JPS582240A - 化学切削性感光ガラスの露光方法 - Google Patents
化学切削性感光ガラスの露光方法Info
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- JPS582240A JPS582240A JP56098267A JP9826781A JPS582240A JP S582240 A JPS582240 A JP S582240A JP 56098267 A JP56098267 A JP 56098267A JP 9826781 A JP9826781 A JP 9826781A JP S582240 A JPS582240 A JP S582240A
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- photosensitive glass
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- glass plate
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- 239000006089 photosensitive glass Substances 0.000 title claims abstract description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 2
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
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- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical group [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/002—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by ultraviolet light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は化学切削性感光ガラスにチーノー付きの孔を穿
つ際に使用される紫外域平行光束の照射方法に関する。
つ際に使用される紫外域平行光束の照射方法に関する。
化学切削性感光ガラスはその上面にマスク（ネガ）を置
いて紫外域光を照射した後加熱すると。
いて紫外域光を照射した後加熱すると。
照射部分くリチウムメタシリケート（８１ｏ、 −Ｌｌ
、０ ）の微細な結晶が生長する。そこでこれをフッ酸
溶液で処理すれば、結晶部分とガラス部分との溶解速度
の差によって、被照射部分のみを選択的に溶解し去るこ
とができる。この性質を利用して化学切削性感光ガラス
に穿孔、彫刻、溝付け、切断などの加工を施すことは公
知である。
、０ ）の微細な結晶が生長する。そこでこれをフッ酸
溶液で処理すれば、結晶部分とガラス部分との溶解速度
の差によって、被照射部分のみを選択的に溶解し去るこ
とができる。この性質を利用して化学切削性感光ガラス
に穿孔、彫刻、溝付け、切断などの加工を施すことは公
知である。
ところで、化学切削性感光ガラスに穿孔加工を施す場合
、従来採用され“て来た紫外線照射方法は。
、従来採用され“て来た紫外線照射方法は。
穿孔せんとする孔の形状及び寸法に対応する開口部管有
するマスクを載せ九化学切削性感光ガラス板に対して、
紫外域の平行光束を−直に又は傾斜させて照射させる方
式であって、平行光束の光源と感光ガラス板との位置関
係祉常に一定に保持されている。この九め、フッ□酸処
１１によって最終的に得られるガラス板の穿孔部分は、
第１ＷＪにその拡大断面図を示す如く、ガラス面に対し
て画直であるか傾斜しているかの違いはあっても、孔１
１Ｆｉガラスの厚さ方向に関して一様でＴｏＬ孔径がガ
ラスの厚さ方向に関して増大するチー／々−付きの孔を
得ることができない。
するマスクを載せ九化学切削性感光ガラス板に対して、
紫外域の平行光束を−直に又は傾斜させて照射させる方
式であって、平行光束の光源と感光ガラス板との位置関
係祉常に一定に保持されている。この九め、フッ□酸処
１１によって最終的に得られるガラス板の穿孔部分は、
第１ＷＪにその拡大断面図を示す如く、ガラス面に対し
て画直であるか傾斜しているかの違いはあっても、孔１
１Ｆｉガラスの厚さ方向に関して一様でＴｏＬ孔径がガ
ラスの厚さ方向に関して増大するチー／々−付きの孔を
得ることができない。
本発明は紫外線照射後加熱してフッ酸処理を施せば、チ
ー、ｅ−付きの穿孔加工が可能になる化学切削性感光ガ
ラスの露光方法を提供する。すなわち０本発明に係る化
学切削性感光ガラスの露光方法は、正ｎ角形の開口部を
設けたマスクを表面に載置した化学切削性感光ガラスと
、紫外域の平行光束を発する光源とを、その光源からの
平行光束が前記の感光ガラス板に斜めに入射するよう前
記のマスクを介して対向させ、マスクに設は九正ｎ角形
開口部の任意の一つの頂点が光源中心点から最遠距離に
位置する状態で、前記の感光ガラス板を入射角度が一定
の平行光束にて露光する操作を。
ー、ｅ−付きの穿孔加工が可能になる化学切削性感光ガ
ラスの露光方法を提供する。すなわち０本発明に係る化
学切削性感光ガラスの露光方法は、正ｎ角形の開口部を
