JPS5846340A - 写真基材の前処理方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は写真感光乳剤を用いて連続コーティング中に接
着力を改良するため写真基体（ｐｈＯｔＯ−ｇｒａｐｈ
ｉｃ　　５ｕｂｓｔｒａｔｅ）の前処ｕｏたメツ方法及
び装置に関し１この方法及び装置では写真基体はコロナ
放電にさらされるう 写真材料製造中に、全体がグラスチックよシ成るグラス
チック基体に親水性の層が塗布されるか−あるいは紙基
体に液体の浸透するのを防ぐため感光紙基体へプラスチ
ックフィルムが塗布される。

しかし乍ら、親水性のｔ写真用へロｒン化銀ゼラチン乳
剤を含む層はゲラステック基体の疎水性表面に接着しな
い。

例えば、ポリマ、−よシ成る基体の表面へ親水性の層の
適切な接着は、その表面が写真用感光乳剤をコーディン
グする前に強力なコロナ放電を用いて処理することによ
り活性化されれば達成され得ることが知られている。塗
布されるべき写真用感光乳剤と基体との間に必要な接着
力を得るためのこの方法は簡単に実施することができ、
且つまた高速で行なうことができる。しかし乍ら１この
方法はかなりの欠点を有することが判明した。この方法
によシ製造されたフィルムあるいは感光紙は現像後その
像内に雲りを示し、これは基体が写真材料の製造中及び
処理中の荷電を防じ念め電気的導体材料（帯電防止材料
）を備えているときより顕著となる。

ドイツ国特許公告第１．９２４７２４号（米国特許第４
５３１．３１４号）はポリマーよシ成る表面を有する基
体のコーティングのための方法を開示しておりへこれで
祉ウェブの両側をコロナ放電によって表面の活性後回−
符号（ｓｉｇｎ）　　の高電荷が加えらｈる。これは最
終製品内の不規則性％特に写真記録材料内の目に見える
横の線は電位差がほぼ１００メルトの下方限界値以下に
降下すれば、より僅かになりそして完全に消える程度ま
で一表面の種々の領域における表面電荷内のコロナ放電
によって生じた電位差を減少しなければならない。

米国特許第４５３．１．３１４号による方法では１同一
符号の高電荷によって表面電荷の差を減少し、そしてま
た平衡することが可能であるが、しかし高電荷がウェブ
上に残゛シｔそしてコーティング装置内の更に他の処理
工程中、あるいはウェブをロールに巻くとき、％にこの
ようにして荷電されたウェブは放電あるいは塵埃を吸着
する強い傾向を有しているので１かなシの困難を生ずる
ことがある。

ドイツ国特許公開第１．９５４．２８４号（米国特許第
４７６１．２９９号）は重合体成製構成物の表面湿潤特
性及び接着特性を変化するための方法を開示しており、
この方法では材料は水銀柱α０１霞から２０諷の圧力で
真空タンク内のガス流を用いて少くとも１０メガヘルツ
（ラジオ周波数エネルギー）の電−場内でコロナ放電を
使用せず処理される。水−吸湿度における大きな改良の
外に、この処理は疎水性重合体成型構成物の静電荷を保
持しようとする傾向を著しく減少する。

しかし乍ら、この方法はラジオ周波数エネルギーの大部
分が、このよう外圧力で熱エネルギーに変換されるので
ｔ標準圧力で行なわれる時極めて効果が少いという大き
な欠点を有している。従って水銀柱α０１■から２０■
そして好ましくは水銀柱α０１ｍから（Ｌ８’ｍの圧力
が採用される。しかし乍ら細いあるいは荒い真空条件の
下でこのような方法を連続的に実施することは、前述の
処理室が処理されるべき材料を損傷せずにシールされる
ことができず、そして連続的処理が実施されれば著しい
量の外気が室内に入るのでかなシの製造費を必要とする
。空気の漏洩を防止し且つ処理装置の真空内のガス状雰
囲気を維持するため、高エネルギー消費が必要であり、
そして均一な処理は殆んど不可能であるう 本発明の目的は材料が基体の表面上にかなりの静電残留
電荷を残すとと々く、且つ低品質のキヤツチング（ｃａ
ｓｔｉｎｇ）とならずに写真感光乳剤を用いてキャスト
（ｅａｓｔ）できるように改良されるべき写真用基体の
表面湿潤特性及び接着特性を簡単に１速かに且つ経済的
に可能とする冒頭に述べた型式の方法及び装置を提供す
ることである。

