JPS5846642A - ウエ−ハ洗浄乾燥装置 - Google Patents

ウエ−ハ洗浄乾燥装置

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JPS5846642A
JPS5846642A JP14429281A JP14429281A JPS5846642A JP S5846642 A JPS5846642 A JP S5846642A JP 14429281 A JP14429281 A JP 14429281A JP 14429281 A JP14429281 A JP 14429281A JP S5846642 A JPS5846642 A JP S5846642A
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JP
Japan
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wafer
turntable
side plate
cleaning
washing
Prior art date
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JP14429281A
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JPS622455B2 (ja
Inventor
Masatoshi Yamazaki
山崎 雅敏
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Publication of JPS5846642A publication Critical patent/JPS5846642A/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like

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  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、多数枚の半導体ウェーハを収容し回転させ
、洗浄及び遠心脱水し乾燥するウェーハ洗浄乾燥装置に
関する・ 半導体製品の製造工@における写真製版、熱拡散、酸化
属蔓成などの電通は、ウェーハ表面に施されるため、各
処理前のウェーハの表面1c(f着し良ごみや汚れは各
処理後の歩留シ低下の要因になっている。
そのため、各処理工程の前に、あらかじめウェーハ洗浄
乾燥装置によってウェーハを洗浄しておシ、この洗浄乾
燥装置の洗浄効果を上げることは歩留多向上となシ、処
理能力を上げることによシ生産性を上げることができる
従来のウェーハ洗浄乾燥装置は、第1図及び第2図に縦
断面図及び平面断面図で示すようになっていた。(1)
は上部が開口した円筒状の洗浄容器で、架台上(図示は
略す)に防振支持されており、底部に排気口(2)か設
けられである。(3)は支持わく(5)kよシ洗浄容器
(1)の底部側に支持され電動機で、回転軸(4)の軸
端が上記底部中心を貫通し上方に出されている。(6)
は回転4411(4)の軸端°に同定されていて回転さ
れるターンテーブルで、上面に取付座(7)が円周方向
に複数箇所(図の例では4箇所)等間隔に固着されてお
る。(8)は谷取付座(7)上に固着された回転わくで
、内側に収容部(8a)が円周方向に複数箇所(図の例
では4箇所)等間隔に配設されていて、背部には排除穴
(8b)があけられている。
(Jは各収容部(8匹)にそれぞれ西方からはめ込み保
持された複数の収納用具で、多数段の半径方向の保持み
ぞ(9a)にそれぞれウェーハ(IIJが上下方向のす
き間をあけ差込み収容されてあシ、背部には排バツ千ン
Hを介しかぶせられたふた、Qlはこのふたの下面中央
に取付けられ下方に出され、洗浄容器(1)の中心部に
位置するノズル取付棒で、複数のノズル(I荀が固着さ
れ、流通穴(13a)がこれらのノズルに連通、してい
る。05Iは外方からふた(lすに入り流通穴(13a
)に接続された連結管である。
上記従来の装置によるウェーハacJの洗浄乾燥は、次
のようにしていた。まず、電動機(3)にょシターンテ
ーブル(6)を低速回転し、各ノズル04)がら洗浄液
を噴射させる。この噴射された洗浄液にょシ各ウェーハ
(10は洗浄されながら回転される。洗浄が終ると、i
!電動機3)によシターンテーブル(6)を高速回転し
、ウェーハ(ト)の表面に付着している洗浄液を遠心力
によシ外方に飛散させると同時に、ノズル(14)から
乾燥ガスを吹出し、ウェーハ01表面を乾燥させる。こ
のとき、飛散された洗浄液は乾燥ガスと混合して節状と
なシ、洗lp容器(1)の底部の排気口(2)から排出
される。
しかしながら、上1従米装置では、円筒状の洗浄容器(
1)と同心にターンテーブル(6)の回転軸(4)が配
置してあり、ノズルから噴出した乾燥ガスとウェーハα
1に噴射され遠心力により吹飛ばされた洗浄液との霧状
混合気は、洗浄容器(1)の底部の排気口(2)から排
出されるまでに、ターンテーブル(6)及び回転わく(
8)の高速回転の影響で回転わく(8)と洗浄容器(1
)の内壁とのすき間を旋回する。この状態での霧状混合
気の流速の不均一によって起こる2次流により、洗浄容
器(1)の側板(1a)内方に沿った上下方向の流れが
発生し、速やかに排出されないため、洗浄容器(1)側
板(1a)内面やウェーノーQf)に接触して汚染した
