JPS58216193A - ペニシリンおよびセファロスポリン化合物の製造に有用な新規中間体 - Google Patents
ペニシリンおよびセファロスポリン化合物の製造に有用な新規中間体Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D499/00—Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D499/00—Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D499/04—Preparation
- C07D499/10—Modification of an amino radical directly attached in position 6
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/10—Compounds having one or more C—Si linkages containing nitrogen having a Si-N linkage
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はペニシリン化合物およびセファロス−リン化合
物の製造方法、並びにその製造方法に有用な新規中間体
に関する。
物の製造方法、並びにその製造方法に有用な新規中間体
に関する。
アルペニシリンα−スルホキシドがセファロスポリン化
合物の製造における中間体として重要なことは、英国特
許第2,003,475号に記載され、α−スルホキ¥
Fil導体がより高い収率を与え、またより穏やかな条
件の使用を含む点でβ−スルホキシド形態より好ましい
ことが示されている。
合物の製造における中間体として重要なことは、英国特
許第2,003,475号に記載され、α−スルホキ¥
Fil導体がより高い収率を与え、またより穏やかな条
件の使用を含む点でβ−スルホキシド形態より好ましい
ことが示されている。
また、テトラヘドロン・レターズ(T@trah・dr
onLstt@rs %vol、 22 % A 1
9、pp1787−1790.1981)中の論文に、
ジエリック(S、 Dlurlc )らが6−アミノペ
ニシラン酸の環式ジシラジン誘導体の製造を開示してい
るが、この化合物は次のそれ以上の化合物の合成に用い
られていない。
onLstt@rs %vol、 22 % A 1
9、pp1787−1790.1981)中の論文に、
ジエリック(S、 Dlurlc )らが6−アミノペ
ニシラン酸の環式ジシラジン誘導体の製造を開示してい
るが、この化合物は次のそれ以上の化合物の合成に用い
られていない。
発明者らは、今回あるペニシリンまたはセファクスーリ
ン型環のシリル化が高収率でα−スルホキシドを製造す
るのに役立つことを見出した。
ン型環のシリル化が高収率でα−スルホキシドを製造す
るのに役立つことを見出した。
従って本発明は式:
(式中R1、R2、R3およびR4は同一かまたは異な
っていてアルキル、アルコキシまたはアリールであp、
xはアルキレンであり、R5けカルyyy酸保−基であ
り、Yは1または2個の炭素原子を通してペナムmtた
はセフェム環を形成する連鎖基である。) のスルホΦシトを製造する方法を提供し、その方法には
式: の化合物を酸化剤と反応させることが含まれる。
っていてアルキル、アルコキシまたはアリールであp、
xはアルキレンであり、R5けカルyyy酸保−基であ
り、Yは1または2個の炭素原子を通してペナムmtた
はセフェム環を形成する連鎖基である。) のスルホΦシトを製造する方法を提供し、その方法には
式: の化合物を酸化剤と反応させることが含まれる。
好ましくは基Yは式:
%式%
(式中86 は水素、ハロ、メトキ7、アセトキシ、ホ
ルξルオキー7%アジド、ニトロ、シアノまたはフェニ
ルアミノであるU) の基または式: %式% (式中R7はメチル、ハロ、ハロメチルtたtiアセト
キシメチルである。) の基である。
ルξルオキー7%アジド、ニトロ、シアノまたはフェニ
ルアミノであるU) の基または式: %式% (式中R7はメチル、ハロ、ハロメチルtたtiアセト
キシメチルである。) の基である。
上記のように酸化反応は大部分または全くα−スルホキ
シド形態を生じ、一般に生成物中に存在するβ−スルホ
キシドは10%未満であり、従ってその方法は式(1)
のα−スルホキシドを製造する方法とみなすことができ
る。
シド形態を生じ、一般に生成物中に存在するβ−スルホ
キシドは10%未満であり、従ってその方法は式(1)
のα−スルホキシドを製造する方法とみなすことができ
る。
式(υの化合物は新規でおり、本発明の一部として包含
される。それらは酸の作用により脱シリル化して相応す
る遊離アミノ化合物を与えるので、塩基の存在下に好ま
しくは過酸酸化剤の作用により製造される。これを行な
うことができる容易さは本発明の一層の利点を宍わすこ
とができ、その遊離アミノ化合物は次の活性化合物を与
えるためのアシル化に、またはペニシリン型鱒導体の場
合にセファロスポリン化合物を与える友めの環拡張反応
に必須の出発物質である。本発明の方法によって製造さ
れた、または本発明の新規中間体から製造された抗生の
セファロスポリンおよびぺちシリン化合分は本発IMK
包含される。
される。それらは酸の作用により脱シリル化して相応す
る遊離アミノ化合物を与えるので、塩基の存在下に好ま
しくは過酸酸化剤の作用により製造される。これを行な
うことができる容易さは本発明の一層の利点を宍わすこ
とができ、その遊離アミノ化合物は次の活性化合物を与
えるためのアシル化に、またはペニシリン型鱒導体の場
合にセファロスポリン化合物を与える友めの環拡張反応
に必須の出発物質である。本発明の方法によって製造さ
れた、または本発明の新規中間体から製造された抗生の
セファロスポリンおよびぺちシリン化合分は本発IMK
包含される。
あるいは式(1)の化合物を直接選択的アシル化剤1
と反応させ所望のアシル化生成物を与えることができる
。式(旬の中間体は相応する遊離アミノ化合物から式: (式中2けハafンである。) のシリル化剤との反応により容易に製造される。
。式(旬の中間体は相応する遊離アミノ化合物から式: (式中2けハafンである。) のシリル化剤との反応により容易に製造される。
R’、R2,R3およびR4がすべてメチルであり、X
が−(CH2)2−でらり、R5がメチルであり、Yが
でおる化合物を除く式(1)の化合物は新規でbシ、さ
らに本発明の態様として包含される。
が−(CH2)2−でらり、R5がメチルであり、Yが
でおる化合物を除く式(1)の化合物は新規でbシ、さ
らに本発明の態様として包含される。
従って本発明はま之、式:
(式中R5およびYけ前記内容を有する。)の化合物を
製造する方法を提供し、その方法にけ、(a)式: の化合物と式; (式中R’ b R2、R’、R’オjびXハ上ffi
内容を有し、2けハロrンである。) のシリル化剤と反応させて式(■): の化合物を与える、 (b) 式(IF)の化合物を酸化剤と反応させ式;
(c) 式(1)の化合物を酸と反応させる、ことが
包含される。式(ト)の化合物は次いで任意K、例えば
式: R8C0Z t タ4−t R8C0OH(D無
水物誘導体(式中2はハロゲン、好ましくは塩素、であ
り、R8は結合したカルブニル基と合せてカルざン酸誘
導アシル基である。)のアシル化剤を用いることにより
そのアシル化生成物に転化することができる。あるいは
上記のように式(1)の化合物を式:の化合物を式:
R8C0Z (式中2はハロゲン、好ましくは塩素、
である。)のアシル化剤と反応させ、次いで水またはア
ルコールで処理することによりそのアシル化生成物: 5 に直接転化することが□できる。
製造する方法を提供し、その方法にけ、(a)式: の化合物と式; (式中R’ b R2、R’、R’オjびXハ上ffi
内容を有し、2けハロrンである。) のシリル化剤と反応させて式(■): の化合物を与える、 (b) 式(IF)の化合物を酸化剤と反応させ式;
(c) 式(1)の化合物を酸と反応させる、ことが
包含される。式(ト)の化合物は次いで任意K、例えば
式: R8C0Z t タ4−t R8C0OH(D無
水物誘導体(式中2はハロゲン、好ましくは塩素、であ
り、R8は結合したカルブニル基と合せてカルざン酸誘
導アシル基である。)のアシル化剤を用いることにより
そのアシル化生成物に転化することができる。あるいは
上記のように式(1)の化合物を式:の化合物を式:
R8C0Z (式中2はハロゲン、好ましくは塩素、
である。)のアシル化剤と反応させ、次いで水またはア
ルコールで処理することによりそのアシル化生成物: 5 に直接転化することが□できる。
式(n)の化合物の式(I)の化合物への転化は酸化剤
の存在下に進行する。酸化剤は好ましくは過酸。
の存在下に進行する。酸化剤は好ましくは過酸。