この目的はコロナ放電が低圧力で行なわれる、冒頭に述
べた型式の方法を用いる本発明によって達成された。コ
ロナ放電が行なわわる低圧力は大□ 気圧よシ１００ミリバール（ｍｂａｒ）から１０００ミ
リバール、好ましくは５００ミリバールから９００　ミ
ＩＪパール低く、処理の強度は基体の平方メートル当り
５０ワツト・分（Ｗ、ｍ１ｎ）から１００ワツト・分で
ある。

基体のコロナ処理は標準圧力における従来使用されたコ
ロナ処理よシも、低圧力であっても、よ。

りよい接着特性及び湿潤特性を生ずることが判明したこ
とけ驚くべきことであった。更に１処理ステーシヨンを
出た後基体上にかなりの静電残留電荷が現わわなかった
ことは鳶くべきことであり１そして基体は斑点現象もな
く写真用ノ・ログン化銀ゼラチン乳剤をコーティングす
ることができたつがス放電プラズマが直接処理されるべ
き製品に接触するようにガス放電が維持されているシー
ルされたチャンバー内に処理されるべき製品が入わらｉ
する今まで知られた先行技術のプラズマ処理は絶対圧力
００１ミリバールから２０ミリノ々−ルの範囲で操作し
ている。他方において１１００ミリ・ヤール以上の絶対
圧力は機械的な費用及び漏洩空気をポンプ排気するため
のエネルギー消費がよシ低く、一方静電残留電荷がかな
り減少されｔ且つ接着特性並びに湿潤特性がかなり改良
されるので１特に商業上重要である。

この方法の他の利点は本発明による方法によシ活性化さ
れたウェブは非常に感光性の着色されたハロゲン化銀ゼ
ラチン乳剤を用いて処理後直ちにキャストされることが
でき−そして基体は連続的に１つの機械内で１動作で出
来上ったカラーフィルムあるいけカラー紙に加工処理さ
れることができる。

実験により実証された如く、低圧力範囲内においてコロ
ナ放電を用いて本発明により処理されたウェブ材料は驚
く根長期間に亘って貯蔵されることができ、そして湿潤
特性及び接着特性を損−うことなく、且つ斑点形成によ
ってキャスティングの品質に悪影響を与えることなく写
真着色乳剤を用いてキャストすることができる。従来の
標準圧力てい九が１これに反し本発明により処理された
基体は１年後でもな訃容易に湿１１ζ可能な表面を有し
ている。

この方法は、コロナ放電装置が１　ｋＨｚ　から１５０
　ｋＨｚ　ｓ好ましくは１５ｋＨｚから４ＱｋＨ２で荷
電されるように実施されるのが有利である。

４’　Ｏｉｇから６０　Ｈｒｓのコロナ放−のメインス
（Ｍａｉｎｓ）周波数は特に不安定であることが知らｈ
ており１そして非常に短い処理時間波でも良い結果を立
証するｋＨｚ範四における安定したコロナ放ｉよシもｔ
非電導体基体に対してかなり長い処理時間を必要とする
。。

本発明の方法は１例えば承りエチレンテレフタル酸塩、
ポリ！チレンテレフタル酸塩のようなポリ壬ステル；例
えばポリエチレン、ポリエチレンのようなポリオレフィ
ン；例えばポリエチレンｔポリ−α・メチルスチレンの
ようなポリスチレン類；例えばポリメタクリル酸メチル
のようなアクリルエステル；ボリカーピネート；例えば
トリアセチルセルロース、アセチルグチルセルロース等
のようなセルロース誘導体が有効に適用されることがで
きる。

本発明による方法はこね等のポリマーでコーティングさ
れた紙１紙内に含まれるかあるいは紙の表面に塗布され
そして上記のポリマーを含んでいるポリマ一層でコーテ
ィングされている導電性の、帯電防止作用剤を含んでい
る基体に対して使用されれば特に有効である。

この方法は例えば、カプラーを含むノ・ロケ゛ン化鍋ゼ
ラチン乳剤の如き好壕しない影響に対して特に感光性で
ある写真感光乳剤が１作動で活性化さねたベースフィル
ムに塗布さ第１るので費用を節約し得るのみならず、連
続方法として、極めて速かに且つキャスティング装置の
所望の機械速度７０より２００ｍ／ｍｉｎ　に適応させ
ることができ、そして高い品質のカラーフィルムあるい
はカラー紙の製造のためのカラー感光乳剤を用いて直接
あるいは次のキャスティングに必要な特性を備えた均質
な基体を作ることができる。放射の強度の選択そして／
あるいは低圧力の選択によって簡単な手法で機械速度へ
の適応を行なうことができる。

