JPS58218726A - ストライプ型ブラツクマトリツクスカラ−受像管の製造方法 - Google Patents
ストライプ型ブラツクマトリツクスカラ−受像管の製造方法Info
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- JPS58218726A JPS58218726A JP10062382A JP10062382A JPS58218726A JP S58218726 A JPS58218726 A JP S58218726A JP 10062382 A JP10062382 A JP 10062382A JP 10062382 A JP10062382 A JP 10062382A JP S58218726 A JPS58218726 A JP S58218726A
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- film
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
- H01J9/2278—Application of light absorbing material, e.g. between the luminescent areas
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はストライプ型ブラックマトリックスカラー受像
管の製造方法に関し、更に詳しくは、螢光体ストライプ
がドツキング現象を起さないストライプ型ブラックマト
リックス膜の形成方法に関する。
管の製造方法に関し、更に詳しくは、螢光体ストライプ
がドツキング現象を起さないストライプ型ブラックマト
リックス膜の形成方法に関する。
ストライプ型ブラックマトリックスのカラー受像管は、
その螢光面が非発色黒色物質のストライプと螢光体スト
ライプとのマトリックスから構成されている。
その螢光面が非発色黒色物質のストライプと螢光体スト
ライプとのマトリックスから構成されている。
一般に、この非発色黒色物質のストライプは次のような
方法で形成される。すなわち、まず、受像管のフェース
グレートの内面に感光性樹脂液を薄く塗布しこれを乾燥
として樹脂膜とする（人工程）。ついで、点状又は線状
の光源を用い、シャドウマスクを介して螢光体塗布所望
位置を露光する（Ｂ工程）。螢光体塗布所望位置の樹脂
膜は光硬化して不溶性のホトレゾスト層となシ、そうで
ない部分は光硬化せずに残留する。このとき、最終の製
品に所定の設計仕様に基づいて組み込まれる電子銃から
の電子ビームの軌跡に近似させて露光時の光の軌跡を発
生させるために、光源は該電子銃の偏向中心に模擬した
位置に設定され、しかも、該光源とシャドウマスクの間
には通常ガラス又は透明プラスナック材から構成される
補正レンズが介在される。
方法で形成される。すなわち、まず、受像管のフェース
グレートの内面に感光性樹脂液を薄く塗布しこれを乾燥
として樹脂膜とする（人工程）。ついで、点状又は線状
の光源を用い、シャドウマスクを介して螢光体塗布所望
位置を露光する（Ｂ工程）。螢光体塗布所望位置の樹脂
膜は光硬化して不溶性のホトレゾスト層となシ、そうで
ない部分は光硬化せずに残留する。このとき、最終の製
品に所定の設計仕様に基づいて組み込まれる電子銃から
の電子ビームの軌跡に近似させて露光時の光の軌跡を発
生させるために、光源は該電子銃の偏向中心に模擬した
位置に設定され、しかも、該光源とシャドウマスクの間
には通常ガラス又は透明プラスナック材から構成される
補正レンズが介在される。
その後、温水スプレーによって現象し露光されていない
樹脂膜を除去する（Ｃ工程）。このとき、樹脂膜が除去