霧状体が矢印A方向に循環し、ウェーハ00表面に再付
着して汚染するという欠点があった。
この発明は、洗浄容器の側板に対し、ターンテーブルの
外円周とのすき間が小さい部分から大きくなる部分に至
るようにターンテーブルの中心をずらし、側板に上記す
き間の大きい部分側から回転方向側にすき間の小さい部
分側にわたシ排出口を設け、洗浄容器の側板内面に沿う
洗浄液の霧状混合気を速やかに排出口から排出し、ウェ
ーハの再汚染を防止し、洗浄効果を高め、歩留りを向上
したウェーハ洗浄乾燥装置を提供することを目的として
bる。
第3図及び第4図はこの発明の一実施例によるウェーハ
洗竺、乾燥装置の縦断面図及び平面断面図であり、(3
) 〜QO、tJIJ 〜θli) e (8a) 、
(sb) 、(9a)、(9b)は上記従来装置と同一
のものである。Qυは上部が開口した洗浄弁(至)で、
側板(21a)がターンテーブル(6)の軸中心と同心
でうず巻に形成されており、ターンテーブル(6)の外
円周とすき間が大きい部分側から回転方向側にすき間の
小さい部分にわたる排気口(2)を設けておシ、底部に
は排水口(2)を設けておる。
(ハ)はふたで、パツキンO’4を介し洗浄容器cl]
)上にかぶせられており、ターンチー、プル(6)と同
一軸中心位置にノズル取付棒贈が下方に出されている。
上記一実施例の装置によるウェーハαりの洗浄乾燥は、
上記従来装置の場合と同様の手順で行う。
まず、ターンテーブル(6)を低速で回転し、同時に各
ノズル04からウェーハ洗浄液を噴出させ、ター/テー
ブル(6)により回転する各収納用A(9)の各ウェー
ハα1を均等に洗浄する。このとき、噴出されウェーハ
Qlを洗浄して外方に通った洗浄液は主として底部の排
液口−から排出される0次に、ウェーI・01の洗浄が
終ると、ノズル(141から転線ガスが噴出すると同時
に、ターンテーブル(6)が高速回転されウェーI01
も共に高速回転される。これにより、ウェーハa1及び
収納用具(9)に付着していた残留洗浄液が遠心力によ
シ吹飛ばされるとともに、乾燥ガスによってクエーー・
oOが乾燥される。
第4図に示すように、矢印B方向に回転するターンテー
ブル(6)と収納用具(9)は遠心送風機の羽根車に相
当し、一方洗浄容器Qυはケーシングに相当し、回転中
心に位置するノズル取付棒031.の各ノ、ズル(14
1から噴出する乾燥ガスは、回転わく(8)の外周に対
し軸対称に流通し、うず巻形の側板(21a)内で合流
し矢印C方向に通り、排気口四から排出される。
このように、洗浄容器(財)はうず巻形となっていて、
矢印C方向に通る乾燥ガスの流速Vがtlぼ一定となる
ようKし、2次流れ、すなわち、軸方向の上下流が発生
しないようにしている。このため、ウェーハ01表面に
残留していた洗浄液は遠心力で吹飛ばされ霧状となり、
乾燥ガスとの混合気となシ排気ロ四から速やかに排出き
れる。これによシ、従来のように霧状混合気が洗浄容器
の側板内に沿って旋回し長く残留し、上方に循環してウ
ェーハαQを貴汚染することが防止される。
第5図はこの発明の他の実施例によるウェーハ洗浄乾燥
装置の平面断面図である。(7)は上部が開口し側板(
26a)が円筒状をなして囲う洗浄容器で、この洗浄容
器の軸中心Pに対しターンテーブル(6)の軸中心Qを
偏心させている。mは偏心値である。
これにより、側板(Z6a)とターンテーブル(6)の
外円周とのすき間を、小さい部分から大きい部分に至る
ようにしている。この側板(26a)のすき間の大きい
部分側から回転方向側にすき間の小さい部分側にわたり
、排出口@を設けている。排出口(ロ)のすき間の小さ
い部分側の側板(26a)には内方に一阻止板に)が突
出して設けられ、霧状混合気の旋回を阻止し排出を良く
している。なお、このせき板(ハ)にさらに、鎖線で示
すように案内板に)を設けると、この部分における流体
の流れがいっそう円滑になる。洗浄容器(ホ)は円筒形
にしたので、上記うず巻形の洗浄容器儲りに比べ安価に
できる。
以上のように1この発明によれば、洗浄容器の側板に対
し、ターンテーブルの外円周とのすき間が、小さい部分
から大きい部分に至るように、ターンテーブルの中心?
ずらし、上記側板にすき間の大きい部分側から回転方向
側にすき間の小さい部分側にわたり排気口を設けたので
、洗浄容器の側板内に沿って流れる洗浄液の霧状混合気
が速やかに排気口から排出され、従来のように洗浄容器
内に永く残留して旋回し、再びウェーハへ付層して再汚
染することが防止され、洗浄効果が高められ、次の処理
工程での歩留りが向上する0
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のウェーハ洗浄乾燥装置の縦断面図、第2
図は比1図の■−■線における断面図、第3図はこの発
明の一実施例によるウェーハ洗浄乾燥装置の縦断面図、
第4図は第3図のN −ff線における断面図、第5図
はこの発明の他の実施例によるウェーハ洗浄乾燥装置の
第4図に相当する断面・図である。 3・・・電動機、6・・・ターンテーブル、8・・・回
転わく、9・・・収納用具、10・・・ウェーハ、13
・・・ノズル取付棒、1番・・・ノズル、21・・・洗
浄容器、2ユa・・・側板、22・・・排気口、24・
・・ふた、26・・・洗浄容器、26a・・・側板、2
7・・・排気口、28・・・阻止板なお、図中同一符号
は同−又は相当部分を示す。 代理人 葛野信 −(外1名) 第11′4 第2図 第31¥1 第、1. r−K1 f

