JPS5837963B2 - 抵抗体用ペ−ストの製造方法 - Google Patents

抵抗体用ペ−ストの製造方法

Info

Publication number
JPS5837963B2
JPS5837963B2 JP52082154A JP8215477A JPS5837963B2 JP S5837963 B2 JPS5837963 B2 JP S5837963B2 JP 52082154 A JP52082154 A JP 52082154A JP 8215477 A JP8215477 A JP 8215477A JP S5837963 B2 JPS5837963 B2 JP S5837963B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
oxide
parts
paste
resistor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP52082154A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5418100A (en
Inventor
賢二 藤村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority to JP52082154A priority Critical patent/JPS5837963B2/ja
Priority to US05/879,251 priority patent/US4175061A/en
Publication of JPS5418100A publication Critical patent/JPS5418100A/ja
Publication of JPS5837963B2 publication Critical patent/JPS5837963B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C17/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/06Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base
    • H01C17/065Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base by thick film techniques, e.g. serigraphy
    • H01C17/06506Precursor compositions therefor, e.g. pastes, inks, glass frits
    • H01C17/06513Precursor compositions therefor, e.g. pastes, inks, glass frits characterised by the resistive component
    • H01C17/06533Precursor compositions therefor, e.g. pastes, inks, glass frits characterised by the resistive component composed of oxides
    • H01C17/0654Oxides of the platinum group
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C14/00Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
    • C03C14/006Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix the non-glass component being in the form of microcrystallites, e.g. of optically or electrically active material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/062Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
    • C03C3/07Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing lead
    • C03C3/072Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing lead containing boron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
    • C03C8/10Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing lead
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/14Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/14Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
    • C03C8/16Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions with vehicle or suspending agents, e.g. slip

