム・エルレンビュー ゲル81 0発 明 者 アンネローゼ・シュロイゼナードイツ連
邦共和国ベルリン38イ ルゼンシュタインヴエーク1べ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式■: OH 〔式中=は単結合又は二重結合を表わし4 R。 はメチル基又祉エチル基を表わし、h社水素原子又は炭
素原子数1〜8のアルキル基を表わし、−x−は、基:
−(CHt )n−、−CH−CH(CHt)m−又
は−〇−=C−(CH童)m−を表わし、nは2〜6の
数であplmはl−会の数であシ、 −A−B−は基
: −CH,−OH雪−、−CH−CH−、−Cα−c
H−。 を表わし、−U−V、、は基: −cH,−ca、 。 −CH−C,、、−C(OH)−C,、又は−C(1−
C,を12ワし、−w−y−は基: −CHl −、C
H、、、。 ; I CH鵞−s −CHg−C(CHl )1−又は −C
H,−CH−を表わす〕のアントロスタン誘導体(但し
17α−(3−アセトキシ−プロぜル)−17β−ヒド
ロキシ一番、6−アンドロスタジエン−3−オン)を除
く)11 2一般式!&: H 〔式中−は単結合又は二重結合を表わし、馬は水素原子
又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表わし、qは3又
は養の数1あり−は水素原子又はメチル基を表わす〕の
アントロスタン誘導体である。特許請求の範囲第1項記
載の化合物・ 3、17α−(3−アセトキシプロピル)−17β−ヒ
ドロキシ−1α−メチル−養−アンドロステンー3−オ
ンである、特許請求の範囲第1項記載の化合物。 4、17β−ヒドロキシ−1α−メチル−17α−(3
−プロピオニルオキシプロビル)−4御アンドロステン
ー3−オンである。41許請求の範囲第1項記載の化合
物・ 8、17α−(3−ブチリルオキシゾロビル)−17β
−ヒドロキシ−1α−メチル一番−アンドロステン−3
−オンである。特許請求の範囲館1項記載の化合物。 6、17α−(3−アセトキシゾロビル)−17β−ヒ
ドロキシ−5α−アンドpスタンー〇−オンtある。特
許請求の範囲第1項記載の化合物。 7、17β−ヒドロキシ−17α−(3−グロピオ′ニ
ルオキシプロピル)−5α−アントロスタン−3−オン
である。特許請求の範囲第1項記載の化合物。 a 17α−(3−ブチリルオキシプロピル)−17
β−ヒドロキシ−6α−アントロスタン−3−オン!あ
る。特許請求の範囲s1項記載の化合物・ 9、17α−(3−ブチリルオキシ−1−プロ2ニル)
−17β−ヒドロキシ−5α−アントロスタン−3−オ
ン1ある。特許請求の範囲第1項記載の化合物。 10.17α−(3−ブチリルオキシ−1−プロペニル
)−17β−ヒドロキシ−δα−アントロスタン、−3
−オン1ある。特許請求の範囲第1項記載の化合物・ 11.17α−ヒドロキシ−17α−(3−プロピオニ
ルオキシ−1−プロピニル)−5α−アントロスタン−
3−オン1ある。特許請求の範囲第1項記載の化合物。 12.17α−(3−ブチリルオキシプロピル)−1−
/?シル−α−アンドロステー1−エン−3−オン″1
%ある5%許請求の範囲第1項記載の化合物。 13.17β−ヒドロキシ−1α−メチル−17α−(
3−プローオニルオキシ−1−ゾロビニル)−5α−ア
ントロスタン−8−オンfある。特許請求の範囲第1項
記載の化合物。 14.17β−ヒドロキシ−1α−メチル−17α−(
3−プロぜオニルオキシプロピル)−5α−アントロス
タン−3−オンである。特許請求の範囲第1項記載の化
合物。 15.17β−ヒドロキシ−1α−メチル−17α−(
3−プロぜオニルオキシ−1−プロペニル)−5α−ア
ンPロスタンー3−オンである。191許請求の範囲第
1項記載の化金物。 16.17α−(3−ブチリルオキシプロピル)−17
β−ヒドロキシ−1α−メチル−δα−アン)1gスタ
ン−3−オンfある。特許請求の範囲第1項記載の化合
物。 17.14α−(3−ヘキサノイルオキシプロピル)−
17β−ヒドロキシ−1α・−メチル−6α−アントロ
スタン−3−オン”l’lル、%許請求の範囲第1項記
載の化合物。 1& 17β−ヒドロキシ−1゛α−メチル−17α−
(2−プロぜオニルオキシエチル)−5α−アンfaス
タンー3−オンである。特許請求の範囲第1項記載の化
金物・ 19.17β−ヒドロキシ−1α−メチル−17α−(
4−プロピオニルオキシブチル)−6α−アントロスタ
ン−3−オン!ある。特許請求の範囲第1項記載の化合
物・ 2α 1.7/−ヒドロキシ−1α、16α、16/−
)リメテル−17α−(3−プローオニルオキシブ0ぜ
ル)−5α−アントロスタン−8−オンfある。特許請
求の範囲第111[記載の化金物・ 2L 17β−ヒドロキシ−1α、2α−メチレンー1
7α−(3−プロピオニルオキシプロぜル)−5α−ア
ントロスタン−3−オン1ある。41許請求の範囲第1
項記載の化合物。 222−クロル−17β−ヒドロキシ−17α−(3−
ブローオニルオキシゾロビル)−5α−アンドロステ−
1−工ン−5−オンである。lll1許請求の範囲第1
項記載の化金物。 23.17α−(3−ホルミルオキシゾロ2ル)−17
!−ヒドロキシ−4−アンドロステン−3−オ/−r!
