JPS582419B2 - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
磁気デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS582419B2 JPS582419B2 JP4981678A JP4981678A JPS582419B2 JP S582419 B2 JPS582419 B2 JP S582419B2 JP 4981678 A JP4981678 A JP 4981678A JP 4981678 A JP4981678 A JP 4981678A JP S582419 B2 JPS582419 B2 JP S582419B2
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- Japan
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- magnetic
- pigment
- filter
- magnetic disk
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ディスクを構成するための磁性塗料の製造
方法に関するもので、顔料（磁性粉Ａｔ２０３，ＳｔＯ
２，Ｚｒ０２等の固型物）をバインダー中に分散せしめ
る以前に顔料粒径よりこまかいメッシュのフィルタにて
ろ過を行ない、しかる後に所定のろ過を行なうことによ
り、磁気ディスク面上に発生する欠陥をなくし、いわゆ
るエラーフリーディスクを作製するための製造方法を提
供するものである。
方法に関するもので、顔料（磁性粉Ａｔ２０３，ＳｔＯ
２，Ｚｒ０２等の固型物）をバインダー中に分散せしめ
る以前に顔料粒径よりこまかいメッシュのフィルタにて
ろ過を行ない、しかる後に所定のろ過を行なうことによ
り、磁気ディスク面上に発生する欠陥をなくし、いわゆ
るエラーフリーディスクを作製するための製造方法を提
供するものである。
近来、電子計算機の高記録密度化に伴ない、その外部記
憶装置である磁気ディスク装置においても、磁気ディス
クー磁気ヘッド間の狭スペーシング化、狭トラック化、
高ビット密度化等の種々改良がなされ、さらに従来のロ
ード／アンロード方式にかわり、磁気ヘッドのいわゆる
コンタクト・スタート・ストップ（以後、ＣＳＳと記す
。
憶装置である磁気ディスク装置においても、磁気ディス
クー磁気ヘッド間の狭スペーシング化、狭トラック化、
高ビット密度化等の種々改良がなされ、さらに従来のロ
ード／アンロード方式にかわり、磁気ヘッドのいわゆる
コンタクト・スタート・ストップ（以後、ＣＳＳと記す
。
）方式が主流をしめるに至ってきた。
これに伴ない、磁気ディスクに対しては、電磁気的な特
性の面から、その磁性層の無欠陥化が強く要求されるよ
うになったのはいうまでもなく、さらに、機械的強度特
性（フローテイング特性、ＣＳＳ特性等）の面からも磁
性層の無欠陥化が強くさけばれるようになった。
性の面から、その磁性層の無欠陥化が強く要求されるよ
うになったのはいうまでもなく、さらに、機械的強度特
性（フローテイング特性、ＣＳＳ特性等）の面からも磁
性層の無欠陥化が強くさけばれるようになった。
例えばＣＳＳ方式による磁気ヘッドの浮上スペーシング
は０．５μｍ以下が常識となっており、従って、この程
度の突起がディスク面上に存在すれば、そこに磁気ヘッ
ドが衝突し浮上特性を損ない、ついには磁気ヘッドがつ
い落し、いわゆる摺動事故の原因ともなり得る。
は０．５μｍ以下が常識となっており、従って、この程
度の突起がディスク面上に存在すれば、そこに磁気ヘッ
ドが衝突し浮上特性を損ない、ついには磁気ヘッドがつ
い落し、いわゆる摺動事故の原因ともなり得る。
また、磁気ヘッドが衝突しない程度の突起であっても、
浮上スペーシングがこのように小さくなった場合、その
浮上特性が異常となり、出力波形を乱し、ひいてはエラ
ーの原因となる。
浮上スペーシングがこのように小さくなった場合、その
浮上特性が異常となり、出力波形を乱し、ひいてはエラ
ーの原因となる。
従来、これらの突起に対して、磁気ディスクの加工法、
例えばバーニシング方式等により対策してきたが、ＣＳ
Ｓ方式が採用されるようになってからは、この加工法だ
けによる対策では、磁気ディスクの無欠陥化は達成でき
ないことが明らかとなってきた。
例えばバーニシング方式等により対策してきたが、ＣＳ
Ｓ方式が採用されるようになってからは、この加工法だ
けによる対策では、磁気ディスクの無欠陥化は達成でき
ないことが明らかとなってきた。
このように、磁気ディスク表面の形状、特に突起の零化
は磁気ディスクの構成要素である、アルミ基板および磁
性塗料の無欠陥化を達成させなければ、実現できないと
いえる。
は磁気ディスクの構成要素である、アルミ基板および磁
性塗料の無欠陥化を達成させなければ、実現できないと
いえる。
本発明は、この磁性塗料の製造方法に関するものである
