JPH0459628A - ガラス板の加工方法 - Google Patents

ガラス板の加工方法

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JPH0459628A
JPH0459628A JP17163790A JP17163790A JPH0459628A JP H0459628 A JPH0459628 A JP H0459628A JP 17163790 A JP17163790 A JP 17163790A JP 17163790 A JP17163790 A JP 17163790A JP H0459628 A JPH0459628 A JP H0459628A
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JP
Japan
Prior art keywords
glass plate
photosensitive glass
exposed
slope
processing
Prior art date
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Pending
Application number
JP17163790A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihiro Kondo
近藤 宣裕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seikosha KK
Original Assignee
Seikosha KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Seikosha KK filed Critical Seikosha KK
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C4/00Compositions for glass with special properties
    • C03C4/04Compositions for glass with special properties for photosensitive glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/007Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by thermal treatment

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は感光性ガラス板に溝又は孔を形成するガラス板
の加工方法に関する。
[従来の技術] ガラス板の加工方法には、感光性ガラス板に溝又は孔を
形成する方法があり、この方法としては、感光性ガラス
板を露光・熱処理・エツチング処理して溝又は孔を形成
する方法が知られている。この方法は高精度の溝又は孔
を形成でき、例えばインクシエンドプリンタの印字ヘッ
トの加工に適用されている(特公昭63−58095号
)。
第8図には、この種の従来の加工方法に係る加工工程か
示されている。第8図では図示されていないか始めに感
光性ガラス板を部分的に露光し、その後に当該露光部を
熱処理して結晶化し結晶部とした後に、第8図(A)に
示されるように結晶部1の表面にマスキング材2を接着
する。マスキング材2の接着後は、第8図(B)に示さ
れるように結晶部1のマスキング材2の開口との対応部
分を所定の深さまでエツチングし、その後にマスキング
材2を剥離する。そして、マスキング材2の剥離後に第
8図(C)に示されるように結晶部1の表面全体を所定
の深さまでエツチングして段付き溝3を形成する。この
加工方法によれば、マスキング材2の着脱によって段付
き溝3を形成できるたけてなく、マスキング材2の接着
状態でのエツチングによってマスキング材2の裏側にエ
ツチング液を回り込ませて段付き溝3の内壁の一部を斜
面3aとすることができるという利点がある。
[発明か解決しようとする課題] しかしなから、この加工方法では、結晶部1へのマスキ
ング材2の接着状態でマスキング材2か結晶部1との密
着性のバラつきによって剥離する場合かあり、マスキン
グ材2の部分的な剥離等によって斜面3aの傾斜角度に
ハラつきか生したり、斜面3aの傾斜角度がエツチング
液の当たりによって略一定(約45度前後)に定められ
て所望の大きさに設定できないという問題がある。
本発明の目的は、溝又は孔の内壁の一部をハラつきなく
傾斜させることができ、しかもその傾斜角度を所望の大
きさに設定できるガラス板の加工方法を提供することに
ある。
[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するために本発明に係るガラス板の加工
方法においては、感光性ガラス板をその板厚方向に対し
て傾斜する方向及びこの方向と交差する方向の少なくと
も2方向から部分的に露光して感光性ガラス板にその板
厚方向に対して傾斜する斜面を有する露光部を形成し、
この露光部の形成後に当該露光部を熱処理して結晶化し
結晶部とし、その後にこの結晶部を所望の深さまでエツ
チングして溝又は孔を形成するようにした。
[作用] 上記の本発明に係るガラス板の加工方法によれば、溝又