ある。特許請求の範囲第1項記載の化合物・ 24.17α−(3−アセトキシプ0ぜル)−17β−
とドロdP¥一番−アンドロステ−3−オン1ある。4
1許請求の範囲111項記載の化合物・ 25.17β−ヒrt*a?シー17α−(3−faピ
オニルオキシプロピル)−4−アンドロステンー3−オ
ylあ本 *許請求O@囲第1項記載の化合物慟 26.17α−(3−プチリルオキシゾpぜル)−17
β−ヒドロキシ−養−アンドロステン−3−オン″ts
ある。411許晴求の範囲第1項記載の化合物。 4、17β−ヒドロキシ−17α−(3−トリメチルア
セトキシゾロビル)−4−アンドロステンー3−オンで
ある、特許請求の範囲第1項記載の化合物。 2a 4−クロル−1フβ−ヒドロ中シー17a−(3
−/クシオニルオキシゾロ2ル)−4−アyF’ロステ
ンー3−オン!ある。特許請求の範囲第1項記載の化合
物。 2G、4.17β−リヒPロキシー17α−(3−プp
ピオニルオキシプロ♂ル)−養−アンドロステ/−3−
オン!ある。特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3α 17β−ヒドロキシ−17α−(3−ゾロぜオエ
ルオキシゾ0♂ル)−4,6−アンド費スタジエンー3
−オン−で、ある、*許S求の範囲第1項記載の化合物
。 3L17β−ヒドロヤシ−17α−(3−ゾロピオニル
オキシプロビル)−1,4,6−アンドロスタトリエン
−3−オン1ある。*許請求の範囲第1項記載O化合物
・ 3Zl’rβ−ヒトaヤシ−15β、16β−メチレン
−17α−(3−ゾロピオニルオキシプロビル)−4−
アンドロステン−3−オンフある。!許請求の範囲第1
項記載の化合物。 33.17フーヒドロキシー18−メチル−17α−(
3−ゾロピオニルオキシプロビル)−4−アンドロステ
ンー3−オン′?ある。*許請求の範S第1項記載の化
合物。 34.17β−ヒドロキシ−18−メチル−17α−(
3−プロぜオキルオキシプcIぜル)−養、6−アンド
賞スタジエンー5−オン′eある。特許請求の範囲第1
項記載の化合物・35.17β−ヒドロキシ−17α−
(4−プロピオニルオキシブチル)一番−アンドロステ
ン−3−オン″e1′#)る、特許請求の範囲第1項記
載の化合物・ 36.17α−(3−アセトキシプロぜル)−17β−
ヒドロキク−1α−メチル−5α−アントロスタン−3
−オン!ある1%許請求の範囲第1項記載の化合物。 37.17β−ヒドロキシ−17α−(4−プロピオニ
ルオキシ−1−ブチエル)−1′a−メチル−5α−ア
ントロスタン−3−オンである。4@許請求の範囲第1
項記載の化合物。 3a17β−ヒドロキシ−17α−(4−プロピオニル
オキシ−1−fテニル)−1α−メチル−5α−アンF
’l Dスタン−3−オyv6る。特許請求の範囲第1
項記載の化合物・39.17α−(4−ブチリルオキシ
ブチル)−17β−ヒドロキシ−1α−メチル−δα−
アントロスタンー3−オン1ある。特許請求の範囲第1
項記載の化合物。 40.17β−ヒドロキシ−17α−(5−プローオニ
ルオキシペンチル)−1α−メチル−δα−アントロス
タンー3−オンである。41許請求の範囲第1項記載の
化金物− 4L 17β−(3−アセトキシプロぜル)一番。 17β−ジヒドロキシ−4−アンドロステ/−3−オン
1ある、特許請求の範囲第1項記載の化合物。 4217α−<3−fデyルオキシゾロビル)−17β
−ヒドロキシ−4,6−アンドロスタジエン−3−オン
1ある。特許請求の範囲第1項記載の化合物・ 43.17フーヒドロキシー1−メチル−17α−(f
ロビオニルオキシ)−5α−アンドロステ−1−工ン−
3−オンである。特許請求の範囲第1項記載の化合物。 44.17α−(4−アセトキシブチル)−17β−ヒ
ドロキシ1α−メチル−養−アンドロステン−3−オン