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)筒状をなし開口した上部にふたがかぶせられた洗
    浄容器、この洗浄容器の側板内面に対し、外円周とのす
    き間が小さい部分から大きい部分になるよう・k軸中心
    がずらされ、上記洗浄容器内の下方に配設されていて回
    、転されるターンテーブル、このターンテーブル上に固
    着された回転わく、この回転わくに円周方向に対し等間
    隔に保持され、それぞれ多数枚のウェーハを上−下のす
    き間をあけて収容した複数の収納用具、及び上記ふたの
    下面中央側に取付けられ側部に複数のノズルが設けられ
    、上記回転わくの軸心部に位置しており、上記各ノズル
    から洗浄液を噴射させ、後、乾燥ガスを噴出させるため
    のノズル取付棒を偏え、上記側板には上記すき間の大き
    い部分銭から向転、方向飼に上記すき間の小さい部分側
    にわたる排気口を設けたことを特徴とするウェーハ洗浄
    1fL繰装置。
  2. (2)  洗浄容器は側板がうず巻形に形成され、うす
    巻の中心にターンテーブルの軸中心を合わせていること
    を特徴とする特許請求の範[1j111 m記載のウェ
    ーハ洗浄乾燥装置。
  3. (3)洗浄容器社側板が円筒状に形成され、円筒の軸中
    心にターンテーブルの軸中心をずらしていることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載のウェーハ洗浄乾燥装
    置。
JP14429281A 1981-09-12 1981-09-12 ウエ−ハ洗浄乾燥装置 Granted JPS5846642A (ja)

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JPS5846642A true JPS5846642A (ja) 1983-03-18
JPS622455B2 JPS622455B2 (ja) 1987-01-20

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61162046U (ja) * 1985-03-27 1986-10-07
JPS63110031U (ja) * 1987-01-09 1988-07-15
EP0631846A1 (en) * 1993-06-14 1995-01-04 International Business Machines Corporation Mounting apparatus for cryogenic aerosol cleaning

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