殊に過酢酸、m−クロロ過安息香酸またはモノ過フタル
酸である。シリル保護基は酸によって容易に除去される
事実を顧慮し、反応は側鎖の喪失を防ぐのに十分な塩基
の存在下に行なわれ、7ないし15、殊に8ないし11
の範囲のp■で行なうことが好ましい。そのような酸酸
化剤とともに使用できる便利な塩基はアルカリ金属また
はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩および重炭酸塩
のような無機塩基、殊に水酸化ナトリウム、炭酸ナトリ
ウムおよび重炭酸ナトリウム、あるいは商業的に入手で
きる緩衝溶液、あるいは例えばトリエチ6 ルアミン、ジメチルアニリンおよびピリジンのような有
機窒素塩基である。反応はまた、式(1)の化合物に対
する有機溶媒の存在下に行なうのが好ましく、また0℃
ないし5℃のような一10℃ないし30℃の温度で行な
うのが最も適当である。
酸である。シリル保護基は酸によって容易に除去される
事実を顧慮し、反応は側鎖の喪失を防ぐのに十分な塩基
の存在下に行なわれ、7ないし15、殊に8ないし11
の範囲のp■で行なうことが好ましい。そのような酸酸
化剤とともに使用できる便利な塩基はアルカリ金属また
はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩および重炭酸塩
のような無機塩基、殊に水酸化ナトリウム、炭酸ナトリ
ウムおよび重炭酸ナトリウム、あるいは商業的に入手で
きる緩衝溶液、あるいは例えばトリエチ6 ルアミン、ジメチルアニリンおよびピリジンのような有
機窒素塩基である。反応はまた、式(1)の化合物に対
する有機溶媒の存在下に行なうのが好ましく、また0℃
ないし5℃のような一10℃ないし30℃の温度で行な
うのが最も適当である。
上記式(1)において R1、R2、R3およびR4は
アルキルであることができ、例えばメチル、エチル、n
−プロピル、イソゾロビル、nブチルまたはt−ブチル
のようなC1−4アルキルであることができ、好ましい
ものはメチルであり、あるいは、これらの基の1個また
はより多くがアルコキシ、好tt、<はメトキシまたは
エトキシのようなC1−4アルコキシ、あるいは、例え
ばフェニルあるいは例えばC1−4アルキル、ニトロ、
710、C1−a フルコキシから選んだ1ないし3
のような1以上の置換基で置換されたフェニルのような
了りビルであることができる。基Xは好ましくは1ない
し5個の炭素原子を含むアルキレン鎖であり、それは例
えば−(CH2)n−(式中nは1ないし5の整数であ
る。)であることができる。Yの好ましいものは1 、;C(CI−13)2. >C(CHg)CHzCt
、−CH2C(CH3’)=、−CH2C(Ct)=、
−c+2c(c+2cz)=、−CH2C(CH2
0COCHy、)= 。
アルキルであることができ、例えばメチル、エチル、n
−プロピル、イソゾロビル、nブチルまたはt−ブチル
のようなC1−4アルキルであることができ、好ましい
ものはメチルであり、あるいは、これらの基の1個また
はより多くがアルコキシ、好tt、<はメトキシまたは
エトキシのようなC1−4アルコキシ、あるいは、例え
ばフェニルあるいは例えばC1−4アルキル、ニトロ、
710、C1−a フルコキシから選んだ1ないし3
のような1以上の置換基で置換されたフェニルのような
了りビルであることができる。基Xは好ましくは1ない
し5個の炭素原子を含むアルキレン鎖であり、それは例
えば−(CH2)n−(式中nは1ないし5の整数であ
る。)であることができる。Yの好ましいものは1 、;C(CI−13)2. >C(CHg)CHzCt
、−CH2C(CH3’)=、−CH2C(Ct)=、
−c+2c(c+2cz)=、−CH2C(CH2
0COCHy、)= 。
であり、式(1)の化合物はベナムまたはセフェム誘導
体: である。
体: である。
基R5はカルがン酸保護基である。この語は。
カルざン酸官能を封鎖または保護するが一方化合物の他
の官能性部位を含む反応が行なわれるために用いる。一
般に用いられるカルダン酸保護基を示している。そのよ
うなカルボキシ保護基は加水分解法により、または水素
化分解法により相当するカルがン酸に開裂することの容
易さについて注目すれる。カルがン酸エステル保護基の
例にはメチル、t・「t−ブチル、ベンジル、4−メト
キシベンジルI C2−6アルカノイルオキシメチル、
2−ヨードエチル、p−二トロベンヅル、ジフェニルメ
チル(ベンズヒドリル)、フェナシル、4−ノーローフ
ェナシル、ジメチルアリル、2.2.2−トリクロロエ
チル、トリ(CI−!Sアルキル)シリル、スクシンイ
ミドメチルおよび類似のエステル形成成分が含まれる。
の官能性部位を含む反応が行なわれるために用いる。一
般に用いられるカルダン酸保護基を示している。そのよ
うなカルボキシ保護基は加水分解法により、または水素
化分解法により相当するカルがン酸に開裂することの容
易さについて注目すれる。カルがン酸エステル保護基の
例にはメチル、t・「t−ブチル、ベンジル、4−メト
キシベンジルI C2−6アルカノイルオキシメチル、
2−ヨードエチル、p−二トロベンヅル、ジフェニルメ
チル(ベンズヒドリル)、フェナシル、4−ノーローフ
ェナシル、ジメチルアリル、2.2.2−トリクロロエ
チル、トリ(CI−!Sアルキル)シリル、スクシンイ
ミドメチルおよび類似のエステル形成成分が含まれる。
グリーン(丁、 W、 Graen )により「有機合
成における保護基(ProtectlveGroups
In Organic 5ynthesis ) J
第5章に記載されるよう力他の公知のカルボキシ保護基
もまた9 臨界的ではないけれども、p−ニトロベンジル保護基の
使用はしばしば便利である。
成における保護基(ProtectlveGroups
In Organic 5ynthesis ) J
第5章に記載されるよう力他の公知のカルボキシ保護基
もまた9 臨界的ではないけれども、p−ニトロベンジル保護基の
使用はしばしば便利である。
式I’ll)の化合物の製造に用いるシリル化剤は式:
%式%
C式中R,R、RおよびRは同一かまたは異なっていて
C1−4アルキルまたはアリールであり。
C1−4アルキルまたはアリールであり。
好ましくはメチルである。)
を有するものである。基Xは好ましくは式ニー(CH2
)n−(式中0は1疫いし5の整数であり1j14好ま
しくは2であるがしかし上記の他の値をとることができ
る。) のアルキレンである。基2はへロrン、好オしくけ塩素
であり、そのようなシリル化剤の例は:Ct(CH,5
)281−(CH2)2−5 l (CH3)2CtC
1(CH5)231−(CH2)3−81 (CH5)
2C!0 CL(CH5)2SI −(CH2)4−8t (CH
s )2C1Ct(CH3) (ph )s +−(C
H2)2−s I (c+、)(ph )CtCt(C
H3)(tau)81−(CH2)2−31 (CHs
)(tau)CACt(CH3)(OMe)81−(C
H2)2−8l(CH3)(OMe)CtCt(CH,
)(OEt)81−(CH,)2−3l (CH3)(
OEt)C2である。最も好ましい化合物は H3CH5 である。
)n−(式中0は1疫いし5の整数であり1j14好ま
しくは2であるがしかし上記の他の値をとることができ
る。) のアルキレンである。基2はへロrン、好オしくけ塩素
であり、そのようなシリル化剤の例は:Ct(CH,5
)281−(CH2)2−5 l (CH3)2CtC
1(CH5)231−(CH2)3−81 (CH5)
2C!0 CL(CH5)2SI −(CH2)4−8t (CH
s )2C1Ct(CH3) (ph )s +−(C
H2)2−s I (c+、)(ph )CtCt(C
H3)(tau)81−(CH2)2−31 (CHs
)(tau)CACt(CH3)(OMe)81−(C
H2)2−8l(CH3)(OMe)CtCt(CH,
)(OEt)81−(CH,)2−3l (CH3)(
OEt)C2である。最も好ましい化合物は H3CH5 である。
本発明による好ましい方法の一例は式:C式中Rはカル
がン酸保護基であゐ。)の化合物を製造する方法であり
、その方法には式:の化合物と過#IWlI化剤とを塩
基の存在下に反応させることが含まれる。
がン酸保護基であゐ。)の化合物を製造する方法であり
、その方法には式:の化合物と過#IWlI化剤とを塩
基の存在下に反応させることが含まれる。
本発明による好ましい方法の他の例は式:(式中R5は
カルがン酸保護基であ)、R7はメチルオたはクロロで
ある。) の化合物を製造する方法であり、その方法には式:の化
合物と過酸酸化剤とを塩基の存在下に反応させることが
含まれる。
カルがン酸保護基であ)、R7はメチルオたはクロロで
ある。) の化合物を製造する方法であり、その方法には式:の化
合物と過酸酸化剤とを塩基の存在下に反応させることが
含まれる。
シリh基の除去により式(1)の化合物を式(IV)の
化合物に転化するため、慣用の酸剤、好ましくは、9U