された部分にはパネルフェース内面が露出することとな
る。
樹脂膜を除去する（Ｃ工程）。このとき、樹脂膜が除去
された部分にはパネルフェース内面が露出することとな
る。
この状態でつぎに全面に亘り黒鉛懸濁液のような光吸収
性の黒色物質を塗布して乾燥し非発色黒色物質の膜を形
成する（Ｄ工程）。ついで、ここに過酸化水素水のよう
な剥離剤を接触させる（Ｅ工程）。このとき、該剥離剤
によって光硬化した樹脂膜が膨潤して脆化する。その後
、温水スプレー処理を施せば、脆化した該樹脂膜とその
上に積層する非発色黒色物質膜とが除去されてこの部分
のパネルフェース面は露出し、他の部分はそのまま非発
色黒色物質膜が残留するからそれがストライプ型のブラ
ックマトリックスとなる。ここで、露出したパネルフェ
ース面（ストライプ状）には、蛍光体を塗布し、シャド
ウマスクを介して所定の雑光・現像処理を施して、蛍光
体ストライプとする。
性の黒色物質を塗布して乾燥し非発色黒色物質の膜を形
成する（Ｄ工程）。ついで、ここに過酸化水素水のよう
な剥離剤を接触させる（Ｅ工程）。このとき、該剥離剤
によって光硬化した樹脂膜が膨潤して脆化する。その後
、温水スプレー処理を施せば、脆化した該樹脂膜とその
上に積層する非発色黒色物質膜とが除去されてこの部分
のパネルフェース面は露出し、他の部分はそのまま非発
色黒色物質膜が残留するからそれがストライプ型のブラ
ックマトリックスとなる。ここで、露出したパネルフェ
ース面（ストライプ状）には、蛍光体を塗布し、シャド
ウマスクを介して所定の雑光・現像処理を施して、蛍光
体ストライプとする。
このようＫして製造されたストライプ型ブラックマトリ
ックスのカラー受像管においては、電子銃から発射され
た電子ビームが蛍光体ストライプに対してミスランディ
ングしないように、蛍光体ストライプ（の幅）を、該電
子銃の前方に位置するシャドウマスクのスリット孔の幅
よシも狭く形成して発光させることが必要となる。
ックスのカラー受像管においては、電子銃から発射され
た電子ビームが蛍光体ストライプに対してミスランディ
ングしないように、蛍光体ストライプ（の幅）を、該電
子銃の前方に位置するシャドウマスクのスリット孔の幅
よシも狭く形成して発光させることが必要となる。
この問題を解決するために、従来から行なわれ ”
ている対策の第１は、Ｂ工程においてスリット幅の狭い
シャドウマスクを用いてストライプ型ブラックマトリッ
クスの螢光■ｉミラ成した後、用いたシャドウマスクを
適宜な腐食液でエツチングして該スリット幅を該螢光面
の螢光体ストライプの幅よシも広くしこれを組み込むい
わゆるポストエツチング方式である。
ている対策の第１は、Ｂ工程においてスリット幅の狭い
シャドウマスクを用いてストライプ型ブラックマトリッ
クスの螢光■ｉミラ成した後、用いたシャドウマスクを
適宜な腐食液でエツチングして該スリット幅を該螢光面
の螢光体ストライプの幅よシも広くしこれを組み込むい
わゆるポストエツチング方式である。
しかしながら、この方式にあっては、シャドウマスクス
リットのエツチングの際にビーム通過孔の壁面形状がサ
イドエッチして悪化すること、シャドウマスク表面に被
着する放熱用の酸化皮膜が剥離すること、エツチング後
の熱処理でシャドウマスクに歪みが生ずること、などの
不都合な事態を招く。
リットのエツチングの際にビーム通過孔の壁面形状がサ
イドエッチして悪化すること、シャドウマスク表面に被
着する放熱用の酸化皮膜が剥離すること、エツチング後
の熱処理でシャドウマスクに歪みが生ずること、などの
不都合な事態を招く。
その対策の第２は、Ｂ工程で三原色の光源で感光性樹脂
膜の所定位置を照射する際に、該照射位置面積を小さく
し、隣接する光吸収層相自位置の面積（幅）が広くなる
ように妬光する光学的方法である。
