JPS5838711A - 耐放射線性樹脂組成物 - Google Patents
耐放射線性樹脂組成物Info
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- JPS5838711A JPS5838711A JP13720481A JP13720481A JPS5838711A JP S5838711 A JPS5838711 A JP S5838711A JP 13720481 A JP13720481 A JP 13720481A JP 13720481 A JP13720481 A JP 13720481A JP S5838711 A JPS5838711 A JP S5838711A
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- Japan
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- parts
- polymer
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- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は耐放射線性の向上された樹脂組成物に関する
ものである。
ものである。
原子炉、増殖炉あるいはイオン化放射線発生器などに使
用される電線、ケーブルおよび各種機器類は常時かなり
の量の放射線を被曝していることが多い。
用される電線、ケーブルおよび各種機器類は常時かなり
の量の放射線を被曝していることが多い。
従ってかかる使用目的の電線ケーブルの被覆絶縁材料、
各種機器類における絶縁材料、バッキング、シール材料
、枠、ホース材料々どに用いられる樹脂組成物に対して
は、経済上並びに安全上の見地から高度の耐放射線性を
有することが要求されている。
各種機器類における絶縁材料、バッキング、シール材料
、枠、ホース材料々どに用いられる樹脂組成物に対して
は、経済上並びに安全上の見地から高度の耐放射線性を
有することが要求されている。
発明者等は熱可塑性樹脂及びゴム等の耐放射線性の向上
に関して鋭意検討を重ねだ結果、熱可塑性樹脂またはゴ
ムに後記一般式で示されるノ・ロゲン化アセナフチレン
の多量体とノ・イドロバ−オキサイド系重合開始剤と有
機過酸化物の適量を併用することによシ、耐放射線に優
れた樹脂またはゴム成形体が得られることを見出しこの
発明を完成したものである。
に関して鋭意検討を重ねだ結果、熱可塑性樹脂またはゴ
ムに後記一般式で示されるノ・ロゲン化アセナフチレン
の多量体とノ・イドロバ−オキサイド系重合開始剤と有
機過酸化物の適量を併用することによシ、耐放射線に優
れた樹脂またはゴム成形体が得られることを見出しこの
発明を完成したものである。
即ちこの発明は、熱可塑性樹脂あるいはゴム類など基体
重合体１００重量部に対して、一般式（但しＸは水素ま
たは塩素または臭素原子、Ｙは塩素または臭素原子、ｍ
は２〜６の整数、Ｒはハロゲン原子以外の置換基、ｎは
Ｏ−Ｕの整数、ｎが２以上の場合Ｒは同一または異種の
いずれでもよい、ｍ＋ｎ≦６） で表わされる単位を構成要素とするし・ロゲン化アセナ
フチレンの多量体の１種または２種以上の物質を少なく
とも０．５重量部と、ハイドロパーオキサイド系重合開
始剤０２〜１０重量部と、有機過酸化物０．５〜１０重
量部とを配合したことを特徴とする耐放射線性樹脂組成
物である。
重合体１００重量部に対して、一般式（但しＸは水素ま
たは塩素または臭素原子、Ｙは塩素または臭素原子、ｍ
は２〜６の整数、Ｒはハロゲン原子以外の置換基、ｎは
Ｏ−Ｕの整数、ｎが２以上の場合Ｒは同一または異種の
いずれでもよい、ｍ＋ｎ≦６） で表わされる単位を構成要素とするし・ロゲン化アセナ
フチレンの多量体の１種または２種以上の物質を少なく
とも０．５重量部と、ハイドロパーオキサイド系重合開
始剤０２〜１０重量部と、有機過酸化物０．５〜１０重
量部とを配合したことを特徴とする耐放射線性樹脂組成
物である。
この発明による組成物が上記のように優れた耐放射線性
を発揮し得る理由は必らずしもこれを詳らかになし得た
訳ではないが、遊離基発生剤として用いるハイドロパー
オキサイド系重合開始剤の存在が、組成物中に配合され