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Non-Adjustable Resistors (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はルテニウム酸鉛を含有する特に耐高電圧性にす
ぐれ、かつ高抵抗でTCR絶対値の小さな抵抗体用ペー
ストの製造法に関する。
この目的を達成するためにこの発明は導電性物質として
酸化ルテニウムを1〜40重量係、ガラス質の原料とし
て酸化鉛40〜85重量饅、酸化珪素10〜30重量係
および酸化アルミニウムを1〜15重量饅、これらの合
計が95〜100重量係になるように混合し、800〜
1200℃で溶融、冷却後微粉砕して得られる導電性結
晶物含有ガラスに有機ビヒクルを添加して混練する際に
、前記粉砕物および有機ビヒクルの混合物に対して酸化
錫0.5〜20重量係を添加して混合することにある。
本発明者は先に特許1084791号0特公昭56−2
8363)において耐高電圧性にすぐれた抵抗体用ペー
ストの製造方法として前記の方法により得られた導電性
結晶物含有ガラス粉末に有機ビヒクルを混練する方法を
、また耐高電圧性にすぐれ、かつTCR絶対値の小さな
抵抗体用ペーストの製造方法として同様に前記の方法に
より得られた導電性結晶物含有ガラス粉末にZrO2,
Al203等のTCR変成剤を有機ビヒクルとともに添
加混練する方法を出願している。
本発明は前記TCR変成剤の代りに酸化錫を添加するこ
とにより電流雑−音が小で、TCR絶対値が小で、良好
な耐高電圧性を与えると共に高い面積抵抗値を与えるこ
とのできる抵抗体用ペーストの製造方法を提供するもの
である。
酸化錫の添加量としては導電性結晶物含有ガラスと有機
ビヒクルの合計量に対して0.5〜20重量饅が必要で
、0.5重量%り下の添加では高抵抗値が得られず、か
つTCR絶対値が大きすぎ、また20重量φ以上添加す
ると抵抗体の表面の光沢がなくなり、抵抗値の安定性が
悪・くなる。
以下実施例につき述べる。
実施例 酸化ルテニウム7.5重量係、酸化鉛69.4重量饅、
酸化珪素20.8重量宏酸化アルミニウム1.9重量多
、酸化カルシウム0.4重量優から或る混合物を100
0℃で溶融して3時間保持し、水中に投入して冷却後、
微粉砕して得た導電性結晶物含有ガラス粉末70重量部
に、エチルセルロースのパインオイル溶液(エチルセル
ロース15重量係を含む)30重量部を添加混合し、ロ
ールミルで粉砕混練して作ったペーストを試料A1とし
、この試料1を分取したもの100重量部に対して所定
量の酸化錫を添加してさらにロールミルで粉砕、混練し
て作ったペーストを試料A2〜7とした。
コレ等のペーストを96饅アルミナ基板上に200メッ
シュステンレススクリーンを用いて印刷し、125℃で
20分間乾燥した後、850’C−*米で10分間焼或
して抵抗体を作成し、 性を測定した結果を第1表に示す。
これらの特 上表中面積抵抗値および電流雑音は幅2間×長2 mm
のパターンを用いて測定し、また面積抵抗値の変動係数
は30コの測定値について計算した値であり、耐高電圧
性はIOOOVの値は幅2闘×長4關のパターンにIO
OOVの直流電圧を1分間印加した後の抵抗を印加前の
抵抗と比較してその変化率を示したものである。
また1 6 0 0Vの値は幅2朋×長2朋のパターン
に1600Vの直流電圧を1分間印加して同様に測定し
たものである。
この結果から酸化錫を含まない試料A1は面積抵抗値が
低<TCRの絶対値は大であり、酸化錫が少量添加され
た試料A2でも低い面積抵抗値しか得られず、また酸化
錫添加量の多い試料A7では高い面積抵抗値が得られる
ものの、面積抵抗値の変動係数が大でTCR絶対値、電
流雑音が大となり、耐高電圧性が劣ってくる。
本発明の範囲の試料嵐3〜6のものは面積抵抗値を高め
ることができ、TCR絶対値を小にし、電流雑音も小で
耐高電圧性がすぐれている。
上記実施例では酸化錫としてSn02を用いたがSnO
を用いてもほぼ類似の結果かえられた。
比較例 試料A8として酸化ルテニウム6重量饅、硼珪酸鉛系の
ガラスフリツツ64重量係、エチルセルロースのパイン
オイル溶液30重量饅を混練して作ったペースト、試料
A9としてルテニウム酸鉛(Pb2Ru206)10重
量饅、硼珪酸鉛系ガラスフリツツ6 0 Mfr係、エ
チルセルロースのパインオイル溶液30重量饅を混練し
て作ったペースト、および試料A10として酸化ルテニ
ウム2重量悌、ルテニウム酸鉛5重量悌、硼珪酸鉛系ガ
ラスフリツツ6 3 重i % 、エチルセルロースの
パインオイル溶液30重量係を混練して作ったペースト
を実施例1と同様の方法で印刷、乾燥、焼成して抵抗体
を作威した。
その特性を第2表に示す。なお硼珪酸鉛系のガラスフリ
ツツの組戒は酸化鉛70重量係、酸化珪素19重量幅、
酸化アルミニウム9重量饅、硼酸2重量φからなるもの
である。
第2表の結果から従来法によって作られたペーストを印
刷焼成して得られた抵抗体はいずれも電流雑音が大きく
、耐高電圧性が劣っていることがわかる。
追加の関係 原特許発明〔特許第1084791号0特公昭56−2
8363)第2番目の発明〕は、酸化ルテニウム1〜4
0重量饅、酸化鉛40〜85重量饅、酸化珪素10〜3
0重量饅、酸化アルミニウム1〜15重量饅、その他無
機酸化物O〜5重量饅からなる混合物を800〜120
0℃で溶融、冷却、粉砕後、Zr02 , AI203
及びTiO2から成る群から選ばれた少なくとも一つの
TCR変成剤と有機ビヒクルを添加混練することを特徴
とするものであるが、本発明は゛この方法におけるTC
R変戒剤のZr02 − Aji!203 s Ti0
2の代りに、前記粉砕物と有機ビヒクルとの合計重量に
対し0.5〜20重量幅の酸化錫を用いて、面積抵抗値
が犬で、TCRの絶対値が小さく、電流雑音少なく、耐
高電圧性にすぐれた抵抗体を得るという原発明の目的と
同一の目的を達或するものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 酸化ルテニウムl〜40重量係、酸化鉛40〜85
    重量係、酸化珪素10〜30重量饅、酸化アルミニウム
    1〜15重量饅、その他の無機酸化物0〜5重量饅から
    なる混合物を800〜1200℃で溶融、冷却、粉砕後
    、有機ビヒクルを添加して混練する際に、前記粉砕物と
    有機ビヒクルとの合計重量に対し酸化錫0.5〜20重
    量係を有機ビヒクルと共に添加混練することを特徴とす
    る抵抗体用ペーストの製造方法。
JP52082154A 1977-07-09 1977-07-09 抵抗体用ペ−ストの製造方法 Expired JPS5837963B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP52082154A JPS5837963B2 (ja) 1977-07-09 1977-07-09 抵抗体用ペ−ストの製造方法
US05/879,251 US4175061A (en) 1977-07-09 1978-02-21 Method of manufacturing resistor paste

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP52082154A JPS5837963B2 (ja) 1977-07-09 1977-07-09 抵抗体用ペ−ストの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5418100A JPS5418100A (en) 1979-02-09
JPS5837963B2 true JPS5837963B2 (ja) 1983-08-19

