JPS5831338A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
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- JPS5831338A JPS5831338A JP13048881A JP13048881A JPS5831338A JP S5831338 A JPS5831338 A JP S5831338A JP 13048881 A JP13048881 A JP 13048881A JP 13048881 A JP13048881 A JP 13048881A JP S5831338 A JPS5831338 A JP S5831338A
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- Japan
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- photoconductive
- silicone resin
- modified silicone
- resin
- photoreceptor
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0592—Macromolecular compounds characterised by their structure or by their chemical properties, e.g. block polymers, reticulated polymers, molecular weight, acidity
-
- G—PHYSICS
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- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
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- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0557—Macromolecular bonding materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/0567—Other polycondensates comprising oxygen atoms in the main chain; Phenol resins
-
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明社電子写真感光体に関する。
電子写真プロセス、所定の特性を得るため、あるいは適
用される電子写真デルセスの種類に応じて種々Ｏ構成を
とるものである。そして、電子写真感光体の代表的なも
のとして、支持体上に光導電層が形成されている感光体
および表面に絶縁層を備えた感光体があシ、広く用いら
れている。支持体と光導電層から構成される感光体は、
最も一般的な電子写真デルセスによる即ち、帯電、画像
露光および現像、更に必張に応じて転写による両像形成
に用いられる。また絶縁層を備えた感光体について、こ
の絶縁層は光導電層の保鰻、感光体の機械的強度の改善
、暗減衰特性の改善、を九は、特定の電子写真デルセス
に適用されるため（］！には無公害化の為）等の目的の
ために設けられるものである。このような絶縁層を有す
る感光体ｔたは絶縁層を有する感光体を用いる電子写真
プロセスの代表的表側は、例えば、米ｌ１ｉｌ特許第２
８６００４８号公報、特公昭４１−１６４２９号公報、
特公昭３８−１５４４６号公報、特公昭４６−３７１３
、号会報、特公昭４２−２３９１０号公報、特公昭４＄
−２４７４８号公報、特公＠４！−１９７４７号公報、
特公昭３１！−４１２１号公報などに記載されている。
用される電子写真デルセスの種類に応じて種々Ｏ構成を
とるものである。そして、電子写真感光体の代表的なも
のとして、支持体上に光導電層が形成されている感光体
および表面に絶縁層を備えた感光体があシ、広く用いら
れている。支持体と光導電層から構成される感光体は、
最も一般的な電子写真デルセスによる即ち、帯電、画像
露光および現像、更に必張に応じて転写による両像形成
に用いられる。また絶縁層を備えた感光体について、こ
の絶縁層は光導電層の保鰻、感光体の機械的強度の改善
、暗減衰特性の改善、を九は、特定の電子写真デルセス