設けたマスクを表面に載置した化学切削性感光ガラスと
、紫外域の平行光束を発する光源とを、その光源からの
平行光束が前記の感光ガラス板に斜めに入射するよう前
記のマスクを介して対向させ、マスクに設は九正ｎ角形
開口部の任意の一つの頂点が光源中心点から最遠距離に
位置する状態で、前記の感光ガラス板を入射角度が一定
の平行光束にて露光する操作を。
正ｎ角形の頂点ごとに平行光束の入射角１ｔ−変えるこ
となくｎ回繰返すことからなる。
となくｎ回繰返すことからなる。
以下０本発明の一実施例を添付図面にそって説明すると
、第２図及び第３図はそれぞれ紫外域の平行光束を発す
る光源（１１と化学切削性感光ガラス板（２）とマスク
（３）の相対的な位置関係を示す側面図及び平面図であ
って１図示の通夛感光ガラス板（２）の上面には正ｎ角
形の開口部を設けたマスク（３）が載置される。そして
光源（１）はこれからの平行光束が感光ガラス板に斜め
に入射するようマスク（３）を介して感光ガラス板（２
）と対内する。
、第２図及び第３図はそれぞれ紫外域の平行光束を発す
る光源（１１と化学切削性感光ガラス板（２）とマスク
（３）の相対的な位置関係を示す側面図及び平面図であ
って１図示の通夛感光ガラス板（２）の上面には正ｎ角
形の開口部を設けたマスク（３）が載置される。そして
光源（１）はこれからの平行光束が感光ガラス板に斜め
に入射するようマスク（３）を介して感光ガラス板（２
）と対内する。
上記の通り、感光ガラス板上に載置され九ｉスクには、
正ｎ角形（図示の例では正三角形〕の開口部が設けられ
るが１本発明の露光方法によれば。
正ｎ角形（図示の例では正三角形〕の開口部が設けられ
るが１本発明の露光方法によれば。
露光に先立って開口部の任意の一つの頂点Ａが第３図に
示す如く、光源（１）の中心点から最遠距離に位置せし
められ、その位置を保持し良状態で感光ガラス板（２）
は光源（１）からの平行光束によってまず露光される。
示す如く、光源（１）の中心点から最遠距離に位置せし
められ、その位置を保持し良状態で感光ガラス板（２）
は光源（１）からの平行光束によってまず露光される。
この露光が行われている間は感光ガラス板に対する平行
光束の入射角度が一定に保持される。露光終了後はマス
クを載置した感光ガラス板（２）又は光源＋１１が３６
０／ａ度０図示の例では１２０［回転せしめられ、これ
によって前記開口部の他の頂点Ｂは光源＋１）の中心点
から最も遠い位置に移行する。第３図には感光ガラス板
とマスクを静置させ、光源を１２０１１１ｊ回転移動さ
せた場合の光源の位置が破線で示されている。この状態
で２回目の露光が行なわれるが、この場合も感光ガラス
板に対する平行光束の入射角度は一定に保持され。
光束の入射角度が一定に保持される。露光終了後はマス
クを載置した感光ガラス板（２）又は光源＋１１が３６
０／ａ度０図示の例では１２０［回転せしめられ、これ
によって前記開口部の他の頂点Ｂは光源＋１）の中心点
から最も遠い位置に移行する。第３図には感光ガラス板
とマスクを静置させ、光源を１２０１１１ｊ回転移動さ
せた場合の光源の位置が破線で示されている。この状態
で２回目の露光が行なわれるが、この場合も感光ガラス
板に対する平行光束の入射角度は一定に保持され。
その値は１回目の露光操作に於ける入射角度と変わると
ころがない。２回目の露光操作が終了すると、マスクを
載置した感光ガラス板（１）又紘光源（１）は再び１２
Ｏｆ回転せしめられ、前記開口部の３１１目の頂点Ｃが
光源（１）の中心点から最遠距離に位置し良状態で、３
回目の露光が行なわれる。３回目の露光操作も感光ガラ
ス板に対する平行光束の入射角度は露光中一定に保持さ
れ、その内置も１回目及び２回目のそれと変るところが
ない。こうして本発明の露光操作は完了する。
ころがない。２回目の露光操作が終了すると、マスクを
載置した感光ガラス板（１）又紘光源（１）は再び１２
Ｏｆ回転せしめられ、前記開口部の３１１目の頂点Ｃが
光源（１）の中心点から最遠距離に位置し良状態で、３
回目の露光が行なわれる。３回目の露光操作も感光ガラ
ス板に対する平行光束の入射角度は露光中一定に保持さ
れ、その内置も１回目及び２回目のそれと変るところが
ない。こうして本発明の露光操作は完了する。
第２図及び第３図に示す実施例では、マスク（３）に設
けた開口部が正三角形であるので、都合３回の露光が行
なわれるが、開口部が正ｎ角形の場合はマスクが載置さ
れ丸感光ガラス板（２）又拡光源＋１１を上述し九要領
で３６０７ａ度ずつ回転させながら。
けた開口部が正三角形であるので、都合３回の露光が行
なわれるが、開口部が正ｎ角形の場合はマスクが載置さ
れ丸感光ガラス板（２）又拡光源＋１１を上述し九要領
で３６０７ａ度ずつ回転させながら。
ｎ回露光操作を繰返せばよい。この際、感光ガラス板に
対する平行光束の入射角度は、ｎ回の露光操作中一定に
保持されることはもちろんである。
対する平行光束の入射角度は、ｎ回の露光操作中一定に
保持されることはもちろんである。
を九図示の実施例では、各露光操作ごとにマスクが載置
され喪感光ガラス板又は光源を回転させる場合を示し、
感光ガラス板を回転させる場合はマスクもこれと一体と
なって回転するものとして説明し九が１本発明の方法は
マスク及び光源を静止させ、感光ガラス板のみを各露光
操作ごとに回転させる方式でも実施可能である。この方
式の場合はマスクに設は九正ｎ角形の開口部の任意の頂
点の一つを、光源から最遠距離に位置させて初回の露光
