JPS584136A - 汚染防止剤または汚染防止剤先駆物質を含有する写真用ハロゲン化銀要素 - Google Patents
汚染防止剤または汚染防止剤先駆物質を含有する写真用ハロゲン化銀要素Info
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- JPS584136A JPS584136A JP57105239A JP10523982A JPS584136A JP S584136 A JPS584136 A JP S584136A JP 57105239 A JP57105239 A JP 57105239A JP 10523982 A JP10523982 A JP 10523982A JP S584136 A JPS584136 A JP S584136A
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- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
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- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、汚染防止剤または汚染防止剤先駆物質を含有
する。写真用ハロゲン化銀要素に関する。
する。写真用ハロゲン化銀要素に関する。
迅速処理を目的とする写真用ハロゲン化銀要素。
殊に、活性剤浴およびハロメン銀チオ硫酸塩安定化浴中
の処理用に企画されたものは周知である。
の処理用に企画されたものは周知である。
一般に、そのような写真用ハロゲン化銀要素は。
より迅速な現俸を可能にするハロゲン化銀現惨主薬を含
有している。これらの写真用ハロゲン化銀ｇＩ素は、そ
れ以上の定着を必要とすることなく有用である。七のよ
５な写真要素は、短期間の保存中汚染の形成に対する適
当な耐性を有している。
有している。これらの写真用ハロゲン化銀ｇＩ素は、そ
れ以上の定着を必要とすることなく有用である。七のよ
５な写真要素は、短期間の保存中汚染の形成に対する適
当な耐性を有している。
比較的長期間の保存のためＫは、そのよ５な写真畳素に
おいては、望ましくない汚染の形成という問題が起こっ
て来た。この汚染問題に対する適当な解答は、写真分野
においては知られていない。
おいては、望ましくない汚染の形成という問題が起こっ
て来た。この汚染問題に対する適当な解答は、写真分野
においては知られていない。
多くの化合物が、カプリ防止剤として写真用ハロゲン化
銀乳剤中に組み入れられた。そのような化合物の例は、
英国特許明細書第１．０６６．２６１号に記載されたよ
５な、了り−ルホスフィンスルホン酸またはその水溶性
塩である。そのようなホスフィン化合物は、ハロゲン化
銀ゼラチン状乳剤中、カプリ防止剤濃度で有用であるが
、この化合物は、カプリ防止剤濃度よりも高い濃度では
ハロゲン化銀ゼラチン状乳剤中で有用ではない、なぜな
らホスフィ・ン化合物は、露光および処理に先だつて、
望ましくないハロゲン化銀の減感をひきおこすからであ
る。
銀乳剤中に組み入れられた。そのような化合物の例は、
英国特許明細書第１．０６６．２６１号に記載されたよ
５な、了り−ルホスフィンスルホン酸またはその水溶性
塩である。そのようなホスフィン化合物は、ハロゲン化
銀ゼラチン状乳剤中、カプリ防止剤濃度で有用であるが
、この化合物は、カプリ防止剤濃度よりも高い濃度では
ハロゲン化銀ゼラチン状乳剤中で有用ではない、なぜな
らホスフィ・ン化合物は、露光および処理に先だつて、
望ましくないハロゲン化銀の減感をひきおこすからであ
る。
この問題は。
ａ）写真用ハロゲン化銀乳剤層および
ｈ）この乳剤層と支持体との間の下塗り層をその上に有
する支持体より成り、この下塗り層が汚染抑制濃度のホ
スフィン汚染防止剤またはホスフィン汚染防止剤先駆物
質を含有することを特徴とする写真用ハｐゲン化銀Ｉ！
！累を用いて解決される。
する支持体より成り、この下塗り層が汚染抑制濃度のホ
スフィン汚染防止剤またはホスフィン汚染防止剤先駆物
質を含有することを特徴とする写真用ハｐゲン化銀Ｉ！
！累を用いて解決される。
本発明の写真用ハロゲン化銀要素は、下塗り層と上塗り
層の両方を含むことができ、ホスフィン汚染防止剤また
はホスフィン汚染防止剤先駆物質は下塗り層と上塗り層
の両方に適当に存在することができる。
層の両方を含むことができ、ホスフィン汚染防止剤また
はホスフィン汚染防止剤先駆物質は下塗り層と上塗り層
の両方に適当に存在することができる。
この中の「汚染抑制濃度」は１本発明の要素中の汚染を
減少させる。ホスフィン汚染防止剤またはホスフィン汚
染防止剤先駆物質の濃度を意味する。好適には、この濃
度は、支持体１平方デシメ−トルあたり、ホスフィン汚
染防止剤またはホスフィン汚染防止剤先駆物質５ないし
３０■である。
減少させる。ホスフィン汚染防止剤またはホスフィン汚
染防止剤先駆物質の濃度を意味する。好適には、この濃
度は、支持体１平方デシメ−トルあたり、ホスフィン汚
染防止剤またはホスフィン汚染防止剤先駆物質５ないし
３０■である。
本発明の露光された写真要素中の、汚染、ｌ１５に硫化
銅汚染のプセセス後付着を減少させるための＃画會の現
償および安定化法は。
銅汚染のプセセス後付着を減少させるための＃画會の現
償および安定化法は。
段階＝１）露光した要素を現像された鋏画倫が生成され
るまで、ハロゲン化銀現像主薬の存在において、アルカ
リ活性剤水溶液で処理する： そしてその後 ｉｔ） こうして得た画像をチオ硫酸塩安定化側水溶液
で安定化させる： より成る。下塗り層中、または別法として下塗り層およ
び上塗り層中に、ホスフィン汚染防止剤またはホスフィ