Lば塩Mまたはp−)ルエンスルホン酸のような酸を1
例えば酢酸エチルまたは塩化メチレンのよう表反応物に
対する有機溶媒中で用いることができ、用いる温度は通
常−10ないし50℃の範囲である。次後の式(F/)
の化合物のアシル化は慣用のアシル化剤を、好ましくは
ナト2ヒドロフラン、ニーデル、アセトニトリに一*九
はジクロ3 0メタンのような塩素化炭化水素のような有機溶媒中で
1例えば−10ないし50℃の温度で用いる慣用方法で
行なうことができる。
化合物に転化するため、慣用の酸剤、好ましくは、9U
Lば塩Mまたはp−)ルエンスルホン酸のような酸を1
例えば酢酸エチルまたは塩化メチレンのよう表反応物に
対する有機溶媒中で用いることができ、用いる温度は通
常−10ないし50℃の範囲である。次後の式(F/)
の化合物のアシル化は慣用のアシル化剤を、好ましくは
ナト2ヒドロフラン、ニーデル、アセトニトリに一*九
はジクロ3 0メタンのような塩素化炭化水素のような有機溶媒中で
1例えば−10ないし50℃の温度で用いる慣用方法で
行なうことができる。
直接アシル化の径路(式(1)の化合物とRBCOZと
の反応)の場合には、アシル化工程の第一段階で形成さ
れた中間体は単離されず、初期反応に続いてその場で水
tたは1例えばエタノールのようなアルコールと−10
ないし50℃の温度で反応させ、アシル化生成物を遊離
させる。
の反応)の場合には、アシル化工程の第一段階で形成さ
れた中間体は単離されず、初期反応に続いてその場で水
tたは1例えばエタノールのようなアルコールと−10
ないし50℃の温度で反応させ、アシル化生成物を遊離
させる。
カルボン酸誘導アシル基R8co はβ−ラクタム技
術に通常オU用される任意の基であることができ。
術に通常オU用される任意の基であることができ。
それらの基の性質は化学のこの分野の当業者に容謳に明
らかであろう。従って1例えばR8残基は。
らかであろう。従って1例えばR8残基は。
(a)水素、C+−hアルキル、 ハロメチル、シフ/
メfk’4ft−Fr5−(2−クロロフェニル) −
5−メチルイソオキサゾール−4−イル;(b) ベ
ンジルオキシ、4−ニトロベンジルオキシ◆2.2.2
−)リクロロエトキシ、 tart −ブトキシま
たは4−メトキシベンツルオキシ;(c) 基R”
e式中R“はフェニルあるいはハロ。
メfk’4ft−Fr5−(2−クロロフェニル) −
5−メチルイソオキサゾール−4−イル;(b) ベ
ンジルオキシ、4−ニトロベンジルオキシ◆2.2.2
−)リクロロエトキシ、 tart −ブトキシま
たは4−メトキシベンツルオキシ;(c) 基R”
e式中R“はフェニルあるいはハロ。
4
保護したヒドロキシ、ニトロ、シアノ、トリフルオロメ
チル、CアルキルおよびC1−4ア−5 ルコキシからなる群から独立に選んだ1または2個の置
換基で置換されたフェニルである、:(d) 式:
Ro−(Q )m−CH2−C式中R0は上記R′、
2−チェニル、3−チェニルfたtt1*4−シクロヘ
キシルジェニルであシ、mは0または1であシ、QはO
またはSである、但しmが1であるときRはRであるー
)のアリールアルキル基; (e)式:RoCH− ■ (式中80 は前記のとおシであシ、Wはヒドロキシ
、保護したアミノ、または保護したカルがキシである。
チル、CアルキルおよびC1−4ア−5 ルコキシからなる群から独立に選んだ1または2個の置
換基で置換されたフェニルである、:(d) 式:
Ro−(Q )m−CH2−C式中R0は上記R′、
2−チェニル、3−チェニルfたtt1*4−シクロヘ
キシルジェニルであシ、mは0または1であシ、QはO
またはSである、但しmが1であるときRはRであるー
)のアリールアルキル基; (e)式:RoCH− ■ (式中80 は前記のとおシであシ、Wはヒドロキシ
、保護したアミノ、または保護したカルがキシである。
)
・の置換アリールアルキル基:あるいは、(ず) 式
: R’ CR2−C式中Rは2−フリル、3
−フリル、2−チアゾリル、5−イソオキサシリルまた
は5−テトラゾリルである。) のヘテロアリールメチル基、 であることができる。
: R’ CR2−C式中Rは2−フリル、3
−フリル、2−チアゾリル、5−イソオキサシリルまた
は5−テトラゾリルである。) のヘテロアリールメチル基、 であることができる。
残基R8は好ましくはベンジルまたはフェノキシメチル
(PhOCH2−)である。
(PhOCH2−)である。
式(IV)の化合物の有用性は文献によく情報が提供さ
れ既に言及されている。ペナム誘導体の6−ア之ノ基の
アシル化は、例えば6−アシルアミド−2,2−ジメチ
ルペナム−3−カルぎン酸エステルα−スルホキシドを
与え、それは例えば英国特許第2,003,375号に
記載されたアルキレンオキシドの存在FN−クロロバa
llン化剤との反応で一般式: %式% ル)−3−ブテノン酸の相応するエステルを与え1それ
は7−アシルアミド−3−エキソメチレンセファム−4
−カルがン酸エステルスルホキシドの製造に有用な中間
体である。
れ既に言及されている。ペナム誘導体の6−ア之ノ基の
アシル化は、例えば6−アシルアミド−2,2−ジメチ
ルペナム−3−カルぎン酸エステルα−スルホキシドを
与え、それは例えば英国特許第2,003,375号に
記載されたアルキレンオキシドの存在FN−クロロバa
llン化剤との反応で一般式: %式% ル)−3−ブテノン酸の相応するエステルを与え1それ
は7−アシルアミド−3−エキソメチレンセファム−4
−カルがン酸エステルスルホキシドの製造に有用な中間
体である。
周知手法による式(IV)のペナムおよび七フエム化合
物のアシル化は、有用な抗生特性を有すると述べられて
いる式: の、英国特許第1.594.271号に開示されたよう
なジアシル化α−スルホキシド化合物の製造に導くこと
ができる。
物のアシル化は、有用な抗生特性を有すると述べられて
いる式: の、英国特許第1.594.271号に開示されたよう
なジアシル化α−スルホキシド化合物の製造に導くこと
ができる。
本発明は以下の実施例によシ例示される。
7
実施例1
6−(2,2,5,5−テトラメチル−1−アゾ−2,
5−、/シラシクロベント−1−イル)ペニシラン酸p
−ニトロベンジル 塩化メチレン(80m)中の6−アミツベニシラン酸p
−ニトロベンジル12)p−)ルエンスルホン酸塩(2
0,88P)の溶液を飽和水性重炭酸ナトリウム(10
0d)で2回、次いでプライン(100m)で洗浄し、
硫酸マグネシウム上で乾燥し、容積を減圧下の蒸発によ
り40Mtに減少させた。トリエチルアミン(15,9
2m)シよび塩化メチレン(80m)中の1.2−ビス
(クロロツメチルシリル)エタン(9,48?)の溶液
を加え、生じ次混合物を窒素雰囲気下に15時間還流さ
せ友。反応混合物を室温に冷却させ、次いで8%水性リ
ン酸水素ナトリウム溶液(100id)で洗浄した。有
機層を分離し、減圧下に約30m■ に濃縮し、次いでイソデーパノール(200m)で希釈
した。残留塩化メチレンを減圧下に蒸発させて生成物を
結晶化させた。反応混合物を0℃に8 2時間冷却し、次いで生成物を濾過により単離し、冷イ
ソゾロ・々ノールで洗浄し、真空中室温で一夜乾燥し衣
層化合物を白色結晶として得た、nmr(CDCJ3)
δ0.15(s、12H)、0.72(s s 4 H
)、1.40(s、3H)、1.64(S、3H)、4
.27(s、IH)、4.72(d、J=4Hz、IH
)、5.15(d%J=4Hz41M )45.16
($42H)、7゜3−8.2 (m、4H)。
5−、/シラシクロベント−1−イル)ペニシラン酸p
−ニトロベンジル 塩化メチレン(80m)中の6−アミツベニシラン酸p
−ニトロベンジル12)p−)ルエンスルホン酸塩(2
0,88P)の溶液を飽和水性重炭酸ナトリウム(10
0d)で2回、次いでプライン(100m)で洗浄し、
硫酸マグネシウム上で乾燥し、容積を減圧下の蒸発によ
り40Mtに減少させた。トリエチルアミン(15,9
2m)シよび塩化メチレン(80m)中の1.2−ビス
(クロロツメチルシリル)エタン(9,48?)の溶液
を加え、生じ次混合物を窒素雰囲気下に15時間還流さ
せ友。反応混合物を室温に冷却させ、次いで8%水性リ
ン酸水素ナトリウム溶液(100id)で洗浄した。有
機層を分離し、減圧下に約30m■ に濃縮し、次いでイソデーパノール(200m)で希釈
した。残留塩化メチレンを減圧下に蒸発させて生成物を
結晶化させた。反応混合物を0℃に8 2時間冷却し、次いで生成物を濾過により単離し、冷イ
ソゾロ・々ノールで洗浄し、真空中室温で一夜乾燥し衣
層化合物を白色結晶として得た、nmr(CDCJ3)
δ0.15(s、12H)、0.72(s s 4 H
)、1.40(s、3H)、1.64(S、3H)、4
.27(s、IH)、4.72(d、J=4Hz、IH
)、5.15(d%J=4Hz41M )45.16
($42H)、7゜3−8.2 (m、4H)。
次の化合物が同様に製造された;