。
。
従来、磁性塗料の製造は第１図に示す如き工程で製造さ
れてきた。
れてきた。
即ち、磁性塗料は、磁性粉、アルミナ、石英等の顔料を
エポキシ樹脂等のバインダ、分散剤等の添加物さらに有
機溶剤とともに、サンドミル、ニータ、ホールミル、ロ
ールミル等の混合分散機にて分散させ作製する。
エポキシ樹脂等のバインダ、分散剤等の添加物さらに有
機溶剤とともに、サンドミル、ニータ、ホールミル、ロ
ールミル等の混合分散機にて分散させ作製する。
顔料が充分に分散した磁性塗料は、次に１〜１０μｍ程
度のフィルタを使用しろ過を行ない、アルミ基板上に、
スピンコーティング等の塗布技術を用い、０．５〜３．
０μｍ程度の厚みに塗布される。
度のフィルタを使用しろ過を行ない、アルミ基板上に、
スピンコーティング等の塗布技術を用い、０．５〜３．
０μｍ程度の厚みに塗布される。
この際、塗布した磁性膜上に突起等の欠陥が発生するこ
とがあるが、これらを目視により選り分けることは高度
の技術を要し、従来、熟練作業者に、その判定をゆだね
てきた。
とがあるが、これらを目視により選り分けることは高度
の技術を要し、従来、熟練作業者に、その判定をゆだね
てきた。
しかし、高度な熟練者でも１０μｍ以下の欠陥は見分け
ることができず、そのために、磁性塗料製造工程中に最
終的に１〜１０μｍ程度のフィルタによる沢過を行なう
ようにしてきた。
ることができず、そのために、磁性塗料製造工程中に最
終的に１〜１０μｍ程度のフィルタによる沢過を行なう
ようにしてきた。
この最終沢過は、フィルタのメッシュが細かい程欠陥に
対して効果があるわけであるが、メッシュが細かすぎる
と、磁性粉あるいは補強等を目的として投入した顔料ま
で沢過してしまい、当初の性能をあげることができない
。
対して効果があるわけであるが、メッシュが細かすぎる
と、磁性粉あるいは補強等を目的として投入した顔料ま
で沢過してしまい、当初の性能をあげることができない
。
顔料の粒径は大体０．０５〜５．０μｍ程度のものが一
般に使用されているが、これらに使用し得るフィルタの
最小メッシュは、作業性等も加味した場合、せいぜいｌ
μｍ程度までである。
般に使用されているが、これらに使用し得るフィルタの
最小メッシュは、作業性等も加味した場合、せいぜいｌ
μｍ程度までである。
ところで、欠陥の発生原因となる磁性塗料中の異物は、
顔料の非分散物であったり、プロセス中の混入異物ある
いは凝集物であったり種々様々であるが、特に磁性塗料
中に未溶解の樹脂が存在する場合は大きな問題となり、
それ自身が異物であると同時に、磁性塗料保管中に、経
時的に顔料とからみ合い、より大きな凝集体に成長し、
大きな異物となる。
顔料の非分散物であったり、プロセス中の混入異物ある
いは凝集物であったり種々様々であるが、特に磁性塗料
中に未溶解の樹脂が存在する場合は大きな問題となり、
それ自身が異物であると同時に、磁性塗料保管中に、経
時的に顔料とからみ合い、より大きな凝集体に成長し、
大きな異物となる。
第２図に示すように、これらの未溶解樹脂３は、磁性塗
料中では、いわゆる膨潤状態になっており、第２図に示
すようにフィルタ１を通過する際に変形し、一例では顔
料２に比較し、２〜５倍程度のものまで通過してしまう
。
料中では、いわゆる膨潤状態になっており、第２図に示
すようにフィルタ１を通過する際に変形し、一例では顔
料２に比較し、２〜５倍程度のものまで通過してしまう
。
例えば第３図に示すように５μｍのペーパフィルタを用
いた場合、未溶解樹脂は最大２０μｍ程度のものまでフ
ィルタを通過している。
いた場合、未溶解樹脂は最大２０μｍ程度のものまでフ
ィルタを通過している。
本発明の目的は、磁性面に突起の少ない磁気ディスクの
製造方法を提供することである。
製造方法を提供することである。
本発明の特徴とするところは、磁性粉からなる顔料を除
くバインダ、溶剤、溶液等を予め顔料の粒径以下のメッ
シュを有するフィルタにて沢過し、該溶液中に顔料を分
散した後顔料の粒径と同等あるいはそれより大きなメッ
シュを有するフィルタにて沢過し、該磁性塗料をアルミ
基板上に塗布してなるところにある。
くバインダ、溶剤、溶液等を予め顔料の粒径以下のメッ
シュを有するフィルタにて沢過し、該溶液中に顔料を分
散した後顔料の粒径と同等あるいはそれより大きなメッ
シュを有するフィルタにて沢過し、該磁性塗料をアルミ
基板上に塗布してなるところにある。
以下本発明の一実施例を詳細に説明する。
本実施例における組成物は次の通りである。
上記組成物のうちバインダとなるエポキシ樹脂２０重量
％溶液■、フェノール樹脂８０重量％溶液■、ポリビニ
ール・ブチラール５重量％溶液■および溶剤としての酢
酸セロソルブ■、イソホロン■、ジオキサン■をそれぞ
れ下記沢過条件で沢過（１）を行なう。
％溶液■、フェノール樹脂８０重量％溶液■、ポリビニ
ール・ブチラール５重量％溶液■および溶剤としての酢
酸セロソルブ■、イソホロン■、ジオキサン■をそれぞ
れ下記沢過条件で沢過（１）を行なう。