この方法はまた例えば、保護ガス即ち活性ガス下のよう
な特定のガス状雰囲気内で行なわわることができる。

この目的は少くとも１つのコロナ放電装置を備えた処理
室が連続的に移動する基体の通路に沿って配置さね、そ
して処理室は低圧力を受けておシ且つ大気圧からシール
されている本発明による方法を実施するための装置によ
シ達成され、この処理室は、基体自身と、本装置の有効
な実施態様内のブロッキングロールと、ローラシールと
によって大気圧力からシールされている。

この比較的簡単な装置はポリマー表面を大気圧以下の１
００ミリバールから４００ミリバールの低圧力範囲内で
コロナ放電を用いて処理されることができ、そして驚く
程簡単な手法で良い結果を達成することができろう その他の開発において１両側部をシールさｈておシ、そ
して大気圧力と処理室内の圧力との間にある低圧力が発
生されることができる予備室が基体の入口側及び出口側
の両側において処理室の前に配置されている。

基体を処理室の低圧力の中え段階的に導入することによ
って、ローラのシールの問題を減少シ、１且つ必要なポ
ンプ作用を最小にすることが可能である。この装置では
、低圧力の著しい損失もなく１０００ミリバールから４
００ミリバールの処理室内の低圧力を維持することがで
き、６００ミリバールから５００ミリバールの低圧力が
予備室内に維持さノする。更に付加的な予備室が低圧力
の段階的な形成のため処理室の前方に配置されわば、著
しいエネルギーの損失もな（９００ミリバールの低圧を
処理室内に発生されることができる。

本装置の他の利点は、コロナ装置のエネルギー消費が標
準圧力におけるコロナ放電のときょシも低圧力のときの
方が少いという事実にあり、そしてオゾンは室内に入ら
ず、しかも寧ろ真空ポンプによって吸引されそして排出
される。この装置がシーリングロー２によシシールされ
るので、コロナ放電によって発生さねた光は装置から流
出することが不可能であシ、従って装置は予備露出（ｐ
ｒｅｌｌｍｉｎａｒｙ　　ｅｘｐｏｓｕｒｅ）を生ずる
ことなく感光写真材料を用いて基体のキャスティングの
ためのキャスティング位置の前方に直接配置されること
ができる。

本発明の実施例を下記の図面を診照してより詳細に説明
する。

第１図は両側部に配置された予備室４，５を備え低圧力
においてコロナ放電を用いて空気対兜気作用で基体１の
連続処理をするための処理室８を備えた装置を示してい
る。基体１、例えばｓｌ！１５７ｃｍを有するポリマー
よシ成る写真フィルムのウェブ１はロールから巻きもど
されそして入口側Ｅで装置へ供給され％２つのロー２２
によって把持される。ローラ２はそれ等のハウソング、
予備室４からシール３によってシールされている。

フィルムのウェブ１江、ローラ２の間でシールを形成す
る。予備室４は１例えば大気圧以下の４００ミリバール
の低圧力まで予備室を排気する真空ポンプ１０へ連結さ
れていｌ、。フィルムのウェブ１は予備室４からシール
３によってシールされた付加的なローラ２を経てかなシ
の低圧力を受ける実際の処理室８内へ送られそして直接
あるいは偏向ロー２９を経て処理ｐ−２６へ供給される
。少くとも１つ〜あるいは第１図に示された如く、数個
のコロナ放亀装ｒＩｔ７が処理ローラ６の周りに配置さ
れる１例えば平板鋼電極、ローラ電極、ワイヤ電極１右
英ガラス電極あるいけアルミニウム粒子を充填した石英
ガラス電極のような任意の従来の電極がコロナ放電装置
７として使用されることができる。低圧力下でコロナ放
電を用いて活性化され〜且つ静電気電荷から解放された
ウェブ１は次に（Ｍ内ローラ９及びシーリングローラ２
を経て処理室８からより少い低圧力で充たされた予（＋
ｉｉｉ室５内へ送られ、それからローラ２を経て装置の
出口側Ａへ送られる。出口側Ａにおいて、ウェブ１（矢
印）はコーティングのためコーティングステーション内
へ直接滑動されることができるか、あるいは巻取シ装置
（図示せず）へ供給されることができる。予備室４．５
内及び処理室８内の低圧力は図示された（矢印）如き別
箇の真空ボンダ１０．１１，１２によって維持され且つ
制御される。しかし乍ら）真空ポンプ１１によって制御
された処理室８のみを所望の低圧力に維持し、そして予
備室４．５内の低圧力をそれ自身で調整するか、あるい
は、その圧力を調整部機１５を用いて制御することが可
能である、 標準圧力以下の低圧力６００ミリバールが処理室８内に
望まれるときは１予備室４．５内では低圧力約４０　ｏ
＝ミリパールが好ましい、下記の実施例に示されている
如く〜表面吸湿度及び層液着力はコロナ放電の強度ワッ
ト・分／平方メートル（Ｗ−Ｉｌｏｉｎ／、ｒ）　（第
３図）及び処理室（第２図）内の低圧力の双方により左
右さね、これに対して基体上にコロナ放電によって生じ
、且つコーティング欠陥となる基体表面の放電（第２図
）は標準圧力以下１００ミリバールの低圧力のときでも
明らｆ）ｈに減少し、４００ミリバールの低圧力のとき
キャスティングの品質にもはや影響を与えない。

