JPS5841588B2 - 磁気バブルメモリチップ - Google Patents

磁気バブルメモリチップ

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Publication number
JPS5841588B2
JPS5841588B2 JP2542178A JP2542178A JPS5841588B2 JP S5841588 B2 JPS5841588 B2 JP S5841588B2 JP 2542178 A JP2542178 A JP 2542178A JP 2542178 A JP2542178 A JP 2542178A JP S5841588 B2 JPS5841588 B2 JP S5841588B2
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JP
Japan
Prior art keywords
pattern
magnetic bubble
memory chip
bubble memory
memory area
Prior art date
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Expired
Application number
JP2542178A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS54118740A (en
Inventor
忠 岩清水
実 広島
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS54118740A publication Critical patent/JPS54118740A/ja
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Expired legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気バブルメモリチップ、特に作製されたチッ
プのパターン寸法を精度よくかつ効率よくできるメモリ
チップに関するものである。
第1図に磁気バブルメモリチップの外観を示す。
同図に示すように磁気バブルメモリチップ1の大部分は
、第2図に示すような各種の微細パターンでうめられて
いる有効メモリエリア部2で占められている。
この有効メモリエリア部2はメモリ動作を行なう部分で
、情報の記憶、書き込み、読み出しなどの機能をもって
いる。
有効メモリエリア部2の周囲は余白部を形成する外囲部
3から有効メモリエリア部2を保護するガードレール4
で囲まれている。
そして、このような磁気バブルメモリチップの現在の代
表的なものは、その容量が64キロ〜256キロビツト
で、チップのサイズは5〜10關角、外囲部の幅は0.
5〜1.0in程度である。
さて、実際に作製された磁気バブルメモリチップ1は、
その有効メモリエリア部2を形成している第2図のよう
な各種微細パターンが設計値どおりに作製されているか
どうか管理しなければならない。
このパターン寸法管理は、有効メモリエリア部2内の各
種の微細パターンの出来上り寸法を作成された多数個の
メモリチップに対して顕微鏡下で測定することにより行
なわれる。
ところが従来の磁気バブルメモリチップに対してこのよ
うな微細パターンの寸法管理を行なった場合、次のよう
な問題があった。
第1に第2図に例示したような有効メモリエリア部を形
成している各種微細パターンは、顕微鏡下で寸法測定す
るのに測定しにくい形状をしているために測定精度が±
20%程度で非常に悪い。
第2に寸法測定の対象となる各種微細パターンがメモリ
チップ1の大部分の領域を占有している有効メモリエリ
ア部2に散在しているため、目的パターンを探して顕微
鏡の視野中に入れる操作に測定時間の大部分を費やされ
効率が悪い。
本発明は上記従来の問題を解消するためになされたもの
で、パターン寸法管理をする際の寸法測定が精度よくか
つ効率よく行なえる磁気バブルメモリチップを提供する
ことを目的とする。
以下本発明を図示の実施例により説明する。
第3図は本発明になる磁気バブルメモリチップの一実施
例を示す正面図である。
同図に示すように外囲部3の四隅に寸法測定測定用各種
パターンを集中させたパターン寸法管理部分5を設けて
なる。
このパターン寸法管理部分5のパターンは有効メモリエ
リア部2を構成する各種パターンを形成すると同時に形
成する。
このパターン寸法管理部分5は特に四隅に限定されるも
のではなく、外囲部3の任意の場所に設けても勿論差支
えない。
またその数も限定されるものではない。
またパターン寸法管理部分5に集中して設ける寸法測定
用各種パターンは、第4図に示すように測定しやすい形
状に単純化したものを用いてもよく、また有効メモリエ
リア部2に形成されている各種微細パターンをそのまま
形成してもよい。
第4図において、6は複数の矩形をX方向およびY方向
に配夕]ルたパターンの例を示し、Tは複Oの矩形を斜
め方向に配夕1ルたパターンの例である。
このようなパターンを用いると寸法測定がしやすくなる
このようにメモリチップのメモリ動作に対して何の悪い
影響を与えることのない余白部である外囲部3に寸法測
定パターンを形成したパターン寸法管理部分5を形成し
てなり、その寸法測定パターンは有効メモリエリア部の
各種パターンと同時に形成してなるので、有効メモリエ
リア部の各種パターンと同じ精度で作成され、寸法測定
パターンを測定することにより容易に有効メモリエリア
部の各種パターン精度を知ることができる。
またその寸法測定パターンは測定しやすい形状にするこ
とができ、測定精度が向上する。
また各種寸法測定用パターンを特定場所に集中して設け
ることができるため、目的パターンを探がして顕微鏡の
視野中にもってくる操作が不要となり、測定時間の短縮
が図れる。
以上の説明から明らかな如く、本発明によれば、作製さ
れた磁気バブルメモリチップのパターン寸法測定が精度
よく効率よくできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の磁気バブルメモリチップの正面図、第2
図は有効メモリエリア部に形成された微細パターンの一
例を示すパターン図、第3図は本発明になる磁気バブル
メモリチップの一実施例を示す正面図、第4図はパター
ン寸法管理部分に形成された寸法測定用パターンの一例
を示すパターン図である。 1・・・・・・磁気バブルメモリチップ、2・・・・・
・有効メモリエリア部、3・・・・・・外囲部、4・・
・・・・ガードレール、5・・・・・・パターン寸法管
理部分。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 有効メモリエリア部を囲むように設けられたガード
    レールでチップの外囲部から保護する磁気バブルメモリ
    チップにおいて、前記有効メモリエリア部を構成する各
    種パターンを形成すると同時に、前記外囲部に各種寸法
    測定パターンを集中させて形成したパターン寸法管理部
    分を具備してなる磁気バブルメモリチップ。
JP2542178A 1978-03-08 1978-03-08 磁気バブルメモリチップ Expired JPS5841588B2 (ja)

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JP2542178A JPS5841588B2 (ja) 1978-03-08 1978-03-08 磁気バブルメモリチップ

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Publication Number Publication Date
JPS54118740A JPS54118740A (en) 1979-09-14
JPS5841588B2 true JPS5841588B2 (ja) 1983-09-13

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6074312A (ja) * 1983-09-30 1985-04-26 豊田合成株式会社 ゴムスイツチ接点
JPS6136928U (ja) * 1984-08-07 1986-03-07 株式会社 レツドマン 感圧式簡易スイツチ
JPS6166831U (ja) * 1984-10-09 1986-05-08
JPS6187426U (ja) * 1984-11-13 1986-06-07
JPH0435851B2 (ja) * 1982-09-03 1992-06-12 Alps Electric Co Ltd

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