膜の所定位置を照射する際に、該照射位置面積を小さく
し、隣接する光吸収層相自位置の面積（幅）が広くなる
ように妬光する光学的方法である。
しかしながら、この方法にあっては、通常、工数との関
係からして、三原色の光源で連続的に露光してから現像
するため、本来光吸収層とならなければならない位置の
樹脂膜まで光の回折現象によって露光されて硬化し、そ
の結果、樹脂膜の硬化部分が連続してしまい、いわゆる
ドツキング現象が起シ易ずいという欠点がある。
係からして、三原色の光源で連続的に露光してから現像
するため、本来光吸収層とならなければならない位置の
樹脂膜まで光の回折現象によって露光されて硬化し、そ
の結果、樹脂膜の硬化部分が連続してしまい、いわゆる
ドツキング現象が起シ易ずいという欠点がある。
このドツキング現象を解消するために、近時、相反則不
軌性の感光性樹脂膜を用い、これをＢ工程においてシュ
ワルトシュルト定数ｐがｏ＜ｐ＜０．７６の条件で露光
して、実際の光照射区域よシも小さい面積の螢光体スト
ライプを、最終的に螢光体を塗布すべき部分に形成する
という方法が提案されている（特公昭５２−１３９１３
号参照）。
軌性の感光性樹脂膜を用い、これをＢ工程においてシュ
ワルトシュルト定数ｐがｏ＜ｐ＜０．７６の条件で露光
して、実際の光照射区域よシも小さい面積の螢光体スト
ライプを、最終的に螢光体を塗布すべき部分に形成する
という方法が提案されている（特公昭５２−１３９１３
号参照）。
しかしながら、この方法にあっても未だ充分なランディ
ング余裕度を有するストライプ型ブラックマトリックス
−螢光体ストライプを形成し得す、現在更なる改善が望
まれている。
ング余裕度を有するストライプ型ブラックマトリックス
−螢光体ストライプを形成し得す、現在更なる改善が望
まれている。
本発明は、螢光体ストライプのドツキング現象を防止し
得るストライプ型ブラックマトリックス膜の形成方法の
提供を目的とする。
得るストライプ型ブラックマトリックス膜の形成方法の
提供を目的とする。
本発明方法は、相反則不軌特性を有する感光性樹脂の膜
をフェースプ１／−）内面に形成する工程（第１工程）
と；シャドウマスクを介し、ストライプ型ブラックマト
リックスの光吸収層を形成す、 べき位置にある核樹
脂膜の部分のみに光が照射されるように光源位置を変位
させ、該樹脂膜中の樹脂成分を光架橋させることなく該
樹脂膜中の光架橋剤を光分解させるように無光する工程
（第２工程）と；螢光体塗布を所望する位置にある該樹
脂膜の部分が光架橋するように露光する工程（第３工程
）と；該光吸収層形成位置にある該樹脂膜の部分を選択
的に除去する現像工程（第４工程）と；腰元吸収層形成
位置及び該螢光体塗布所望位置にある核樹脂膜の部分の
上に全面に亘シ非発色黒色物質の膜を形成する工程（第
５工程）と；剥離剤を適用して、該螢光体塗布所望位置
にある該樹脂膜の部分及びその上の該非発色黒色物質を
選択的に除去する工程（第６エ程）とから成ることを特
徴とする。
をフェースプ１／−）内面に形成する工程（第１工程）
と；シャドウマスクを介し、ストライプ型ブラックマト
リックスの光吸収層を形成す、 べき位置にある核樹
脂膜の部分のみに光が照射されるように光源位置を変位
させ、該樹脂膜中の樹脂成分を光架橋させることなく該
樹脂膜中の光架橋剤を光分解させるように無光する工程
（第２工程）と；螢光体塗布を所望する位置にある該樹
脂膜の部分が光架橋するように露光する工程（第３工程
）と；該光吸収層形成位置にある該樹脂膜の部分を選択
的に除去する現像工程（第４工程）と；腰元吸収層形成
位置及び該螢光体塗布所望位置にある核樹脂膜の部分の
上に全面に亘シ非発色黒色物質の膜を形成する工程（第
５工程）と；剥離剤を適用して、該螢光体塗布所望位置