たハロゲン化アセナフチレンの多量体の縮重合或いは重
合体へのグラフト重合を著しく促進させ、又ベースポリ
マーの架橋化が適度に調整され、これらが好結果をもた
らすものと考えられる。
を発揮し得る理由は必らずしもこれを詳らかになし得た
訳ではないが、遊離基発生剤として用いるハイドロパー
オキサイド系重合開始剤の存在が、組成物中に配合され
たハロゲン化アセナフチレンの多量体の縮重合或いは重
合体へのグラフト重合を著しく促進させ、又ベースポリ
マーの架橋化が適度に調整され、これらが好結果をもた
らすものと考えられる。
この発明で基体重合体として用いられる熱可塑性樹脂及
びゴム類としては例えばポリエチレン、ポリプロピレン
、ポリブテン、エチレン酢酸ビニル共重合体、エチレン
−エチルアクリレート共電′合体、エチレン−プロピレ
ン共重合体、エチレン−フロピレン−ジエン共重合体、
エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル
−グラフト塩化ビニル共重合体、エチレン−エチルアク
リレート−グラフト塩化ビニル共重合体、エチレン−プ
ロピレン−グラフト塩化ビニル共重合体、塩素化ポリエ
チレン、塩素化ポリエチレン−クラフト塩化ビニル共重
合体、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステル、アク
リル樹脂、ブチルゴム、クロロプレンゴム、ニトリルゴ
ム、天然ゴム、シリコーンゴム、クロルスルホン化ポリ
エチレン、スチレン−ブタジェンゴム、スチレン−ブタ
ジェン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル
−スチレン共重合体、ポリエステル−エーテルニジスト
マーなどが挙げられる。
びゴム類としては例えばポリエチレン、ポリプロピレン
、ポリブテン、エチレン酢酸ビニル共重合体、エチレン
−エチルアクリレート共電′合体、エチレン−プロピレ
ン共重合体、エチレン−フロピレン−ジエン共重合体、
エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル
−グラフト塩化ビニル共重合体、エチレン−エチルアク
リレート−グラフト塩化ビニル共重合体、エチレン−プ
ロピレン−グラフト塩化ビニル共重合体、塩素化ポリエ
チレン、塩素化ポリエチレン−クラフト塩化ビニル共重
合体、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステル、アク
リル樹脂、ブチルゴム、クロロプレンゴム、ニトリルゴ
ム、天然ゴム、シリコーンゴム、クロルスルホン化ポリ
エチレン、スチレン−ブタジェンゴム、スチレン−ブタ
ジェン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル
−スチレン共重合体、ポリエステル−エーテルニジスト
マーなどが挙げられる。
つぎに、本発明でいうハロゲン化アセナフチレンの多量
体とはハロゲン化アセナフチレンが形式的には脱水素あ
るいは脱ハロゲン化水素反応を起して縮合し、縮合度２
以上の多量体となったものをいう。アセナフチレン構造
単位間の結合点としては、例えば、容易に形成されるも
のとして１（或２）、 そのほかにも１．１’−１１，２’−１１（或２）。
体とはハロゲン化アセナフチレンが形式的には脱水素あ
るいは脱ハロゲン化水素反応を起して縮合し、縮合度２
以上の多量体となったものをいう。アセナフチレン構造
単位間の結合点としては、例えば、容易に形成されるも
のとして１（或２）、 そのほかにも１．１’−１１，２’−１１（或２）。
５′−１ｌ（或２．） 、 ４／−１ｒ（或２） 、
７／−１１（或２）、８’−１うｅ’ ５’−、う、１
１′−１う、５′−１３，６’−１５，７’−１５，８
’−１４，８′−等の結合、さらに例えば５，５′と６
，６′、４，７′と６゜６′ のように二つの結合を介
して縮合することも可能である。縮合度う以上のものは
このような結合のいずれかにより構成単位を増大せしめ
たものである。なお縮合度の上限は１０以上となると組
成物中への分散性が著しく低下し配合による効果が低下
するので好ましくこのような縮合物は後述の参考例で述
べるようにアリル位もしくはベンジル位置にまずハロゲ
ンを導入し、つぎにその高い反応性を利用し、触媒存在
