JPS5823948B2 - 半導体チツプ - Google Patents

半導体チツプ

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JPS5823948B2
JPS5823948B2 JP51060683A JP6068376A JPS5823948B2 JP S5823948 B2 JPS5823948 B2 JP S5823948B2 JP 51060683 A JP51060683 A JP 51060683A JP 6068376 A JP6068376 A JP 6068376A JP S5823948 B2 JPS5823948 B2 JP S5823948B2
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cells
latch
cell
logic
shift register
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エドワード・ビー・エイチエルバーガー
ゴードン・ジエイ・ロビンズ
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International Business Machines Corp
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D84/00Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
    • H10D84/90Masterslice integrated circuits
    • H10D84/901Masterslice integrated circuits comprising bipolar technology
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K19/00Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
    • H03K19/02Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components
    • H03K19/173Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using elementary logic circuits as components
    • H03K19/1731Optimisation thereof
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S257/00Active solid-state devices, e.g. transistors, solid-state diodes
    • Y10S257/923Active solid-state devices, e.g. transistors, solid-state diodes with means to optimize electrical conductor current carrying capacity, e.g. particular conductor aspect ratio

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はモノリシックな大規模集積回路に関し、更に詳
細にはレベル感知論理回路を含むチップに関する。
米国特許第3783254号に於いて、論理装置の直流
及び交流試験ができる組合せ回路と順序回路の新規な論
理構成が示されている。
上記特許はこのような装置に於ける特別の試験ポイント
の必要性を除去する。
特定の論理チップ内に設けられた論理回路のダイナミッ
ク測定が装置の状態を乱さずになされることができる。
上記米国特許の場合、機能論理ユニットは、多くのシス
テムクロック列からの信号の発生のみに応じるようにさ
れる。
これは、通常のシステム論理内の総ての内部記憶回路に
対して、クロックされた直流ラッチを使用することによ
り達成される。
このラッチ回路は関連する組合せ論理回路網と共に機能
的に分割され、組状で配置される。
複数個のクロック列は同期しているが、重複しておらず
、夫々独立している。
ラッチ回路の組は他のシステム・クロック列若しくはそ
れらの組合せにより制御されているところの他のラッチ
回路の組へ組合せ論理を介して接続される。
上記米国特許の実施例の場合、各ラッチ回路はシステム
