JPS5847812B2 - ケイコウメンノ セイゾウホウホウ - Google Patents
ケイコウメンノ セイゾウホウホウInfo
- Publication number
- JPS5847812B2 JPS5847812B2 JP11717074A JP11717074A JPS5847812B2 JP S5847812 B2 JPS5847812 B2 JP S5847812B2 JP 11717074 A JP11717074 A JP 11717074A JP 11717074 A JP11717074 A JP 11717074A JP S5847812 B2 JPS5847812 B2 JP S5847812B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- phosphor
- positive resist
- color
- matrix
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はカラーテレビジョン受像管に用いるげい光面の
製造方法、特にブランクマトリックスタイプのげい光面
の製造方法に関するものである。
製造方法、特にブランクマトリックスタイプのげい光面
の製造方法に関するものである。
近年、カラーブラウン管は、げい光面のげい光体ドット
あるいはげい光体ストライプのようなげい光体素子の面
積を小さくし、このげい光体素子以外の領域を黒鉛など
の光吸収物質で埋めたいわゆるブラックマトリックス形
のものが提案されている。
あるいはげい光体ストライプのようなげい光体素子の面
積を小さくし、このげい光体素子以外の領域を黒鉛など
の光吸収物質で埋めたいわゆるブラックマトリックス形
のものが提案されている。
上記げい光面の製造方法の一例を述べるとつぎのとおり
である。
である。
まず、ポリビニルアルコール(PVA)−重クロム酸ア
ンモニウム系などの感光性ホトレジストをフエースプレ
ート内面に塗布し露光後現像してホトレジスト素子を形
成し、ついでアクアダツクなどのコロイダルグラファイ
トを塗布し、過酸化水素などの弱酸化剤により膨潤させ
た後、高圧水スプレーにより膨潤したレジスト素子を剥
離し、吸光マトリックスを形成する。
ンモニウム系などの感光性ホトレジストをフエースプレ
ート内面に塗布し露光後現像してホトレジスト素子を形
成し、ついでアクアダツクなどのコロイダルグラファイ
トを塗布し、過酸化水素などの弱酸化剤により膨潤させ
た後、高圧水スプレーにより膨潤したレジスト素子を剥
離し、吸光マトリックスを形成する。
また、げい光体素子は、通常つぎのようにして形成して
いる。
いる。
すなわち、吸光マトリックスを形成したフェースプレー
ト内面にPVA一重クロム酸アンモニウム系などの感光
性結合剤に緑げい光体を分散させた緑げい光体スラリー
を塗布し、シャドウマスクを通して点または線光源によ
り露光し、現像して所定の位置に緑げい光体素子を形成
し、ついで青げい光体スラリーを塗布して青げい光体素
子を形成する。
ト内面にPVA一重クロム酸アンモニウム系などの感光
性結合剤に緑げい光体を分散させた緑げい光体スラリー
を塗布し、シャドウマスクを通して点または線光源によ
り露光し、現像して所定の位置に緑げい光体素子を形成
し、ついで青げい光体スラリーを塗布して青げい光体素
子を形成する。
さらに、赤げい光体スラリーを塗布して赤げい光体素子
を形成して得ている。
を形成して得ている。
.以上の説明から明らかなように、従来のげい光面の製
造方法によると、吸光マトリックスを形成する工程と、
げい光体素子を形成する工程の2つの主な工程からなり
、そして上記吸光マトリックスの形成工程には3回、げ
い光体素子の形成工程には3回と合計6回の露光操作を
必要とする。
造方法によると、吸光マトリックスを形成する工程と、
げい光体素子を形成する工程の2つの主な工程からなり
、そして上記吸光マトリックスの形成工程には3回、げ
い光体素子の形成工程には3回と合計6回の露光操作を
必要とする。
そして、この6回の露光操作においては、少なくとも6
台の露光装置を必要としている。
台の露光装置を必要としている。
しかし、このように、多数の露光装置を必要とすること
は、この装置が高精度で高価であることから多額の設備
投資とスペースが要求され、また生産性が低下する欠点
を有している。
は、この装置が高精度で高価であることから多額の設備
投資とスペースが要求され、また生産性が低下する欠点
を有している。
また、従来の製造方法によると、けい光体は、通常粒径
6〜10μの白色の粉体であるので感光膜中に混在する
と、露光による光線を照射方向とほぼ直角方向に散乱し