に適用されるため（］！には無公害化の為）等の目的の
ために設けられるものである。このような絶縁層を有す
る感光体ｔたは絶縁層を有する感光体を用いる電子写真
プロセスの代表的表側は、例えば、米ｌ１ｉｌ特許第２
８６００４８号公報、特公昭４１−１６４２９号公報、
特公昭３８−１５４４６号公報、特公昭４６−３７１３
、号会報、特公昭４２−２３９１０号公報、特公昭４＄
−２４７４８号公報、特公＠４！−１９７４７号公報、
特公昭３１！−４１２１号公報などに記載されている。
電子写真感光体は、当然のことであるが、適用される電
子写真プロセスに応じた所定の感度、電気特性、更には
光学特性を備えていることが要求される。しかし、それ
ばかシでなく、感光体の耐久性も重要な性質である。耐
久性は感光体を繰シ返し使用する場合に要求される性質
であｐ、鮮明＆画曽Ｏ形成に著しく影響を与えるもので
ある。
子写真プロセスに応じた所定の感度、電気特性、更には
光学特性を備えていることが要求される。しかし、それ
ばかシでなく、感光体の耐久性も重要な性質である。耐
久性は感光体を繰シ返し使用する場合に要求される性質
であｐ、鮮明＆画曽Ｏ形成に著しく影響を与えるもので
ある。
％に、光導電層が光導電材料と結合剤からなる場合は結
合鋼の材料特性として電気特性、耐熱性、耐光性、耐湿
性、接着性、機械的強度、光導電材料の分散性、塗工性
、等積々の条件を満足しなければならない。
合鋼の材料特性として電気特性、耐熱性、耐光性、耐湿
性、接着性、機械的強度、光導電材料の分散性、塗工性
、等積々の条件を満足しなければならない。
またａｍ絶縁層を備えた感光体にあっては、光導電層結
合剤は稜から塗布される絶縁層塗材に浸触されないもの
であることが望ましい。
合剤は稜から塗布される絶縁層塗材に浸触されないもの
であることが望ましい。
而して本発明轄耐溶剤性の優れた結合剤を用いゐことＫ
よりて、光導電層に隣接する絶縁層樹脂Ｏ選択を容易表
らしめ、同時に耐久性に優れた感光体を提供することを
主たる目的とするものであシ、本発ＷＩＪＯ費旨とする
とζろ社支持体、光導電層、および絶縁層を基本構成と
して有する電子写真感光体にシいて、光導電層が光導電
材料と、熱可１１１１ｒ！ｋｙタリル樹脂とｆ−ツタイ
ソシアネートで架橋硬化されたニーキシ変性シリ；ン樹
脂とＣ）ｆし／Ｐてあゐ結着剤とから成ることを特徴と
する電子写真感光体である。ニーキシ変性シリコン樹脂
をｆｗｖタイツシアネートで架橋硬化させた結着剤単独
を用いた場合、光導電層の耐溶剤性及び耐久性、４Ｉｋ
高温化での安定性にすぐれるが、光導電材料０分散性が
悪く、均一な光導電層を構成することがｍ−である。こ
のため分子量が大食（、且つニーキシ変性シリ′：１）
樹脂と０相答性に優れ九熱可履性アクリル樹脂をブレン
ドすることによりシリ；ン御脂のすぐれた耐湿性をそζ
謙りことなく、耐溶剤性をそなえ、を良光導電材料の分
散性にすぐれ九結着剤を得る４０でああ。
よりて、光導電層に隣接する絶縁層樹脂Ｏ選択を容易表
らしめ、同時に耐久性に優れた感光体を提供することを
主たる目的とするものであシ、本発ＷＩＪＯ費旨とする
とζろ社支持体、光導電層、および絶縁層を基本構成と
して有する電子写真感光体にシいて、光導電層が光導電
材料と、熱可１１１１ｒ！ｋｙタリル樹脂とｆ−ツタイ
ソシアネートで架橋硬化されたニーキシ変性シリ；ン樹
脂とＣ）ｆし／Ｐてあゐ結着剤とから成ることを特徴と
する電子写真感光体である。ニーキシ変性シリコン樹脂
をｆｗｖタイツシアネートで架橋硬化させた結着剤単独
を用いた場合、光導電層の耐溶剤性及び耐久性、４Ｉｋ
高温化での安定性にすぐれるが、光導電材料０分散性が
悪く、均一な光導電層を構成することがｍ−である。こ
のため分子量が大食（、且つニーキシ変性シリ′：１）
樹脂と０相答性に優れ九熱可履性アクリル樹脂をブレン
ドすることによりシリ；ン御脂のすぐれた耐湿性をそζ
謙りことなく、耐溶剤性をそなえ、を良光導電材料の分
散性にすぐれ九結着剤を得る４０でああ。
本発−に用いられる工ＩＩＩｄＦシ変性シリ；ン樹層嬬
、 ＲｍＨ、ＣＭｓ 、Ｃ２Ｈ５、Ｃ４Ｈ。
、 ＲｍＨ、ＣＭｓ 、Ｃ２Ｈ５、Ｃ４Ｈ。
で表わされるもので市販品として代表的なもの社テ１１
１９４ （商品名 東芝シリ；ン製）Ｆｌｌ １００
１ Ｎ （ｇＩｉｂ名 信越化学製）一方、ブーツタ
イソシアネー訃としては、イソＶアネー）ｌし４すｉ−
を芳誉族第２ア建ン、第３級アルコール、アミド、ラク
タム、フェノールオキシム等でマスキングしたものを使
用する。代表的倉イソシアネーＦプレＩリマ−の構造式