・クロック及びシステム入出力から独立した入出力及び
シフト制御手段を有するシフト・レジスフ・ラッチとし
て作動し得る様に付加的な回路を備えている。
この付加された回路を使用すれば、総てのシステム・ク
ロックが減勢されるので総てのランチ回路が互いに分離
され、またスキギン−イン/スキャン−アウト機能の実
行を可能にする。
その結果、総ての順序回路は多段組合せ回路網のレベル
まで区分けされた組合せ回路に変換される。
これにより論理ユニット内の各回路の機能的試験が自動
的に行なえる。
次いで、この様なシフト・レジスタ・ランチは2進1及
び2進Oから成る任意の所望のテスト・パターンをシフ
ト・インさせるのに使用される。
シフト・レジスタ・ランチ内にシフト・インされた2進
1及び2進0は組合せ論理回路網への入力として使用す
る為にそこに保持される。
組合せ論理の結果はクロックされてラッチ内に送られそ
して論理ユニットの機能的応答を調べる為の測定及び比
較のためにシフト・アウトされる。
論理回路を半導体チップ上に設計する場合、電力消費、
回路形式、物理的なレイアウト及び性能等のクリチカル
な要素はコストを低くする為にある程度妥協されなけれ
ばならない。
最近、回路の性能を高める為の物理的な配線若しくは構
成が考えられている。
TTL、DTLの如く一旦特定の回路ファミリが選択さ
れると、電力消費は略一定である。
セル内部及びセル相互間の遅延を含む設計上の性能も回
路ファミリ及び物理的レイアウトが決まれば一定である
従って、物理的なレイアウトが、半導体構造若しくは回
路の設計者が支配しうる要素となる。
レベル感知論理回路を組込むことができるチップ構成若
しくはレイアウトは既に提案されている。
そのレイアウトでは、セルが直交アレイ状配列されそし
て該セルは直交する両方向に略平行な行をしている。
即ち、セルはY方向に2個のセル分の巾を有しX方向に
4個のセル分の巾を有するブロック状に配列されている
夫々のセルは略同じ位のチップ面積を必要とし、総ての
他のセルとほとんど同じレイアウトを有する。
チップのレイアウトはデータの流れが水平方向及び垂直
方向に略等しい割合で進むように規則正しく構成された
論理ゲートのマトリックスを特徴としている。
上記のレイアウトは従来のレイアウトと比べてセル内部
及びセル相互間の必要な金属化レベルの数の減少及びセ
ルの大きさの減少をもたらした。
更にチップに特定の論理を構成する事即ちコンピュータ
での設計自動化による具体的なチップ回路構成を限定す
る為の金属化配線も、それ以前の先行技術に比較してか
なり容易にできた。
しかしながら、かなりのチップ面積は、チップの表面上
の金属化に必要な領域で占められ、能動装置の為に使用
される面積はわずかであった。
従って、本発明の目的は半導体チップ内の、論理セルの
回路密度を増加するにある。
更に詳細には、本発明の目的は前記米国特許第3783
254号に記載されたレベル感知論理装置を構成する回
路のチップ配線密度を増加するにある。
本発明によるレイアウトは、例えばTTLの如き同一の
基本回路ではあるがチップ領域の面積がちがう2個のセ
ルにより特徴付けられる。
組合せ回路網を形成するセルと順序回路網を形成するセ
ルとが別の列に配列される様にチップ領域の面積が等し
いセル同志が夫々組をつくって配列される。
セルに対する入力接続は、アレイの方向と平行に走って
いる(即ち、チップ全体から見ると垂直方向;こ走って
いる。
)導電性チャネルにより形成される。
クロックされた直流ラッチ好ましくは、シフト・レジス
タ・ラッチである順序回路網が垂直方向チャネルの全面
積の極く小部分しか必要としない様に、レベル感知論理
回路が設計される。
これはクロック及び他の相互接続の規則的な構成による
ものである。
従って、組合せ回路の場合に比べ、垂直方向のチャネル
本数の少ない狭い列が順序回路として十分である。
本発明のレイアウトは、データの流れが水平方向及び垂
直方向に略等しい割合で流れるように規則正しく構成さ
れた論理ゲートのマトリックスを使用している前記従来
のレイアウトとはかなり異なっている。
本発明の場合、ゲート(セル)の面積は異なっていて、
垂直方向のチャネルが信号の大部分を運ぶ。
前記米国特許第3783254号の場合、のレベル感知
論理装置を参照するに、組合せ回路網の為のセルは、シ
フト・レジスタ・ラッチのセルに比べて巾広く形成され
そして巾広い列で配列されている。
シフト・レジスタ・ラッチのセルはその巾を狭く形成さ
れ巾狭い列で配列されている。
これらのセルは他のマクロ形式で動作しているときに自
動的な配置及び配線プログラムにより容易に相互接続で
きる。
本発明の実施例の場合、シフト・レジスタ・うツチのデ