ろ紙 １μｍのメッシュを有するフィルタ加圧 ０．５
〜１．５Ｋｇ／ｃｍ２ 次に磁性分散体を次の方法で作る。
〜１．５Ｋｇ／ｃｍ２ 次に磁性分散体を次の方法で作る。
顔料となる磁性酸化物４５重量部■、アルミナ粉末３重
量部■と、バインダとなるエポキシ樹脂溶液１００重量
部■と、溶剤となる酢酸セロソルブ■、イソホロン■、
ジオキサン■７０重量部を２４時間ボールミルで混練分
散し、さらにパインダとなるフェノール樹脂溶液２０重
量部■、ポリビニール・ブチラール溶１１００重量部■
を加え１時間混練した後、これらの磁性塗料を２μｍの
メッシュを有するフィルタを使って沢過（■）する。
量部■と、バインダとなるエポキシ樹脂溶液１００重量
部■と、溶剤となる酢酸セロソルブ■、イソホロン■、
ジオキサン■７０重量部を２４時間ボールミルで混練分
散し、さらにパインダとなるフェノール樹脂溶液２０重
量部■、ポリビニール・ブチラール溶１１００重量部■
を加え１時間混練した後、これらの磁性塗料を２μｍの
メッシュを有するフィルタを使って沢過（■）する。
このようにしてできた磁性塗料をアルミ基板上に塗布し
て磁性層を形成し、さらに硬化、加工、特性チェック等
の工程を径で磁気ディスクが完成する。
て磁性層を形成し、さらに硬化、加工、特性チェック等
の工程を径で磁気ディスクが完成する。
このようにして作られた記録媒体の電気特性は、同組成
による従来の磁性塗料によるものに比較し、エラー特性
で次のようになった。
による従来の磁性塗料によるものに比較し、エラー特性
で次のようになった。
本発明によれば、磁性塗料中には、顔料より大きな異物
は皆無となり、従って、従来、電磁気的、機械的強度特
性の面から問題となっていた塗膜中に存在する異物によ
る突起等の欠陥がなくなり、高密度記録用のエラーフリ
ー磁気ディスク製造が可能となる。
は皆無となり、従って、従来、電磁気的、機械的強度特
性の面から問題となっていた塗膜中に存在する異物によ
る突起等の欠陥がなくなり、高密度記録用のエラーフリ
ー磁気ディスク製造が可能となる。
第１図は従来の磁気ディスク製造工程を示すフローチャ
ート、第２図は沢過の状態を示す沢紙の断面図、第３図
は沢過特性を示す粒度分布図、第４図は本発明による磁
気ディスク製造工程を示すフローチャートである。 １・・・・・・フィルタ、２・・・・・・顔料、３・・
・・・・未溶解樹脂。
ート、第２図は沢過の状態を示す沢紙の断面図、第３図
は沢過特性を示す粒度分布図、第４図は本発明による磁
気ディスク製造工程を示すフローチャートである。 １・・・・・・フィルタ、２・・・・・・顔料、３・・
・・・・未溶解樹脂。
Claims (1)
- １ 磁性粉からなる顔料を除くバインダ、溶剤、溶液等
を予め顔料の粒径以下のメッシュを有するフィルタにて
ろ過し、該溶液中に顔料を分散した後顔料の粒径と同等
あるいはそれより大きいメッシュを有するフィルタにて
ろ過し、該磁性塗料をアルミ基板上に塗布してなること
を特徴とする磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4981678A JPS582419B2 (ja) | 1978-04-28 | 1978-04-28 | 磁気デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4981678A JPS582419B2 (ja) | 1978-04-28 | 1978-04-28 | 磁気デイスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54143118A JPS54143118A (en) | 1979-11-08 |
| JPS582419B2 true JPS582419B2 (ja) | 1983-01-17 |
Family
ID=12841634
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4981678A Expired JPS582419B2 (ja) | 1978-04-28 | 1978-04-28 | 磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS582419B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100283522B1 (ko) * | 1993-12-01 | 2001-03-02 | 사토 히로시 | 자기기록매체의 제조방법 |
-
1978
- 1978-04-28 JP JP4981678A patent/JPS582419B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54143118A (en) | 1979-11-08 |
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