てしまう。
6〜10μの白色の粉体であるので感光膜中に混在する
と、露光による光線を照射方向とほぼ直角方向に散乱し
てしまう。
このため、けい光体の所定部分にフェースプレート内面
に接着するに十分な光量を照射した場合、素子がフェー
スプレートと平行方向に過度に或長し、その結果、この
げい光体素子が吸光マトリックスの他色開孔部にはみ出
して混色不良を起すことがある。
に接着するに十分な光量を照射した場合、素子がフェー
スプレートと平行方向に過度に或長し、その結果、この
げい光体素子が吸光マトリックスの他色開孔部にはみ出
して混色不良を起すことがある。
すなわち、第1図に示すように露光光11が感光膜12
の表面より照射されるため、直径bの素子13がフェー
スプレー} 内面14に接着するに十分な直径aを光硬
化させるには、感光膜表面を直径bに光硬化させる必要
がある。
の表面より照射されるため、直径bの素子13がフェー
スプレー} 内面14に接着するに十分な直径aを光硬
化させるには、感光膜表面を直径bに光硬化させる必要
がある。
通常、bはaおよびシャドウマスクを通った光スポット
径Cよりも太きい。
径Cよりも太きい。
また、bの値は、第2図に示す半影部23の存在により
さらに大きくなる。
さらに大きくなる。
ここで、21は光源、22はシャドウマスク、24は直
影部である。
影部である。
そして、上記はみ出しはげい光体素子の膜厚を増大する
とさらに増大し、また、シャドウマスク孔径を大きくし
ても同様となるので、げい光面の輝度向上や光学方式に
よるブラックマトリックス管のげい光面形成に対して重
大な障害となる。
とさらに増大し、また、シャドウマスク孔径を大きくし
ても同様となるので、げい光面の輝度向上や光学方式に
よるブラックマトリックス管のげい光面形成に対して重
大な障害となる。
それ故、本発明の目的は少ない工程を用いて、従来法よ
り小さい形状のげい光体素子を有するフラツクマトリッ
クス形のけい光面の製造方法を提供するものである。
り小さい形状のげい光体素子を有するフラツクマトリッ
クス形のけい光面の製造方法を提供するものである。
本発明はこのような目的を達成するために、フェースプ
レート内面に、所定操作で黒色化して不透光化する物質
および特定波長帯を吸収する染色剤とを含むポジレジス
トを塗布し、これを露光して光透過性のホールを形成し
、さらにこの光透過性のホールを利用して上記同様の特
定波長帯の光線で背面露光を行ない、げい光体を含む感
光膜を露光するものであり、以下実施例を用いて詳細に
説明する。
レート内面に、所定操作で黒色化して不透光化する物質
および特定波長帯を吸収する染色剤とを含むポジレジス
トを塗布し、これを露光して光透過性のホールを形成し
、さらにこの光透過性のホールを利用して上記同様の特
定波長帯の光線で背面露光を行ない、げい光体を含む感
光膜を露光するものであり、以下実施例を用いて詳細に
説明する。
第3図は本発明によるげい光面の製造方法を説明するた
めの簡略構成図である。
めの簡略構成図である。
本発明は、まず、弗酸なとで洗浄したフェースプレート
51の内面にポジレジスト52を一面に塗布して感光膜
を形戒する。
51の内面にポジレジスト52を一面に塗布して感光膜
を形戒する。
このポジレジスト52は、ベーキングまたは化学処理に
より黒色に着色する性質の透明または白色物質たとえば
、常温で白色であり、空気中で約450℃15分以上ベ
ーキングした場合黒色に着色する物質蓚酸マンガンと、
450〜600mμに吸収をもつシアニン系色素を光学
濃度1〜3となる程度に添加したコダック社製KAR3
などのものを用いる。
より黒色に着色する性質の透明または白色物質たとえば
、常温で白色であり、空気中で約450℃15分以上ベ
ーキングした場合黒色に着色する物質蓚酸マンガンと、
450〜600mμに吸収をもつシアニン系色素を光学
濃度1〜3となる程度に添加したコダック社製KAR3
などのものを用いる。
ついで、点状または線状の超高圧水銀灯の光源の光54
を用いて、シャドウマスク53を通して第1色目のたと
えば緑げい光体素子を付着させるべき所定の位置に光5
4を照射する。
を用いて、シャドウマスク53を通して第1色目のたと
えば緑げい光体素子を付着させるべき所定の位置に光5
4を照射する。
そして、弱アルカリ性のポジレジスト現像液および水ス
プレーにより上記ポジレジスト52の光照射部分を溶解
し、透光性のホール55を形成する。
プレーにより上記ポジレジスト52の光照射部分を溶解
し、透光性のホール55を形成する。
ここで、上記光源の光54により上記ポジレジスト52
が良好に露光される理由は、ポジレジスト52が光を吸