ータ入力セルはシフト・レジスタ・ラッチに隣接する巾
広い列に設けられるのが好ましい。
データ入力機能が他の入力セルにまで延長可能な事及び
該データ入力機能自体が規則的でない事により、上記デ
ータ入力セルを巾広い列に設けるのが好ましい。
更に、データ入力セルを狭い列に設ける事は隣接する水
平方向のチャネルに重い負担を課し、垂直方向のデータ
流れパターンを乱す傾向がある。
本発明によればセル列の幅及びその上方のチャネル本数
が異なっているため、回路配置及び配線を極めて効率よ
く行なうことができる。
例えば実際の論理設計にあたっては、組合せ回路のよう
に入力数の多い論理回路は幅が広く且つチャネル本数の
多いセルの列に形成され、順序回路のように入力数の少
ない論理回路は幅が狭く且つチャネル本数の少ないセル
の列に形成される。
もしセル列の幅及びチャネル本数がすべて同じであれば
、入力数の異なる論理回路を形成する場合、多くのチャ
ネル及びその下側のチップ領域が無駄になることは明ら
かであり、またこのような無駄を避けようとすれば、複
雑な回路配置を考えなければならない。
第1図を参照するに、集積半導体回路が半導体チップ1
0上に形成されそしてセル14及び16の列のアレイ1
2を含むのが示されている。
チップの外囲13は受信装置及び駆動装置の如きI10
制御回路を設ける為に予定されている。
これらは本分野では通常の事であり、本発明のどの部分
をも構成しない。
セル14とセル16とは夫々側々な列を構成している。
セル14及び16の夫々は、例えばNAND機能の如き
基本的な論理関数を達成する論理回路網である。
以下、本明細書で詳細に説明される様に、本発明の良好
な実施例においては、セル16は組合せ論理を達成する
為に配列され一方セル14は順序スイッチングを達成す
る為に相互接続されている。
セル1.6の夫々により囲まれたチップの面積はそれに
必要な入力接続部の数にもとすき、セル14の夫々によ
り囲まれたチップ面積よりも広い。
入力接続部は、アレイ方向に配列されている第ルベルの
導電体(金属体)内で(図示せず)導電性チャネルによ
り形成される。
セルからの出力は第2レベルの導電体(金属体)内で(
図示せず)導電性チャネルにより形成される。
これはアレイ方向に対して横切る方向に配線される。
セル16の2列を1組と仮定するとその両わきにセル1
4が配列される様にセル全体が配列されている。
本発明の実施例の場合、セル16から成る列が6列と、
セル14から成る列が4列が配列されているが、他の特
定の列数も本発明の範囲内にあるのは当然である。
第2図はセル14及びセル16の両方を形成する基本的
な論理回路の良好な実施例である。
この回路は代表的なトランジスタートランジスタ論理(
TTL)回路である。
特定の論理を設計する際に必要とあらば、特別のトラン
ジスタ若しくはダイオードを使用して特別な関数を得る
数多くの種類のTTL回路が使用されてよい。
上記回路が本発明に使用される。
更に、ダイオード−トランジスタ論理(DTL)及びM
TL回路の如き他の回路ファミリも使用されてよい。
上記MTL回路は、IEEE Journal of
5olidState C1rcuits 5C−7巻
5号 1972年10月りMerged−Transi
stor LogicMTL−A Low Co5t
B1−Po1ar Logic Concept”に
記載されている。
第2図の回路は第3図のブロック図に示されるNAND
機能を達成する。
NAND機能は、総ての入力信号が正の場合の組合せを
除く他の総ての入力信号の組合せに対して、正若しくは
゛上昇″レベル出力信号を与える。
入力トランジスタT1はマルチ−エミッタ装置でありコ
レクタ出力24に於いて、トランジスタT2のエミッタ
に接続している。
レジスタR1,R2及びR3はトランジスタT1及びT
2を適当にバイアスする。
回路設計で必要とあらば、トランジスタT1及びT2は
ショットキ・バリア・ダイオードにより夫々のコレクタ
に対してクランプされて良い。
前記の如く、第2図及び第3図の回路は本分野に於いて
公知であり、従って本発明の部分を構成しない。
第4図及び第4A図は第1図のチップ10に形成された
1対のセル16の平面図及び断面図の夫夫である。
夫々のセルはトランジスタ及び抵抗を構成するために、
導電型の異なる複数個の領域を含む。
これらの領域は回路を形成するために第ルベルの導電体
層を介して互いに接続されている。
第4図の接続によれば夫々のセルは第2図に示されたT
TL回路に対応する。
第4図及び第4A図の参照番号は第2図に対応している
トランジスタT1は、サブコレクク領域24とベース領