ン汚染防止剤先駆物質を配置するととＫよって、望まし
くない写真用ハロゲン化銀の減感が避けられると同時に
、所望の要素中の減少された汚染を得ることができる。
るまで、ハロゲン化銀現像主薬の存在において、アルカ
リ活性剤水溶液で処理する： そしてその後 ｉｔ） こうして得た画像をチオ硫酸塩安定化側水溶液
で安定化させる： より成る。下塗り層中、または別法として下塗り層およ
び上塗り層中に、ホスフィン汚染防止剤またはホスフィ
ン汚染防止剤先駆物質を配置するととＫよって、望まし
くない写真用ハロゲン化銀の減感が避けられると同時に
、所望の要素中の減少された汚染を得ることができる。
また、汚染形成の低下を助けるに十分なホスフィン汚染
防止剤が。
防止剤が。
要素のｍ１ｊｔ、および処理後に、この要素中に残留す
る。
る。
多くのホスフィン化合物が１本発明の写真用ノ・ロゲン
化釧要素における有用なホスフィン汚染防止剤またはホ
スフィン汚染防止剤先駆体である。
化釧要素における有用なホスフィン汚染防止剤またはホ
スフィン汚染防止剤先駆体である。
そのようなホスフィン化合物の組み合わせ物もまた有用
である。最適な、ホスフィン汚染防止剤またはホスフィ
ン汚染防止剤先駆体または、そのような汚染防止剤また
は汚染防止剤先駆体の組み合わせの選択は、所望の画倫
安定性処理条件、その写真要素中の特定のＩ・ロゲン化
鎖、特定のハロゲン化銀現憐主薬特定の結合側およびそ
の写真要素中の他の付加物のような要因に依存するであ
ろう。
である。最適な、ホスフィン汚染防止剤またはホスフィ
ン汚染防止剤先駆体または、そのような汚染防止剤また
は汚染防止剤先駆体の組み合わせの選択は、所望の画倫
安定性処理条件、その写真要素中の特定のＩ・ロゲン化
鎖、特定のハロゲン化銀現憐主薬特定の結合側およびそ
の写真要素中の他の付加物のような要因に依存するであ
ろう。
有用なホスフィン汚染防止剤の例は、ホスフィン構造”
Ａ２Ｒ２ 覗 によって表わされる。式中： ム１．Ａ２およびム３は別個に、メチレン、エチレン、
プロピレンおよびゾチレン基のような、１力）ら４個の
炭素原子を含有するアルキレン基であり：Ｂｌ、Ｈ！お
よびＲ３は別個に、 ＳＲ？、５ｏ２Ｈ，０１（。
Ａ２Ｒ２ 覗 によって表わされる。式中： ム１．Ａ２およびム３は別個に、メチレン、エチレン、
プロピレンおよびゾチレン基のような、１力）ら４個の
炭素原子を含有するアルキレン基であり：Ｂｌ、Ｈ！お
よびＲ３は別個に、 ＳＲ？、５ｏ２Ｈ，０１（。
ＯＮ 、 ３０１Ｍ１ 、０００Ｂ 、 （５００Ｍ１
、５ｏ３Ｈ１タ＆！ ８０３Ｍ１であり； Ｒ’ ＊ Ｒ’およびＲ６は、別個に、水素、ＳＲ？、
ＯＨ。
、５ｏ３Ｈ１タ＆！ ８０３Ｍ１であり； Ｒ’ ＊ Ｒ’およびＲ６は、別個に、水素、ＳＲ？、
ＯＨ。
ＯＲＢ 、８０２Ｉ（、町ｍｔ、ｃｏ国、Ｃ■Ｍｌ、帥
、Ｌ（資）３ＭｌまたはＯＮであり： ＢＴおよびＲ８は別個に、メチル、エチル、プロピルお
よびブチル基を包含する炭素原子１から４個を含有する
アルキル基のようなアルキル基、まタハフェニルおよび
トリル基のような炭素原子６ないし１２個を含有するア
リール基であり：Ｒ９は、′休業またはＳＯ３Ｍ１であ
り：そしてＭｌは、ナトリウムおよびカリウム陽イオン
のような、−価拳イオンである。Ｍ１＆１好適に＃−Ｚ
ナトリウム陽イオンである。
、Ｌ（資）３ＭｌまたはＯＮであり： ＢＴおよびＲ８は別個に、メチル、エチル、プロピルお
よびブチル基を包含する炭素原子１から４個を含有する
アルキル基のようなアルキル基、まタハフェニルおよび
トリル基のような炭素原子６ないし１２個を含有するア
リール基であり：Ｒ９は、′休業またはＳＯ３Ｍ１であ
り：そしてＭｌは、ナトリウムおよびカリウム陽イオン
のような、−価拳イオンである。Ｍ１＆１好適に＃−Ｚ
ナトリウム陽イオンである。
特定のホスフィン汚染防止剤の例としてを１次のものが
含まれるニ トリ（２−ヒｒロキシエチル）ホスフィントリ（２−カ
ルボキシエチル）ホスフィン（３Ｉ（ｆｉＧＨ２ＯＮ トリフェニルホスフィン トリ（Ｆ−とｙＷキシフェニル）ホスフィンＨ Ｈ Ｐ、Ｐ−ジフェニル−Ｐ−（３−ソジオスルホフェニル
）ホスフィン Ｐ、Ｐ−ビス（４−ヒＶロキシフェニル）−ｐ−（３−
ソジオスルホフェニル） Ｈ 特定のホスフィン汚染防止剤先駆物質の例は。
含まれるニ トリ（２−ヒｒロキシエチル）ホスフィントリ（２−カ
ルボキシエチル）ホスフィン（３Ｉ（ｆｉＧＨ２ＯＮ トリフェニルホスフィン トリ（Ｆ−とｙＷキシフェニル）ホスフィンＨ Ｈ Ｐ、Ｐ−ジフェニル−Ｐ−（３−ソジオスルホフェニル
）ホスフィン Ｐ、Ｐ−ビス（４−ヒＶロキシフェニル）−ｐ−（３−
ソジオスルホフェニル） Ｈ 特定のホスフィン汚染防止剤先駆物質の例は。
次の構造：
舖
（式中：Ｒ９は水素またはＳｏ３Ｍｌであり：Ｍは定義
された通り；そして Ｘおよび２は別個に、塩素または臭素陰イオンのよ５な
酸陰イオンである） Ｋ入るホスホニウム化合物である。
された通り；そして Ｘおよび２は別個に、塩素または臭素陰イオンのよ５な
酸陰イオンである） Ｋ入るホスホニウム化合物である。
特定の本スフィン汚染防止剤先駆物質の例は。
次のようなものである：
塩化Ｐ−（１−エトキシカルボニル−２−プロービル）
−Ｐ、Ｐ、Ｐ−）リアエニル本スホニウム塩化Ｐ、Ｐ−
’）フェニル−Ｐ−（１−エトキシカルボニル−２−プ
ロピル）−Ｐ−（３−ソジオスルホフェニル）ホスホニ
ウム 錦 沃化Ｐ、Ｐ−ジフェニル−Ｐ−（１−エトキシカルボニ
ル−２−−１／ロビル）−Ｐ−（３−ソジオスルホフフ
エニ）ホスホニウム 塩化ｐ−（ヒト９０キシメチル）−Ｐ、Ｐ、Ｐ−（２−
カルボキシエチル）ホスホニウム 沃化Ｐ−（ヒＶロキシメチル） −Ｐ、Ｐ、Ｐ−（２カ