Family

ID=13766509

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP52082154A Expired JPS5837963B2 (ja) 1977-07-09 1977-07-09 抵抗体用ペ−ストの製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4175061A (ja)
JP (1) JPS5837963B2 (ja)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5791084A (en) * 1980-11-27 1982-06-07 Mitsubishi Electric Corp Audio detection circuit
US4362656A (en) * 1981-07-24 1982-12-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Thick film resistor compositions
US4436829A (en) * 1982-02-04 1984-03-13 Corning Glass Works Glass frits containing WO3 or MoO3 in RuO2 -based resistors
NL8301631A (nl) * 1983-05-09 1984-12-03 Philips Nv Weerstandspasta voor een weerstandslichaam.
JPS6040130U (ja) * 1983-08-24 1985-03-20 三輪 芳弘 状態変数形回路の基本構成要素
JPS60145949A (ja) * 1984-01-06 1985-08-01 昭栄化学工業株式会社 抵抗組成物
US4539223A (en) * 1984-12-19 1985-09-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Thick film resistor compositions
US4651126A (en) * 1985-05-02 1987-03-17 Shailendra Kumar Electrical resistor material, resistor made therefrom and method of making the same
US4636332A (en) * 1985-11-01 1987-01-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Thick film conductor composition
JPH0812802B2 (ja) * 1986-11-14 1996-02-07 株式会社日立製作所 サ−マルヘツド用厚膜抵抗体材料,サ−マルヘツド用厚膜抵抗体,並びにサ−マルヘツド
JPH0628201B2 (ja) * 1988-02-18 1994-04-13 住友金属鉱山株式会社 抵抗被膜形成用組成物
US5045805A (en) * 1990-06-29 1991-09-03 General Electric Company High precision composite amplifier with improved high speed response
JPH04117018A (ja) * 1990-07-18 1992-04-17 Yoshihiro Miwa 状態変数形回路の基本構成要素
FR2670008B1 (fr) * 1990-11-30 1993-03-12 Philips Electronique Lab Circuit de resistances pour jauge de contrainte.
CN103021601A (zh) * 2012-12-27 2013-04-03 青岛艾德森能源科技有限公司 一种电阻浆料
CN103021602A (zh) * 2012-12-27 2013-04-03 青岛艾德森能源科技有限公司 一种电阻组合物
CN115443513A (zh) * 2020-05-01 2022-12-06 住友金属矿山株式会社 厚膜电阻糊、厚膜电阻体和电子部件

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3304199A (en) * 1963-11-12 1967-02-14 Cts Corp Electrical resistance element
JPS5528162B1 (ja) * 1969-12-26 1980-07-25
US3816348A (en) * 1972-04-24 1974-06-11 Du Pont Compositions for stable low resistivity resistors
US4076894A (en) * 1974-11-07 1978-02-28 Engelhard Minerals & Chemicals Corporation Electrical circuit element comprising thick film resistor bonded to conductor

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5418100A (en) 1979-02-09
US4175061A (en) 1979-11-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS5837963B2 (ja) 抵抗体用ペ−ストの製造方法
US4039997A (en) Resistance material and resistor made therefrom
JP5406277B2 (ja) Cu含有ガラスフリットを使用する抵抗体組成物
US4060663A (en) Electrical resistor glaze composition and resistor
JPH04305021A (ja) 酸化スズを含むパイロクロール化合物の製造方法
US3868334A (en) Resistive glaze and paste compositions
JPS60262401A (ja) 電気抵抗素子製造用組成物及び電気抵抗素子の製法
GB2038104A (en) Resistor material resistor made therefrom and method of making the same
US4160227A (en) Thermistor composition and thick film thermistor
US3775347A (en) Compositions for making resistors comprising lead-containing polynary oxide
US5474711A (en) Thick film resistor compositions
JPH05234703A (ja) 厚膜抵抗体を製造するための抵抗組成物
JPS6335081B2 (ja)
JPH02296734A (ja) 導電性パイロクロア系酸化物およびそれを含有する抵抗材料
DE3941283C1 (ja)
JPS6055454B2 (ja) 着色セラミックカラ−フリット組成物
US4006278A (en) Low temperature coefficient of resistivity cermet resistors
US4693843A (en) Resistance paste
JPH073801B2 (ja) 抵抗体組成物
JP3192417B2 (ja) チップ抵抗器被覆用組成物
JPH0422005B2 (ja)
JPS6281701A (ja) 抵抗組成物
JP2002198203A (ja) 抵抗体ペースト、該ペーストを用いて形成した厚膜抵抗体及び該厚膜抵抗体を有する回路基板
JPH0144788B2 (ja)
US3629156A (en) Electrical resistors comprising rhombohedral platinum cobalt oxides