域20と該ベース領域20内に形成された複数個のエミ
ッタ領域19を含む。
エミッタ領域19は、絶縁層41を通って第1導電体層
22と選択的に接続される。
第4図を参照するに、この様な導電体層の路(チャネル
)は42本あり、そしてそのうちの4本がトランジスタ
T1の4つのエミッタ領域19と接続されている。
残りのチャネルは図示されているセル中のエミッタ領域
とは接続されずに該エミッタ領域19を越えて配線され
ている。
これら残りのチャネルは他のセル(図示せず)のエミッ
タ領域と接続される。
回路設計の場合、同一のチャネルが1つ以上のセルのエ
ミッタ領域と接続されている。
また同一のチャネルは電気的に不連続部分を形成する事
により異なる複数個のエミッタ領域と接続される場合も
ある。
この場合、同一のチャネルの下に配置されている異なる
セル内のエミッタ領域は夫々の対応するセルに対して分
離した人力として働く。
ベース領域20は導電体層21及び抵抗R1を介して基
準電圧V。
0に接続される。トランジスタT2は第4図及び第4A
図のトランジスタT1の右側にあり、サブコレクタ領域
34ベース領域30及び1ケ所のエミッタ領域36を含
む。
エミッタ領域36は、導電体層3γにより基準電圧VB
Bに接続される。
トランジスタT2のベース30は第ルベルの導電体層2
5によりトランジスタT1のサブコレクク領域24に接
続されている。
レジスタR1,R2及びR3がN十導電性ドーパントの
拡散若しくはイオン注入によりエピタキシャル層4内に
通常の方法で形成される。
抵抗R1は、エミッタ入力チャネルと平行に配線されて
いるところの第2レベル導電体39により基準電圧V
に接続される。
基準電圧V。0は導電性チャC ネル39′ により抵抗R2及びR3にも接続される。
抵抗R2は第1のレベル導電体26によりトランジスタ
T2のベースに接続されそしてベース領域30及び第1
のレベル導電体25を通ってトランジスタT1のコレク
タ24にも接続される。
レジスタR3は第2レベル導電体38によりトランジス
タT2のコレクタ34に接続される。
セル16は絶縁分離若しくはPN接合分離の如き通常の
方法で互いに電気的に分離している。
NANDゲートであるセル16の出力は接続部分44に
よりコレクタ34から第2レベル導電体45に与えられ
る。
第2レベル導電体45は絶縁層40により第2レベル導
電体から絶縁されている。
第4A図に示されているように、コレクタ34からの出
力は第2レベル導電体45によりエミッタのチャネル2
2の1つに接続される。
このチャネルはチップ10に形成されている他のセル1
6のエミッタに接続されている。
代替的には、このセル16のコレクタ34からの出力は
、第5図に示されたセル14の入力チャネルの1個に第
2レベル導電体を接続することにより、接続されても良
い。
第5図は、第1図のチップ10に形成された1対のセル
14の平面図を示す。
セル14のレイアウトは、第4図及び第4A図に示され
たセル16のレイアウトと略等しい。
両セル間に見られる唯一のちがいはセルの長手方向に対
して直角に布設されているチャネルの本数である。
第5図に示されたセル14の場合、必要なチャネルの本
数は13本のみである。
チャネルは第5図中CH1。CH2、・・・・・・・・
・CHl 3と夫々記されている。
第4図に示された夫々の領域と第5図のそれとの関係は
第4図の夫々の参照番号に100を加えた番号が第5図
の夫々に相当するものとして参照される。
従って、例えは、第5図のエミッタ領域119は第4図
のエミッタ領域19にそして抵抗R101は抵抗R1に
相当している。
セル14の導電体路の本数はセル16の場合に必要な本
数よりもかなり少ないのは明らかである。
この導電体路の本数が少なくてすむ事により面積のかな
りの節約がなされ、与えられたチップ領域上に従来より
も更に多くのセルが形成できる。
例えは、本発明の実施例の場合、セル14の4列はセル
16の2列に相当し、単一のチップ上に更に350個の
NANDゲートを形成する事が可能である。
本発明を説明する上で、チャネルの本数及びセルの個数
が具体的に記されているが、本発明はこの数値に限定さ
れるものではない。
第4図及び第4A図に示されたセル16はそれ自体で本
発明にはならない。
更に、前記の如く、本発明はTTL回路に限定されるも
のではなく、DTL及びMTLの如く他の適当な回路フ
ァミリも使用されて良い。
第6図はチップ内の隣接する列に於いて1対のセル16
及び1対のセル14の輪郭を示す。
第4図、4A図及び5図に示された半導体のレイアウト
が複雑なので、第6図の簡略図は本発明の数多くの実施
例を説明するために使用される。