6−(2,2,5,5−テトラメチル−1−アゾ−2,
5−ゾンラシクロベントー1−イル)へニジ2ン酸ベン
ズヒドリル、フオーム% nmr(coす3)−〇、1
4(s、6H)、0.17(S46H)、0.71 (
s、4H)、1.22(s、3H)、1−62 (s
s 5 H)、4.37(露、IH)、4.78 (d
% J−4Hz、I H)、6.86(s、IH)、7
.20(s、10H)。
5−ゾンラシクロベントー1−イル)へニジ2ン酸ベン
ズヒドリル、フオーム% nmr(coす3)−〇、1
4(s、6H)、0.17(S46H)、0.71 (
s、4H)、1.22(s、3H)、1−62 (s
s 5 H)、4.37(露、IH)、4.78 (d
% J−4Hz、I H)、6.86(s、IH)、7
.20(s、10H)。
実施例2
6−(2,2,5,,5−テトラメチル−1−アザ−2
,5−ジンランク0ペントー1−イル)ペニシラン酸p
−ニトロベンシル1α−オキシド塩化メチレン(50m
lり中の6−C2,2,5゜5−テトラメチル−1−ア
ゾ−2,5−ジ−シラシクロベント−1−イル)ペニシ
ラン酸p−ニトロベンジル(2,61P)のかきまぜた
溶液に0.5M水性重炭酸ナトリウム(15d)t−加
え次いでm−クロロ過安息香酸(1,i、IP)を20
間にわたり添加した。30分後m−クロロ過安息香酸の
第2量(0,IP)を添加した後1反応混合物をさらに
20分間かきまぜ、それから層を分離した。有機層を硫
酸マグネシウム上で乾燥し減圧下に一緒した。残留物に
ジイゾプロビルエーテルを徐々に加えて生成物を結晶化
させた。残留塩化メチレンを減圧下に蒸発させ、次いで
反応を0℃に一夜保って結晶化を終らせた。生成物を一
過し、ジインゾロビルエーテルで洗浄し、真空中室温で
一夜乾燥し光層化合物を乳白色結晶として得た、nmr
(CDす、)−0,17(s、6H)、0.22(S
、6H)、0−78(sv4H)、1.20C%、5H
)、 1.63(s、5H)、 4゜23(1,IH)
、4.40 (d% J=4Hz、I H)、4.8
5 (d、J−=4Hz、I H)、5.2 1
(s。
,5−ジンランク0ペントー1−イル)ペニシラン酸p
−ニトロベンシル1α−オキシド塩化メチレン(50m
lり中の6−C2,2,5゜5−テトラメチル−1−ア
ゾ−2,5−ジ−シラシクロベント−1−イル)ペニシ
ラン酸p−ニトロベンジル(2,61P)のかきまぜた
溶液に0.5M水性重炭酸ナトリウム(15d)t−加
え次いでm−クロロ過安息香酸(1,i、IP)を20
間にわたり添加した。30分後m−クロロ過安息香酸の
第2量(0,IP)を添加した後1反応混合物をさらに
20分間かきまぜ、それから層を分離した。有機層を硫
酸マグネシウム上で乾燥し減圧下に一緒した。残留物に
ジイゾプロビルエーテルを徐々に加えて生成物を結晶化
させた。残留塩化メチレンを減圧下に蒸発させ、次いで
反応を0℃に一夜保って結晶化を終らせた。生成物を一
過し、ジインゾロビルエーテルで洗浄し、真空中室温で
一夜乾燥し光層化合物を乳白色結晶として得た、nmr
(CDす、)−0,17(s、6H)、0.22(S
、6H)、0−78(sv4H)、1.20C%、5H
)、 1.63(s、5H)、 4゜23(1,IH)
、4.40 (d% J=4Hz、I H)、4.8
5 (d、J−=4Hz、I H)、5.2 1
(s。
2H)、7,40 (d% J=9Hz 、2H)、
8、 07 (d % J−9Hz、2H)。
8、 07 (d % J−9Hz、2H)。
次の化合物が同様に製造された:
6−C2,2,5,5−テトラメチル−1−アザ−2,
5−ジシランクロベント−1−イル)ペニシラン酸ベン
ズヒドリル1α−オキシド、フオームとして、nmr
(CDCJ3)δ0.15(s、6H)、0.20 (
s、6H)、0.77(s、4H)、1、0 (s、
31−1 )、1.62 (S%!IH)、4−27(
1%1’)、4゜41 (d %J−4HzsIH)、
4−85 (d %J =4 Hz −I H) −6
,85(s、IH)、7.20 (s、10H)。
5−ジシランクロベント−1−イル)ペニシラン酸ベン
ズヒドリル1α−オキシド、フオームとして、nmr
(CDCJ3)δ0.15(s、6H)、0.20 (
s、6H)、0.77(s、4H)、1、0 (s、
31−1 )、1.62 (S%!IH)、4−27(
1%1’)、4゜41 (d %J−4HzsIH)、
4−85 (d %J =4 Hz −I H) −6
,85(s、IH)、7.20 (s、10H)。
実施例5
6−C2,2,5,5−ナト2メチルー1−フデー2.
5−ジシラシクロベント−1−イル)ペニシラン酸p−
ニトロベンジル1α−オキシド塩化メチレン(50wj
)中の6−(2,2,5゜5−テトラメチル−1−ア
ゾ−2,5−ジシランクロベント−1−イル)ペニシラ
ン酸p−ニトロベンジル(6,51)および0゜5M水
性重炭酸ナトリウム00〜5℃で急速にかきまぜた混合
物に過酢酸(36%、2.65sd)を5分間にわたり
滴加した。反応混合物を0〜5℃で45分間か′f!ま
ぜた。有機層を分離し、水で洗浄し、減圧下に濃縮し九
〇ジイソプロピルエーテル1J120yd!’)t−残
留物に徐々に加え生成物を結晶化させた。
5−ジシラシクロベント−1−イル)ペニシラン酸p−
ニトロベンジル1α−オキシド塩化メチレン(50wj
)中の6−(2,2,5゜5−テトラメチル−1−ア
ゾ−2,5−ジシランクロベント−1−イル)ペニシラ
ン酸p−ニトロベンジル(6,51)および0゜5M水
性重炭酸ナトリウム00〜5℃で急速にかきまぜた混合
物に過酢酸(36%、2.65sd)を5分間にわたり
滴加した。反応混合物を0〜5℃で45分間か′f!ま
ぜた。有機層を分離し、水で洗浄し、減圧下に濃縮し九
〇ジイソプロピルエーテル1J120yd!’)t−残
留物に徐々に加え生成物を結晶化させた。
残留塩化メチレンを減圧下に蒸発させ、次いで反応を0
℃に一夜保って結晶化を終らせた。生成物を濾過し、ゾ
イゾfaビルエーテルで洗浄し、真空中40℃で一夜乾
燥し六層化合物を青乳色結晶として得た。
℃に一夜保って結晶化を終らせた。生成物を濾過し、ゾ
イゾfaビルエーテルで洗浄し、真空中40℃で一夜乾
燥し六層化合物を青乳色結晶として得た。
実施例4
6−(2,2,5,5−テトラメチル−1−アゾ−2,
5−1’シランクロベン)−1−イル)ペニシラン酸p
−ニトロベンジル1α−オキシドジエチルエーテル(1
2ad)中のモノ過フタル酸(0,51P)の溶液を、
5%水性重炭酸ナト1 リウム(30m)および塩化メチレン(10m)中の6
−(2,2,5,5−テトラメチル−1−アゾ−2,5
−ゾンラシクロベントー1−イル)ペニシラン酸p−ニ
トロペンシル(1,24F)の溶液00〜5℃で急速に
かきまぜ友混合物に5分間にわたり滴加した。混合物t
θ〜5℃で30分間か!!まぜた。有機層を分離し、プ
ラインで洗浄し、硫酸iグネシウムで乾燥し、減圧下の
蒸発により濃縮した。ゾイソデロビルエーテルを加え、
残留塩化メチレンを真空で蒸発させることにより除き生
成物を結晶化させた。生成物を一過し、ジイゾデロeル
エーテルで洗浄し、真空で乾燥し表題の化合物を青乳色
結晶として得た。
5−1’シランクロベン)−1−イル)ペニシラン酸p
−ニトロベンジル1α−オキシドジエチルエーテル(1
2ad)中のモノ過フタル酸(0,51P)の溶液を、
5%水性重炭酸ナト1 リウム(30m)および塩化メチレン(10m)中の6
−(2,2,5,5−テトラメチル−1−アゾ−2,5
−ゾンラシクロベントー1−イル)ペニシラン酸p−ニ
トロペンシル(1,24F)の溶液00〜5℃で急速に
かきまぜ友混合物に5分間にわたり滴加した。混合物t
θ〜5℃で30分間か!!まぜた。有機層を分離し、プ
ラインで洗浄し、硫酸iグネシウムで乾燥し、減圧下の
蒸発により濃縮した。ゾイソデロビルエーテルを加え、
残留塩化メチレンを真空で蒸発させることにより除き生
成物を結晶化させた。生成物を一過し、ジイゾデロeル
エーテルで洗浄し、真空で乾燥し表題の化合物を青乳色
結晶として得た。
実施例5
6−アきノイ=シラン酸p−ニトロベンジル1α−オキ
シド 酢酸エチル(10m)中の6−(2,2,5゜5−テト
ラメチル−1−アゾ−2,5−/シラシクロペン)−1
−イル)ペニシラン酸p−ニトロベンジル1α−オキシ
ド(1,35P)のかIt2 ぜた溶液に酢酸エテル(20−)中のp−)ルエンスル
ホン酸−水和物(1,9F)を添加した。
シド 酢酸エチル(10m)中の6−(2,2,5゜5−テト
ラメチル−1−アゾ−2,5−/シラシクロペン)−1
−イル)ペニシラン酸p−ニトロベンジル1α−オキシ
ド(1,35P)のかIt2 ぜた溶液に酢酸エテル(20−)中のp−)ルエンスル
ホン酸−水和物(1,9F)を添加した。
30分後に溶媒を真空で除いてfムを得、それかうx
−fルで砕くことにより表題化合物をそのシトレート塩
として得た。IHnmr (d6DM80δ値)’1.
