JPS5836671B2 - 表面処理方法 - Google Patents
表面処理方法Info
- Publication number
- JPS5836671B2 JPS5836671B2 JP6632376A JP6632376A JPS5836671B2 JP S5836671 B2 JPS5836671 B2 JP S5836671B2 JP 6632376 A JP6632376 A JP 6632376A JP 6632376 A JP6632376 A JP 6632376A JP S5836671 B2 JPS5836671 B2 JP S5836671B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium nitride
- film
- alloy
- treatment method
- surface treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属又は合金の表面に硬質でしかも装飾的価値
の高い有色被膜を形成する表面処理方法に関するもので
ある。
の高い有色被膜を形成する表面処理方法に関するもので
ある。
金属又は合金の表面に窒化チタン被膜のような硬質でし
かも黄色被膜を形或することは公知であり、通常スパッ
タリングやイオンプレーテイング等の方法で行なわれて
来た。
かも黄色被膜を形或することは公知であり、通常スパッ
タリングやイオンプレーテイング等の方法で行なわれて
来た。
スパッタリング法では、金属又は合金を真空槽内に保持
し、一度１０−５〜１ ０−６Ｔｏｒｒの真空に排気後
、窒素を含むガスを導入し圧力を１０−２〜１０−３Ｔ
ｏｒｒに調整し、一方の電極をチタン（ターゲットとい
う）で構威した電極構戊内で高周波放電を行ない、金属
又は合金上へ窒化チタン被膜を形或する。
し、一度１０−５〜１ ０−６Ｔｏｒｒの真空に排気後
、窒素を含むガスを導入し圧力を１０−２〜１０−３Ｔ
ｏｒｒに調整し、一方の電極をチタン（ターゲットとい
う）で構威した電極構戊内で高周波放電を行ない、金属
又は合金上へ窒化チタン被膜を形或する。
窒化チタン被膜はターゲットからスパツタしたチタンと
雰囲気の窒素ガスが反応して基板上に被膜として生成す
るのであるが、チタンと窒素の成分比によって被膜の硬
度、結晶構造、色調が大巾に異る。
雰囲気の窒素ガスが反応して基板上に被膜として生成す
るのであるが、チタンと窒素の成分比によって被膜の硬
度、結晶構造、色調が大巾に異る。
又投入電力や、ターゲット面積にターゲットと基板間距
離等のスパッタリング条件によってもこれら被膜の特性
は大巾に異る。
離等のスパッタリング条件によってもこれら被膜の特性
は大巾に異る。
一方チタンと窒素ガス゛の反応をプラズマ内で一定に制
御することや、スパッタリング条件を一定に保つことは
非常に困難であり、そのためえられる被膜は色調、結晶
構造等の膜特性が大巾に異る。
御することや、スパッタリング条件を一定に保つことは
非常に困難であり、そのためえられる被膜は色調、結晶
構造等の膜特性が大巾に異る。
特に被膜形威においては基板と膜の密着性がよいことが
第一の要件であるが、このようにして従来形戒された膜
は膜の内部ストレスが高く数１０００λ程度の膜厚で容
易に剥離することが多かった。
第一の要件であるが、このようにして従来形戒された膜
は膜の内部ストレスが高く数１０００λ程度の膜厚で容
易に剥離することが多かった。
又、他の方法としてはイオンプレーテイングによる窒化
チタン被膜の形威が知られているが、これは真空槽内を
一度１０−５〜１ ０−６Ｔｏｒｒの真空に排気後、窒
素ガスを導入し圧力１０−２〜１ ０ −’ Ｔｏｒｒ
に調整し、電子ビーム蒸発源からチタンを蒸発させ、直
流高圧や高周波電力によってプラズマを発生し、窒素ガ
ス及びチタンをイオン化し、活性にして反応させ、基板
上へ窒化チタン被膜を形或するものである。
チタン被膜の形威が知られているが、これは真空槽内を
一度１０−５〜１ ０−６Ｔｏｒｒの真空に排気後、窒
素ガスを導入し圧力１０−２〜１ ０ −’ Ｔｏｒｒ
に調整し、電子ビーム蒸発源からチタンを蒸発させ、直
流高圧や高周波電力によってプラズマを発生し、窒素ガ
ス及びチタンをイオン化し、活性にして反応させ、基板
上へ窒化チタン被膜を形或するものである。
この場合にも、窒素ガス分圧を一定にし、しかも放電プ
ラズマ内でチタンと窒素ガスの反応を一定に制御するこ
とは困難であるため安定した色調で一定の特性をもった
被膜を形或することは不可能であった。
ラズマ内でチタンと窒素ガスの反応を一定に制御するこ
とは困難であるため安定した色調で一定の特性をもった
被膜を形或することは不可能であった。
又、えられた被膜はスパッタリングでえられたものと同
様に内部ストレスによる剥離が甚しく実用には供するこ
とができなかった。
様に内部ストレスによる剥離が甚しく実用には供するこ
とができなかった。
本発明はこれらの被膜特性の欠点を除去し、装飾的価値
の高い密着性のすぐれた硬質被膜を提供することを目的
とする。
の高い密着性のすぐれた硬質被膜を提供することを目的
とする。
上記目的を達戒するための本発明の要旨とするところは
、金属又は合金の表面に硬質で有色の窒化チタン被膜を
形成した後、酸素を含む雰囲気中で熱処理を行ない窒化
チタンの表層部を硬化せしめ、又被膜の内部ストレスを
除去すると同時に被膜形成時のわずかな製作条件のズレ
による膜の不均一性を無くし、一定の色調と一定の特性
を被膜に付与することである。
、金属又は合金の表面に硬質で有色の窒化チタン被膜を
形成した後、酸素を含む雰囲気中で熱処理を行ない窒化
チタンの表層部を硬化せしめ、又被膜の内部ストレスを
除去すると同時に被膜形成時のわずかな製作条件のズレ
による膜の不均一性を無くし、一定の色調と一定の特性
を被膜に付与することである。
以下実施例に基いて詳細に説明する。
ステンレス製の腕時計ケースにスパッタリング又はイオ