下に処理することによって合成することができる。
７／−１１（或２）、８’−１うｅ’ ５’−、う、１
１′−１う、５′−１３，６’−１５，７’−１５，８
’−１４，８′−等の結合、さらに例えば５，５′と６
，６′、４，７′と６゜６′ のように二つの結合を介
して縮合することも可能である。縮合度う以上のものは
このような結合のいずれかにより構成単位を増大せしめ
たものである。なお縮合度の上限は１０以上となると組
成物中への分散性が著しく低下し配合による効果が低下
するので好ましくこのような縮合物は後述の参考例で述
べるようにアリル位もしくはベンジル位置にまずハロゲ
ンを導入し、つぎにその高い反応性を利用し、触媒存在
下に処理することによって合成することができる。
これらハロゲン化アセナフチレンの多量体と高分子物質
との相溶性は特に置換基がなくても良好であるが、さら
にメチル基、メトキシ基、メチルエステル基等を導入さ
れることによって増進される。これによって、混練成形
時の加工性及び高温下、長時間の成形物使用時に揮散、
滲出しない性質が高められる。しかし、過度に炭素数の
多い置換基は合成上困難性があり、また、長鎖アルキル
基の場合は耐放射線性を低下させることから避ける必要
がある。而して、この目的で導入される置換基としては
炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシ基、アルキルエ
ステル基等が例示される。そしてその配合量はこの発明
の効果を発揮するために上記樹脂まだはゴム類からなる
基体重合体１００重量部に対して少なくとも０．５重量
部の量が必要である。
との相溶性は特に置換基がなくても良好であるが、さら
にメチル基、メトキシ基、メチルエステル基等を導入さ
れることによって増進される。これによって、混練成形
時の加工性及び高温下、長時間の成形物使用時に揮散、
滲出しない性質が高められる。しかし、過度に炭素数の
多い置換基は合成上困難性があり、また、長鎖アルキル
基の場合は耐放射線性を低下させることから避ける必要
がある。而して、この目的で導入される置換基としては
炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシ基、アルキルエ
ステル基等が例示される。そしてその配合量はこの発明
の効果を発揮するために上記樹脂まだはゴム類からなる
基体重合体１００重量部に対して少なくとも０．５重量
部の量が必要である。
次にこの発明で用いられるハイドロパーオキサイド系重
合開始剤としては、゛ｔ−ブチルハイドロパーオキサイ
ド、ジ−イソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド
、クメンハイドロパーオキサイドなどが挙げられ、これ
らの配合量を上記基体重合体１００重量部に対して０２
〜１０重量部に限定した理由は、その下限以下ではこの
発明の効果が不充分となり、父上限を超えてもその増量
効果が殆んど見られないことによるものである。
合開始剤としては、゛ｔ−ブチルハイドロパーオキサイ
ド、ジ−イソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド
、クメンハイドロパーオキサイドなどが挙げられ、これ
らの配合量を上記基体重合体１００重量部に対して０２
〜１０重量部に限定した理由は、その下限以下ではこの
発明の効果が不充分となり、父上限を超えてもその増量
効果が殆んど見られないことによるものである。
又この発明で用いられる有機過酸化物としては、ジクミ
ルパーオキサイド、１．う−ビス（ｔ−ブチルパーオキ
シイソプロビル）ベンゼン、２１５−ジメチル−２，５
−ジ（１−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、ｔ−ブチ
ルクミルパーオキサイドなどが挙げられ、その配合量を
同様に０５〜１０重量部に限定した理由は、その下限以
下ではベースポリマーの架橋効果が不充分となり、又上
限を超えてもその増量効果が殆んど見られないからであ
る。
ルパーオキサイド、１．う−ビス（ｔ−ブチルパーオキ
シイソプロビル）ベンゼン、２１５−ジメチル−２，５
−ジ（１−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、ｔ−ブチ