収してしまう黒色の物質を含まずポジレジスト52の内
に光を良好に導く白色または透明の物質を含んでいるか
らであり、つぎに、上記透光性のホール55を形成する
と、たとえばPVA一重クロム酸アンモニウム系にエオ
シンY、ローダミンB1またはマラカイトグリーンなど
を添加して光学増感した450〜600mμに感度を持
つ感光性結合剤に第1色目のたとえば緑げい光体を分散
させたスラリ−56を上記透光性のホール55を充てん
するように一面に塗布し、感光膜を得る。
が良好に露光される理由は、ポジレジスト52が光を吸
収してしまう黒色の物質を含まずポジレジスト52の内
に光を良好に導く白色または透明の物質を含んでいるか
らであり、つぎに、上記透光性のホール55を形成する
と、たとえばPVA一重クロム酸アンモニウム系にエオ
シンY、ローダミンB1またはマラカイトグリーンなど
を添加して光学増感した450〜600mμに感度を持
つ感光性結合剤に第1色目のたとえば緑げい光体を分散
させたスラリ−56を上記透光性のホール55を充てん
するように一面に塗布し、感光膜を得る。
つぎに、フェースプレート51の前面から、超高圧水銀
灯やナトリウムランプなどにフィルターを組み合わせて
構成され上記感光性結合剤の感光波長域に発光スペクト
ルを持つ強力な光源の光57で透光性ホール55内の膜
として形成された緑けい光体スラリ−56を不溶化する
。
灯やナトリウムランプなどにフィルターを組み合わせて
構成され上記感光性結合剤の感光波長域に発光スペクト
ルを持つ強力な光源の光57で透光性ホール55内の膜
として形成された緑けい光体スラリ−56を不溶化する
。
この場合、上記光57が上記ポジレジスト52すなわち
マトリックス52を介してマトリックスの表面上の緑げ
い光体スラリ−56を露光するという不都合も考えられ
るが、上記マトリックス52は450〜60amμに吸
収を持つ物質を含んでいるので、上記450〜600m
μの波長帯の光は上記マトリックス52に吸収されてし
まい、マトリックス52の上面の緑げい光を含む感光膜
を露光して不溶化してしまうことはない。
マトリックス52を介してマトリックスの表面上の緑げ
い光体スラリ−56を露光するという不都合も考えられ
るが、上記マトリックス52は450〜60amμに吸
収を持つ物質を含んでいるので、上記450〜600m
μの波長帯の光は上記マトリックス52に吸収されてし
まい、マトリックス52の上面の緑げい光を含む感光膜
を露光して不溶化してしまうことはない。
このように、本発明によると、げい光体を含む感光膜は
シャドウマスク53を通して露光する必要がないので、
げい光体を含む感光膜を露光する際は正確な位置決めは
不要であり、露光操作はきわめて簡単となる。
シャドウマスク53を通して露光する必要がないので、
げい光体を含む感光膜を露光する際は正確な位置決めは
不要であり、露光操作はきわめて簡単となる。
また、第4図に示すように、露光の光57はフェースプ
レート51の背面より照射されてマトリックス520ホ
ール55を通ってスラリ−56に達するので、フェース
プレート51の内面32に接する部分での光硬化が最も
進むことになり、この部分32での接着力はきわめて強
いものとなる。
レート51の背面より照射されてマトリックス520ホ
ール55を通ってスラリ−56に達するので、フェース
プレート51の内面32に接する部分での光硬化が最も
進むことになり、この部分32での接着力はきわめて強
いものとなる。
また、素子35の直径はbではなくaで決るので、第1
図において説明したbに比べてきわめて小さい。
図において説明したbに比べてきわめて小さい。
すなわち、20インチ1100偏向カラーブラウン管を
例にとると、前者は300μであるのに対し後者は40
0μで100μの差がある。
例にとると、前者は300μであるのに対し後者は40
0μで100μの差がある。
さらに、本発明によると、露光して形成される素子35
は、背面露光だけで得られ、そしてこの露光にもとづく
光には第5図に示すように第2図で説明した半影部23
は存在せず、真影部24のみが存在するので、素子35
の直径aのフェースプレートと平行方向への成長は最小
限におさえられる。
は、背面露光だけで得られ、そしてこの露光にもとづく
光には第5図に示すように第2図で説明した半影部23
は存在せず、真影部24のみが存在するので、素子35
の直径aのフェースプレートと平行方向への成長は最小
限におさえられる。
上記感光膜としてのスラリ−56の所定部分を背面露光
により露光したあと、つぎに、温純水で現像することに
より、透光性のホール55には前述のホールより10〜