ルＩキシエチル）ホスホニウム 本発明で使用されるホスフィン汚染防止剤および本スフ
ィン汚染防止剤先駆体の製造は、化学合成分野で公知の
方法によって実施されることができる。
−Ｐ、Ｐ、Ｐ−）リアエニル本スホニウム塩化Ｐ、Ｐ−
’）フェニル−Ｐ−（１−エトキシカルボニル−２−プ
ロピル）−Ｐ−（３−ソジオスルホフェニル）ホスホニ
ウム 錦 沃化Ｐ、Ｐ−ジフェニル−Ｐ−（１−エトキシカルボニ
ル−２−−１／ロビル）−Ｐ−（３−ソジオスルホフフ
エニ）ホスホニウム 塩化ｐ−（ヒト９０キシメチル）−Ｐ、Ｐ、Ｐ−（２−
カルボキシエチル）ホスホニウム 沃化Ｐ−（ヒＶロキシメチル） −Ｐ、Ｐ、Ｐ−（２カ
ルＩキシエチル）ホスホニウム 本発明で使用されるホスフィン汚染防止剤および本スフ
ィン汚染防止剤先駆体の製造は、化学合成分野で公知の
方法によって実施されることができる。
本発明に従う写真要素は、写真用ハ四ゲン化銀より成る
。有用な写真用ハロゲン化銀には５例えば塩化銀、臭化
鋼、臭素沃素化銅、塩素臭素沃素化銀およびそれらの混
合物類が含まれる。このへロゲン化銀の粒塵は、粗粒か
ら微細粒までの１囲にわたる。写真用ハロゲン化銀は１
例えば、リサーチ１デイスクロージヤー（Ｒｅｇｅａｒ
ｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ）。
。有用な写真用ハロゲン化銀には５例えば塩化銀、臭化
鋼、臭素沃素化銅、塩素臭素沃素化銀およびそれらの混
合物類が含まれる。このへロゲン化銀の粒塵は、粗粒か
ら微細粒までの１囲にわたる。写真用ハロゲン化銀は１
例えば、リサーチ１デイスクロージヤー（Ｒｅｇｅａｒ
ｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ）。
１９７８年１２月、第１１６４３項、に記載されたよう
な、写真分野では公知の工程によって製造される。所望
ならば、本発明の写真要素にはまた。
な、写真分野では公知の工程によって製造される。所望
ならば、本発明の写真要素にはまた。
上記のリサーチ・ディスクロージャー（Ｒｅｓｅａｒｃ
ｈＤｉｇｃｌｏｓｕｒｅ）出版物に記載されたような、
カプリ防止剤１色調改良剤化学増感剤、硬膜液、艶済剤
、増白剤、吸収およびフィルター色素、現倫改良剤１分
光増感剤および塗布助剤のような、写真要素の所望の性
質に逆の影響を及ぼさない付加物をも含有する。一般的
に写真植字用写真要素において有用である付加物は１本
発明による写真要素中で特に有用である。
ｈＤｉｇｃｌｏｓｕｒｅ）出版物に記載されたような、
カプリ防止剤１色調改良剤化学増感剤、硬膜液、艶済剤
、増白剤、吸収およびフィルター色素、現倫改良剤１分
光増感剤および塗布助剤のような、写真要素の所望の性
質に逆の影響を及ぼさない付加物をも含有する。一般的
に写真植字用写真要素において有用である付加物は１本
発明による写真要素中で特に有用である。
本発明の写真要素は、単独であるいは組み合わせて、結
合剤およびビヒクルを含有する。これらの結合剤は、写
真要素の−またはそれ以上の層に用いて有用である。有
用なビヒクルには、蛋白質。
合剤およびビヒクルを含有する。これらの結合剤は、写
真要素の−またはそれ以上の層に用いて有用である。有
用なビヒクルには、蛋白質。
例えば、ゼツチン、ゼラチン誘導体、セルロース誘導体
、デキストランのような多糖類、アラビアＩムおよびこ
れに＠するもののような天然に生ずる物賀：および、、
１ｌｌ（ビニルビ四りＰン）、アクリルアミド重合体お
よびこれに類するもののような水溶性ポリビニル化合物
のような１合成重合体物質；の両方が包含される。上塗
り層、中間層および下塗り層のような１本発明の写真用
ハロゲン化銀乳剤層および他の層は、別法として、単独
でまたは上述したビヒクルと組み合わせて、ラテックス
の形のように１分散されたビニル化合物のような他の合
成重合体ビヒクル化合物、そして特に写真要素の寸法安
定性を増大させる化合物を含有する。有用な結合剤もま
た。１９７８年１２月リサーチ・ディスクロージャー（
Ｒｅ５ｅａｒｃｈＤ１ｓｃｌｏｓｕｒｅ） ｓ ＃Ｅ１
７６４５項に記載されている。熾適結合剤の選択は、処
理条件１％定の写真要素の成分、特定の汚染防止剤また
は汚染防止剤先駆物質および所望の画像のような因子に
依存する。ゼラチンおよびゼラチン誘導体が好適な結合
剤である。
、デキストランのような多糖類、アラビアＩムおよびこ
れに＠するもののような天然に生ずる物賀：および、、
１ｌｌ（ビニルビ四りＰン）、アクリルアミド重合体お
よびこれに類するもののような水溶性ポリビニル化合物
のような１合成重合体物質；の両方が包含される。上塗
り層、中間層および下塗り層のような１本発明の写真用
ハロゲン化銀乳剤層および他の層は、別法として、単独
でまたは上述したビヒクルと組み合わせて、ラテックス
の形のように１分散されたビニル化合物のような他の合
成重合体ビヒクル化合物、そして特に写真要素の寸法安
定性を増大させる化合物を含有する。有用な結合剤もま
た。１９７８年１２月リサーチ・ディスクロージャー（
Ｒｅ５ｅａｒｃｈＤ１ｓｃｌｏｓｕｒｅ） ｓ ＃Ｅ１
７６４５項に記載されている。熾適結合剤の選択は、処
理条件１％定の写真要素の成分、特定の汚染防止剤また
は汚染防止剤先駆物質および所望の画像のような因子に
依存する。ゼラチンおよびゼラチン誘導体が好適な結合
剤である。
本発明の写真要素のために、多くの支持体が有用である
。有用な支持体としては、構造の不利な変化に耐え、し
かも露光と処理の間、写真要素の感光性に悪影響を及ぼ
さないものが包含される。
。有用な支持体としては、構造の不利な変化に耐え、し
かも露光と処理の間、写真要素の感光性に悪影響を及ぼ
さないものが包含される。
有用な支持体の例としては、ガラス、紙、金属およびこ