第6図に於いて夫々のセルの輪郭は略長方形であって入
力点は○で出力点は口で示されている。
第2レベル導電体によるセル間の相互接続をわかりやす
く示すためセルの出力点が入力点よりも高さをいく分ず
らして示されている。
第4図、4A図及び5図と、第6図との関連に於いて、
入力点○は入力トランジスタのエミッタであり、出力点
口は出力トランジスタのコレクタであり、入力点への垂
直線は第ルベル導電性チャネルで、出力点からの水平線
は第2レベルの導電性チャネルである。
残りの図、即ち第7図乃至第15図は前記米国特許第3
783254号に示された回路及び装置に関して、本発
明によりレイアウトされた種々のチップレイアウトを示
している。
本発明の実施例では半導体チップの狭い列(第1図では
セル14の方)に於けるシフト・レジスタ・ラッチのレ
イアウトが特に強調される。
(SRLの特定のセル、とりわけデータ入力セルは後述
の理由により組合せ回路網の一部として扱われる。
)シフト・レジスタ・ラッチのレイアウトと比較して幅
広い方の列(第1図ではセル16)の組合せ回路網は比
較的まっすぐにレイアウトされており、そしてそれは第
15図にのみ示されている。
レベル感知論理装置内の記憶要素は何らのバザード若し
くは競合状態を持たないレベル感知装置である。
この条件にみあった回路は、データ(励起信号)及びク
ロック入力を含むところのり田ツクされた直流ラッチと
して通常示されている。
クロック入力が総て所定の状態にある場合、データ入力
はラッチの状態を変化できない。
しかしながら、ラッチに対するクロック入力が他の状態
の場合、そのラッチに対するデータ入力は直流的にラッ
チの状態を制御する。
前記米国特許第3783254号に述べられている様に
、レベル感知装置に対して最も良く合っているクロック
された直流ラッチの型式はシフト・レジスタ・ラッチで
ある。
該シフト・レジスタ・ラッチはシステム・クロックを停
止させ、そして総てのラッチの状態を移行させ又は夫々
のラッチに新しい値を入力する様な通常の機能を有して
いる。
この機能はスキャン−イン/スキャン−アウトとして参
照され、機能的ユニットの試験を順序試験から更に容易
な組合せ試験に変える。
このことはクロックされた直流ラッチをシフト・レジス
タ・ラッチに変換する為の回路を付加する事により達成
される。
従って、図中に示されている総てのラッチはシフト・レ
ジスタ・ラッチであるが、クロックされた直流ラッチも
本発明の範囲である。
図中に示されたシフト・レジスタ・ラッチはレベル感知
的である。
即ち任意の許容される入力状態変化に対する定常状態の
応答が装置全体を通しての回路遅延に無関係である。
装置全体は、夫々互いに独立していて且つ重複していな
い2つ以上のクロック信号列により駆動されている。
1列のりランク信号の夫々の持続期間はラッチをセット
するのに十分でなければならない。
任意のクロックされたラッチのためぬ励起信号及びゲー
ト信号は装置入力信号と、上記クロックされたラッチに
入力を供給するクロックされた信号列以外の信号列によ
り制御されているラッチからの出力信号との組合せ論理
機能である。
これを達成する最良の手段は、その様なりロックされた
ラッチをシステム・クロック信号の1つによって正確に
制御することである。
クロック信号Cが、オン状態の場合、クロックされたラ
ンチはそのラッチの為の励起信号d1.d2・・・・・
・・・・diにより決定される状態にセットされる。
2つ以上の独立したクロック信号が装置全体の信号のク
ロック動作を制御する為に使用されることは一般的な構
造での必然的な要求である。
成るクロック信号列により制御される1個のラッチ若し
くはラッチの組は、同様なりロック信号列により制御さ
れている他のラッチに組合せ論理を通って結合される事
はできない。
第7図を参照するに、極性保持シフト・レジスタ・ラッ
チの回路が示される。
該極性保持シフト・レジスタ・ラッチは2個の分離した
ラッチ即ちデータ入力ラッチ60及び第2ラツチ61を
含む。
第2ラツチ61はシステム・クロック信号Cに独立なシ
フト制御信号A、Bを有するシフト・レジスタの1つの
状態としての動作をする。
データ入力ラッチ60はNANDセルN1.N2.N3
及びN4を含む。
セルN1は装置の定常状態の間に直接データを受けるシ
フト・レジスタ・ラッチの唯一のセルであるので、デー
タ入力セルと称する。
これにより組合せ機能が得られる。
第2ラツチ61はセルN5.N6及びN7を含む。
図示の如く、データ入力ラッチ60はシステム・クロッ
ク信号±C及び極性保持データ入力DI、D2及びD3
若しくは6スキヤンデ一タ″゛信号−I、及びシフト制