より大きな低圧力、例えば９００ミリバールに対しては
−そｉｌぞわの予備室４及び５の前に付加的な低圧力予
備室を置き、個々の室内に４００％６００．９００％　
６００，４００ミリバールの低圧力段階を作るのが真空
工学上好ましい。従ってシールからの漏洩は過度に大き
な圧力段階を用いるときよりもかなり少い。

標準圧力以下の低圧力ミリ）々−ルの関数としてコロナ
放電された基体の最大正電荷と最大負電荷との差の関係
が第２図内のカーブ（ボルト）とじてプロットされてい
るうこのカーブにより示されている如く、電荷の差は低
圧力１００　ミ１７パールのとき２００ｙｔ’ルト（±
１００ボルト）を超え１そわから急に下降し１低圧力８
００ミリバールのとき僅か数ポル）（＋８．−１０ｙｙ
ルト）の電位差が残るのみである。この実施例では、コ
ロナ装置は周波数２０　ｋＨｚ％亀圧５０　ｋＶで荷送
さねた。

コロナ放電は基体上で１３′ａワツト・分／平方メート
ルの強度を有していた。より高いコロナ強度に対しては
カー！はほぼ平行であり、しかもより高く、そして低い
強度に対しては対応してより低い、電圧差８０ゲルトに
対応する低圧力４００ミリバールのときカプラーを含む
従来のカラー感光乳剤を用いて良品質のキャスティング
が達成されることができる（第２実施例）。更にキャス
ティングは例えば標準圧力以下８００ミリバールの低圧
で処理することによって改良される（第５実施例）。

第２図の第２のカーブはＣ１０値を示しており１即ちＥ
８ＣｊＡ　　（ｓｌｅｃｔｒｏｎ　　５ｐｅｃｔｒｏｏ
ｃｏｐｙｆｏｒ　　ｃｈｅｍｌｃａｌ　ａｎａｌｙｕｉ
ｓ（化学分析のための五を子分光学））を用いて測定し
た１コロナ処理後の基体の重合表面上のカーボン（ｃａ
ｒｂｏｎ）対酸累（ｏｘｙｇｅｎ）比率である。このＣ
７Ｏ値はいかなコーディング損失もなく重合表面上のゼ
ラチン感光乳剤の吸湿度及び層の接着力に関する所説（
ｓｔａｔｅｍｅｎｔ）を得るだめの非常に信頼のおける
助けである。測定方法は化学物理詰（ｔｈｅＪｏｕｒｎ
ａｌ　　（１ｅ　ｃｈｉｍｉｅ　　ｐｈｙｓｉｑｕｅ）
（１９７８年１７５第６号６６２頁より６６８頁）に記
載さ第１ておシ、そして従来使用された公知の湿潤角度
（ＷＡ　）（ｗｅｔｔｌｎｇ　　ａｎｇｌｅ）の測定１
活性化さｉまた表面へ加えられる水滴の湿潤角度によシ
評価される吸湿度よりもより信頼性のある信頼性があり
、且つ正確な値を非常に速かに生ずる。

０１０値（Ｃ１０）のカーブ及び湿潤角度（ＷＡ）のた
めのカーブは標準圧力のときのコロナ放電（ワット・分
／平方メートル）の強度の関数として１実施例に対して
第５図にプロットされている。

