JPS6131061B2 - - Google Patents
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- JPS6131061B2 JPS6131061B2 JP56098267A JP9826781A JPS6131061B2 JP S6131061 B2 JPS6131061 B2 JP S6131061B2 JP 56098267 A JP56098267 A JP 56098267A JP 9826781 A JP9826781 A JP 9826781A JP S6131061 B2 JPS6131061 B2 JP S6131061B2
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- JP
- Japan
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- photosensitive glass
- glass plate
- light source
- mask
- exposure
- Prior art date
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Links
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
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- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
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- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/002—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by ultraviolet light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は化学切削性感光ガラスにテーパー付き
の孔を穿つ際に使用される紫外域平行光束の照射
方法に関する。
の孔を穿つ際に使用される紫外域平行光束の照射
方法に関する。
化学切削性感光ガラスはその上面にマスク（ネ
ガ）を置いて紫外域光を照射した後加熱すると、
照射部分にリチウムメタシリケート（SiO2−
Li2O）の微細な結晶が生長する。そこでこれを
フツ酸溶液で処理すれば、結晶部分とガラス部分
との溶解速度の差によつて、被照射部分のみを選
択的に溶解し去ることができる。この性質を利用
して化学切削性感光ガラスに穿孔、彫刻、溝付
け、切断などの加工を施すことは公知である。
ガ）を置いて紫外域光を照射した後加熱すると、
照射部分にリチウムメタシリケート（SiO2−
Li2O）の微細な結晶が生長する。そこでこれを
フツ酸溶液で処理すれば、結晶部分とガラス部分
との溶解速度の差によつて、被照射部分のみを選
択的に溶解し去ることができる。この性質を利用
して化学切削性感光ガラスに穿孔、彫刻、溝付
け、切断などの加工を施すことは公知である。
ところで、化学切削性感光ガラスに穿孔加工を
施す場合、従来採用されて来た紫外線照射方法
は、穿孔せんとする孔の形状及び寸法に対応する
開口部を有するマスクを載せた化学切削性感光ガ
ラス板に対して、紫外域の平行光束を垂直に又は
傾斜させて照射させる方式であつた、平行光束の
光源と感光ガラス板との位置関係は常に一定に保
持されている。このため、フツ酸処理によつて最
終的に得られるガラス板の穿孔部分は、第１図に
その拡大断面を示す如く、ガラス面に対して垂直
であるか傾斜しているかの違いはあつても、孔径
はガラスの厚さ方向に関して一様であり、孔径が
ガラス厚さの方向に関して増大するテーパー付き
の孔を得ることができない。
施す場合、従来採用されて来た紫外線照射方法
は、穿孔せんとする孔の形状及び寸法に対応する
開口部を有するマスクを載せた化学切削性感光ガ
ラス板に対して、紫外域の平行光束を垂直に又は
傾斜させて照射させる方式であつた、平行光束の
光源と感光ガラス板との位置関係は常に一定に保
持されている。このため、フツ酸処理によつて最
終的に得られるガラス板の穿孔部分は、第１図に
その拡大断面を示す如く、ガラス面に対して垂直
であるか傾斜しているかの違いはあつても、孔径
はガラスの厚さ方向に関して一様であり、孔径が
ガラス厚さの方向に関して増大するテーパー付き
の孔を得ることができない。
本発明は紫外線照射後加熱してフツ酸処理を施
せば、テーパー付きの穿孔加工が可能になる化学
切削性感光ガラスの露光方法を提供する。すなわ
ち、本発明に係る化学切削性感光ガラスの露光方
法は、正ｎ角形の開口部を設けたマスクを表面に
載置した化学切削性感光ガラスと、紫外域の平行
光束を発する光源とを、その光源からの平行光束
が前記の感光ガラス板に斜めに入射するよう前記
のマスクを介して対向させ、マスクに設けた正ｎ
角形開口部の任意の一つの頂点が光源中心点から
最遠距離に位置する状態で、前記の感光ガラス板
を入射角度が一定の平行光束にて露光する操作
を、正ｎ角形の頂点ごとに平行光束の入射角度を
変えることなくｎ回繰返すことからなる。