ンプレーテイングによって窒化チタン被膜を約３〜５μ
の厚さに形或する。
ンプレーテイングによって窒化チタン被膜を約３〜５μ
の厚さに形或する。
次に電気炉に入れ、空気中で３００゜Ｃ１時間の熱処理
を行なう。
を行なう。
窒化チタン被膜形成後の膜は、わずかな膜生成条件の違
いによって時計ケースの各部又はケース個々に異った色
調を有し、吸湿性雰囲気で容易に剥離しやすい不安定な
特性をもっているが、熱処理後の被膜は金に類似の金色
を有し、各部又はケース個々を比較しても点調の差を認
め難い。
いによって時計ケースの各部又はケース個々に異った色
調を有し、吸湿性雰囲気で容易に剥離しやすい不安定な
特性をもっているが、熱処理後の被膜は金に類似の金色
を有し、各部又はケース個々を比較しても点調の差を認
め難い。
又被膜の密着性の改善が著しく、吸湿性雰囲気のみなら
ず、−４０℃〜常温〜＋８０℃の連続１０回熱サイクル
試験でも何ら剥離を示すことがなかった。
ず、−４０℃〜常温〜＋８０℃の連続１０回熱サイクル
試験でも何ら剥離を示すことがなかった。
窒化チタン被膜の膜厚によって最適熱処理条件は異り、
３μ以下の厚さでは低温、短時間（２５０℃、３０分）
で熱処理は可能であり、膜厚が５μ以上になれば高温、
長時間（４５０℃、２時間）の熱処理が必要である。
３μ以下の厚さでは低温、短時間（２５０℃、３０分）
で熱処理は可能であり、膜厚が５μ以上になれば高温、
長時間（４５０℃、２時間）の熱処理が必要である。
以上実施例としてステンレス基板の場合について述べた
が、黄銅、アルミ合金、鉄合金ニッケル被膜を被覆した
黄銅等金属又は合金のいずれの場合にも適用出来る。
が、黄銅、アルミ合金、鉄合金ニッケル被膜を被覆した
黄銅等金属又は合金のいずれの場合にも適用出来る。
又時計ケースについての応用のみならず、色調の制約が
厳しく装飾的要素の含まれる製品に適用することが出来
る。
厳しく装飾的要素の含まれる製品に適用することが出来
る。
又装飾的要素は少いが被膜の高度の密着性を要求する工
具類への窒化チタン被膜の形或に際してもこの方法は有
効である。
具類への窒化チタン被膜の形或に際してもこの方法は有
効である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 金属又は合金の表面に窒化チタン被膜を形威した表
面処理部材において、該窒化チタン被膜を形或後、酸素
を含む雰囲気中において熱処理を行ない窒化チタンの表
層部と酸化せしめたことを特徴とする表面処理方法。 ２ 金属又は合金がステンレス、黄銅、ニッケル被覆を
施した黄銅、アルミ合金、鉄合金であることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の表面処理方法。 ３ 窒化チタン被膜を反応性スパッタリング又はイオン
プレーテイングによって形威したことを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の表面処理方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6632376A JPS5836671B2 (ja) | 1976-06-07 | 1976-06-07 | 表面処理方法 |
| DE2705225A DE2705225C2 (de) | 1976-06-07 | 1977-02-08 | Ornamentteil für Uhren usw. |
| US05/945,292 US4226082A (en) | 1976-06-07 | 1978-09-25 | Ornamental part for watches and method of producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6632376A JPS5836671B2 (ja) | 1976-06-07 | 1976-06-07 | 表面処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52149234A JPS52149234A (en) | 1977-12-12 |
| JPS5836671B2 true JPS5836671B2 (ja) | 1983-08-10 |
Family
ID=13312502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6632376A Expired JPS5836671B2 (ja) | 1976-06-07 | 1976-06-07 | 表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5836671B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0726194B2 (ja) * | 1984-05-08 | 1995-03-22 | 大日本印刷株式会社 | 耐腐食性薄膜およびその製造方法 |
| AU648258B2 (en) * | 1990-06-29 | 1994-04-21 | Niigata Engineering Co., Ltd. | Method of forming titanium nitride film and vessel coated by same |
| JPH07207446A (ja) * | 1994-12-28 | 1995-08-08 | Niigata Eng Co Ltd | チタン系被膜の形成方法 |
-
1976
- 1976-06-07 JP JP6632376A patent/JPS5836671B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52149234A (en) | 1977-12-12 |
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