４を超えるｅ　１０値に対応する６５度を超える湿潤角
度を有する表面は伜かな吸湿度及び層液着力を示すこと
が経験上明らかとなったつ第２図に示されたｃ　１０値
は低圧力（ミリパール）の関数としてプロットさｈてい
る。低圧力が増加すると、重合表面上の炭素対酸素比率
１即ちｃ　１０値、は同一のコロナ強度ワット・分／平
方メートルのとき減少し、従って表面の湿＋１４％性は
改良される。標準圧力以下の約１００　ミＩＪパールの
低圧力のときｃ１０値が４の値以下に降下すると、良好
な吸湿度及び良好な層液着力を保証されることができる
。

低圧力１００ミリバールで２００ぎルトのときなお臨界
範囲内圧あり、且つキャスティングの欠陥となる活性化
された表面上の電圧差は、斑点、不透明さ及びかぶりに
関してキャスティングの品質に責任がありｔ従ってより
高い低圧力が活性化のため使用さねなければならない。

本方法及び本装置の利点が５つの実施例により下記に例
示されており、実施例１は標準圧力のときの従来のコロ
ナ処理に関し、そして実施例２及び３は低圧力のときの
コロナ処゛理を用いた本発明による方法に関する。

実施例　１ 内部に帯電防止層を設けたポリエチレンをコーティング
した感光紙のウェブはコロナ放電によって標準圧力（低
圧力０ミリパール）で活性化され１そしてすぐその後で
シアンカフ″２−を含むゼラチンハｏｒン化銀乳剤を用
いてキャストし、そして試験された。処理及びキャステ
ィングは下記の条件で行なわわた： ウェブ速度０　＝１１０　ｍ／ｍｉ　ｎアルミニウム粒
子で充填さｈた３つの石英ガラス電極を用いるコロナ処
！、。

電圧５９ｋＶ 周波数　２９ｋＨｇ 処理の強度　２１７ワツト・分／平方メートルウニゲ表
面上にコロナ放電により発生あるいは残った残留電荷は
幅すのウェブサンプル上でイン７　ｋ　工ンスグルーグ
（ｉｎｆ’１ｕｅｎｃｅ　　ｐｒｏｂｅ）にューヨーク
、１４０９Ｂリントンビレ１１００ハクセル　アベニュ
ー、モンローエレクトロニス社により作られた２４４型
）を用いて測定され、そしてカー１としてプロットされ
た（第４図参照）、カー１は正及び負荷電後電荷におけ
る著しい変化を示しており、より大きな負の電荷は最大
−１７５Ｍルトであシ、そしてより小さ表止の残留電荷
は＋８８がルトである。キャスティング品質に責任のあ
る電荷の差２層５ポ次トは極めて高い。

感光乳剤でコートされ且つシアン層を有する写真現像さ
ねたサンプルは斑点状の明暗点を有しており、そして高
級感光紙には摘していなかった。

濃い点の存在を含んでいる荒い組織を有しているウェブ
サンプルから公知の手法で作られた静電トナー（ｔｏｎ
ｅｒ）　　像は第４図のカーブに、示された如く、大き
な電荷の差を有している。

０．１０値は上記の手法で測定され、そして＆４より４
であるととが判明した０層の接着力及び吸湿度はこれに
対応して良好であった。

実施例　２ 同じ感光艇つェグが実施例１と同一の手法で処理さねた
が１処理は標準圧力以下の低圧力４００ミリバールの下
で行なわわた。（０＝１１゜ｍ／ｍｉｎ％Ｖ＝５０ｋＶ
、ｆ＝２０ｋＨｚ％ｓつの同じ電極）。

コロナ放電が標準圧力のときょシも低圧であって、実質
的によシ強い効果を有するので、処理の強度は１３０ワ
ツト・分／平方メートルに調整された。

ウェブ表面で測定された残留電荷は著しく減少され１且
つ最大−５５ボルト及び＋２６１ｆルトてあり、従って
電荷の差は８１がルトであった（第５図参照）、トナー
像が細い組織のみを示した。

現像されたサンプルは斑点がなく、そして他の欠陥を有
していなかった。測定されたｃ１０値は＆５であった。

基体への乾・湿層の非常によい接着力が決定された。

実施例　３ 感光懇の同一のウェブが実施例２の如く処理されそして
低圧力１−ｉ８００ミリバール（絶対２４０ミリパール
）への増加さｈた。コロナ処理強度は更に８５ワツト・
分／平方メートルに減歩された。