にある該樹脂膜の部分及びその上の該非発色黒色物質を
選択的に除去する工程（第６エ程）とから成ることを特
徴とする。
以下に、各工程を詳細に説明する。
まず、第１工程はフェースプレートの内面に相反則不軌
特性を有する感光性樹脂を薄く塗布して乾燥しその樹脂
膜を形成する工程である。本発明で用いる感光性樹脂は
、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなど常
用される樹脂成分に４．４′−ジアジドベンザルアセト
フェノン−２−スルホン酸、４．４′−ジアジドスチル
ベン−２，２′−ジスルホン酸、４．４’−ジアジドス
チルベン−α−カルがン酸及びそれらの塩などの水溶性
ビスアシド化合物のような光架橋剤を含有させたもので
ある。
特性を有する感光性樹脂を薄く塗布して乾燥しその樹脂
膜を形成する工程である。本発明で用いる感光性樹脂は
、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなど常
用される樹脂成分に４．４′−ジアジドベンザルアセト
フェノン−２−スルホン酸、４．４′−ジアジドスチル
ベン−２，２′−ジスルホン酸、４．４’−ジアジドス
チルベン−α−カルがン酸及びそれらの塩などの水溶性
ビスアシド化合物のような光架橋剤を含有させたもので
ある。
このような感光性樹脂は、酸素雰囲気（酸素濃度７０〜
１００ ｖｏ１％）若しくは高温雰囲気（温度６０〜９
０℃）又は両者が一緒になった雰囲気の下で、１ 、５
ｍＷ ／ ６Ｉ以下の弱い光強度で露光すると、該樹脂
中の光架橋剤が光分解し樹脂成分は光架橋（光硬化）現
象を起さないという特性を備えている。
１００ ｖｏ１％）若しくは高温雰囲気（温度６０〜９
０℃）又は両者が一緒になった雰囲気の下で、１ 、５
ｍＷ ／ ６Ｉ以下の弱い光強度で露光すると、該樹脂
中の光架橋剤が光分解し樹脂成分は光架橋（光硬化）現
象を起さないという特性を備えている。
、本発明方法は、上記した相反則不軌特性を有効
“ｉに利用するものであるが、本発明に用いる感光性樹
脂にあっては、樹脂成分に対し重量比で０．１〜１０重
Ｊｔ％の光架橋剤を含有したものを用いることが好適で
ある。
“ｉに利用するものであるが、本発明に用いる感光性樹
脂にあっては、樹脂成分に対し重量比で０．１〜１０重
Ｊｔ％の光架橋剤を含有したものを用いることが好適で
ある。
第１工程で得られた樹脂膜ｉ；ｔ、次に第２工程に移送
され、ここで目的とするストライプ型のブラックマトリ
ックスを形成すべき位置にある樹脂膜の部分の光架橋性
を消失せしめる処理が行なわれる。すなわち、シャドウ
マスクを介し、光源位置を変位させて、ブラックマトリ
ックスの光吸収層を形成すべき位置にある樹脂膜にのみ
、光源から連続して所定の光強度の光を照射する。
され、ここで目的とするストライプ型のブラックマトリ
ックスを形成すべき位置にある樹脂膜の部分の光架橋性
を消失せしめる処理が行なわれる。すなわち、シャドウ
マスクを介し、光源位置を変位させて、ブラックマトリ
ックスの光吸収層を形成すべき位置にある樹脂膜にのみ
、光源から連続して所定の光強度の光を照射する。
この工程は、酸素雰囲気若しくは高温雰囲気又は両者が
一緒になった雰囲気の中で行なわれる。
一緒になった雰囲気の中で行なわれる。
酸素雰囲気の場合、その酸素濃度が７０〜１００ｖｏｌ
チであることが好ましく、また高温雰囲気の場合、その
温度が６０〜９０℃の範囲にあることが好ましい。これ
らの条件が満されない場合には、露光された樹脂膜の部
分（光吸収層を形成すべき部分）が光架橋（光硬化）し
て本発明の目的は達成されない。
チであることが好ましく、また高温雰囲気の場合、その
温度が６０〜９０℃の範囲にあることが好ましい。これ