御信号±Aによりセットされる。
第2ラツチ61にはデータ人力ラッチ60及びシフト制
御信号十Bからの出力により入力が供給される。
信号±A、±B及び±C1は他のNANDゲート(図示
せず)からの個々の単一信号A電源、B電源、C電源か
ら夫々発生される。
シフト制御信号±A、±B及びスキャン信号−■は論理
装置全体に於ける総てのシフト・レジスタ・ラッチに対
する入力である。
システム・クロック信号±01は1[固のシフト・レジ
スタ・ラッチ若しくは関係のある1組のシフト・レジス
タ・ラッチの為に使用される。
分離した他のシステム・クロック信号Ciが他の組のシ
フト・レジスタ・ラッチの為に供給される。
データ入力が組合せ回路網の出力から受けられる。
「延長」線は分離した他のNANDセル(図示せず)を
示す。
該他の入力NANDセルはセルN1の入力DI 、D2
及びD3と同様にクロックされていないデータ入力を有
している。
しかしながら「延長」線に入力を供給する論理機能はシ
フト・レジスタ・ラッチを制御する同一のシステム・ク
ロック信号十01によりクランクされなければならない
システム・データ出力±L1がデータ入力ラッチ60の
出力から得られ、そしてシステム・データ出力±L2は
第2ラツチ61の出力から得られる。
出力±L1は、他の異なるシステム・クロック信号C2
により、制御される他のシフト・レジスタ・ラッチのデ
ータ入力セル及び組合せ回路網に供給される。
出力±L2は、シフト・レジスタ・ラッチ入力DI 、
D2 、D3を発生したのと同一の回路網か若しくはシ
フト・レジスタ・ラッチに接続される他の回路網である
ところの組合せ回路網に供給される。
スキャン−インの為、出力信号−■は、回路全体を構成
しているシフト・レジスタ・ラッチの組に於いて次に続
いているシフト・レジスタ・ラッチのスキャン信号−■
に送られる。
システム・クロック信号C1がオフ状態の場合、データ
入力ラッチ60に記憶されたデータに影響を及ぼすデー
タ入力がない様に、システム・クロック信号±01によ
りシステム・テ゛−り入力DI、D2゜D3及び「延長
」入力が制御される。
システム・クロック信号C1がオンでシフト制御信号A
がオフの場合にシステム・データ入力がラッチ60の状
態を決定する。
シフト制御信号Bがオンの場合、第2ラツチ61はデー
タ入力ラッチ60に記憶されたデータ・ビットを得る。
第1図に示されたラッチは米国特許第 3783254号の明細書第9図に示された極性保持ラ
ッチと同様な機能を達成する。
本実施例の第7図の極性保持シフト・レジスタ・ラッチ
は上記米国特許第7図のブロック33に於けるシフト・
レジスタ・ラッチとして使用される。
本発明によれば本明細書第7図に示された回路は第8図
に示されたレイアウトにより形成される。
第8図を参照するに、成る組合せ回路網の出力から与え
られたデータ若しくは励起信号である、入力DI 、D
2及びD3が左側の幅広いセルに於けるゲートの入力端
子に接続される。
かくて、入力DI、D2及びD3は第7図に於いてセル
N1に相当するTTL、NANDセルN1のエミッタに
送られる。
任意の「延長」入力即ちDI’、D2’及びD3’は該
入力が他のNANDセルN1’のエミッタと分離してい
る様に形成される。
シフト・レジスタ・ラッチ内の残りのセルは狭い方の列
に設けられ、そしてそれらの入力は図示された導電性の
垂直方向配列されたチャネルから得られる。
前述の如く、セルN1及びセルN1’により組合せ論理
機能が得られる。
シフト・レジスタ・ラッチのこれらのデータ入力セルを
、残りのセルで形成された狭い方の列と隣接する幅広い
列に設置するのが好ましい。
第1に夫々のデータ入力は垂直チャネルを必要とする。
とりわけ、データ入力セルのゲートを拡大する可能性か
ら考えると、狭い列にデータ入力セルを設ける事はチャ
ネルを総て使いつくしてしまう場合がある。
第2に、データ入力自体他の組合せ回路網から普通に導
出される。
もしデータ入力セルを狭い方の列に設けたら、入力DI
、D2.D3・・・・・・・・・を幅広い方の列から
狭い方の列に接続する為に非常にたくさんの水平方向の
チャネルが必要となる。
本発明に於いて可能な他の選択は幅広い列の1列中に設
けられている他のセルに於いて入力DI 。
D2.D3に対する組合せ機能を達成する事である。
入力DI 、D2 、D3に対する出力は水平方向のチ
ャネルにより狭い列に設けられたNANDセルの1つに
接続される。
該NANDセルはその入力が単一のデータ入力信号及び
り田ンク信号のみである以外NANDセルN1と等しい
この技法によって一連のシフト・レジスタ・ラッチが狭
い列に設けられる。