測定された残留電荷は第６図に示された如く一ウェブの
幅（至）上に亘リスムースなカーブを示している。残留
電荷は＋８メルト及び−１０ボルトであジを最大１８ボ
ルトの電荷の差が得られた。現像されたサングルは非常
によいキャスティング品質を有していた。トナー像は非
常に均一でありｔそして＃１んの僅かな不透明さを有し
ていた。測定されたｃ１０値は２４であシ、そして今ま
でに述べた優れた層の接着力を確証した。

実施例５２によって作られたウェブは処理後キャストさ
れずに貯蕨日時の関数としてａ１０値の変化を観察する
ためロールに巻かれた。サンプルは規則正しい時間間隔
でクエケから除去されそしてｃｌｏ　値が゛測定された
。その驚くべき結果が第７図に示されている。第７図に
よりは％ｃ１０　　値は最初の１０日間に直線的に増加
し、スタート時の値２．４からＳｌの値に達する。しか
し乍ら、それからほぼ一定のｃ１０値五６に近しそして
５０日後再び下降し始める。この動作特性は物理的に説
明できないが１少くとも増加の傾向がｍ察されないこと
を示している。この推定は１年後測定したサンプルがな
はｃｌｏ　値＆２を有していることを確証した。従って
低圧下でヲロナ活性化のための本発明による方法はまた
著しくその吸湿度を変えることなく長期間に亘って活性
化されたウェブを貯蔵することが可能であり、これに反
して標準圧力のとき従来の方法により僅か数日後でウェ
ブは僅かな吸湿度を有し、そして再び活性化されなけれ
ばならない。

【図面の簡単な説明】

Ｗｔ１図は低圧力範囲内においてコロナ６理を集熱する
ための装置を示しているう 第２図は残留電荷（本発明ではボルトで表わされている
）と低圧力のときの０１０恒との関係を示している。 第５図はＯ１０値及び湿潤角度（ＷＡ）と放射の強度（
ワット・分／平方メートル）とのｊｙｌ係を示している
。 第４図は標準圧力のときのコ１す処理に露出された基体
のボルトで示されている残留電荷を示している。 第５図は４００ミリバールの低圧力における残留電荷を
示している。 第６図は８００ミリバールの低圧力における残留電荷を
示している。 第７図社低圧力処理された基体のｃ７ｏ値の一時的な動
作特性を示している。 １・・・電体 ２・番・ロール ３・・・シール ４・・・予備室 ７・・・コロナ放電装置 ８・・・処理室 ！・・・偏向ローラ １０・・・真空ポンプ ミリｌぐ一ル ＦＩＧ、　２ Ｗｍ１ｎ／ｍ２ ＦＩｏ、　３ ＦＩＧ、　４ ＦＩＧ、５

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、写真基体がコロナ放電に露出される写真感光乳剤を
   用いて連続するコーティングの間に接着力を改良するた
   め写真基体の前処理のための方法において、該コロナ放
   電が低圧力下で行なわｈることを特徴とする方法。 Ｚ　該コロナ放電が大気圧より１００ミリバールから１
   ０００ミリパール１好ましくはＳＯＯミリパールから９
   ００ミリバール低い低圧力下で行なわれる特許請求の範
   囲第１項記載の方法。 ＆　選択された処理の強度が基体の平方メートル当り５
   ００ワツト・分（Ｗ、ｍ１ｎ）と１０００１７ツト・分
   との間にある特許請求の範囲第１項又は第２項記載の方
   法。 ４　該コロナ放電のため選択された周波数が１ｋＨｆｆ
   ｉ　と　１５０　ｋＨｚとの間、好ましくは１５ｋＨｚ
   から４０　ｋｅｇである特許請求の範囲第１〜３項のい
   づれかに記載の方法。 ＆　特許請求の範囲第１項による方法を実施するための
   装置において、少くとも１つのコロナ放電装置を備えた
   処理室が連続的に移動する基体の通路に沿って配置され
   ており、そして該処理室が低圧力を受けており１且つ大
   気圧からシールされていることを特徴とする装置。 ＆　該処理室が該基体と、ブロッキングローラと、ロー
   ラシールとによって大気圧からシールされている特許請
   求の範囲第５項記載の装置。 １　両側においてシールさね、且つ大気圧と該処理室の
   圧力との間にある低圧力が発生されることができる少く
   とも１つのそれぞれの予備室が該基体の入口側及び出口
   側の該処理室の前方に配置されている特許請求の範囲第
   ５項記載の装置。