22(s、3H)、1.60(s、5H)、5.30
(S、AH) 、4゜67(S、IH)、4− 78
(d %J =4 Hz −I H)、 5.1
7(d、J=4)1χ、IH)、 5.55(s、2H
)、7.07(d、J=8Hz、2H)、 7.53(
d % J =8 Hz −28)、 7.67(d
、J=8Hz、2H)、8.17 (d、J=8Hz、
2H)。
−fルで砕くことにより表題化合物をそのシトレート塩
として得た。IHnmr (d6DM80δ値)’1.
22(s、3H)、1.60(s、5H)、5.30
(S、AH) 、4゜67(S、IH)、4− 78
(d %J =4 Hz −I H)、 5.1
7(d、J=4)1χ、IH)、 5.55(s、2H
)、7.07(d、J=8Hz、2H)、 7.53(
d % J =8 Hz −28)、 7.67(d
、J=8Hz、2H)、8.17 (d、J=8Hz、
2H)。
実施例6
ローフエノキクアセトアミドペニシラン酸p−ニトロベ
ンジル1α−オキシド 塩化メチレン(50mg)中の6−アSンペニシラン酸
p−ニトロベンゾルー1α−オキシド(1,85P)の
かきまぜ九溶液に0.5M水性重炭酸ナトリウム溶液(
20m)を、次に塩化フェノキシアセチル(0,83d
)を加え60分間かき壕ぜを続けた。有機相を分離し、
硫酸マグネシウム上で乾燥し、真空で溶媒をストリップ
し表題化合物を得た。’Hnmr (CDCA3 )
δ1.25(s、3H)、1.65C%、5H)、4
.5(口、5H)、4−73 (d s J =4 H
z −I H)、5.27(s、2H)、5.57 (
d、J=4Hzおよび8Hz)、6.7−7.5 (m
、5H)、7.47(d% J=8Hz、2H)、8.
15(d。
ンジル1α−オキシド 塩化メチレン(50mg)中の6−アSンペニシラン酸
p−ニトロベンゾルー1α−オキシド(1,85P)の
かきまぜ九溶液に0.5M水性重炭酸ナトリウム溶液(
20m)を、次に塩化フェノキシアセチル(0,83d
)を加え60分間かき壕ぜを続けた。有機相を分離し、
硫酸マグネシウム上で乾燥し、真空で溶媒をストリップ
し表題化合物を得た。’Hnmr (CDCA3 )
δ1.25(s、3H)、1.65C%、5H)、4
.5(口、5H)、4−73 (d s J =4 H
z −I H)、5.27(s、2H)、5.57 (
d、J=4Hzおよび8Hz)、6.7−7.5 (m
、5H)、7.47(d% J=8Hz、2H)、8.
15(d。
J =8 Hz %2 H) 一
実施例7
6−フニノキシアセトアきドペニシラン酸p−=トaベ
ンジル1α−オキシド テトラヒドロフラン(75d)中の6−(2゜2.5.
5−テトラメチル−1−アゾ−2,4−ジシランクロベ
ント−1−イル)ペニシラン酸ρ−ニトロペンシル1α
−オキシド(5,0?)のかきまぜた溶液に室温で塩化
フェノキシアセチル(1,49m)を滴加した。室温で
1時間か!まぜた後反応混合物を水性炭酸水素ナトリウ
ム、次いで水で埃浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、真
5 空で蒸発させ友。生成物をイゾデロΔノールから結晶化
させ、−過により集めイソ7’ O/々ノールで洗浄し
、真空で乾燥して表題化合物を得た。nmr(coす3
)δ1.20(s、3H)、1.56(s、5H)、5
.64(S、2H)、4゜45(S%IH)、4.65
(d%J==48Z、1l−1)、5.0−5.3(m
、3H)、7.18(s、5H)、7−5−8−2 (
m s 4 H)。
ンジル1α−オキシド テトラヒドロフラン(75d)中の6−(2゜2.5.
5−テトラメチル−1−アゾ−2,4−ジシランクロベ
ント−1−イル)ペニシラン酸ρ−ニトロペンシル1α
−オキシド(5,0?)のかきまぜた溶液に室温で塩化
フェノキシアセチル(1,49m)を滴加した。室温で
1時間か!まぜた後反応混合物を水性炭酸水素ナトリウ
ム、次いで水で埃浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、真
5 空で蒸発させ友。生成物をイゾデロΔノールから結晶化
させ、−過により集めイソ7’ O/々ノールで洗浄し
、真空で乾燥して表題化合物を得た。nmr(coす3
)δ1.20(s、3H)、1.56(s、5H)、5
.64(S、2H)、4゜45(S%IH)、4.65
(d%J==48Z、1l−1)、5.0−5.3(m
、3H)、7.18(s、5H)、7−5−8−2 (
m s 4 H)。
実施例8
6−(フェノキシアセトアミド)ペニシラン酸ベンズヒ
ドリル1α−オキシド 酢酸エチル(25m )中のP−1ルエンスルホン酸−
水和物(1,54’?>および6−C2,2゜5.5−
テトラメチル−1−アゾ−2,5−ジンラシクロペン)
11ル)ペニシラン酸ベンズヒドリン1α−オキシド(
i 60F)の混合物を室温で1.5時間かきまぜ次。
ドリル1α−オキシド 酢酸エチル(25m )中のP−1ルエンスルホン酸−
水和物(1,54’?>および6−C2,2゜5.5−
テトラメチル−1−アゾ−2,5−ジンラシクロペン)
11ル)ペニシラン酸ベンズヒドリン1α−オキシド(
i 60F)の混合物を室温で1.5時間かきまぜ次。
溶媒を減圧下に蒸発させ、残留物をジエチルエーテルか
ら結晶化させ6−アミノペニシラン酸ベンズヒドリル1
α−オキシドのp−1ルエンスルホン酸塩(2,036 ?)の黄色結晶を得た。このトシレートの塩化メチレン
(25d )中の溶液を飽和水性重炭酸ナトリウム(2
5wd)で2回、次いアブライン(25sIg)で洗浄
し、次いで塩化フェノキシアセチル(0,4,6d)お
よび飽和水性重炭酸ナトリウム(25m)とともに室温
で3時間急速にかItぜf?、、o有機層を分離し、飽
和水性重炭酸ナトリウムで洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に蒸発させ表題化合物をフオームとして
得たs nmr(cock3)δ1.03(s、3H)
、1.60〔$、3H)、4.46(S、IH)、4.
64(d%’ =4 Hz s I H)、5.42(
dd%J=4および8 Hz、IH)、6.78(d%
J=4Hz、1M )、 6.84 (s、IH)、
7゜16(S、10H)u 実施例9 6−(2,5−ジプチル−2,5−ジ゛メチルー1−ア
ゾー2.4−ジシラシク、:*、eyトー1−イル)ペ
ニシラン酸ρ−ニトロベンジル CH2す2(50d)中の6−アξノペニシラン酸ρ−
ニトロベンジルのp−トルエンスルホン酸塩(2,61
P)の溶液を飽和水性重炭酸ナトリウムで2回、次いで
ノラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空で蒸
発させた。残留アミノのアセトニトリル(50m)中の
溶液に1.2−ビス(りOr:Iジメチルシリルエタン
(1,6SP)およびトリエチルアミン(1,55m)
を加え混合物を3.5時間還流で加熱し、室温に冷却さ
せ、次いで水性8チリン酸水素す)lラム溶液で洗浄し
た。有機溶液を蒸発させ残留物を塩化メチレン−酢酸エ
チ化S:1を溶離剤としてアルミナ上でりC1マトダラ
フにかけ表題化合物をフオームとしテ得り、nmr (
CDCJs )−〇、 1.0 (s% 6H)、0゜
22(s、6H)、Oe 6−1 e 5 (” 52
2H)、1.73(s、AH)、4.35(1%IH)
、4゜85 (d −J−4Hz s j H)、5−
22 (d s J =4 Hz b I H) −5
−24(s −28)7.27−8.16(m、4H)
。
ら結晶化させ6−アミノペニシラン酸ベンズヒドリル1
α−オキシドのp−1ルエンスルホン酸塩(2,036 ?)の黄色結晶を得た。このトシレートの塩化メチレン
(25d )中の溶液を飽和水性重炭酸ナトリウム(2
5wd)で2回、次いアブライン(25sIg)で洗浄
し、次いで塩化フェノキシアセチル(0,4,6d)お
よび飽和水性重炭酸ナトリウム(25m)とともに室温
で3時間急速にかItぜf?、、o有機層を分離し、飽
和水性重炭酸ナトリウムで洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に蒸発させ表題化合物をフオームとして
得たs nmr(cock3)δ1.03(s、3H)
、1.60〔$、3H)、4.46(S、IH)、4.