20μ大の緑げい光体素子35を得ることができる。
により露光したあと、つぎに、温純水で現像することに
より、透光性のホール55には前述のホールより10〜
20μ大の緑げい光体素子35を得ることができる。
このようにして得られた緑げい光体素子35を上記緑げ
い光体スラリ−56にあらかじめ添加した染料の濃厚溶
液で染色する。
い光体スラリ−56にあらかじめ添加した染料の濃厚溶
液で染色する。
これにより後工程の第2色目のたとえば青げい光体素子
、第3色目のたとえば赤げい光体素子の形成の際、青ま
たは赤げい光体がこの緑げい光体素子の上に付着して混
色不良となるのを防ぐ。
、第3色目のたとえば赤げい光体素子の形成の際、青ま
たは赤げい光体がこの緑げい光体素子の上に付着して混
色不良となるのを防ぐ。
つぎに、第2色目、第3色目のたとえば青、赤のげい光
体素子を形成するのであるが、これも上記緑げい光体素
子を形或する場合と同様の方法で得られる。
体素子を形成するのであるが、これも上記緑げい光体素
子を形或する場合と同様の方法で得られる。
この場合、最後に形戒する赤げい光体素子は、染色操作
を必要としないのはもちろんである。
を必要としないのはもちろんである。
つぎに、各色のげい光体素子を形成すると、マトリック
ス52を黒色化するために、ベーキングまたは化学処理
に供する。
ス52を黒色化するために、ベーキングまたは化学処理
に供する。
これにより、マトリックス52にあらかじめ添加した発
色物質が黒色化するので、マトリックスは吸光性のもの
となる。
色物質が黒色化するので、マトリックスは吸光性のもの
となる。
ここで、本実施例においてはホールの形状は円形状のも
のに限定されず、長方形状、六角形状など他の形状であ
ってもよいことはもちろんである。
のに限定されず、長方形状、六角形状など他の形状であ
ってもよいことはもちろんである。
また、本実施例においてはげい光体は特定波長帯のみの
発光スペクトルを持つ光線により露光するものとして説
明したが.ホールの形成されていないポジレジストの部
分を透過した際にこれがポジレジストとげい光体を含む
感光膜に光化学反応を起させないスペクトルの光、たと
えば赤外線などであれば、この光を含むものであっても
よいことはもちろんである。
発光スペクトルを持つ光線により露光するものとして説
明したが.ホールの形成されていないポジレジストの部
分を透過した際にこれがポジレジストとげい光体を含む
感光膜に光化学反応を起させないスペクトルの光、たと
えば赤外線などであれば、この光を含むものであっても
よいことはもちろんである。
また、本実施例において第1色目、第2色目のげい光体
素子は染色するものとして説明したが、これらのげい光
体素子の上部に塗布したげい光体を含む感光膜が、上記
けい光体素子の透過光では不溶化されない場合、あるい
はその不溶化の程度が無視し得るものであれば、この染
色工程を省略できることはもちろんである。
素子は染色するものとして説明したが、これらのげい光
体素子の上部に塗布したげい光体を含む感光膜が、上記
けい光体素子の透過光では不溶化されない場合、あるい
はその不溶化の程度が無視し得るものであれば、この染
色工程を省略できることはもちろんである。
また、本実施例において少なくとも第1色目、第2色目
のげい光体を含む感光膜を露光する場合においては、ポ
ジレジストがその光で可溶化されないことはもちろんで
ある。
のげい光体を含む感光膜を露光する場合においては、ポ
ジレジストがその光で可溶化されないことはもちろんで
ある。
可溶化されると、以降の処理ができなくなる。
以上説明したように本発明によると、従来法に比べ吸光
マトリックス形成工程を短縮できることと、しかも、げ
い光体の感光膜の露光は背面露光を用いたので、つぎに
述べる種種の効果を奏する。
マトリックス形成工程を短縮できることと、しかも、げ
い光体の感光膜の露光は背面露光を用いたので、つぎに
述べる種種の効果を奏する。
すなわち、第1に、高精度露光装置の台数が1/2とな
り大巾なコストダウンが期待できる。
り大巾なコストダウンが期待できる。
第2に、吸光マトリックスの透光性ホールとほぼ同等の
げい光体素子を形成できるので、吸光マトリックスを光
学方式で形成した場合のげい光体素子の形戒が容易にな
る。
げい光体素子を形成できるので、吸光マトリックスを光
学方式で形成した場合のげい光体素子の形戒が容易にな
る。
第3に、必要最小限の直径のげい光体素子を形成できる
のでげい光体を有効に使用することができ、コスト的に
有利となる。
のでげい光体を有効に使用することができ、コスト的に
有利となる。
第4に、げい光体素子の接着力がきわめて強いので膜厚
を大きくすることができ、輝度向上を達成できる、など