ルクミルパーオキサイドなどが挙げられ、その配合量を
同様に０５〜１０重量部に限定した理由は、その下限以
下ではベースポリマーの架橋効果が不充分となり、又上
限を超えてもその増量効果が殆んど見られないからであ
る。
尚この発明の組成物に対しては、その使用目的などに応
じて適当な補強剤、増量剤、顔料、滑剤、加硫剤、架橋
助剤、あるいは熱、光安定剤などをその特性を低下させ
ない範囲で適量を加えることは、伺等差支えなり。
じて適当な補強剤、増量剤、顔料、滑剤、加硫剤、架橋
助剤、あるいは熱、光安定剤などをその特性を低下させ
ない範囲で適量を加えることは、伺等差支えなり。
この発明の組成物は後記実施例から明らかなように、そ
の耐放射線性を著しく向上させ得たものであムその工業
的価値は非常に大きい。
の耐放射線性を著しく向上させ得たものであムその工業
的価値は非常に大きい。
以下実施例によシこの発明を具体的に説明する。
ハロゲン化アセナフチレンの多量体の製造例１゜
１．２，３．５−テトラブロモアセナフテン（Ｇｈｚ
Ｈ６Ｂｒ４ ） １モルのペンゼｙ （５０Ｏｆ ）溶
液暗所にて激しく攪拌混合した。これに濃硫酸２モルを
同容積の水で希釈し、攪拌下、１０℃近傍にて滴下し、
５時間反応させたつ反応終了後、ベンゼン層を水、カセ
イソーダ水溶液（２チ）、再び水の順で洗浄し、シリカ
ゲルにて乾燥した。つぎに、乾燥ベンゼン溶液を三ツロ
フラスコに移し、側管より約２モルの水酸化カリウムを
溶解させた温エタノール液を滴下させ、脱臭化水素反応
を行なった。反応終了後べ７９７層を水洗し乾燥した。
Ｈ６Ｂｒ４ ） １モルのペンゼｙ （５０Ｏｆ ）溶
液暗所にて激しく攪拌混合した。これに濃硫酸２モルを
同容積の水で希釈し、攪拌下、１０℃近傍にて滴下し、
５時間反応させたつ反応終了後、ベンゼン層を水、カセ
イソーダ水溶液（２チ）、再び水の順で洗浄し、シリカ
ゲルにて乾燥した。つぎに、乾燥ベンゼン溶液を三ツロ
フラスコに移し、側管より約２モルの水酸化カリウムを
溶解させた温エタノール液を滴下させ、脱臭化水素反応
を行なった。反応終了後べ７９７層を水洗し乾燥した。
さらに減圧下でベンゼンを留去し、残留物を熱アセトン
にて充分洗浄乾燥して、ブロモアセナフチレンの縮合物
を得た。
にて充分洗浄乾燥して、ブロモアセナフチレンの縮合物
を得た。
縮合物の元素分析値より推定された組成式は（Ｃ１ｚ
Ｈ３，ｔ Ｂｒ２．９ ） Ｌであった。ｃｐｃ測定
による縮合度ｔは２〜５のものが主成分であった。
Ｈ３，ｔ Ｂｒ２．９ ） Ｌであった。ｃｐｃ測定
による縮合度ｔは２〜５のものが主成分であった。
例２
１．２．３．５−テトラブロモアセナフテンのクロロホ
ルム溶液に触媒量の塩化第２錫を添加し、約５時間静か
に沸とう環流させた。反応終了後、水洗、乾燥し、クロ
ロホルムを留去した。つぎに残留物をベンゼンに溶解し
、例１と同様の方法により、脱臭化水素反応を行なった
。ベンゼン層を水洗後、乾燥し、ついでベンゼンを留去
し熱アセトンにて充分洗浄した。得られたブロモアセナ
フチレンの縮合物の組成式は（Ｃ’１２ Ｈ４，ｌ Ｂ
ｒ２．３） ｔ テあり、ＧＰＣ測定による縮合度ｔは
２〜７のものが主成分であった。
ルム溶液に触媒量の塩化第２錫を添加し、約５時間静か
に沸とう環流させた。反応終了後、水洗、乾燥し、クロ
ロホルムを留去した。つぎに残留物をベンゼンに溶解し
、例１と同様の方法により、脱臭化水素反応を行なった
。ベンゼン層を水洗後、乾燥し、ついでベンゼンを留去
し熱アセトンにて充分洗浄した。得られたブロモアセナ
フチレンの縮合物の組成式は（Ｃ’１２ Ｈ４，ｌ Ｂ
ｒ２．３） ｔ テあり、ＧＰＣ測定による縮合度ｔは
２〜７のものが主成分であった。
例さ。
アセナフテン１５４ｆを約５１４０ ｍｌの四塩化炭素
に溶解し、温度１０℃に保持しつつ、塩化第二鉄１５４
ｆを加えた。これに良く攪拌しなから四塩化炭素で希釈
した臭素９’ ６０ ｆを滴下した。滴下終了後反応系
をｌ１５〜５５℃とし、反応を完結させた。つぎに触媒
をろ別し、溶液を水洗し、四塩化炭素を留去して中間体
であるブロモアセナフテン縮合体を得た。次に、例１と
同様の方法によシ、ブロモアセナフテン縮合体の脱臭化
水素反応を行った。ベンゼン層を水洗後、乾燥し、つい
でベンゼンを留去し熱アセトンにて充分洗浄した。
に溶解し、温度１０℃に保持しつつ、塩化第二鉄１５４