64(d%’ =4 Hz s I H)、5.42(
dd%J=4および8 Hz、IH)、6.78(d%
J=4Hz、1M )、 6.84 (s、IH)、
7゜16(S、10H)u 実施例9 6−(2,5−ジプチル−2,5−ジ゛メチルー1−ア
ゾー2.4−ジシラシク、:*、eyトー1−イル)ペ
ニシラン酸ρ−ニトロベンジル CH2す2(50d)中の6−アξノペニシラン酸ρ−
ニトロベンジルのp−トルエンスルホン酸塩(2,61
P)の溶液を飽和水性重炭酸ナトリウムで2回、次いで
ノラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空で蒸
発させた。残留アミノのアセトニトリル(50m)中の
溶液に1.2−ビス(りOr:Iジメチルシリルエタン
(1,6SP)およびトリエチルアミン(1,55m)
を加え混合物を3.5時間還流で加熱し、室温に冷却さ
せ、次いで水性8チリン酸水素す)lラム溶液で洗浄し
た。有機溶液を蒸発させ残留物を塩化メチレン−酢酸エ
チ化S:1を溶離剤としてアルミナ上でりC1マトダラ
フにかけ表題化合物をフオームとしテ得り、nmr (
CDCJs )−〇、 1.0 (s% 6H)、0゜
22(s、6H)、Oe 6−1 e 5 (” 52
2H)、1.73(s、AH)、4.35(1%IH)
、4゜85 (d −J−4Hz s j H)、5−
22 (d s J =4 Hz b I H) −5
−24(s −28)7.27−8.16(m、4H)
。
実施例10
6−(フェノキシアセトアミド)ベニクラン酸p−二ト
ロペンジル1α−オキシド 6−(2,5−ジプチル−2,5−ジメチル−1−アザ
−2,5−ジシランクロベント−1−イル)ペニシラン
酸p−ニトロベンジル(0,5ミリモル)の0℃でかき
まぜた溶液に0.5M水性重炭酸ナトリウム(1,5m
)を添加し1次いでm−クロ口過安息香!(0,11P
)を5分間にわた)滴加した。反応混合物をかきまぜ2
時間にわたり室温に温まらせた。有機溶液を分離し減圧
下に蒸発させた。残留1α−スルホキシド誘導体をアセ
トン(5−)中に溶解し1次いで1N塩酸(0,55d
)とともに30分間かきまぜた。生じた混合物を塩化メ
チレンで希釈し1次いで有機層を分離し、水1次いで飽
和水性重炭酸ナトリウムで洗浄し、@酸ナトリウムで乾
燥し、減圧下に蒸発させ6−アミンペニシラン酸p−ニ
トロペンシル1α−オキシドラ得た。
ロペンジル1α−オキシド 6−(2,5−ジプチル−2,5−ジメチル−1−アザ
−2,5−ジシランクロベント−1−イル)ペニシラン
酸p−ニトロベンジル(0,5ミリモル)の0℃でかき
まぜた溶液に0.5M水性重炭酸ナトリウム(1,5m
)を添加し1次いでm−クロ口過安息香!(0,11P
)を5分間にわた)滴加した。反応混合物をかきまぜ2
時間にわたり室温に温まらせた。有機溶液を分離し減圧
下に蒸発させた。残留1α−スルホキシド誘導体をアセ
トン(5−)中に溶解し1次いで1N塩酸(0,55d
)とともに30分間かきまぜた。生じた混合物を塩化メ
チレンで希釈し1次いで有機層を分離し、水1次いで飽
和水性重炭酸ナトリウムで洗浄し、@酸ナトリウムで乾
燥し、減圧下に蒸発させ6−アミンペニシラン酸p−ニ
トロペンシル1α−オキシドラ得た。
このアミンの塩化メチレン(5−)中の溶液を飽和水性
重炭酸ナトリウム溶液(5Int)および塩化フェノキ
シアセチル(0,07d)!:と41C−9 夜かきまぜた。有機ノーを分離し、水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下に蒸発させ表題化合物を得
た。
重炭酸ナトリウム溶液(5Int)および塩化フェノキ
シアセチル(0,07d)!:と41C−9 夜かきまぜた。有機ノーを分離し、水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下に蒸発させ表題化合物を得
た。
実施例11
7−(2,2,5,5−テトラメチル−1−アザ−2,
5−ジシランクロベント−1−イル)−デスアセトキシ
セファロスポラン酸p−ニトロベンジル 塩化メチレン(15m/)中の7−アミンデスアセトキ
シセフアロスポラン酸p−ニトロベンジル(3,S?’
)の窒素下にかきまぜた溶液にトリエチルアミン(5−
2ml ) 、次いで塩化メチレン(20m/)中の1
.2−ビス(クロロジメチルシリル)エタン(2,37
f)の溶液を添加した。
5−ジシランクロベント−1−イル)−デスアセトキシ
セファロスポラン酸p−ニトロベンジル 塩化メチレン(15m/)中の7−アミンデスアセトキ
シセフアロスポラン酸p−ニトロベンジル(3,S?’
)の窒素下にかきまぜた溶液にトリエチルアミン(5−
2ml ) 、次いで塩化メチレン(20m/)中の1
.2−ビス(クロロジメチルシリル)エタン(2,37
f)の溶液を添加した。
生じた混合物を16時間還流でかきまぜ、室温に冷却さ
せ次いで水性8Xリン酸水素ナトリウム溶液(30sd
)で−回洗浄した。有機溶液を真空で約10−に濃縮し
、イソプロノ4ノール(30Int)を添加した。残留
塩化メチレンを真空で除去し反応混合物を0℃に2時間
冷却した。生成物を濾過0 し、冷イソプロdノールで洗浄し、真空で一夜乾燥し表
題化合物を得た、nmy (c o ct3)δ0.1
9(、,12H)、0.75(S、4H)%2.10(
ss3 H) 、 3 、 1 5+3
、 6 口 (ABq、J=18 H2#
2 H)、4 、73(d、 J=4 Hz、IH)
、4.93 (d、 J=4)4z、 I H)、s
、3o(s。
せ次いで水性8Xリン酸水素ナトリウム溶液(30sd
)で−回洗浄した。有機溶液を真空で約10−に濃縮し
、イソプロノ4ノール(30Int)を添加した。残留
塩化メチレンを真空で除去し反応混合物を0℃に2時間
冷却した。生成物を濾過0 し、冷イソプロdノールで洗浄し、真空で一夜乾燥し表
題化合物を得た、nmy (c o ct3)δ0.1
9(、,12H)、0.75(S、4H)%2.10(
ss3 H) 、 3 、 1 5+3
、 6 口 (ABq、J=18 H2#
2 H)、4 、73(d、 J=4 Hz、IH)
、4.93 (d、 J=4)4z、 I H)、s
、3o(s。
2H)、7.53(d、J=8H1I2H)、8.15
(d、J=8Hz、2H)。
(d、J=8Hz、2H)。
次の化合物が同様に製造されたニ
ア−(2,2,5,5−テトラメチル−1−アゾ−2,
5−ジシランクロベント−1−イル)−デスアセトキシ
セフ了ロスボラン酸ベンズヒドリル、育黄色フオーム、
nm+: (CD Cl3 ) J O、16(s、1
2H)、0.73(s、4H)、1.69(s)+ 1
.86(s)(3H)、2.90+3.33(八Bq、
J=18Hz、2 H)、4 、5−5 、0 (m。
5−ジシランクロベント−1−イル)−デスアセトキシ
セフ了ロスボラン酸ベンズヒドリル、育黄色フオーム、
nm+: (CD Cl3 ) J O、16(s、1
2H)、0.73(s、4H)、1.69(s)+ 1
.86(s)(3H)、2.90+3.33(八Bq、
J=18Hz、2 H)、4 、5−5 、0 (m。
2H)、6 、75(s)+6 、80(s)(I H
)%7.12(s、10H)。
)%7.12(s、10H)。
7−、−(2,2,5,5−テトラメチル−1−アザ−
2,5−ジシラシクロイントー1−イル)デスアセトキ
シセファロスポラン酸p−メトキシベンジル、ガム、n
mr (C□Ct3)δo、16(s、 12N)、0
.73(s、4l−1)、1.73 (8)+ 2 、
CI (s)(3H)、2 、9 B+3.43 (
ABq、 J =18Hz。
2,5−ジシラシクロイントー1−イル)デスアセトキ
シセファロスポラン酸p−メトキシベンジル、ガム、n
mr (C□Ct3)δo、16(s、 12N)、0
.73(s、4l−1)、1.73 (8)+ 2 、
CI (s)(3H)、2 、9 B+3.43 (
ABq、 J =18Hz。
2H)% 3.36(S、3H)、4.5−5.5(m
、aH)、6.5−7.3(m、4H)。
、aH)、6.5−7.3(m、4H)。
7−(2,2,5,5−テトラメチル−1−アザ−2,
5−ジシラシクロイントー1−イル)デスアセトキシセ
ファロスポラン酸2.2.2−)IJジクロロチル、ガ
ム、nmy (CD C)5)δ0.17(1,128
)% 0.75(s、4H)、1 、92(s)+2
、11(sM 3 H)、3 、12+3.55(^B
q、 J=18 Hz、2 H)、4.5−5−2
(m a 4 H)。
5−ジシラシクロイントー1−イル)デスアセトキシセ
ファロスポラン酸2.2.2−)IJジクロロチル、ガ