れに類似するものと同様に、セルロースエステルフィル
ム、ポリ（ビニルアセタール）フィルム、／１７（エチ
レンテレフタレート）フィルム。
れに類似するものと同様に、セルロースエステルフィル
ム、ポリ（ビニルアセタール）フィルム、／１７（エチ
レンテレフタレート）フィルム。
ポリカーボネートフィルムと蘭連フィルムおよび樹脂質
が挙げられる。軟質支持体、特に紙支持体が非常に有用
である。
が挙げられる。軟質支持体、特に紙支持体が非常に有用
である。
本発明の写真要素の、写真用ハロゲン化銀乳剤層および
その他の層は、写真分野で公知の塗布方法によって塗布
される。そのような方法は１例え項に記載されている。
その他の層は、写真分野で公知の塗布方法によって塗布
される。そのような方法は１例え項に記載されている。
汚染防止剤または汚染防止剤先駆体は１本発明の写真要
素の下塗り層中にある。この位置によって、汚染防止剤
または汚染防止剤先駆体は、汚染形成を減少させるかま
たは避けることができる。
素の下塗り層中にある。この位置によって、汚染防止剤
または汚染防止剤先駆体は、汚染形成を減少させるかま
たは避けることができる。
この汚染は、処Ｓ＊の望ましくない硫化銀の形成のため
に起こると考えられる。この汚染防止剤または汚染防止
剤先駆体の位置は、写真要素の感光性における望ましく
ない変化を避けるために重畳である。汚染防止剤または
汚染防止剤先駆体を写真用ハロゲン化銀乳剤層に置いた
とぎは、写真感度の低下および処理による画像の最大濃
度の望ましくない低下のような、感覚性における好まし
くない変化が見られる。
に起こると考えられる。この汚染防止剤または汚染防止
剤先駆体の位置は、写真要素の感光性における望ましく
ない変化を避けるために重畳である。汚染防止剤または
汚染防止剤先駆体を写真用ハロゲン化銀乳剤層に置いた
とぎは、写真感度の低下および処理による画像の最大濃
度の望ましくない低下のような、感覚性における好まし
くない変化が見られる。
これに代えて１本発明の写真要素は、−より多い下塗り
層を含有する０例えば、汚染防止剤または汚染防止剤先
駆体は、第一の下塗り層中にあって有用であり、そして
ハ冒ゲン化銀現僧主薬は。
層を含有する０例えば、汚染防止剤または汚染防止剤先
駆体は、第一の下塗り層中にあって有用であり、そして
ハ冒ゲン化銀現僧主薬は。
第二の下塗り層で有用である。
その他の付加物は１本発明による写真要素の−またはそ
れ以上の層中で有用である。例えば、これに代えて、写
真要素は、下塗り層中または写真要素の−またはそれ以
上のその他の層中の、ハロゲン化銀現偉主薬より成る。
れ以上の層中で有用である。例えば、これに代えて、写
真要素は、下塗り層中または写真要素の−またはそれ以
上のその他の層中の、ハロゲン化銀現偉主薬より成る。
この付加物は、処理中に所望の相互作用を可能にする位
置にあることが重畳である。この中の「反応的会合」と
いう言葉は、ハ四ゲン化銀現偉主薬のような付加物が。
置にあることが重畳である。この中の「反応的会合」と
いう言葉は、ハ四ゲン化銀現偉主薬のような付加物が。
そうした所望の相互作用を起こさせる位置にあることを
意味する。
意味する。
多くの＾ロゲン化銀現惨主薬が１本発明の写真用ハｐゲ
ン化錯畳素において有用である。ハｐゲン化鋏現倫主薬
の種々の組み合わせが有用である。
ン化錯畳素において有用である。ハｐゲン化鋏現倫主薬
の種々の組み合わせが有用である。
有用な＾四ゲン化銀現像主薬としては１例えば。
１９７８年１２月、リサーチ・ディスクロージャ（Ｒｅ
ｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ）、第１７６４５
項に記載されているものが包含される。有用なハロゲン
化銀現曽主薬の例は、ヒドロキノンおよびヒドロキノン
誘導体を含むポリヒＰロキシベンゼン現曽主薬のような
フェノール性現俸主ｌＩ：アスコルビン酸、アスコルビ
ン酸ケタールおよびアスコにビンａｍ導体のようなアス
プルビン酸現會主薬；アンヒｒロジヒドロピイリジノヘ
キソーズレダクトンのようなしメタトン現惨主薬；４−
メチル−４−と）Ｉ ａキクメチル−１−フェニル−３
−ぜラゾリＰンおよび１−フェニル−３−ピラゾリＰン
のような３−ピラゾリドン現便主薬である。非常に有用
なハロゲン化銀現健組み合わせ物は、ヒドロキノンまた
はメチルヒドロキノンのようなしドロ中ノン誘導体と、
１−フェニル−３−ピッシリｒンまたは関連するぜラゾ
リｒン現債主集との組み合わせ物である。
ｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ）、第１７６４５
項に記載されているものが包含される。有用なハロゲン
化銀現曽主薬の例は、ヒドロキノンおよびヒドロキノン
誘導体を含むポリヒＰロキシベンゼン現曽主薬のような
フェノール性現俸主ｌＩ：アスコルビン酸、アスコルビ
ン酸ケタールおよびアスコにビンａｍ導体のようなアス
プルビン酸現會主薬；アンヒｒロジヒドロピイリジノヘ
キソーズレダクトンのようなしメタトン現惨主薬；４−
メチル−４−と）Ｉ ａキクメチル−１−フェニル−３
−ぜラゾリＰンおよび１−フェニル−３−ピラゾリＰン
のような３−ピラゾリドン現便主薬である。非常に有用
なハロゲン化銀現健組み合わせ物は、ヒドロキノンまた
はメチルヒドロキノンのようなしドロ中ノン誘導体と、
１−フェニル−３−ピッシリｒンまたは関連するぜラゾ
リｒン現債主集との組み合わせ物である。
本発明の写真要素の各成分の最適濃度は、所望の画曽、
処理条件、写真要素の各層中の特定の成分および特定の
汚染防止剤または汚染防止剤先駆物質といった因子に依
存するであろう。本発明の写真要素においては、好適な
濃度は、支持体１平方デシメートルあたり、以下の嵯、