ｆを加えた。これに良く攪拌しなから四塩化炭素で希釈
した臭素９’ ６０ ｆを滴下した。滴下終了後反応系
をｌ１５〜５５℃とし、反応を完結させた。つぎに触媒
をろ別し、溶液を水洗し、四塩化炭素を留去して中間体
であるブロモアセナフテン縮合体を得た。次に、例１と
同様の方法によシ、ブロモアセナフテン縮合体の脱臭化
水素反応を行った。ベンゼン層を水洗後、乾燥し、つい
でベンゼンを留去し熱アセトンにて充分洗浄した。
得られたブロモアセナフチレン縮金物の組成式は（Ｃ１
２Ｈ，４ｖ Ｂｒ３．８ ） ｔであり、ＧＰＯ測定の
結果縮合度ｔは２〜３のものが主成分であった。
２Ｈ，４ｖ Ｂｒ３．８ ） ｔであり、ＧＰＯ測定の
結果縮合度ｔは２〜３のものが主成分であった。
実施例１〜５および比較例１〜′５
工チレンプロピレン共重合体に対して表１に示した組成
となるよう配合剤を加え、これらを加熱ロールにてよく
混練し、得られた混和物を１６０℃にて３０分間プレス
成形し２ｆｆｌｌｌ＋および３朝厚のシートを作成した
。
となるよう配合剤を加え、これらを加熱ロールにてよく
混練し、得られた混和物を１６０℃にて３０分間プレス
成形し２ｆｆｌｌｌ＋および３朝厚のシートを作成した
。
得られた各々のシートについて初期の機械的特性および
γ線１００ Ｍｒａｄ照射後の特性、ＪＩＳ Ｋ ７２
０１による酸素指数を測定し同表に示した。
γ線１００ Ｍｒａｄ照射後の特性、ＪＩＳ Ｋ ７２
０１による酸素指数を測定し同表に示した。
表から明らかな如く、ブロモアセナフチレンの多量体を
配合した組成物成形体に遊離基発生処理を施こす場合、
ノ・イドロバ−オキサイド系重合開始剤と有機過酸化物
とを併用すると優れた耐放射線性と難燃性を賦与せしめ
得ることが明らかである。
配合した組成物成形体に遊離基発生処理を施こす場合、
ノ・イドロバ−オキサイド系重合開始剤と有機過酸化物
とを併用すると優れた耐放射線性と難燃性を賦与せしめ
得ることが明らかである。
また実施例うに示すように更に難燃助剤を配合すると更
に優れた難燃性を現出することができる。
に優れた難燃性を現出することができる。
表１
×１ ：プロピレン含量ｌＩＯ重量％
×２ 、大向新興■製、２，２．ｌｌ、−トリメチル−
１，２−ジヒドロキノリン共重合体 実施例１１〜５および比較例４〜５ ポリエチレンに対して表２に示した組成となるよう配合
剤を加え、これらを加熱ロールにてよく混練し、得られ
た組成物を１６０℃にて３０分間プレス成形し１儒及び
３ｍ＋ｎ厚シートを作成した。
１，２−ジヒドロキノリン共重合体 実施例１１〜５および比較例４〜５ ポリエチレンに対して表２に示した組成となるよう配合
剤を加え、これらを加熱ロールにてよく混練し、得られ
た組成物を１６０℃にて３０分間プレス成形し１儒及び
３ｍ＋ｎ厚シートを作成した。
得られた各々のシートタついて初期の機械的特性および
γ線１００ Ｍｒａｄ照射後の特性酸素指数を測定した
ので同表に示したつ 表２ ※１ ：密度０．９２０ ＭＴｌ、 ０×２ ＝犬内
新興■製、１．１１’−チオビス（６−ｔ−ブチル−う
−メチルフェノール） 実施例６〜７および比較例６〜７ クロロプレンゴムに対して表５に示した組成となるよう
配合剤を加え、これらを加熱ロールにてよく混練し、得
られた混和物を１６０℃にて２０分間プレス成形し２間
及び３咽厚ンートを作成した。７ 得られた各々のシートにっ呵て初期の機械的特性および
γ線１００ Ｍｒａｄ照射後の特性及び酸素拍数を測定
したので同表に示した。
γ線１００ Ｍｒａｄ照射後の特性酸素指数を測定した
ので同表に示したつ 表２ ※１ ：密度０．９２０ ＭＴｌ、 ０×２ ＝犬内
新興■製、１．１１’−チオビス（６−ｔ−ブチル−う
−メチルフェノール） 実施例６〜７および比較例６〜７ クロロプレンゴムに対して表５に示した組成となるよう
配合剤を加え、これらを加熱ロールにてよく混練し、得
られた混和物を１６０℃にて２０分間プレス成形し２間
及び３咽厚ンートを作成した。７ 得られた各々のシートにっ呵て初期の機械的特性および
γ線１００ Ｍｒａｄ照射後の特性及び酸素拍数を測定
したので同表に示した。
表５
以上、実施例から明らかなように本発明の樹脂組成物は
優れた耐放射線性を有するもので、特に放射線を被曝す
る物品等の被覆材料として好適なものである。