せば、テーパー付きの穿孔加工が可能になる化学
切削性感光ガラスの露光方法を提供する。すなわ
ち、本発明に係る化学切削性感光ガラスの露光方
法は、正ｎ角形の開口部を設けたマスクを表面に
載置した化学切削性感光ガラスと、紫外域の平行
光束を発する光源とを、その光源からの平行光束
が前記の感光ガラス板に斜めに入射するよう前記
のマスクを介して対向させ、マスクに設けた正ｎ
角形開口部の任意の一つの頂点が光源中心点から
最遠距離に位置する状態で、前記の感光ガラス板
を入射角度が一定の平行光束にて露光する操作
を、正ｎ角形の頂点ごとに平行光束の入射角度を
変えることなくｎ回繰返すことからなる。
以下、本発明の一実施例を添付図面に添つて説
明すると、第２図及び第３図はそれぞれ紫外域の
平行光束を発する光源１と化学切削性感光ガラス
板２とマスク３の相対的な位置関係を示す側面図
及び平面図であつて、図示の通り感光ガラス板２
の上面には正ｎ角形の開口部を設けたマスク３が
載置される。そして光源１はこれからの平行光束
が感光ガラス板に斜めに入射するようマスク３を
介して感光ガラス板２と対向する。
明すると、第２図及び第３図はそれぞれ紫外域の
平行光束を発する光源１と化学切削性感光ガラス
板２とマスク３の相対的な位置関係を示す側面図
及び平面図であつて、図示の通り感光ガラス板２
の上面には正ｎ角形の開口部を設けたマスク３が
載置される。そして光源１はこれからの平行光束
が感光ガラス板に斜めに入射するようマスク３を
介して感光ガラス板２と対向する。
上記の通り、感光ガラス板上に載置されたマス
クには、正ｎ角形（図示の例では正三角形）の開
口部が設けられるが、本発明の露光方法によれ
ば、露光に先立つて開口部の任意の一つの頂点Ａ
が第３図に示す如く、光源１の中心点から最遠距
離に位置せしめられ、その位置を保持した状態で
感光ガラス板２は光源１からの平行光束によつて
まず露光される。この露光が行われている間は感
光ガラス板に対する平行光束の入射角が一定に例
えば60度に保持される。露光終了後はマスクを載
置した感光ガラス板２又は光源１が360／ｎ度。
図示の例では120度回転せしめられ、これによつ
て前記開口部の他の頂点Ｂは光源１の中心点から
最も遠い位置に移行する。第３図には感光ガラス
板とマスクを静置させ、光源を120度回転移動さ
せた場合の光源の位置が破線で示されている。こ
の状態で２回目の露光が行なわれるが、この場合
も感光ガラス板に対する平行光束の入射角は一定
に保持され、その値は１回目の露光操作に於ける
入射角度と変わるところがない。２回目の露光操
作が終了すると、マスクを載置した感光ガラス板
１又は光源１は再び120度回転せしめられ、前記
開口部の３番目の頂点Ｃが光源１の中心点から最
遠距離に位置した状態で、３回目の露光が行なわ
れる。３回目の露光操作も感光ガラス板に対する
平行光束の入射角度は露光中一定に保たれ、その
角度も１回目及び２回目のそれと変るところがな
い。こうして本発明の露光操作は完了する。
クには、正ｎ角形（図示の例では正三角形）の開
口部が設けられるが、本発明の露光方法によれ
ば、露光に先立つて開口部の任意の一つの頂点Ａ
が第３図に示す如く、光源１の中心点から最遠距
離に位置せしめられ、その位置を保持した状態で
感光ガラス板２は光源１からの平行光束によつて
まず露光される。この露光が行われている間は感
光ガラス板に対する平行光束の入射角が一定に例
えば60度に保持される。露光終了後はマスクを載
置した感光ガラス板２又は光源１が360／ｎ度。
図示の例では120度回転せしめられ、これによつ
て前記開口部の他の頂点Ｂは光源１の中心点から
最も遠い位置に移行する。第３図には感光ガラス
板とマスクを静置させ、光源を120度回転移動さ
せた場合の光源の位置が破線で示されている。こ
の状態で２回目の露光が行なわれるが、この場合
も感光ガラス板に対する平行光束の入射角は一定
に保持され、その値は１回目の露光操作に於ける
入射角度と変わるところがない。２回目の露光操
作が終了すると、マスクを載置した感光ガラス板
１又は光源１は再び120度回転せしめられ、前記
開口部の３番目の頂点Ｃが光源１の中心点から最
遠距離に位置した状態で、３回目の露光が行なわ
れる。３回目の露光操作も感光ガラス板に対する
平行光束の入射角度は露光中一定に保たれ、その
角度も１回目及び２回目のそれと変るところがな
い。こうして本発明の露光操作は完了する。
第２図及び第３図に示す実施例では、マスク３
に設けた開口部が正三角であるので、都合３回の
露光が行なわれるが、開口部が正ｎ角形の場合は
マスクが載置された感光ガラス板２又は光源１を
上述した要領で360／ｎ度ずつ回転させながら、
ｎ回露光操作を繰返せばよい。この際、感光ガラ
ス板に対する平行光束の牌射角度は、ｎ回の露光
操作中に一定に保たれることはもちろんである。
また図示の実施例では、各露光操作ごとにマスク
が載置された感光ガラス板又は光源を回転させる
場合を示し、感光ガラス板を回転させる場合はマ
スクもこれと一体となつて回転するものとして説
明したが、本発明の方法はマスク及び光源を静止
させ、感光ガラス板のみを各露光操作ごとに回転
させる方式でも実施可能である。この方式の場合
はマスクに設けた正ｎ角形の開口部の任意の頂点
の一つを、光源から最遠距離に位置させて初回の
露光を行なう。以後は正ｎ角形開口部の中心点を
通り感光ガラス板に垂直な直線として、各露光操