を行なう。以後は正ｎ角形開口部の中心点を通り感光ガ
ラス板に垂直な直線を軸として、各露光操作ごとに感光
ガラス板を３６０７ｎ度ずつ回転させて露光が行なわれ
る。
され喪感光ガラス板又は光源を回転させる場合を示し、
感光ガラス板を回転させる場合はマスクもこれと一体と
なって回転するものとして説明し九が１本発明の方法は
マスク及び光源を静止させ、感光ガラス板のみを各露光
操作ごとに回転させる方式でも実施可能である。この方
式の場合はマスクに設は九正ｎ角形の開口部の任意の頂
点の一つを、光源から最遠距離に位置させて初回の露光
を行なう。以後は正ｎ角形開口部の中心点を通り感光ガ
ラス板に垂直な直線を軸として、各露光操作ごとに感光
ガラス板を３６０７ｎ度ずつ回転させて露光が行なわれ
る。
本発明の方法におけゐ露光時間は、使用する光源の出力
及び感光ガラス板の厚さなどに依存するが１例えば６０
０ＷのＸ＠−Ｈｇ灯を光源に使用して。
及び感光ガラス板の厚さなどに依存するが１例えば６０
０ＷのＸ＠−Ｈｇ灯を光源に使用して。
厚さｌ ｍｍの感光ガラス板に本発明の方法で正三角形
の孔を穿つ場合は、各回の露光時間を２５秒間として３
回露光を行ない、しかる後感光ガラス板を５９０℃で１
時間熱処理し１次いで１５９＄７ツ酸溶液中で３時間エ
ツチングすれば、第４図に示すようなテーノ々付きの孔
を得ることができる。尚。
の孔を穿つ場合は、各回の露光時間を２５秒間として３
回露光を行ない、しかる後感光ガラス板を５９０℃で１
時間熱処理し１次いで１５９＄７ツ酸溶液中で３時間エ
ツチングすれば、第４図に示すようなテーノ々付きの孔
を得ることができる。尚。
エツチング処理に際しては、ガラスの両面からエツチン
グを施すと、孔の側壁中央付近にふくらみができ、一定
斜度のチー／（−に仕上がらないので。
グを施すと、孔の側壁中央付近にふくらみができ、一定
斜度のチー／（−に仕上がらないので。
片面からエツチングを施すことが好ましい。
以上説明して来たところから明らかな通シ１本発明の方
法を利用すればマスタ材又は感光ガラス板の屈折率から
導かれる臨界角以下の範囲内で。
法を利用すればマスタ材又は感光ガラス板の屈折率から
導かれる臨界角以下の範囲内で。
平行光束の感光ガラス板への入射角度を調節することに
よシ１種々の傾斜のテーパー付き孔を感光ガラス板に加
工することができ、しかも孔の横断面形状はその長さ方
向く関して正確に相似形を保持する利点もある。従って
６本発明の露光方法は例えばプラズマディスプレー用セ
ルシートなどを製造する際に非常に有効である。
よシ１種々の傾斜のテーパー付き孔を感光ガラス板に加
工することができ、しかも孔の横断面形状はその長さ方
向く関して正確に相似形を保持する利点もある。従って
６本発明の露光方法は例えばプラズマディスプレー用セ
ルシートなどを製造する際に非常に有効である。
第１図は従来の露光方法による感光ガラス穿孔部分の拡
大断面図である。第２８ｇ及び第３図は本発明の霧光方
法の図示した側面図及び平面図であり、第４図は本発明
の露光方法を採用して穿孔加工を施した感光ガラスの斜
視図である。
大断面図である。第２８ｇ及び第３図は本発明の霧光方
法の図示した側面図及び平面図であり、第４図は本発明
の露光方法を採用して穿孔加工を施した感光ガラスの斜
視図である。
Claims (1)
- １、正ｎ角形の開口部を設けたマスクを表面に載置し九
化学切削性感光ガラス板と、平行光束を発する光源とを
、その光源からの平行光束が前記の感光ガラス板に斜め
に入射するよう前記のマスクを介して対向させ、マスク
に設は九正ｎ角形開口部の任意の一つの頂点が光源中心
点から最遠距離に位置する状態で、前記の感光ガラス板
を入射角度が一定の平行光束にて露光する操作を、正ｎ
角形の各頂点ごとに平行光束の入射角度を変えることな
くｎ回繰返すことからなる化学切削性感光ガラスの露光
方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56098267A JPS582240A (ja) | 1981-06-26 | 1981-06-26 | 化学切削性感光ガラスの露光方法 |
| US06/384,114 US4390391A (en) | 1981-06-26 | 1982-06-01 | Method of exposure of chemically machineable light-sensitive glass |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56098267A JPS582240A (ja) | 1981-06-26 | 1981-06-26 | 化学切削性感光ガラスの露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS582240A true JPS582240A (ja) | 1983-01-07 |
| JPS6131061B2 JPS6131061B2 (ja) | 1986-07-17 |
Family
ID=14215162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56098267A Granted JPS582240A (ja) | 1981-06-26 | 1981-06-26 | 化学切削性感光ガラスの露光方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4390391A (ja) |