優れた耐放射線性を有するもので、特に放射線を被曝す
る物品等の被覆材料として好適なものである。
第１頁の続き
■出 願 人 古河電気工業株式会社
東京都千代田区丸の内２丁目６
番１号
手続補正書（自発）
特許庁長官殿
１、事件の表示 特願昭印−１３７２０４号２ 発明
の名称 耐放射線性樹脂組成物ａ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代田区内幸町二丁目２番２号名称 （
４０９）日本原子力研究所 代表者 藤波恒雄（ほか１名） ４代理人（〒１００） 住所 東京都千代田区丸の内２丁目６番１号６ 補正
の内容 （１）明細書の第７頁第５−第６行目において「メチル
エステル基等を」とあるを「メチルエステル基勢が」と
訂正する。
の名称 耐放射線性樹脂組成物ａ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代田区内幸町二丁目２番２号名称 （
４０９）日本原子力研究所 代表者 藤波恒雄（ほか１名） ４代理人（〒１００） 住所 東京都千代田区丸の内２丁目６番１号６ 補正
の内容 （１）明細書の第７頁第５−第６行目において「メチル
エステル基等を」とあるを「メチルエステル基勢が」と
訂正する。
（２）同第１５頁下から第２行目において「特性酸素指
数」とあるを「特性及び酸素指数」と訂正する。
数」とあるを「特性及び酸素指数」と訂正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 熱可塑性樹脂あるいはゴム類などの基体重合体１００重
量部に対して、一般式 （但し式中Ｘは水素、塩素、臭素の群から選ばれたいず
れかの原子、Ｙは塩素または臭素原子、ｍは２〜６の整
数、Ｒは）・ロゲン原子以外の置換基、ｎ ｉｄ Ｏ−
１１の整数、ｎが２以上の場合Ｒは同一または異種のい
ずれでもよい、ｍ＋ｎ≦６）で表わされる単位を構成要
素とする・・ロダン化。アセナフチレンの多量体を少な
くとも０５重量部と、ハイドロパーオキサイド系重合開
始剤０２〜１０重量部と、有機過酸化物０５〜１０重量
部とを配合したことを特徴とする耐放射線性樹脂組成物
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13720481A JPS6017446B2 (ja) | 1981-09-01 | 1981-09-01 | 耐放射線性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13720481A JPS6017446B2 (ja) | 1981-09-01 | 1981-09-01 | 耐放射線性樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5838711A true JPS5838711A (ja) | 1983-03-07 |
| JPS6017446B2 JPS6017446B2 (ja) | 1985-05-02 |
Family
ID=15193216
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13720481A Expired JPS6017446B2 (ja) | 1981-09-01 | 1981-09-01 | 耐放射線性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6017446B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7037994B2 (en) * | 2002-07-31 | 2006-05-02 | Jsr Corporation | Acenaphthylene derivative, polymer, and antireflection film-forming composition |
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1981
- 1981-09-01 JP JP13720481A patent/JPS6017446B2/ja not_active Expired
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