日内である：醪）写真用ハロゲン化銀：１０Ｘ１０”−
いし２Ｘ１０−’モル、好適には、ｔ２Ｘ１０−’ない
しｔ５ｘ１０−＜モル；および。
処理条件、写真要素の各層中の特定の成分および特定の
汚染防止剤または汚染防止剤先駆物質といった因子に依
存するであろう。本発明の写真要素においては、好適な
濃度は、支持体１平方デシメートルあたり、以下の嵯、
日内である：醪）写真用ハロゲン化銀：１０Ｘ１０”−
いし２Ｘ１０−’モル、好適には、ｔ２Ｘ１０−’ない
しｔ５ｘ１０−＜モル；および。
ｈ）汚染防止剤または汚染防止剤先駆物質：２Ｘ１０”
５ないし１．ｌＸ１０−４モル、好適にｆｔ３．８Ｘ１
０””ないＬＺ５Ｘ１０−５−ｖ−、ｖ。
５ないし１．ｌＸ１０−４モル、好適にｆｔ３．８Ｘ１
０””ないＬＺ５Ｘ１０−５−ｖ−、ｖ。
写真用ハロゲン化銀現像主薬の好適濃度は、写真要素中
、銀１モルあたり０．５ないし１．５モル、好適には銀
１モルあたり０．７５ないしｔＯ七ルの範囲内である。
、銀１モルあたり０．５ないし１．５モル、好適には銀
１モルあたり０．７５ないしｔＯ七ルの範囲内である。
本発明に従う、特に有用な写真用ハロゲン化銀要素は、
その上に： ｇ）写真用ハロゲン化銀ゼラチン性乳剤層。
その上に： ｇ）写真用ハロゲン化銀ゼラチン性乳剤層。
ｈ）この乳剤層と支持体との間の下塗り層。
Ｃ）下塗り層中のように、この要素の少なくとも一層中
の、写真用ハロゲン化銀現像主薬。
の、写真用ハロゲン化銀現像主薬。
および
１１’） 下ｔｋ’）層中の、 ｐ、ｐ−ジフェニル−
Ｐ−（３−ソジオスルホフェニル）ホスフィンより成る
。汚染抑制濃度のホスフィン。
Ｐ−（３−ソジオスルホフェニル）ホスフィンより成る
。汚染抑制濃度のホスフィン。
を有する支持体より成っている。
本発明に従う、もう一つの特に有用な写真用ハロゲン化
銀要素は、ホスフィン汚染防止剤が、塩化ｐ、ｐ−’＞
フェニル−Ｐ−１−エトキシカルボニル−２−プ０ぜル
）−Ｐ−（３−ソジオスルホフェニル）ホスホニウムよ
り成るホスホニウム化合物であるホスフィン汚染防止剤
先駆物質によって置き換えられている。上記の写真要素
である。
銀要素は、ホスフィン汚染防止剤が、塩化ｐ、ｐ−’＞
フェニル−Ｐ−１−エトキシカルボニル−２−プ０ぜル
）−Ｐ−（３−ソジオスルホフェニル）ホスホニウムよ
り成るホスホニウム化合物であるホスフィン汚染防止剤
先駆物質によって置き換えられている。上記の写真要素
である。
本発明の写真用ハロゲン化銀要素の暴露は、それに対し
てこのハ四ゲン化銀が敏感であるエネルギーを用いて行
なわれることができる。この写真用ハロゲン化銀要素は
、一般に、債を結ぶように光にさらされる。別法として
電子ビーム、Ｘ−線。
てこのハ四ゲン化銀が敏感であるエネルギーを用いて行
なわれることができる。この写真用ハロゲン化銀要素は
、一般に、債を結ぶように光にさらされる。別法として
電子ビーム、Ｘ−線。
ガン！線、アルファー粒子およびその他の核粒子のよう
な、その他の形のエネルギーが有用である。
な、その他の形のエネルギーが有用である。
レーザーもまた有用である。写真用ハ四ゲン化銀要素の
書を結ぶための暴露は一般に、写真用ハロゲン化銀要素
中に、現像し得る潜像を与えるに十分な時間と強度で行
なわれる。
書を結ぶための暴露は一般に、写真用ハロゲン化銀要素
中に、現像し得る潜像を与えるに十分な時間と強度で行
なわれる。
本発明の写真用／％０ゲン化銀要素の暴露後、＠は現像
され１畳素中で安定化される。現像および安定化は１例
えば、リサーチ・ディスクロージャ雛１７６４３項に記
鞍された１稈および即成によって実施されることができ
る、本発明の写真要素における画倫の現備と安定化に非
常に有用な方法は、安定化処理として写真の分野では公
知である。
され１畳素中で安定化される。現像および安定化は１例
えば、リサーチ・ディスクロージャ雛１７６４３項に記
鞍された１稈および即成によって実施されることができ
る、本発明の写真要素における画倫の現備と安定化に非
常に有用な方法は、安定化処理として写真の分野では公
知である。
そのよさな１稈においては、暴算後に、写真用ノ１０ゲ
ン化銀要素は、その媒質中またはその写真要素中に含有
されるハロゲン化銀現像主薬の存在で。
ン化銀要素は、その媒質中またはその写真要素中に含有
されるハロゲン化銀現像主薬の存在で。
アルカリ媒質、好適には水性アルカリ媒質と会合させら
れる。このアルカリ媒質は、活性剤としても知られてい
る。安定化処理のための処理処方および技術は、米国斬
許第３．２２０．８３９号：米国特詐＊５．６１５，５
１１号：英国特許明細書落１．２５８，９０６号：およ
び米国特許第３，６４ス４５３号：に示されている。ア
ルカリ媒質は１例えば。
れる。このアルカリ媒質は、活性剤としても知られてい
る。安定化処理のための処理処方および技術は、米国斬
許第３．２２０．８３９号：米国特詐＊５．６１５，５
１１号：英国特許明細書落１．２５８，９０６号：およ
び米国特許第３，６４ス４５３号：に示されている。ア
ルカリ媒質は１例えば。
アミン塩基のような有機塩基または水酸化ナトリウム、
水酸化リチウム、水酸化カリウム、およびその他の水溶
性金属水酸化物のような無機塩基を包含する塩基より成
る。これらの塩基の組み合わせ物が有用である。媒質中
の塩基の濃度は、約１１から約１４．好適には１３．５
から１五８までの範囲内のｐＨｖＪ＝えるに十分なもの
である。活性化は、所望の現像を行なうのに十分な時間
実施される。
水酸化リチウム、水酸化カリウム、およびその他の水溶
性金属水酸化物のような無機塩基を包含する塩基より成
る。これらの塩基の組み合わせ物が有用である。媒質中
の塩基の濃度は、約１１から約１４．好適には１３．５
から１五８までの範囲内のｐＨｖＪ＝えるに十分なもの