しかしながら、これは最小限1段の遅延を論理回路に与
える。
シフト・レジスタ・ラッチの出力L1 、L2が第8図
の右側に示されているが、これは図面上の事であり、実
際には第2レベルの導電体により、広い列に設けられた
セルの入力に送られる。
第8図の狭い列の垂直チャネルが極めて効果的に利用さ
れているのがわかる。
前述の如く、狭い列に於ける垂直チャネルの有効数は本
発明の実施例の場合13本である。
図から明らかな様に、1個のシフト・レジスタ・ラッチ
は13本のチャネルのうち9本を必要とする。
しかしながら、シフト制御信号A、B及びスキャン信号
■の入力は同じ狭い列中に設けられた他の総てのシフト
・レジスタ・ラッチに分割されるので、垂直チャネルの
本数が少なすぎるという問題は生じない。
第9図はセット−リセット・シフト・レジスタの回路図
であり、第7図及び8図に示された極性保持シフト・レ
ジスタ・ラッチ同様、上記セット−リセット・ラッチも
2個のラッチを含む。
即ち、セルNl 1 、Nl 2 、 N13 、N1
4及びN15から成るデータ入力ラッチ63と、セルN
16゜N17及びN18から成り、シフト・レジスタ機
能を達成する第2ラツチ64である。
セット−リセット・シフト・レジスタ・ラッチの回路機
能及び全体的なレイアウトは前記極性保持シフト・レジ
スタ・ラッチのそれとまったく同様である。
第10図に示される様にセット人力S1.S2及びS3
及びリセット入力−R1,−R2及び−R3を受けるセ
ルが幅広い方の列に形成され、そして他のセルは狭い方
の列に形成される。
狭い方の列のチャネル使用効率は高く使用可能な13本
のチャネルのうちの10本が使用されている。
規則的な狭い方の列に一連のシフト・レジスタ・ランチ
をまとめることによりシフト及びシステム・クロックの
為の分配装置が簡略化されるという利点が得られる。
第11図はレベル感知論理装置に都合良く使用されるシ
フト・レジスタ・ラッチ・クロック駆動装置の4種類の
レイアウトを示している。
第12図及び第13図は、第11図で示されたクロック
駆動装置の論理ブ泊ツク図である。
第11図のセクシ当ンI及び■のレイアウトが第12図
の論理ブロック図に相当しセクション■及び■が第13
図の論理ブロック図に相当する。
第11図のセクションIはゲ゛−トされないシフト・ク
ロックAに関してのレイアウトを示し、クロック駆動装
置が狭い方の列に完全に含まれている。
(これはシフト・クロックBについても云える。
)従って、チップ全体を通じてのクロック再分配は、自
動設計配置プログラムの場合と同じく容易になる。
セクション■に於いてゲートされたシフト・クロックの
為の入力セルN63が、シフト・レジスタ・ラッチのデ
ータ入力セルに関して既に述べたのと略同−の理由によ
り、幅広い方の列に形成される。
ゲートされたシフト・クロックの為のゲート条件の大部
分は幅広い方の列に含まれた組合せ論理により発生され
る。
入力G1.G2゜G3を狭い方の列に置く事は垂直方向
のチャネルをむだに使用することになる。
シフト・クロック電源線Aは、シフト・クロックの構成
が半導体チップ全体を通じて極めて規則正しくなされて
いるので、ゲートされたシフト・クロック及びゲートさ
れていないシフト・クロックの両者に対して狭い方の列
を走っている。
ゲートされたシステム・クロック及びゲートされていな
いシステム・クロックの為のクロック電源線Cがセクシ
ョン■及び■に示されている。
該クロック電源線Cは幅広い列からクロック駆動装置に
水平に配線されている。
Cクロック駆動装置がたとえゲ゛−トされなくともいく
つか前の電力再印加段でシステム・クロックに論理を遂
行させるのが普通である。
この様な機能はインターラプトを含み、システム・クロ
ック制御を走査する。
セクションI、■で十Aと記されているシフト・クロッ
ク駆動装置の出力は狭い列に形成されたシフト・レジス
タ・ラッチに分配される。
例えば、第7図のシフト・レジスタ・ラッチのセルN2
によってクロック信号−〇が使用されている様にシステ
ム・クロックの出力−〇は狭い列の中で分布される。
システム・クロックの出力子〇は、シフト°レジスタ・
ラッチのデータ入力セルの為に使用される場合、幅広い
列に送られる。
即ち例えば第7図のセルN1の如きデータ入力セルに送
られる。
第14図及び15図を参照するにシフ上・レジスタ・ラ
ッチとそれに関連する分配回路と組合せ論理を含むレベ
ル感知論理回路網の完成図が示される。
第14図に於いて、回路はその型式毎に破線で囲まれた
ブロックに分割されている。
第7図で既に示された様に、ブロック66及び69は組
合せ回路網でブロック68及び72は極性保持シフト・