らの条件が満されない場合には、露光された樹脂膜の部
分（光吸収層を形成すべき部分）が光架橋（光硬化）し
て本発明の目的は達成されない。
また、照射する光の強度は、０．８〜１．５ ｍＷ／
ｃｊの範囲にあることが好ましく、光強度が０．８ｍＷ
／−未満の場合にｔよ露光した樹脂膜の部分の光架橋剤
が光分解して核部分が光架橋性を消失するのに多大の時
間を要し、逆に光強度が１ 、！Ｓ ｍＷ／ｃｄを超え
ると該部分が光架橋して本発明の目的が達成されにくく
なる、 更に、この工程において１−ｉ、光吸収層形成位置の樹
脂膜部分にのみ光を照射するために、光源位置を変位さ
せることが必要である。すなわち、所定の設計仕様に基
づく三原色の電子銃の露光位置から、シャドウマスクの
スリット幅方向にＰ）Ｉ”Ｉｎ／６Ｑ（ＰＨニスリット
の幅方向のピッチ、Ｌ６：光源と露光すべき樹脂膜面ま
での距離、ｑ；シャドウマスクと露光すべき樹脂膜まで
の距離、単位はいずれも同一）で算出される距離だけ変
位させることが必要であ゛る、異体的にはスリット幅の
号だけ変位させる。この位置から露光すると、各光源か
らの光は光吸収層形成位置に照射されることとなり、し
かもその中心部では強く周辺部にいく程弱く表る。
ｃｊの範囲にあることが好ましく、光強度が０．８ｍＷ
／−未満の場合にｔよ露光した樹脂膜の部分の光架橋剤
が光分解して核部分が光架橋性を消失するのに多大の時
間を要し、逆に光強度が１ 、！Ｓ ｍＷ／ｃｄを超え
ると該部分が光架橋して本発明の目的が達成されにくく
なる、 更に、この工程において１−ｉ、光吸収層形成位置の樹
脂膜部分にのみ光を照射するために、光源位置を変位さ
せることが必要である。すなわち、所定の設計仕様に基
づく三原色の電子銃の露光位置から、シャドウマスクの
スリット幅方向にＰ）Ｉ”Ｉｎ／６Ｑ（ＰＨニスリット
の幅方向のピッチ、Ｌ６：光源と露光すべき樹脂膜面ま
での距離、ｑ；シャドウマスクと露光すべき樹脂膜まで
の距離、単位はいずれも同一）で算出される距離だけ変
位させることが必要であ゛る、異体的にはスリット幅の
号だけ変位させる。この位置から露光すると、各光源か
らの光は光吸収層形成位置に照射されることとなり、し
かもその中心部では強く周辺部にいく程弱く表る。
以上のように第２工程での処理を施されることによって
、第１工程で形成された樹脂膜の光吸収層を形成すべき
位置にある部分は、その光架橋剤が光分解されて光架橋
性が消失する。
、第１工程で形成された樹脂膜の光吸収層を形成すべき
位置にある部分は、その光架橋剤が光分解されて光架橋
性が消失する。
ついで、これは第３工程に移送され、ここで、螢光体塗
布所望位置にある樹脂膜の部分を所定の光強度で露光し
て光架橋させる。この場合、上記した雰囲気条件又は光
源位置の条件を解除して露光する。具体的には、シャド
ウマスクを外しての全面露光又は光源を所定の位置に戻
しての露光が行なわれる。全面露光の場合、光吸収層形
成位置にある樹脂膜は、その中の光架橋剤が既に第２工
程によって光分解しているので、光架橋せず、各層に隣
接する螢光体塗布所望位置にある樹脂膜の部分のみが光
架橋して不溶化する。
布所望位置にある樹脂膜の部分を所定の光強度で露光し
て光架橋させる。この場合、上記した雰囲気条件又は光
源位置の条件を解除して露光する。具体的には、シャド
ウマスクを外しての全面露光又は光源を所定の位置に戻
しての露光が行なわれる。全面露光の場合、光吸収層形
成位置にある樹脂膜は、その中の光架橋剤が既に第２工
程によって光分解しているので、光架橋せず、各層に隣
接する螢光体塗布所望位置にある樹脂膜の部分のみが光
架橋して不溶化する。
この第３工程で適用する光強度は、螢光体塗布所望位置
の樹脂膜を光架橋せしめるに必要な強さであればよく、