を次に示す。
１９４ （商品名 東芝シリ；ン製）Ｆｌｌ １００
１ Ｎ （ｇＩｉｂ名 信越化学製）一方、ブーツタ
イソシアネー訃としては、イソＶアネー）ｌし４すｉ−
を芳誉族第２ア建ン、第３級アルコール、アミド、ラク
タム、フェノールオキシム等でマスキングしたものを使
用する。代表的倉イソシアネーＦプレＩリマ−の構造式
を次に示す。
ｌ）
イソシアネートプレ／ ９−ｖ−をマスキングした４の
は加熱によｌ Ｎｅｏ基が再生し、再生体は活性水素化
合物と反応する。すなわち、ブロックイソシアネートは
加熱によ、ｉ ＮＣＯ基が再生し、再生し九ＮＣＯ基が
シリコン樹脂末端の水酸基と反応し、耐溶剤性、耐久性
に優れ丸塗膜を形成する。また加熱硬化の際、触媒とし
てアンン化金物、カルがン駿ア建ン塩を添加することに
よシ硬化温度を下げることがて龜る。シリコン樹脂に対
するブロックイソシアネートの添加比率は１０〜２００
％の範囲即ち、１０：１〜１：２の範囲、プロッタイソ
シアネートに対する触媒の添加比率は１〜５９１！＋１
！度と設定される。
は加熱によｌ Ｎｅｏ基が再生し、再生体は活性水素化
合物と反応する。すなわち、ブロックイソシアネートは
加熱によ、ｉ ＮＣＯ基が再生し、再生し九ＮＣＯ基が
シリコン樹脂末端の水酸基と反応し、耐溶剤性、耐久性
に優れ丸塗膜を形成する。また加熱硬化の際、触媒とし
てアンン化金物、カルがン駿ア建ン塩を添加することに
よシ硬化温度を下げることがて龜る。シリコン樹脂に対
するブロックイソシアネートの添加比率は１０〜２００
％の範囲即ち、１０：１〜１：２の範囲、プロッタイソ
シアネートに対する触媒の添加比率は１〜５９１！＋１
！度と設定される。
また本発別に用いられる熱可塑性アクリル樹脂として社
、メタクリルｍｌ！Ｉ−ブチルエステル、メタタリル酸
エチルエステル、スチレンから成ゐ組成の一〇勢でその
酸価状４〜７、数平均分子量祉１１Ｇ００〜５００００
．好ましくは３００００〜４００００の範囲のものが用
いられる。
、メタクリルｍｌ！Ｉ−ブチルエステル、メタタリル酸
エチルエステル、スチレンから成ゐ組成の一〇勢でその
酸価状４〜７、数平均分子量祉１１Ｇ００〜５００００
．好ましくは３００００〜４００００の範囲のものが用
いられる。
工４今シ変性シリコンとアクリル樹脂との混合比杜４対
１〜１対４、特に紘２対１−１対２が好適である。
１〜１対４、特に紘２対１−１対２が好適である。
光導電材料としては、Ｚ！１０ ｅ Ｃｄ！ｌ ＃〒量
０．。
０．。
Ｃｄ８・、 Ｂｍ 、 ８・Ｔ・、Ｓ・ム壽などの無機
材料、フタロシアニン、４リピエルカルパゾール、アン
）９竜ン、４リビニル♂レン、−リビニルアン）ラセン
などがある。これらの光導電材料を、まずアクリル樹脂
中に分散させたＯち、シリコン樹脂／ｆロックイノシア
ネートを加えて加熱硬化し良ものを光導電層とする。
材料、フタロシアニン、４リピエルカルパゾール、アン
）９竜ン、４リビニル♂レン、−リビニルアン）ラセン
などがある。これらの光導電材料を、まずアクリル樹脂
中に分散させたＯち、シリコン樹脂／ｆロックイノシア
ネートを加えて加熱硬化し良ものを光導電層とする。
光導電層の厚さは、使用する光導電物質０８１１１１特
性に４よゐが、一般的には５〜１００μ、ｌＩＫ社１０
〜５０μ程度が好適である。
性に４よゐが、一般的には５〜１００μ、ｌＩＫ社１０
〜５０μ程度が好適である。
絶縁層の厚さは適宜設定されるものであるが、通常５〜
７０μ、特に娘１０〜５０ｓに設電され石拳 実施例ｌ Ｃｄ１粉末１００部（重量部、以下同じ）に対し、熱可
塑性アクリル樹脂（Ｉｉｌｉ品名Ｃ廊４２藤倉化ｌＩｔ
劇）１０郁の）ルエン溶諌を混合し九螢、４０μギヤツ
ｆのロールミル装置を３回通過させ結着剤とＣ−露粉末
をよく分散させる。次に、この塗料にニーキシ変性シリ
コン樹脂（商品名−丁８Ｒ１９４東芝シリコン＄１）１
０部とプレツクイソシアネート（商品名： ００２９７
１日本一りウレタン＃り５部とＯ混合物を加え、さらに
熱硬化の触媒としてトリエタノ−ルアオンをブーツクイ
ソシアネートに対して３−添加する。結着剤樹脂Ｏ総量
は２５部となる。上記塗料を８０声ギヤツプのロールミ
ル装置に３１１通す。
７０μ、特に娘１０〜５０ｓに設電され石拳 実施例ｌ Ｃｄ１粉末１００部（重量部、以下同じ）に対し、熱可
塑性アクリル樹脂（Ｉｉｌｉ品名Ｃ廊４２藤倉化ｌＩｔ
劇）１０郁の）ルエン溶諌を混合し九螢、４０μギヤツ
ｆのロールミル装置を３回通過させ結着剤とＣ−露粉末
をよく分散させる。次に、この塗料にニーキシ変性シリ