作ごとに感光ガラス板を360／ｎ度ずつ回転させ
て露光が行なわれる。
に設けた開口部が正三角であるので、都合３回の
露光が行なわれるが、開口部が正ｎ角形の場合は
マスクが載置された感光ガラス板２又は光源１を
上述した要領で360／ｎ度ずつ回転させながら、
ｎ回露光操作を繰返せばよい。この際、感光ガラ
ス板に対する平行光束の牌射角度は、ｎ回の露光
操作中に一定に保たれることはもちろんである。
また図示の実施例では、各露光操作ごとにマスク
が載置された感光ガラス板又は光源を回転させる
場合を示し、感光ガラス板を回転させる場合はマ
スクもこれと一体となつて回転するものとして説
明したが、本発明の方法はマスク及び光源を静止
させ、感光ガラス板のみを各露光操作ごとに回転
させる方式でも実施可能である。この方式の場合
はマスクに設けた正ｎ角形の開口部の任意の頂点
の一つを、光源から最遠距離に位置させて初回の
露光を行なう。以後は正ｎ角形開口部の中心点を
通り感光ガラス板に垂直な直線として、各露光操
作ごとに感光ガラス板を360／ｎ度ずつ回転させ
て露光が行なわれる。
本発明の方法における露光時間は、使用する光
源の出力及び感光ガラス板の厚さなどに依存する
が、例えば600WのXe−Hg灯を光源に使用して、
厚さ１mmの感光ガラス板に本発明の方法で正三角
形の孔を穿つ場合は、各回の露光時間を25秒間と
して３回露光を行ない、しかる後感光ガラス板を
590℃で１時間熱処理し、次いで５％フツ酸溶液
中で３時間エツチングすれば、第４図に示すよう
なテーパ付きの孔を得ることができる。尚、エツ
チング処理に際しては、ガラスの両面からエツチ
ングを施すと、孔の側壁中央付近にふくらみがで
き、一定斜度のテーパーに仕上がらないので、片
面からエツチングを施すことが好ましい。
源の出力及び感光ガラス板の厚さなどに依存する
が、例えば600WのXe−Hg灯を光源に使用して、
厚さ１mmの感光ガラス板に本発明の方法で正三角
形の孔を穿つ場合は、各回の露光時間を25秒間と
して３回露光を行ない、しかる後感光ガラス板を
590℃で１時間熱処理し、次いで５％フツ酸溶液
中で３時間エツチングすれば、第４図に示すよう
なテーパ付きの孔を得ることができる。尚、エツ
チング処理に際しては、ガラスの両面からエツチ
ングを施すと、孔の側壁中央付近にふくらみがで
き、一定斜度のテーパーに仕上がらないので、片
面からエツチングを施すことが好ましい。
以上説明して来たところから明らかな通り、本
発明の方法を利用すればマスク材又は感光ガラス
板の屈折率から導かれる臨界角以下の範囲内で、
平行光束の感光ガラス板への入射角度を調節する
ことにより、種々の傾斜のテーパー付き孔を感光
ガラス板に加工することができ、しかも孔の横断
面形状はその長さ方向に関して正確に相似形を保
持する利点もある。従つて、本発明の露光方法は
例えばプラズマデイスプレー用セルシートなどを
製造する際に非常に有効である。
発明の方法を利用すればマスク材又は感光ガラス
板の屈折率から導かれる臨界角以下の範囲内で、
平行光束の感光ガラス板への入射角度を調節する
ことにより、種々の傾斜のテーパー付き孔を感光
ガラス板に加工することができ、しかも孔の横断
面形状はその長さ方向に関して正確に相似形を保
持する利点もある。従つて、本発明の露光方法は
例えばプラズマデイスプレー用セルシートなどを
製造する際に非常に有効である。
第１図は従来の露光方法による感光ガラス穿孔
部分の拡大断面図である。第２図及び第３図は本
発明の露光方法の図示した側面図及び平面図であ
り、第４図は本発明の露光方法を採用した穿孔加
工を施した感光ガラスの斜視図である。 １……光源、２……感光ガラス、３……マス
ク。
部分の拡大断面図である。第２図及び第３図は本
発明の露光方法の図示した側面図及び平面図であ
り、第４図は本発明の露光方法を採用した穿孔加
工を施した感光ガラスの斜視図である。 １……光源、２……感光ガラス、３……マス
ク。
Claims (1)
- １ 正ｎ角形の開口部を設けたマスクを表面に載
置した化学切削性感光ガラス板と、平行光束を発
する光源とを、その光源からの平行光束が前記の
感光ガラス板に斜めに入射するよう前記のマスク
を介して対向させ、マスクに設けた正ｎ角形開口
部の任意の一つの頂点が光源中心点から最遠距離
に位置する状態で、前記の感光ガラス板を入射角
度が一定の平行光束にて露光する操作を、正ｎ角
形の各頂点ごとに平行光束の入射角度を変えるこ
となくｎ回繰返すことからなる化学切削性感光ガ
ラスの露光方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56098267A JPS582240A (ja) | 1981-06-26 | 1981-06-26 | 化学切削性感光ガラスの露光方法 |
| US06/384,114 US4390391A (en) | 1981-06-26 | 1982-06-01 | Method of exposure of chemically machineable light-sensitive glass |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56098267A JPS582240A (ja) | 1981-06-26 | 1981-06-26 | 化学切削性感光ガラスの露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS582240A JPS582240A (ja) | 1983-01-07 |