1ある。特許請求の範囲第1項記載の化合物。 +5.17./−ヒト胃キシー1α−メチル−17α−
C+−fsビオニルオ中レジブチル−4御アンドロステ
ンー3−オy′r@ある。s許m求の範囲第1項記載の
化合物。 46.17α−(4−fチリルオキジプチル)−−17
β−ヒドロキシ−1α−メチル−養−アンドロステン−
3−オンである、特許請求の範囲第1項記載の化合物。 47、一般式■: OH 〔式中=は単結合又は二重結合を表わし% R1はメチ
ル基又はエチル基を表わし、馬は水素原子又は炭素原子
数1〜8のアルキル基を表わし、−x−は、基ニー(c
Hl)n−1−cH口cH(CH,)m−又は−cmc
−(cHn)m−を表わし。 nは2〜609M@ J) 、 ynは1〜4の数であ
り、−A−B−は基a −CHH−CHH−、−CH”
”基ニーCH?−CHぐ、−CH=Cぐ、 −C(Q
)り−C’又は−Cα−Cぐを表わし、 −w−y−は
基: −CH。 わす〕のアントロスタン誘導体(但し17α−(,3−
アセト呼ジープロピル)−147−ヒドロキシ一番、6
−アンドロスタジエン−3−オン)t−除く)1種又は
2tを含有する゛ ことを特徴とする。皮脂抑制剤。 a OH 〔式中=は単結合又は二重結合を表わし、R。 はメチル基又はエチル基を表わし、R# は水素原子
又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表わし、−X−は
、基: −(cHりn −、−cat=CH’(CHI
)m−又は −c=c−(aH,)m−を聚わし。 nは2〜6の数7あシ1mは1〜4の数であり一−A−
B−は基ニーCH,−C馬−1−CH= CI(−1/ −CH鵞−CH−CH−C’ −C(OH) =C’
、、 又は\ 1 \ 1 −Cα−c、を表わし、−w−y−は基: −CHI−
CHI−、−CHv−C(CHs)を−又祉導体(但し
17α−(3−アセトキシ−プロピル)−17β−ヒド
ロキシニ養、6−アンドロスタジエン−3−オン)を除
く)を製造するため。 〔式中:、R,、X、−A−B−及び −〇−V’\ 及び −W−Y−は前記のものを表わす〕のアントロス
タン−誘導体を一般式■: R,C0OH則) 〔式中烏は前記のものを表わす〕の蒙又はその反応性誘
導体でエステル化することを轡黴とする。アントロスタ
ン−誘導体の製法。 〔式中=は単結合又は二重結合を表わし、R3はメチル
基又社エチル基を表わし、R1は水素原子又は炭素原子
数1〜8のアルキル基を表わし、−X−は、基: −(
CHI)n −、−CH−CH(CHt)m−又は −
CEC−(CHl ) m−を表わし。 nは2〜6の数1あり1mはlS−養の数〒あり、 −
A−B−は基ニーCH,−CH,−1−CH=CI(−
。 −CHl−CH−CH−C<、 −C(OH)=C’
又は/ \ 1
\−Cα=c、 を表わし、 −W−Y−は
基: −C)I。 −CHl−1−CH17,C(CHm)t−又は導体(
但し17α−(3−アセ、トキシープロ2ル)−17β
−ヒドロキシ−4,6−アンドロスタジエン−3−オン
)を除く)を製造するために。 一般式■: OH 〔式中=、R1、R,、X、 −A−B−及びw−y−
は前記のものを表わし、R,は炭素原子数2〜6の直鎖
又は分枝鎖のアヶキレン基を表わす〕のアントロスタン
−誘導体から水素添加分解によりケタール基を離脱させ
ることt4I像とする。アントロスタン−誘導体の製法
。 50、一般式I: 0)! − 〔式中=は単結合又は二重結合を表わし、R2はメチル
基又はエチル基を表わし、Rsは水素原子又は炭素原子
数1〜8のアルキル基を表わし、−X−は、基ニー(C
HI)n−又は −C’H=CH(、CH,)m−を表
わし、nは2〜6の数1あり1mは1−4の数フあり、
−A−B−は基:、、CH,、 −cH−ca、−を表わし、−U−Vぐ は基ニーcH