は孔の内壁の一部が露光部の斜面と対応する斜面となり
、その傾斜角度は露光部の露光方向によって定められて
バラつくことがなく、また露光部の露光方向を変えるこ
とにより所望の大きさに設定できる。
[実施例] 第1図乃至第4図には、本発明に係るガラス板の加工方
法の実施例が示されており、この実施例では第5図及び
第6図に示されるインクジェットプリンタ用の印字ヘッ
ド5の加工に適用されている。
印字ヘット5は、第5図及び第6図に示されるように基
板6の上に基板7が接合されて両者の間にインク射出口
8、加圧室9、インク溜室10及びインク供給口11が
形成され、インクがインク供給口11、インク溜室10
を経て加圧室9に供給されるようになっている。基板7
は平板状でその上面に圧電素子12か接着され、この圧
電素子12によって加圧室9を加圧してインクをインク
射出口8から噴出てきるようになっている。基板6の上
面には、基板7との間にインク射出口8、加圧室9、イ
ンク溜室10及びインク供給口11を形成する溝13か
形成され、この基板6か感光性ガラス板を素材として加
工されている。
基板1の加工手順を説明すると(ここでは便宜上、基板
1の前端部の加工手順のみを説明する)、始めに第1図
(A)に示されるようにフォトマスク14を介して感光
性ガラス板6aをその上方であって板厚方向に対して傾
斜する方向(矢印A方向)から部分的に露光して露光部
6bを形成する。
フォトマスク14には、第2図に示されるように加圧室
9の前端部からインク射出口8の手前に至るインク流路
の平面形状に対応した開口14aが形成され、露光部6
bの平面形状は加圧室9の前端部からインク射出口8の
手前に至るインク流路の平面形状と対応する。
次いて、第1図(B)に示されるようにフォトマスク1
5を介して感光性ガラス板6aをその上方であって板厚
方向(矢印B方向)から部分的(こ露光して斜面6Cを
有する露光部6dを形成する。
フォトマスク15には、第3図に示されるよう(こ加圧
室9の後端部の平面形状に対応した開口15aが形成さ
れ、露光部6dの平面形状は加圧室9の後端部からイン
ク射出口8の手前に至るインク流路の平面形状と対応す
る。なお、斜面6Cの傾斜角度は露光部6bの露光方向
(矢印入方向)と一致する。
露光部6dの形成後は、感光性ガラス板6aを熱処理し
て露光部6dを結晶化し、第1図(C)に示されるよう
に結晶部6eを形成する。なお、未露光部は結晶化され
ず、結晶部6eと明ら力)ζこ区別される。
結晶部6eの形成後は、第1図(D)に示されるように
フォトマスク16を介して感光性ガラス板6aの結晶部
6eの前方側部分をその下方てあって板厚方向(矢印C
方向)から露光して結晶部6eの前方側に結晶部6eに
連続する露光部6fを形成する。フォトマスク16には
、第4図に示されるように加圧室9の前端部からインク
射出口8に至るインク流路の平面形状に対応した開口1
6aか形成され、露光部6fの平面形状は加圧室9の前
端部からインク射出口8に至るインク流路の平面形状と
対応する。なお、開口16aは前端部か外部に開口され
ている。
露光部6fの形成後は、感光性ガラス板6aをエツチン
グ処理して結晶部6dを所定の深さまでエツチングし、
第1図(E)に示されるようにて感光性ガラス板6aの
表面に溝6gを形成する。
溝6gの形成後は、感光性ガラス板6aを再び熱処理し
て露光部6fを結晶化し、第1図(F)に示されるよう
に結晶部6hを形成する。
結晶部6hの形成後は、感光性ガラス板6aを再びエツ
チング処理して結晶部6hを所望の深さまでエツチング
し、第1図(G)に示されるよつに感光性ガラス板6a
の表面に段付き溝61を形成する。段付き溝61の前壁
は斜面6ノとなり、その傾斜角度は露光部6dの斜面6
Cの傾斜角度と対応する。すなわち、斜面6jの傾斜角
度か露光部6bの露光方向(矢印A方向)によって定め
られて斜面6jをバラつきなく傾斜させることかでき、
また露光部6bの露光方向(矢印A方向)を変えること
により斜面6jの傾斜角度を所望の大きさに設定できる
このようにして形成される段付き溝61は加圧室9から
インク射出口8に至るインク流路を構成し、その斜面6
jは加圧室9の前壁を構成する。
したがって、加圧室9の前壁をバラつきなく傾斜させて
インクの流路抵抗をバラつきなく均一にすることができ
る。また、加圧室9の前壁の傾斜角度を小さく設定して
インクの流路抵抗を低減できる。
第7図には、他の実施例が示されており、この実施例で
は第7図(A)に示されるようにして露光部6bを形成
した後は、第7図(B)に示されるようにフォトマスク
15を介して感光性ガラス板6aをその1一方てあって
仮埋方向に対して傾斜する方向(矢印り方向)から部分
的に露光して斜面6c、6kを有する露光部6dを形成
する。そして、露光部6dの形成後は、感光性ガラス板
6aを熱処理して露光部6dを結晶化し、第7図(C)
に示されるように結晶部6eを形成する。
結晶部6eの形成後は、感光性ガラス板6aをエンチン
グ処理して結晶部6eを所定の深さまでエツチングし、
第7図(D)に示されるように感光性ガラス板6aの表
面に溝6gを形成する。
溝6gの形成後は、第7図(E)に示されるようにフォ
トマスク16を介して感光性ガラス板6aの結晶部6e
の前方側部分をその下方であって板厚方向に対して傾斜
する方向(矢印E方向)から露光して結晶部6eの前方
側に結晶部6eに連続する露光部6fを形成する。