である。活性化は、所望の現像を行なうのに十分な時間
実施される。
現１１に続いて、写真用ハロゲン化Ｓ９素は、ハロゲン
化銀安定剤の水溶液のような安定化媒質によって安定化
されることができる。多（のハロゲン化銀安定化剤が１
本発明の写真要素を処理する際に安定化媒質中で有用で
ある。安定化剤の組み合わせ物もまた有用である。有用
なハＵゲン化銀安定剤としては１例えば、チオ硫酸ナト
リウム。
化銀安定剤の水溶液のような安定化媒質によって安定化
されることができる。多（のハロゲン化銀安定化剤が１
本発明の写真要素を処理する際に安定化媒質中で有用で
ある。安定化剤の組み合わせ物もまた有用である。有用
なハＵゲン化銀安定剤としては１例えば、チオ硫酸ナト
リウム。
チオ硫酸アンモニウムおよびチオ硫酸カリウムが挙げら
れる。写真要素中の現像された画倫を、へロゲン化銀安
定化濃度の、チオ硝酸ナトリウムまたはチオ硫酸アンモ
ニウムのようなチオ硫酸塩安定化剤より成る。チオ硫酸
塩安定他剤水溶液を用いて安定化することは、製に有用
である。そのようなハロゲン化銀安定化剤を用いる安定
化の利点は、別のハロゲン化銀定着段階が必讐とされな
いことである。
れる。写真要素中の現像された画倫を、へロゲン化銀安
定化濃度の、チオ硝酸ナトリウムまたはチオ硫酸アンモ
ニウムのようなチオ硫酸塩安定化剤より成る。チオ硫酸
塩安定他剤水溶液を用いて安定化することは、製に有用
である。そのようなハロゲン化銀安定化剤を用いる安定
化の利点は、別のハロゲン化銀定着段階が必讐とされな
いことである。
本発明の写真賛素の処理は１周囲条件の圧力および温度
下で実施されることができる。大気条件の圧力、温度お
よび温度が、処理に対して好適である。処理温度は一般
に、１８ないし３０Ｃの節日内である。
下で実施されることができる。大気条件の圧力、温度お
よび温度が、処理に対して好適である。処理温度は一般
に、１８ないし３０Ｃの節日内である。
以下の実施例は１本発明をより以上に理解するために示
される。
される。
実施例
次の写真印画紙をＩｌ！！遺し、倫を結ぶよ５ＪＣ１ｔ
ｙｔ。
ｙｔ。
させそして処理した：
上塗り層
写真用ハロゲン化銀乳剤層
下塗り層２
下塗り層１
光反射層
紙支持体（ポリエチレン塗布されている）光反射層は、
二酸化チタンとゼラチンとを含有していた。写真用ハロ
ゲン化銅乳剤層は、ゼラチンおよびポリアクリルアミド
９結合剤中に、支持体１平方デシメートルあたり１３．
６１１ｇの臭素沃素化銀を含有していた。下塗り層２は
、ゼラチン結合剤中に、ヒドロキノン、メチルヒドロキ
ノンおよび１−フェニル−３−ピラゾリドン現債主薬を
含有した。下塗り層１および上塗り層は、ゼラチン層で
あった。
二酸化チタンとゼラチンとを含有していた。写真用ハロ
ゲン化銅乳剤層は、ゼラチンおよびポリアクリルアミド
９結合剤中に、支持体１平方デシメートルあたり１３．
６１１ｇの臭素沃素化銀を含有していた。下塗り層２は
、ゼラチン結合剤中に、ヒドロキノン、メチルヒドロキ
ノンおよび１−フェニル−３−ピラゾリドン現債主薬を
含有した。下塗り層１および上塗り層は、ゼラチン層で
あった。
写真印画紙は、下塗り層１で、ゼラチン中のホスフィン
化合物、 Ｐ 、 Ｐ −ｄフェニル−Ｐ−（３−ソジ
オスルホフェニル）ホスフィンの水溶液が。
化合物、 Ｐ 、 Ｐ −ｄフェニル−Ｐ−（３−ソジ
オスルホフェニル）ホスフィンの水溶液が。
１平方デシメートルあたり１６６１および２ ’Ｌ５岬
の水準で塗布されることを除き、上述のようにして製造
された。
の水準で塗布されることを除き、上述のようにして製造
された。
写真印画紙は、イーストマ：／ （Ｅａｓｔｍａｎ）１
に感度計における目盛られた中性濃度のテストウェッジ
を通して、１０−ｓ秒間、＊を結ぶように露光された。
に感度計における目盛られた中性濃度のテストウェッジ
を通して、１０−ｓ秒間、＊を結ぶように露光された。
これによって写真印画紙中に、現偉し得る潜像が得られ
た、露光された写真印画紙を、毎分写真印画紙２メート
ルのスピーｒで処理するために、コダック・エクタマテ
イツク・２１４Ｋ・プロセサー（Ｋｏｄａｋ Ｋｋｔａ
ｍａｔｉｃ ２１４Ｋ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ）（（−ス
トマン・ゴダツク社、 ＵＳＡ 、の商標名）を用いた
、この処理の間露光された写真印画紙は２０Ｃで！Ｌ３
秒間秒間性活性剤溶液中されその後。
た、露光された写真印画紙を、毎分写真印画紙２メート
ルのスピーｒで処理するために、コダック・エクタマテ
イツク・２１４Ｋ・プロセサー（Ｋｏｄａｋ Ｋｋｔａ
ｍａｔｉｃ ２１４Ｋ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ）（（−ス
トマン・ゴダツク社、 ＵＳＡ 、の商標名）を用いた
、この処理の間露光された写真印画紙は２０Ｃで！Ｌ３
秒間秒間性活性剤溶液中されその後。
チオ硫酸塩安定体側溶液中で、２０ないし２４ｒで３．
４秒間安定化された。
４秒間安定化された。
活性側溶液は、１リツトルとするに十分な水中の、６７
５グラムの水酸化カリウムから成っていた。
５グラムの水酸化カリウムから成っていた。
チオ硫酸塩安定北側溶液は、以下の組成を有していた：
水、約５０ ｔ：’ ６００
ミリリツトルチオ硫酸ナトリウム（５水和物） り６
Ｑ、０グラム塩化アンモニウム ５０
．０／：７ム亜硫酸ナトリウム（無水物） １
５．０ダラム酢酸（２８パーセント） ４８．
０ミリリットル硼酸、結晶
７５ダラムカリウムみょうばん １５．
０ダラム（微細粒状、１２水和物） １リツトルとするための水 処理後、この写真印画紙を水洗せずに、大気条件下で乾
燥させた。処理された紙の濃度測定は。
ミリリツトルチオ硫酸ナトリウム（５水和物） り６