| JP (1) | JPS582240A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0459628A (ja) * | 1990-06-29 | 1992-02-26 | Seikosha Co Ltd | ガラス板の加工方法 |
| US10775398B2 (en) | 2013-03-15 | 2020-09-15 | Abbott Laboratories | Automated diagnostic analyzers having vertically arranged carousels and related methods |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4575180A (en) * | 1983-08-15 | 1986-03-11 | Chang David B | Intrawaveguide fiber optic beamsplitter/coupler |
| JPS61202426A (ja) * | 1985-03-05 | 1986-09-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
| USRE35036E (en) * | 1986-06-13 | 1995-09-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of making symmetrically controlled implanted regions using rotational angle of the substrate |
| US4771012A (en) * | 1986-06-13 | 1988-09-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of making symmetrically controlled implanted regions using rotational angle of the substrate |
| DE3814720A1 (de) * | 1988-04-30 | 1989-11-09 | Olympia Aeg | Verfahren zur herstellung einer grundplatte mit durch aetzen hergestellte einarbeitungen fuer einen tintendruckkopf |
| US5378137A (en) * | 1993-05-10 | 1995-01-03 | Hewlett-Packard Company | Mask design for forming tapered inkjet nozzles |
| RU2014140837A (ru) * | 2012-03-16 | 2016-05-10 | Лайф Текнолоджис Корпорейшн | Системы и способы для содержания биологических образцов |
| WO2014028022A1 (en) * | 2012-08-16 | 2014-02-20 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Diagonal openings in photodefinable glass |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2628160A (en) * | 1951-08-30 | 1953-02-10 | Corning Glass Works | Sculpturing glass |
| US4276335A (en) * | 1978-03-13 | 1981-06-30 | General Electric Company | Electron beam matrix deflector and method of fabrication |
-
1981
- 1981-06-26 JP JP56098267A patent/JPS582240A/ja active Granted
-
1982
- 1982-06-01 US US06/384,114 patent/US4390391A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0459628A (ja) * | 1990-06-29 | 1992-02-26 | Seikosha Co Ltd | ガラス板の加工方法 |
| US10775398B2 (en) | 2013-03-15 | 2020-09-15 | Abbott Laboratories | Automated diagnostic analyzers having vertically arranged carousels and related methods |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6131061B2 (ja) | 1986-07-17 |
| US4390391A (en) | 1983-06-28 |
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