種種の優れた効果を奏する。
を大きくすることができ、輝度向上を達成できる、など
種種の優れた効果を奏する。
第1図、第2図は従来のげい光面の製造方法を説明する
ための説明図、第3図ないし第5図は本発明によるげい
光面を製造するための説明図である。 11,54,57・・・・・・露光光、12・・・・・
・感光膜、13,35・・・・・・素子、14・・・・
・・フェースプレート内面、21・・・・・・光源、2
2.53・・・・・・シャドウマスク、23・・・・・
・半影部、24・・・・・・真影部、51・・・・・・
フェースプレート、52・・・・・・ポジレジスト、マ
トリックス、55・・・・・・ホール、56・・・・・
・げい光体スラリー。
ための説明図、第3図ないし第5図は本発明によるげい
光面を製造するための説明図である。 11,54,57・・・・・・露光光、12・・・・・
・感光膜、13,35・・・・・・素子、14・・・・
・・フェースプレート内面、21・・・・・・光源、2
2.53・・・・・・シャドウマスク、23・・・・・
・半影部、24・・・・・・真影部、51・・・・・・
フェースプレート、52・・・・・・ポジレジスト、マ
トリックス、55・・・・・・ホール、56・・・・・
・げい光体スラリー。
Claims (1)
- 1 熱処理あるいは化学処理により黒化する透光性物質
と所定の波長帯を吸収する染色剤とを含むポジレジスト
をフェースプレート内面に被着し、このポジレジストの
所定位置を色選別電極を通して露光しかつ現像して透光
性のホールを形成し、つぎにこの透光性のホールに充て
んして塗布された第1色目のげい光体スラリーを上記所
定波長帯の発光スペクトルを持つ光線によりフェースプ
レートの前面より露光して現像することにより第1色目
のげい光体素子を形成し、つぎにポジレジストの所定位
置に透光性ホールを形成して同様の方法により第2色目
、第3色目のげい光体素子を形成し、ついでポジレジス
トの中の透光性物質を黒化させることを特徴とするげい
光面の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11717074A JPS5847812B2 (ja) | 1974-10-14 | 1974-10-14 | ケイコウメンノ セイゾウホウホウ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11717074A JPS5847812B2 (ja) | 1974-10-14 | 1974-10-14 | ケイコウメンノ セイゾウホウホウ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5144472A JPS5144472A (en) | 1976-04-16 |
JPS5847812B2 true JPS5847812B2 (ja) | 1983-10-25 |
Family
ID=14705166
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11717074A Expired JPS5847812B2 (ja) | 1974-10-14 | 1974-10-14 | ケイコウメンノ セイゾウホウホウ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5847812B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2806436C2 (de) * | 1978-02-15 | 1984-03-01 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Verfahren zur Herstellung einer Schwarzumrandung von Leuchtpunkten auf dem Schirmglas eines Farbbildschirmes |
JPS56147206U (ja) * | 1980-04-08 | 1981-11-06 | ||
JPS56156704U (ja) * | 1980-04-24 | 1981-11-21 |
-
1974
- 1974-10-14 JP JP11717074A patent/JPS5847812B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5144472A (en) | 1976-04-16 |
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