Ｑ、０グラム塩化アンモニウム ５０
．０／：７ム亜硫酸ナトリウム（無水物） １
５．０ダラム酢酸（２８パーセント） ４８．
０ミリリットル硼酸、結晶
７５ダラムカリウムみょうばん １５．
０ダラム（微細粒状、１２水和物） １リツトルとするための水 処理後、この写真印画紙を水洗せずに、大気条件下で乾
燥させた。処理された紙の濃度測定は。
反射された白および青色光によって観察された。
処理した写真要素゛を、２４Ｃおよび８０ノーセントの
相対湿度で、７日間貯蔵した後、再び画情の濃度を観察
した、その結果は次の表に示されている。
相対湿度で、７日間貯蔵した後、再び画情の濃度を観察
した、その結果は次の表に示されている。
表
Ｏｔ９２ Ｑ、１３ １６８ ａ５０１６．
１ １４７ α１３ １５４ α１５２
ｔ５ １５１ ［１１４１５００，１１上の実
施例は、下塗り層中のホスフィン化合物が、写真要素の
高温多湿保存（ｉｎｃｕｂａｔｉｏｎ）による汚染の形
成（硫化銀）を減少させることを示している。混和され
たホスフィンを同じ量の次のものと置換することＫよっ
て、同様の結果を得ることができる。： ａ）ト）（２−ヒト９０キシエチル）ホスフィン。
１ １４７ α１３ １５４ α１５２
ｔ５ １５１ ［１１４１５００，１１上の実
施例は、下塗り層中のホスフィン化合物が、写真要素の
高温多湿保存（ｉｎｃｕｂａｔｉｏｎ）による汚染の形
成（硫化銀）を減少させることを示している。混和され
たホスフィンを同じ量の次のものと置換することＫよっ
て、同様の結果を得ることができる。： ａ）ト）（２−ヒト９０キシエチル）ホスフィン。
り）！Ｊ（２−シアノエチル）ホスフィン。
ｃ）ト９（ｐ−ヒドロキシフェニル）ホスフィン、また
は ｄ）塩化Ｐ、Ｐ−ジフェニル−Ｐ−（１−エトキシカル
ボニル−２−プロ♂ル）−Ｐ−（５−ソジオスルホフェ
ニル）ホスホニウム。
は ｄ）塩化Ｐ、Ｐ−ジフェニル−Ｐ−（１−エトキシカル
ボニル−２−プロ♂ル）−Ｐ−（５−ソジオスルホフェ
ニル）ホスホニウム。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）６）写真用＾四ゲン化銀乳剤層、およびｈ）汚染抑
制濃度のホスフィン汚染防止剤またはホスフィン汚染防
止剤先駆物質を含有する。上記乳剤層と支持体との間の
下塗層。 をその上に有する支持体より成る。写真用のハロゲン化
＃！要素。 ２）上記ホスフィン汚染防止剤またはホスフィン汚染防
止剤先駆物質が。 ■ ホスフィン構造： ＩＲＩ ｃ式中： Ａｌ 、 Ａ２およびム３は別個に、１な〜
ル４個の炭素原子を含むアルキレン基であり： Ｒ’、Ｒ”：ｋＪ：ヒＲ”ｉｔ別１１に、 ＳＲ？、Ｏ
Ｈ。 ８０２Ｈ、Ｓｏ、Ｍ” 、 Ｃｏｏｌ 、 ＣＯＯＭＩ
、 ８０３Ｈ，８０３Ｍ”またはＯＮであり： Ｒ４，Ｒ５，ｋヨヒＦｔ’に１． 別個に、 水素。 ＳＲ８，ＯＨ，ＣＮ、ＯＲ８，５ｏ２Ｈ，Ｓｏ２Ｍｌ
、０ＯＯＨ。 ＣＯＣＭ” 、 ５Ｑ、ｌ（マタハＳｏ３Ｍｌ テア、
：８丁およびＲ８は、別個に、１から４個の炭素原子
を含、むアルキル基また７は６から１２個の炭素原子を
含むアリール基であり；Ｒ９は別個に、氷嵩またはＳｏ
８Ｍｌであり：Ｍは一価陽イオンであり；そして Ｘおよび２は別個に酸陰イオンである）Ｋよって表わさ
れる群から選択きれる化合物である・特許請求の範囲第
１項に定義された写真用ハｖ１グン化＃Ｉｌ！！素。 ３）上記汚染防止剤が、 ｐ、ｐ−ジフェニル−Ｐ−（
５−７１）オースルホフェニル）ホスフィンである。＊
許請求の範囲第１項に記載の写真用ハロゲン化銀要素。 ４）上記汚染防止剤が、トリ（２−シアノエチル）ホス
フィンである。ｌ１ｌＩ許精求の範囲第１項に記載の写
真用ハロゲン化銀要素。 ５）上記汚染防止剤が） Ｑ （ｐ−ヒｒロキシフェニ
ル）ホスフィンである。＠許請求の範囲第１項に記載の
写真用ハロゲン化銀要素。 ６）上記汚染防止剤が、塩化ｐ、ｐ −−、＞フェニル
−Ｐ−（１−エトキシカルボニル−２−プロピル）−Ｐ
−（５−ソジオスルホフェニル）ホスホニウムである。 特許請求の範囲第１項に記載の写真用ハロゲン化＃！畳
素。 ７）上記の汚染抑制濃度が、支持体１平方デシメートル
あたり、上記汚染防止剤または汚染防止剤先駆物質５な
いし３０■の虻囲内である。 特許請求の範囲第１から６項のいずれかに記載の、′４
真用ハロゲン化銀要素。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/276,330 US4346154A (en) | 1981-06-22 | 1981-06-22 | Antistain agent or antistain agent precursor in photographic silver halide element |
| US276330 | 1994-07-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS584136A true JPS584136A (ja) | 1983-01-11 |
Family
ID=23056210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57105239A Pending JPS584136A (ja) | 1981-06-22 | 1982-06-18 | 汚染防止剤または汚染防止剤先駆物質を含有する写真用ハロゲン化銀要素 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4346154A (ja) |
| EP (1) | EP0068997A1 (ja) |
| JP (1) | JPS584136A (ja) |