| JPS6131061B2 true JPS6131061B2 (ja) | 1986-07-17 |
Family
ID=14215162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56098267A Granted JPS582240A (ja) | 1981-06-26 | 1981-06-26 | 化学切削性感光ガラスの露光方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4390391A (ja) |
| JP (1) | JPS582240A (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4575180A (en) * | 1983-08-15 | 1986-03-11 | Chang David B | Intrawaveguide fiber optic beamsplitter/coupler |
| JPS61202426A (ja) * | 1985-03-05 | 1986-09-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
| USRE35036E (en) * | 1986-06-13 | 1995-09-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of making symmetrically controlled implanted regions using rotational angle of the substrate |
| US4771012A (en) * | 1986-06-13 | 1988-09-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of making symmetrically controlled implanted regions using rotational angle of the substrate |
| DE3814720A1 (de) * | 1988-04-30 | 1989-11-09 | Olympia Aeg | Verfahren zur herstellung einer grundplatte mit durch aetzen hergestellte einarbeitungen fuer einen tintendruckkopf |
| JPH0459628A (ja) * | 1990-06-29 | 1992-02-26 | Seikosha Co Ltd | ガラス板の加工方法 |
| US5378137A (en) * | 1993-05-10 | 1995-01-03 | Hewlett-Packard Company | Mask design for forming tapered inkjet nozzles |
| KR20150003738A (ko) * | 2012-03-16 | 2015-01-09 | 라이프 테크놀로지스 코포레이션 | 생물학적 분석을 위한 시스템 및 방법 |
| US9446590B2 (en) | 2012-08-16 | 2016-09-20 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Diagonal openings in photodefinable glass |
| US9400285B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-07-26 | Abbot Laboratories | Automated diagnostic analyzers having vertically arranged carousels and related methods |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2628160A (en) * | 1951-08-30 | 1953-02-10 | Corning Glass Works | Sculpturing glass |
| US4276335A (en) * | 1978-03-13 | 1981-06-30 | General Electric Company | Electron beam matrix deflector and method of fabrication |
-
1981
- 1981-06-26 JP JP56098267A patent/JPS582240A/ja active Granted
-
1982
- 1982-06-01 US US06/384,114 patent/US4390391A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4390391A (en) | 1983-06-28 |
| JPS582240A (ja) | 1983-01-07 |
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