レジスタ・ラッチである。
第12図及び13図で既に示された様に、ブロック67
はシステム・クロック駆動装置であり、ブロック70及
び71はシフト制御クロックである。
ブロック68のセルN31及びN32及びフ宅ツク72
のセルN39及びN40はデータ入力セルとして働く。
セルN51 、N52.N39及びN40の組合せは入
力h1及びh2に関して、排他的論理和機能を達成する
セルN47.N48.N31及びN32は、入力fLf
2・・・・・・・・・f7の更に複雑な機能を発生する
第15図の装置配線に於いて、組合せセル・シフト・レ
ジスタ・ラッチ・データ入力セル及びN49及びN53
を有するクロックセルが幅広い方の列に配列される。
残りのセルは狭い方の列に置かれる。
この様に配置した根拠は既に説明されているので更に詳
しい説明を必要としない。
クロック駆動装置はこれらが働いているシフト・レジス
タ・ランチ・セルの両端に隣接して置かれている。
狭い方のクロック駆動装置のセルはシフト・レジスタ・
ラッチ・セルの範囲内で不規則に設けられて良い。
関連したシフト・レジスタ・ラッチから区別して、領域
の端部にシステム・クロック駆動装置を設ける様な上記
の如きレイアウトからの逸脱は通常好ましくない。
この様なレイアウトは、狭い列の垂直方向のチャネルの
本数を更に増やさなければならなくなる。
本発明の良好な実施例は、TTL、NANDセルを用い
て説明したが、DTL 、NAND、M[’L。
NOR等他0種類の回路も可能である。
これは第4図及び5図に示された特定のNPNl−ラン
ジスタ型以外のトランジスタが使用されて良い事を意味
している。
【図面の簡単な説明】
第1図は、金属パターンが設けられていない半導体基板
の平面図であって本発明によるセルの配列を示し、第2
図は、本発明に使用したTTL 。 NANDゲートの回路図で、第3図は、第2図のゲート
のブロック図で、第4図は第1図の幅広い1対のセルの
平面図で、セルに設けられているトランジスタと抵抗の
配置及びセルの上に形成された第ルベルの導電性金属の
配置を詳細に示し、第4A図は第4図の断面図、第5図
は第1図のブロックに設けられた狭いセルの平面図、第
6図は第1図のチップ構成に於ける幅広いセル16と隣
接する狭いセル14の概略図、第7図は米国特許第37
83254号のレベル感知論理装置に使用する為の極性
保持シフト・レジスタ・ラッチ回路のブロック図、第8
図は本発明による第7図のラッチの半導体チップの配線
の平面図、第9図は米国特許第3783254号に使用
する為のセット−リセットシフト・レジスタ・ラッチの
ブロック図、第10図は本発明による第9図の回路のレ
イアウトの平面図、第11図は米国特許第378325
4号に使用された数種類のシフト・クロック回路を本発
明によりレイアウトしたチップを示し、第12図及び第
13図は第11図に示されたクロック回路のブロック図
で、第14図は米国特許第3783254号のレベル感
知論理装置に使用された型式の一般的な論理装置の構成
を示すブロック図、第15図は本発明による第14図の
装置のチップレイアウトを示す。 14・・・・・・狭い方のセル、16・・・・・・広い
方のセル。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 各々が入力信号領域及び出力信号領域を含む所定の
    基本論理回路で構成され、列方向に配置されてなる第1
    セルの群と、 各々が入力信号領域及び出力信号領域を含む所定の基本
    論理回路で構成さね、行方向の長さが前記第1セルの行
    方向の長さよりも短い形状を有して前記列方向に配置さ
    れてなる第2セルの群と、前記第1セルの群の上方に絶
    縁膜を介して前記列方向に配置されてなる第1導電性チ
    ヤネルの群と、 前記第2セルの群の上方に絶縁膜を介して前記列方向に
    配置され、前記第1導電性チヤネルよりも少ない第2導
    電性チャネル群とを具備し、前記第1セルの入力信号領
    域と前記第1導電性チヤネル、前記第2セルの入力信号
    領域と前記第2導電性チヤネルとを各々論理設計に応じ
    て選択的に接続し、該論理設計に応じて選択された出力
    信号領域の接続はその上方に絶縁膜を介して前記行方向
    に配置される第3導電性チヤネルによって行なうように
    したことを特徴とする半導体チップ。
JP51060683A 1975-06-23 1976-05-27 半導体チツプ Expired JPS5823948B2 (ja)

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