コン樹脂（商品名−丁８Ｒ１９４東芝シリコン＄１）１
０部とプレツクイソシアネート（商品名： ００２９７
１日本一りウレタン＃り５部とＯ混合物を加え、さらに
熱硬化の触媒としてトリエタノ−ルアオンをブーツクイ
ソシアネートに対して３−添加する。結着剤樹脂Ｏ総量
は２５部となる。上記塗料を８０声ギヤツプのロールミ
ル装置に３１１通す。
上記塗料を長さ６０５ＩＯＡｊドラム支持体上にディッ
ビンダ法で塗布し、１４０Ｃ３０分間乾燥処理を施して
、膜厚４０声の光導電層を形成する。
ビンダ法で塗布し、１４０Ｃ３０分間乾燥処理を施して
、膜厚４０声の光導電層を形成する。
得られ九光導電層をエチレン−アクリル酸共重合体（１
１＆４ ： ＩＡＡ 、 ＵＣＣ製”） ｔ−７３部％
＝７水！１箪で希釈し九箪に浸漬引上げ塗布を行い、膜
厚５Ｓ（）絶縁層をｙ＃成する。さらに光硬化型ウレタ
ン樹脂（商ａ１４：ゾンネ、ｅｕｉペイント製）をメチ
ルエチルケトン−エタノール混合溶剤で希釈し九ＩＮＫ
浸漬塗布、４ｋＷ水＃ｌ１）ｙプでＳ分間照射して硬化
させ１５声の絶縁層を形成する。この操作を２回縁〕返
し、全体で３５μの絶縁層を形成しえ。
１＆４ ： ＩＡＡ 、 ＵＣＣ製”） ｔ−７３部％
＝７水！１箪で希釈し九箪に浸漬引上げ塗布を行い、膜
厚５Ｓ（）絶縁層をｙ＃成する。さらに光硬化型ウレタ
ン樹脂（商ａ１４：ゾンネ、ｅｕｉペイント製）をメチ
ルエチルケトン−エタノール混合溶剤で希釈し九ＩＮＫ
浸漬塗布、４ｋＷ水＃ｌ１）ｙプでＳ分間照射して硬化
させ１５声の絶縁層を形成する。この操作を２回縁〕返
し、全体で３５μの絶縁層を形成しえ。
これを感光体ｌとする。
実施例２
結着剤樹脂中の混合比率を、アクリル樹脂／シリコン樹
脂／ ｆ ａツクイソシアネート−４／２／１としたこ
とを除いては実施例１と同様にして製造した感光体を感
光体■とする。
脂／ ｆ ａツクイソシアネート−４／２／１としたこ
とを除いては実施例１と同様にして製造した感光体を感
光体■とする。
比較例１
結着剤樹脂中の混合比率を、アクリル樹脂／シリ；ン樹
脂／プｐツクィソシアネー） −２／１０／６とし九と
とを除いては実施例１とＦｉｊＩＫｍｌ造された感光体
を感光体層とする。
脂／プｐツクィソシアネー） −２／１０／６とし九と
とを除いては実施例１とＦｉｊＩＫｍｌ造された感光体
を感光体層とする。
比較例２
結着剤樹脂中の混合比率とアクリル樹脂／シリコンｌ／
１１１１／ｆＨツクイソシアネート票１５／２／１とし
たことを除いては実施例１と同様Ｋｌｌ造された感光体
を感光体ｙとする。
１１１１／ｆＨツクイソシアネート票１５／２／１とし
たことを除いては実施例１と同様Ｋｌｌ造された感光体
を感光体ｙとする。
この様にして得られ大感光体■〜Ｗにおいて、−次ｅ帯
電、二次ムＣ除電同時露光、全Ｗ照射、Ｏトナーによる
乾式現像、転写、ツレードクリ一二ンダからなるｆａミ
セス各種評価を行っ九。
電、二次ムＣ除電同時露光、全Ｗ照射、Ｏトナーによる
乾式現像、転写、ツレードクリ一二ンダからなるｆａミ
セス各種評価を行っ九。
表 １
リン〆−の上凱下部をさす。
１１１に示されるように、アクリル樹脂／シリコン樹脂
２／１及び１／１とした感光体Ｉ、ＩＫついては東好な
：ｓｔ−ｍｉｌ＆が得られ九が、混合比が１１５及び１
５／２とした感光体Ｎ、Ｗについてはｉｉｉ＊の点で問
題が見られた。
２／１及び１／１とした感光体Ｉ、ＩＫついては東好な
：ｓｔ−ｍｉｌ＆が得られ九が、混合比が１１５及び１
５／２とした感光体Ｎ、Ｗについてはｉｉｉ＊の点で問
題が見られた。
感光体璽紘シリコン樹脂の比率が高いため、Ｃｄ！！粉
末の分散性が悪く、光導電層の塗工時にムラが生じてい
るものと考えられる。一方、感光体Ｖは、アクリル樹脂
の比率が高いため、耐溶剤性に欠は第２絶縁層塗布の際
、溶剤のＭＥＫが、第１絶縁層を通して光導電層に浸透
し、画像上に問題を生じていゐ。
末の分散性が悪く、光導電層の塗工時にムラが生じてい
るものと考えられる。一方、感光体Ｖは、アクリル樹脂
の比率が高いため、耐溶剤性に欠は第２絶縁層塗布の際
、溶剤のＭＥＫが、第１絶縁層を通して光導電層に浸透
し、画像上に問題を生じていゐ。
次に１画像暗部の感光体表面電位が、高湿下での耐久テ
ストによりてどれだけ低下す４−かを駒べた。
ストによりてどれだけ低下す４−かを駒べた。
１１２に示すように、感光体１．１について社、棗好な
電位保持率を示し、画像濃度も低下しなかつた。これは
Ｃ４Ｉ８粒子がまずアクリル樹脂で被覆された後、耐温
性の良好な硬化５／９コン樹脂で結着されているため、