ム、nmy (CD C)5)δ0.17(1,128
)% 0.75(s、4H)、1 、92(s)+2
、11(sM 3 H)、3 、12+3.55(^B
q、 J=18 Hz、2 H)、4.5−5−2
(m a 4 H)。
実施例12
7−(2,2,5,5−テトラメチル−1−アゾ−2,
5−ジシラシクロ(ントー1−イル)デスアセトキシセ
ファロスポラン酸p−ニトロベンジル1α−オキシド塩
化メチレン(101mg)中の7−(2,2,5,5−
テトラメチル−1−アデー2.5−ジシランクロベント
−1−イル)デスアセトキシセファロスポラン酸p−ニ
トロベンジル(2,41F)および0.5M水性重炭酸
す) IJウム(20m/)の0−5℃で急速にかきま
ぜた混合物に過酢酸(56%、o 、 g a me
)を5分間にわたp滴加した。反応混合物をロー5℃で
45分間かきまぜた。有機層を分離し、水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、真空で蒸発させ表題化合物を
白色フオームとして得た、nmr (CD CJly、
)0.18(s、6H)、0−25 (s + 68
) %0−78 (s e 4 H)、2.10(8
,3H)、3.35+3.93(ABq、J=18Hz
、2H)、4.35(d、J=4H2,IH)、s、o
s(d。
5−ジシラシクロ(ントー1−イル)デスアセトキシセ
ファロスポラン酸p−ニトロベンジル1α−オキシド塩
化メチレン(101mg)中の7−(2,2,5,5−
テトラメチル−1−アデー2.5−ジシランクロベント
−1−イル)デスアセトキシセファロスポラン酸p−ニ
トロベンジル(2,41F)および0.5M水性重炭酸
す) IJウム(20m/)の0−5℃で急速にかきま
ぜた混合物に過酢酸(56%、o 、 g a me
)を5分間にわたp滴加した。反応混合物をロー5℃で
45分間かきまぜた。有機層を分離し、水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、真空で蒸発させ表題化合物を
白色フオームとして得た、nmr (CD CJly、
)0.18(s、6H)、0−25 (s + 68
) %0−78 (s e 4 H)、2.10(8
,3H)、3.35+3.93(ABq、J=18Hz
、2H)、4.35(d、J=4H2,IH)、s、o
s(d。
J=4Hz、IH)、5.05(d、J=4Hz。
1日)、5.25(s、2H)、7.43(d。
J=8Hz、2H)、8−07 (d 、 J =4
Hz e2H)。
Hz e2H)。
下記化合物が同様に製造された;
7−(2,2,5,5−テトラメチル−1−アザ−2,
5−ジシラシクロイントー1−イル)デス3 アセトキシセファロスポラン酸ペンズヒrリル1(X
−オ* ’/ )’、白色固体、nmr (CD CI
3 )δ0.13(s、6H)、0 −25 (S #
6 H)、0.78(s、4H)、1 、75(s
)+1.93(s)(6H)、3.z3+3.7o(A
Bq、J=17Hz+ 28 )、4,27 5.
[]4 (+n、2H)、6 、80(s)+6 、8
3(=)(IH)、7.17(s。
5−ジシラシクロイントー1−イル)デス3 アセトキシセファロスポラン酸ペンズヒrリル1(X
−オ* ’/ )’、白色固体、nmr (CD CI
3 )δ0.13(s、6H)、0 −25 (S #
6 H)、0.78(s、4H)、1 、75(s
)+1.93(s)(6H)、3.z3+3.7o(A
Bq、J=17Hz+ 28 )、4,27 5.
[]4 (+n、2H)、6 、80(s)+6 、8
3(=)(IH)、7.17(s。
10日)。
7−(2,2,s、s−テトラメチル−1−アザ−2,
5−ジシラシクロー七ントー1−イル)7′スアセトキ
シセフアロスIβラン酸p−メトキシベンジル1α−オ
キシド、黄色フオーム、nmr(cDc13)δ0,2
(s、12H)、0−78(so 48)、1 、82
(s)+1 、99(+s)(3H)、5.22+3−
80 (ABq −J =18 Hz、 2 H)、3
.68(s、5H)、a、33−4.aBCrn、IH
)、4.8−5.2(ITl、 3H)% 6.5
−7.3(m、a H)。
5−ジシラシクロー七ントー1−イル)7′スアセトキ
シセフアロスIβラン酸p−メトキシベンジル1α−オ
キシド、黄色フオーム、nmr(cDc13)δ0,2
(s、12H)、0−78(so 48)、1 、82
(s)+1 、99(+s)(3H)、5.22+3−
80 (ABq −J =18 Hz、 2 H)、3
.68(s、5H)、a、33−4.aBCrn、IH
)、4.8−5.2(ITl、 3H)% 6.5
−7.3(m、a H)。
7−(2,2,5,5−テトラメチル−1−アザ−2,
5−ジシラシクロ(メト−1−イル)デス4 アセトキシセファロスIラン酸2,2.2−トリクロロ
エチル1α−オキシド、黄色フオーム、nmj (C
D CI5 ) δ o 。 18(s、
6H) 、0.26(s、 6H)、0.81(s、
4H)、2 、02(S)+2 、15(S)(3H)
、3.35+3−’ 92 (ABq 、 J−18H
2# 2 H)、4.3−s、2(m、4+−n。
5−ジシラシクロ(メト−1−イル)デス4 アセトキシセファロスIラン酸2,2.2−トリクロロ
エチル1α−オキシド、黄色フオーム、nmj (C
D CI5 ) δ o 。 18(s、
6H) 、0.26(s、 6H)、0.81(s、
4H)、2 、02(S)+2 、15(S)(3H)
、3.35+3−’ 92 (ABq 、 J−18H
2# 2 H)、4.3−s、2(m、4+−n。
実施例13
7−アミツデスアセトキシセフアロスポラン酸p−ニト
ロベンジル1α−オキシド 塩化メチレン(IS*)中の7−(2,2,5゜5−テ
トラメチル−1−アゾ−2,5−ジシラシクロにントー
1−イル)デスアセトキシセファロスポラン[p−ニト
ロベンジル1α−オキシP(2,Of)を5%塩15!
(15m/)とともに30分間かきまぜた。生じた沈殿
をf過し、真空中40℃で一夜乾燥し表題化合物の塩酸
塩を得た、nm、r (δ6− D M S O)δ2
.23(s、3H)、3.82+4.44(ABq、J
=24Hz、2H)、4.67(d、J=6Hz、2H
)、5 、28 (d。
ロベンジル1α−オキシド 塩化メチレン(IS*)中の7−(2,2,5゜5−テ
トラメチル−1−アゾ−2,5−ジシラシクロにントー
1−イル)デスアセトキシセファロスポラン[p−ニト
ロベンジル1α−オキシP(2,Of)を5%塩15!
(15m/)とともに30分間かきまぜた。生じた沈殿
をf過し、真空中40℃で一夜乾燥し表題化合物の塩酸
塩を得た、nm、r (δ6− D M S O)δ2
.23(s、3H)、3.82+4.44(ABq、J
=24Hz、2H)、4.67(d、J=6Hz、2H
)、5 、28 (d。
J−6H1,2H)、 5.33(s、 2H)、7
.53 (d、 J=12H2,2H)、8.03
(d、 J=12Hz、2H)。
.53 (d、 J=12H2,2H)、8.03
(d、 J=12Hz、2H)。
次の化合物が同様に製造されたニ
アーアミノデスアセトキシセファロスポランe4ンズヒ
ドリル1α−オキシド、宵黄色結晶% nmr・(c!
6−DMSO)δ1.98(s、3H)、2.97(b
r、s、2H)、3.55+4.07(Aaq。
ドリル1α−オキシド、宵黄色結晶% nmr・(c!
6−DMSO)δ1.98(s、3H)、2.97(b
r、s、2H)、3.55+4.07(Aaq。
J=17H2,2H)、a、5a(d、J=4Hχ。
IH)、4.87(’d、J=4H2,IH)、6.7
7(s、IH)、7.22(s、 1[]H)。
7(s、IH)、7.22(s、 1[]H)。
7−アミツデスアセトキシセフアロスポランep−メト
キシペンジル1α−オキシド、青黄色固体、nmr (
CD CI、 )62.01(s、5H)、2.50(
’br、s、2H)、3.36+3.83(ABq 、
J =18 Hz # 2 H)、4.42(d。
キシペンジル1α−オキシド、青黄色固体、nmr (
CD CI、 )62.01(s、5H)、2.50(
’br、s、2H)、3.36+3.83(ABq 、
J =18 Hz # 2 H)、4.42(d。
J = 3Hz 、 I H)、4.80(d、J=3
H2゜IH)、5.1(S、2H)% 6−6 7.3
(m、4H)。
H2゜IH)、5.1(S、2H)% 6−6 7.3
(m、4H)。
実施例14
7−フニノキシアセトアミドデスアセトキシセフアロス
?ラン[p−ニトロベンジル1α−オキシド テトラヒドロフラン(30m)中の7−(2,2゜5.