通常、１ 、５ ｍＷ／ ｄｉよシ大きい強度である。
の樹脂膜を光架橋せしめるに必要な強さであればよく、
通常、１ 、５ ｍＷ／ ｄｉよシ大きい強度である。
以上のように２段階の露光処理が施された樹脂膜は、つ
ぎに第４工程で例えば温水スプレーを吹き当てて現像さ
れる。螢光体塗布所望位置にある樹脂膜の部分は光架橋
して不溶化しているのでそのまま残存し、光゛吸収層形
成位置にある樹脂膜の部分のみが選択的に除去されて、
そこにフェースプレート面が紐出する。
ぎに第４工程で例えば温水スプレーを吹き当てて現像さ
れる。螢光体塗布所望位置にある樹脂膜の部分は光架橋
して不溶化しているのでそのまま残存し、光゛吸収層形
成位置にある樹脂膜の部分のみが選択的に除去されて、
そこにフェースプレート面が紐出する。
第５工程は、このようにして得られた面の全面に亘ヤ非
発色黒色物質の懸濁液を塗布して乾燥し非発色黒色物質
の膜を形成する工程である。ここで、非発色黒色物質と
は、電子銃から放射される藏子ビームによっては発色す
ることのない材質であシ、本発明においては公知の材料
のいずれでも使用可能である。具体的には、愚鉛、二酸
化マンガンなどが用いられる。
発色黒色物質の懸濁液を塗布して乾燥し非発色黒色物質
の膜を形成する工程である。ここで、非発色黒色物質と
は、電子銃から放射される藏子ビームによっては発色す
ることのない材質であシ、本発明においては公知の材料
のいずれでも使用可能である。具体的には、愚鉛、二酸
化マンガンなどが用いられる。
ついで、上記第５工程で得た膜の表面に、過酸化水素水
、硫酸など常用の酸化剤からなる剥離剤の水溶液を接触
させる。この第６エ程において、 。
、硫酸など常用の酸化剤からなる剥離剤の水溶液を接触
させる。この第６エ程において、 。
光架橋した樹脂膜（螢光体塗布所望位置の樹脂膜） ”
は剥離剤によって膨潤・脆化する。ここに、例えば温水
スプレー処理を施せば、膨潤・脆化した樹脂膜はその上
に形成されている非発色黒色物質膜とともに選択的に除
去されて、その位置にフェースプレート面が露出する。
は剥離剤によって膨潤・脆化する。ここに、例えば温水
スプレー処理を施せば、膨潤・脆化した樹脂膜はその上
に形成されている非発色黒色物質膜とともに選択的に除
去されて、その位置にフェースプレート面が露出する。
一方、第４工程で露出したフェースグレート面に塗布さ
れている非発色黒色物質膜は、この第６エ程で除去され
ることはない。したがって、とこに、本発明にかかるス
トライブ型のブラックマトリックスが形成される。
れている非発色黒色物質膜は、この第６エ程で除去され
ることはない。したがって、とこに、本発明にかかるス
トライブ型のブラックマトリックスが形成される。
実施例１
１４インチカラー受像管のノ々ネルフェースの内面に下
記組成の感光性樹脂液を厚み帆５５μで塗布し、乾燥し
て膜形成した稜、８０℃の空気雰囲気中でスリット幅０
．１６５ ｖｍ、横ピッチＰＨ（＝０．６−のシャドウ
マスクを介して該感光性樹脂膜を露光した。光源位置は
、光源からフェースグレート内面（該樹脂膜の表面）迄
の距離Ｌ６＝２１７１１１、シャドウマスクからフェー
スプレート内面迄の距離ｑ＝１１．２ｍとしたとき、通
常のストライプ型カラー受像管の螢光面の露光位置、つ
まシ、Ｇ。
記組成の感光性樹脂液を厚み帆５５μで塗布し、乾燥し
て膜形成した稜、８０℃の空気雰囲気中でスリット幅０
．１６５ ｖｍ、横ピッチＰＨ（＝０．６−のシャドウ
マスクを介して該感光性樹脂膜を露光した。光源位置は
、光源からフェースグレート内面（該樹脂膜の表面）迄
の距離Ｌ６＝２１７１１１、シャドウマスクからフェー
スプレート内面迄の距離ｑ＝１１．２ｍとしたとき、通
常のストライプ型カラー受像管の螢光面の露光位置、つ