露光部6fの形成後は、感光性ガラス板6aを再び熱処
理して露光部6fを結晶化し、第7図(F)に示される
ように結晶部6hを形成する。
結晶部6hの形成後は、感光性ガラス板6aを再びエツ
チング処理して結晶部6hを所望の深さまでエツチング
し、第7図(G)に示されるようこ感光性ガラス板6a
の表面に段付き満61を形成する。段付き溝61の前壁
は斜面6ノとなり、後壁は斜面61となり、斜面6j、
61の傾斜角度はそれぞれ露光部6dの斜面6c、6に
の傾斜角度と対応される。
したがって、この実施例では、加圧室9の前壁たけてな
く、加圧室9の後壁も傾斜させてインクの流路抵抗をよ
り一層低減できる。
なお、上記実施例では第1図(A)、(B)及び第7図
(A)、(B)に示される加工工程において感光性ガラ
ス板6aを表面側から露光したか、筈先性ガラス板6a
を裏面側から露光するようにしてもよく、また露光は2
方向に限らす3方向以−Fの方向からするようにしても
よい。
また、上記実施例では感光性ガラス板6aの熱処理及び
エツチング処理を2回行って段付き溝61を形成したか
、基板7の下面にインク射出口8を構成する溝を形成す
る等、使用の態様によっては感光性ガラス板6aの熱処
理及びエツチング処理を1回にして溝6fて加圧室9を
構成するようにしてもよい。
また、上記実施例では印字ヘッド5の基板6を加工した
例を説明したか、種々のガラス板の加工に適用可能であ
る。
また、上記実施例では印字ヘッド5の基板6に溝13を
形成する場合について説明したが、本発明は溝を形成す
る場合たけに限らず、孔を形成する場合にも勿論適用可
能である。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明に係るガラス板の加工方法
では、感光性ガラス板をその板厚方向に対して傾斜する
方向及びこの方向と交差する方向の少なくとも2方向か
ら部分的に露光して当該感光性ガラス板にその板厚方向
に対して傾斜する斜面をHする露光部を形成して熱処理
・エツチング処理をするようにしたので、溝又は孔の内
壁の一部をバラつきなく傾斜させることができ、しかも
その傾斜角度を所望の大きさに設定できるという優れた
効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図(A)乃至(G)は本発明に係るガラス板の加工
方法の加工工程を示す断面図、第2図乃至第4図は本発
明に係るガラス板の加工方法に用いられるフォトマスク
の平面図、第5図は本発明に係るガラス板の加工方法か
適用された印字ヘットの平面図、第6図は第5図のVl
−Vl線に沿う断面図、第7図(A)乃至(G)は他の
実施例を示す断面図、第8図(A)乃至(C)は従来の
ガラス板の加工方法に係る加工工程を示す断面図である
。 6a・ 6C・ 6d・ 6e・ f 6g・ 6h・ ・感光性ガラス板、 ・斜面、 ・露光部、 ・結晶部、 ・露光部、 ・溝、 ・結晶部、 ・段付き溝。 第1図 6h−一一社、r8計 6i−−4ン督さ7L を順V暫1−一 第5図 第6図 第0図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)感光性ガラス板に溝又は孔を形成するガラス板の
    加工方法であって、 上記感光性ガラス板をその板厚方向に対して傾斜する方
    向及びこの方向と交差する方向の少なくとも2方向から
    部分的に露光して上記感光性ガラス板にその板厚方向に
    対して傾斜する斜面を有する露光部を形成し、 上記露光部の形成後に上記露光部を熱処理して結晶化し
    結晶部とし、 その後に上記結晶部を所望の深さまでエッチングして溝
    又は孔を形成する ことを特徴とするガラス板の加工方法。
  2. (2)請求項1において、上記露光部の結晶化後に上記
    露光部の上記斜面と隣接する部分を露光し、この露光後
    に上記結晶部を所定の深さまでエッチングし、このエッ
    チング後に上記露光部の上記斜面と隣接する部分を熱処
    理して結晶化しその後に上記結晶部と共に所望の深さま
    でエッチングして段付きの溝又は孔を形成することを特
    徴とするガラス板の加工方法。
  3. (3)請求項1において、上記結晶部のエッチング後に
    上記露光部の上記斜面と隣接する部分を露光し、この露
    光後に当該部分を熱現像して結晶化しその後に上記結晶
    部と共に所望の深さまでエッチングして段付きの溝又は
    孔を形成することを特徴とするガラス板の加工方法。
JP17163790A 1990-06-29 1990-06-29 ガラス板の加工方法 Pending JPH0459628A (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57200042A (en) * 1981-06-02 1982-12-08 Hoya Corp Exposure method for chemically machinable photosensitive glass
JPS582240A (ja) * 1981-06-26 1983-01-07 Hoya Corp 化学切削性感光ガラスの露光方法

Patent Citations (2)

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