,−品ぐ゛、−CHキCく、−C(OH)=C,、δは
−Cα−C,1表わし、 −w−y−は基: −CHf
−CI(!−。 わす〕のアントロスタン誘導体(但し17α−(3−ア
セトキシ−プロピル’)−17β−ヒドロキシ−4,6
−アンドロスタジエン−3−オン)管除く)を製造する
ため。 一般式■: OH 〔式中R,,R,、−A−B−、−W−Y−及び=は前
記のものを表わし、Rsは水素原子又はメチル基を表わ
す〕のアントロスタン−誘導体に水素添加して飽和1α
、2α−メチレンステロイドを製造することを特徴とす
る。アントロスタン−誘導体の製法。 51、一般式■: 0甘 〔式中=は単結合又は二重結合を表わし、R3はメチル
基又はエチル基を表わし、Rtは水素原子又は炭素原子
数1〜8のアルキル基を表わし、−x−は、基: −(
CHt)n−、−CH=CH(CHI)m−又は −C
WC−(CH,)m−を表わし。 nは2〜6の数であり1mは1〜4の数1あり、−A−
B−は基: −cH,−cH,−、−cH,cH−。 、、OH,、 :゛1 −C,H−CH,−を表わし、−U −V、、 は基
:、、CHI、。 t!!わす〕のアンドロスタy誘導体(但し17α−(
3−アセトキシ−プロピル)−17β7ヒドロキシー4
.6−アンドロスタジエン−3−オン)を除く)を製造
するため。 一般式■: OH 〔式中R,,R1,X、−A−B−及び−W−Y−は前
記のものを表わす〕のアンroスタンー誘導体の3−ヒ
ドロキシ基を、場合により5゜6−二重結合の同時異性
化のもと1.累積された二重結合を有する■式のアント
ロスタン−誘導体を排除する1度に酸化することを特徴
とする。アントロスタン−誘導体の製法。 〔式中=は単結合又は二重結合を表わし、RIはメチル
基又はエチル基を表゛わし、Rtは水素原子又は5炭素
原子数1〜8のアルキル基を表わし、−X−は、基:
−(CHI)n−、−CH−CH((1?Fl*)11
− 又は −cmc−(cH,+m−を表わし。 nは2〜6の数であシ、mは1〜4の数″1%あシ、−
A−B−は基ニーCH,−CH,−1−CI(口CH−
。 二C(OH)=”C,、又は −Cα−c、、 を表
わし、−W−Y−は基: −C馬−CH!−、−C’H
鵞−C(OH八−タン誘導体(但し17α−(3−アセ
トキシーゾロビル)−17β−ヒドロ争シー養、67ン
ドロスタジエンー3−オン)を除く)管製造するためも 一般式■: OH 〔式中−A−B +、 −w−y +、 R,、p、及
びXは前記のものを表わす〕のアントロスタン−誘導体
を、鉱酸と反応させること1kqIl像とする。 アントロスタン−誘導体の製法。 53゜ OH 〔式中=は単結合又は二重結合を表わし、RIはメチル
基又燻エテル基を嵌わし、R1は水素原子又は炭素原子
数1〜8のアルキル基を表わし、−X−は、基: −(
CHy)n−、−CH−CH(CHy )m−’又は
−CjC−(C,H,)m−を表わし。 nは2〜6の数であシ1mはl−4の数であり、 −A
−B−は基、: −CH,−CH,−、−CH=C’l
(−。 −C’H,−CH,、−CH=C,、、−C(OH)−
C,、又は−Cα=c、、 t−表し、但し1.2−
位及び/又は6,7位は二重結合〒あシ、 −w−y−
は基: −CH,−CH,−、−C)l、ThC(CH
,)、−又は、、CH,、。 −cH−1:′a−を表わす〕のアントロスタン°銹導
体(但し17α−(3−アセトキシ−プロピル)、−1
7β−ヒドロキシ−養、6−アントロスタジエ/−3−
オン)を除く)を製造する九め。 〔式中式、烏、x及び−W−Y−は前記のものを表わす
〕のアントロスタン−誘導体を脱水素すること’to特
徴とする、アントロスタン−誘導体の製法。
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