まシ、Ｇ。
Ｂ、Ｒの電子銃の位置に相当する露光移置よシもＣｐＨ
−Ｌ＋Ｏ／ ６ ｑ ）だけ各々変位させ、各々その変
位させた位置で露光して、ブラックストライプを形成す
べき位置のみに光を当てた。
−Ｌ＋Ｏ／ ６ ｑ ）だけ各々変位させ、各々その変
位させた位置で露光して、ブラックストライプを形成す
べき位置のみに光を当てた。
感光性樹脂の組成
ポリビニルピロリドン ４
．７２界面活性剤（ノニオン、日本油脂＠）製）
０．０７５ｆエチルアルコール
１．１２純水 １９５．５
ｆ鉢光を行なう際には、この露光域の大きさは、フェ
ースプレートの画面中央部では小さく、その周辺部で大
きくする事が必要となるので光強度補正フィルターとを
用いて、露光した。具体的には、中央の光強度を１ 、
１ ｍＷ／ｃｄ、周辺部の光強度を１．３ｍＷ／−とし
、シャドウマスクの大きさを中央部で０．１６５１１１
１、周辺部で０．１５５ｍｍとして約６秒間露光した。
．７２界面活性剤（ノニオン、日本油脂＠）製）
０．０７５ｆエチルアルコール
１．１２純水 １９５．５
ｆ鉢光を行なう際には、この露光域の大きさは、フェ
ースプレートの画面中央部では小さく、その周辺部で大
きくする事が必要となるので光強度補正フィルターとを
用いて、露光した。具体的には、中央の光強度を１ 、
１ ｍＷ／ｃｄ、周辺部の光強度を１．３ｍＷ／−とし
、シャドウマスクの大きさを中央部で０．１６５１１１
１、周辺部で０．１５５ｍｍとして約６秒間露光した。
露光終了後、ノ平ネル温度を３５”Ｃ’！！で下げてか
らシャドウマスクを外し、光強度２．１ｍＷ／−で約２
秒間、パネルの内面を全面露光した。温水現像後、黒鉛
懸濁液を・臂ネル内面に全面塗布・乾燥して黒鉛膜を形
成した。ついで１５％スルファミノ酸水溶液中に約６０
秒浸漬した後、温水スプレーで処理した。両面中央部の
ストライプ幅０．１４ｗｎ＋＋。
らシャドウマスクを外し、光強度２．１ｍＷ／−で約２
秒間、パネルの内面を全面露光した。温水現像後、黒鉛
懸濁液を・臂ネル内面に全面塗布・乾燥して黒鉛膜を形
成した。ついで１５％スルファミノ酸水溶液中に約６０
秒浸漬した後、温水スプレーで処理した。両面中央部の
ストライプ幅０．１４ｗｎ＋＋。
周辺部のストライプ幅０．０９＋＋ｗ＋の良好なプラッ
クストライプが形成された。
クストライプが形成された。
実施例２
露光を酸累濃度８０％の雰囲気中で行なったこと、ノや
ネル温度を３５°Ｃに下げた後、シャドウマスクは外さ
ずに通常の露光位置に戻し、その位置から光強度２．０
ｍＷ／ｄｉで約３秒、Ｒ，Ｇ”、Ｂのそれぞれの螢光
体位置を露光したことを除いては実施例１と同様圧して
プラックストライプを形成した。同様の結果が得られ九
。
ネル温度を３５°Ｃに下げた後、シャドウマスクは外さ
ずに通常の露光位置に戻し、その位置から光強度２．０
ｍＷ／ｄｉで約３秒、Ｒ，Ｇ”、Ｂのそれぞれの螢光
体位置を露光したことを除いては実施例１と同様圧して
プラックストライプを形成した。同様の結果が得られ九
。
以上の説明で明らかなように、本発明方法によれば螢光
体ストライプのＦツキング現象が防１ｉ１れ、電子ビー
ムのランディング余裕度の高い蛍光面を形成できるので
その工業的価値は極めて大である。
体ストライプのＦツキング現象が防１ｉ１れ、電子ビー
ムのランディング余裕度の高い蛍光面を形成できるので
その工業的価値は極めて大である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 相反則不軌特性を有する感光性樹脂の膜をフェースグレ
ート内面に形成する工程と； シー？）ＭＦマスクを介し、ストライプ型ブラックマ）
ＩＪソックス光吸収層を形成すべき位置にある該樹脂
膜の部分のみに光が照射されるように光源位置を変位さ