１ｌＩＩＩＫ対して安定な４Ｉ性を示すと考えられる。
電位保持率を示し、画像濃度も低下しなかつた。これは
Ｃ４Ｉ８粒子がまずアクリル樹脂で被覆された後、耐温
性の良好な硬化５／９コン樹脂で結着されているため、
１ｌＩＩＩＫ対して安定な４Ｉ性を示すと考えられる。
それに対して感光体■は結着剤のＣｄ８粒子に対する分
散性が悪いため、Ｃｄ８が十分に被覆されていないこと
、また感光体■は前述の如く溶剤のしみ込み、及びアク
リル樹脂自体の耐湿性がシリコン樹脂より劣るために、
それぞれ感光体１．１よシ低い保持率を示したものであ
る。
散性が悪いため、Ｃｄ８が十分に被覆されていないこと
、また感光体■は前述の如く溶剤のしみ込み、及びアク
リル樹脂自体の耐湿性がシリコン樹脂より劣るために、
それぞれ感光体１．１よシ低い保持率を示したものであ
る。
このように熱可ｍ性アクリル樹脂の被覆と、ブロックイ
ノシアネート硬化され大工４キシ変性シリコン樹脂によ
って結着され九光導電層紘良好な画像と耐久性を有する
ものて′＃）石。
ノシアネート硬化され大工４キシ変性シリコン樹脂によ
って結着され九光導電層紘良好な画像と耐久性を有する
ものて′＃）石。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 支持体、光導電層、および絶縁層を基本構成とし
て有する電子写真感光体において、光導電層が光導電材
料と、熱可塑性アクリル樹脂とプロッタインシアネート
で架橋、硬化され九工Ｉキシ変性シリコン樹脂とのプレ
／ドである結着剤とから成る仁とを特徴とする電子写真
感光体。 ２、結着剤の熱可塑性アクリル樹脂とニーキシ変性シリ
コン樹脂との混合比が１：４〜４：１であること、を九
、工ｌキシ変性シリコンとプａｙクイソシアネートＯＳ
、合比が１０＝１〜１：２であることをＩＩＩｊＩｍと
する特許請求の範囲第１項記載の電子写真感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13048881A JPS5831338A (ja) | 1981-08-20 | 1981-08-20 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13048881A JPS5831338A (ja) | 1981-08-20 | 1981-08-20 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5831338A true JPS5831338A (ja) | 1983-02-24 |
Family
ID=15035451
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13048881A Pending JPS5831338A (ja) | 1981-08-20 | 1981-08-20 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5831338A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6247645A (ja) * | 1985-08-27 | 1987-03-02 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光体及びその製造方法 |
| US5204203A (en) * | 1990-11-28 | 1993-04-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Electrophotographic element with blocked isocyanate binder |
| EP0893740A2 (en) * | 1997-07-22 | 1999-01-27 | Konica Corporation | Electrophotographic photoreceptor and a production method of the same |
-
1981
- 1981-08-20 JP JP13048881A patent/JPS5831338A/ja active Pending
Cited By (5)
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|---|---|---|---|---|
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