| CA (1) | CA1154994A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4411985A (en) * | 1981-09-17 | 1983-10-25 | Eastman Kodak Company | Heat stabilizable photographic silver halide material and process |
| US4578347A (en) * | 1984-08-29 | 1986-03-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Supersensitization of silver halide emulsions |
| GB8808694D0 (en) * | 1988-04-13 | 1988-05-18 | Kodak Ltd | Stabilization of dye images produced in photographic materials |
| US5415992A (en) * | 1993-11-30 | 1995-05-16 | Eastman Kodak Company | Heat stabilized silver chloride photographic emulsions containing phosphine compounds |
| DE69526734D1 (de) * | 1995-07-31 | 2002-06-20 | Agfa Gevaert Nv | Material für industrielle Radiographie und Entwicklungsverfahren dafür |
| JP3558181B2 (ja) * | 1995-09-22 | 2004-08-25 | 富士写真フイルム株式会社 | カラー感光材料 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1066261A (en) * | 1964-01-14 | 1967-04-26 | Ilford Ltd | Photographic materials |
| SU195872A1 (ru) | 1966-07-08 | 1967-05-04 | Способ получения галогеносеребряных кинофотоматериалов | |
| US3578449A (en) * | 1968-01-22 | 1971-05-11 | Polaroid Corp | Transfer image process utilizing an organic phosphine as silver halide solvent |
| GB1258906A (ja) | 1968-04-17 | 1971-12-30 | ||
| US3640713A (en) * | 1968-10-30 | 1972-02-08 | Polaroid Corp | Photographic processes and compositions therefor |
| GB1301358A (ja) * | 1969-08-02 | 1972-12-29 | ||
| US3951661A (en) * | 1971-04-30 | 1976-04-20 | Konishiroku Photo Industry Co. | Silver halide emulsion containing an arylphosphonium salt as antifoggant |
| GB1430998A (en) | 1973-06-07 | 1976-04-07 | Ciba Geigy Ag | Photographic development process |
| US3904415A (en) * | 1974-07-29 | 1975-09-09 | Eastman Kodak Co | Phosphine sensitized photographic silver halide emulsions and elements |
| CH597627A5 (ja) * | 1975-11-17 | 1978-04-14 | Ciba Geigy Ag | |
| JPS554026A (en) * | 1978-06-23 | 1980-01-12 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Silver halide photographic material |
-
1981
- 1981-06-22 US US06/276,330 patent/US4346154A/en not_active Expired - Fee Related
-
1982
- 1982-04-28 CA CA000401822A patent/CA1154994A/en not_active Expired
- 1982-06-18 JP JP57105239A patent/JPS584136A/ja active Pending
- 1982-06-21 EP EP82401125A patent/EP0068997A1/en not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0068997A1 (en) | 1983-01-05 |
| CA1154994A (en) | 1983-10-11 |
| US4346154A (en) | 1982-08-24 |
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