せ、該樹脂膜中の樹脂成分を光架橋させることなく該樹
脂膜中の光架橋剤を光分解させるように露光する工程と
； 螢光体塗布を所望する位置にある該樹脂膜の部分が光架
橋するように露光する工程と；該光吸収層形成位置にあ
る該樹脂膜の部分を選択的に除去する現像工程と： 核光吸収層形成位置及び該螢光体塗布所望位置にある該
樹脂膜の部分の上に全面に亘シ非発色黒色物質の膜を形
成する工程と； 剥離剤を適用して、８つ螢光体塗布所望位置にある該樹
脂膜の部分及びその上の該非発色黒色物質を選択的に除
去する工程とから成ることを特徴とするストライプ型ブ
ラックマトリックスカラー受像管の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10062382A JPS58218726A (ja) | 1982-06-14 | 1982-06-14 | ストライプ型ブラツクマトリツクスカラ−受像管の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10062382A JPS58218726A (ja) | 1982-06-14 | 1982-06-14 | ストライプ型ブラツクマトリツクスカラ−受像管の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58218726A true JPS58218726A (ja) | 1983-12-20 |
| JPH0133023B2 JPH0133023B2 (ja) | 1989-07-11 |
Family
ID=14278957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10062382A Granted JPS58218726A (ja) | 1982-06-14 | 1982-06-14 | ストライプ型ブラツクマトリツクスカラ−受像管の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58218726A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6226741A (ja) * | 1985-07-26 | 1987-02-04 | Sony Corp | カラ−陰極線管の螢光面形成方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5420824U (ja) * | 1977-07-13 | 1979-02-09 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5420824B2 (ja) * | 1972-05-22 | 1979-07-25 |
-
1982
- 1982-06-14 JP JP10062382A patent/JPS58218726A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5420824U (ja) * | 1977-07-13 | 1979-02-09 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6226741A (ja) * | 1985-07-26 | 1987-02-04 | Sony Corp | カラ−陰極線管の螢光面形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0133023B2 (ja) | 1989-07-11 |
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