5−テトラメチル−1−アザ−2,5−ジシランクロベ
ント−1−イル)デスアセトキシセファロスポラン酸p
−ニトロベンジル1α−オキシド(1,Of)の室温で
かきまぜた溶液に塩化フェノキシアセチル(0,3m)
を滴加した。室温で1時間かきまぜた後、反応混合物を
水性炭酸水素ナトリウム、次いで水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、真空で蒸発させた。生成物をイソプ
ロパツールから結晶化させ、濾過により集め、イソゾロ
/9ノールで洗浄し、真空で乾燥し表題化合物を得た、
nmr (CD Cj5 )δ2.21(S。
?ラン[p−ニトロベンジル1α−オキシド テトラヒドロフラン(30m)中の7−(2,2゜5.
5−テトラメチル−1−アザ−2,5−ジシランクロベ
ント−1−イル)デスアセトキシセファロスポラン酸p
−ニトロベンジル1α−オキシド(1,Of)の室温で
かきまぜた溶液に塩化フェノキシアセチル(0,3m)
を滴加した。室温で1時間かきまぜた後、反応混合物を
水性炭酸水素ナトリウム、次いで水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、真空で蒸発させた。生成物をイソプ
ロパツールから結晶化させ、濾過により集め、イソゾロ
/9ノールで洗浄し、真空で乾燥し表題化合物を得た、
nmr (CD Cj5 )δ2.21(S。
3H)、x、37+a、o(ABQ e J ””
16 Hz 。
16 Hz 。
2H)、4−47(s= 2日)% 4−52(d−J
=4 Hz、 I H)、5.25(s、2H)%5.
35(dd、J=4および9H2,IH)、7 6.6−8.2(m、 l0H)。
=4 Hz、 I H)、5.25(s、2H)%5.
35(dd、J=4および9H2,IH)、7 6.6−8.2(m、 l0H)。
実施例15
7−(フェノキシアセトアミド)デスアセトキシセファ
ロスポラン酸p−ニトロベンジル1α−オキシP 塩化メチレン(25mg)中の7−アミノデスアセトキ
シセファロスポラン酸p−ニトロベンジル1α−オキシ
ド塩酸塩(1,Of)の0℃でかき壕ぜた懸濁液に水(
10rnl)中の重炭酸ナトリウム(0,462f)の
溶液を加え、次いで塩化フェノキシアセチル(0,38
m7りを滴加シタ。反応混合物を0−5°で1時間かき
まぜた後有機層を分離し、水、次いでプラインで洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に蒸発させて黄色
フオームを得、それをジエチルエーテルで砕き表題化合
物を白色結晶として得た。
ロスポラン酸p−ニトロベンジル1α−オキシP 塩化メチレン(25mg)中の7−アミノデスアセトキ
シセファロスポラン酸p−ニトロベンジル1α−オキシ
ド塩酸塩(1,Of)の0℃でかき壕ぜた懸濁液に水(
10rnl)中の重炭酸ナトリウム(0,462f)の
溶液を加え、次いで塩化フェノキシアセチル(0,38
m7りを滴加シタ。反応混合物を0−5°で1時間かき
まぜた後有機層を分離し、水、次いでプラインで洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に蒸発させて黄色
フオームを得、それをジエチルエーテルで砕き表題化合
物を白色結晶として得た。
次の化合物が同様に製造されたニ
ア−(フェノキシアセトアミド)デスアセトキシセファ
ロスポラン酸ベンズヒドリル1α−オキシド、白色結晶
、nmr (CD C)、)62.13(s。
ロスポラン酸ベンズヒドリル1α−オキシド、白色結晶
、nmr (CD C)、)62.13(s。
8
3H)、 3.17+3.79(ABQ、 J=1
6Hz。
6Hz。
2H)、4 m 3 4 * 5 (m +
5 日) 、5 * 28(dd、J=4およ
び7.5Hz、IH)、6.6−7.4 (m、 1
6H)、 7 、 69 (ci、 J =7.
5Hz 、 I H) 。
5 日) 、5 * 28(dd、J=4およ
び7.5Hz、IH)、6.6−7.4 (m、 1
6H)、 7 、 69 (ci、 J =7.
5Hz 、 I H) 。
7−(フェノキシアセトアミド)デスアセトキシセファ
ロスポラン酸p−メトキシベンジル1α−オキシド、n
mr (CD C10)δ2 @ 0 (s @ 5
H)13.17+3.77(ABq、J=17Hz、2
H)、5.58(s、3H)、4.32(m、!IH)
、4−97 (B e 2 H) 、5−24 (dd
* J ”” 4および8H2,2H)、6.5−7
.2(m、9H)、7 、87 (d、 J=8Hz
、I H)。
ロスポラン酸p−メトキシベンジル1α−オキシド、n
mr (CD C10)δ2 @ 0 (s @ 5
H)13.17+3.77(ABq、J=17Hz、2
H)、5.58(s、3H)、4.32(m、!IH)
、4−97 (B e 2 H) 、5−24 (dd
* J ”” 4および8H2,2H)、6.5−7
.2(m、9H)、7 、87 (d、 J=8Hz
、I H)。
、実施例16
3−クロロ−7−(2,2,5,5−テトラメチル−1
−アザ−2,5−ジシランクロベント−1−イル)−3
−セフェム−4−カルボン酸p−二トロペンジル 塩化メチレン(20111/)中の1,2−ビス(クロ
ロジメチルシリル)エタン(3,2t)の溶液を塩化メ
チレン(25m1り中の7−アミノ−3−クロロ−3−
セフェム−4−カル?ン酸p−ニトロベンジル(5,O
f)およびトリエチルアミン(4、9mA)の窒素雰囲
気下にかきまぜた混合物に添加した。混合物を16時間
還流でかきオぜ、次−で室温に冷却させ、8%水性リン
酸水素ナトリウム溶液で洗浄した。有機層を分離し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に蒸発させ表題化合物
をガムとして得た、nmr (CD Cj3)δ0.1
7(s、12H)、0.78(S、4H)、3.38+
3.82(ABQ、J=18H2,2H)% 4.71
S(d、J=4H2IH)、4.93(d、J=4H2
,IH)% 5−28(S、2H)% 7−5−s、1
(m、 4H)。
−アザ−2,5−ジシランクロベント−1−イル)−3
−セフェム−4−カルボン酸p−二トロペンジル 塩化メチレン(20111/)中の1,2−ビス(クロ
ロジメチルシリル)エタン(3,2t)の溶液を塩化メ
チレン(25m1り中の7−アミノ−3−クロロ−3−
セフェム−4−カル?ン酸p−ニトロベンジル(5,O
f)およびトリエチルアミン(4、9mA)の窒素雰囲
気下にかきまぜた混合物に添加した。混合物を16時間
還流でかきオぜ、次−で室温に冷却させ、8%水性リン
酸水素ナトリウム溶液で洗浄した。有機層を分離し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に蒸発させ表題化合物
をガムとして得た、nmr (CD Cj3)δ0.1
7(s、12H)、0.78(S、4H)、3.38+
3.82(ABQ、J=18H2,2H)% 4.71
S(d、J=4H2IH)、4.93(d、J=4H2
,IH)% 5−28(S、2H)% 7−5−s、1
(m、 4H)。
実施例17
3−クロロ−7−(2,2,5,5−テトラメチル−j
−7サ−2、5−ジシランクロベント−1−イル)−
5−セフェム−4−カル♂ン酸p−二トロペンジル1α
−オキシド 飽和水性重炭酸す) IJウム(60ml)と塩化メチ
レン(30mg)中の3−クロロ−7−(2,2゜5.
5−テトラメチル−1−アザ−2,5−ジシランクロベ
ント−1−イル)−3−セフェム−4−カル?ン酸p−
ニトロベンジル(6,57f)の溶液のロー5℃で急速
にかきまぜた混合物に36%過酢酸(2,25ゴ)を滴
加した。混合物をロー5℃で30分間かきまぜ、次いで
有機I@を分離し、水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥し、蒸発させ表題化合物を黄色フオームとして得た、
nmr (CD Cl3 )δ0.15(S、6H)、
00−24(s 6H)、o、5o(s、4H)、3.
56+4.22(ABq、J=18Hz、2H)、4−
4 !+ (d −J =4 Hz # I H)、5
,1o(ci*J ”’ 4 H2# I H) %5
* 30 (8* 3 H) %7.3−8.1(m
、4H)。
−7サ−2、5−ジシランクロベント−1−イル)−
5−セフェム−4−カル♂ン酸p−二トロペンジル1α
−オキシド 飽和水性重炭酸す) IJウム(60ml)と塩化メチ
レン(30mg)中の3−クロロ−7−(2,2゜5.
5−テトラメチル−1−アザ−2,5−ジシランクロベ
ント−1−イル)−3−セフェム−4−カル?ン酸p−
ニトロベンジル(6,57f)の溶液のロー5℃で急速
にかきまぜた混合物に36%過酢酸(2,25ゴ)を滴
加した。混合物をロー5℃で30分間かきまぜ、次いで
有機I@を分離し、水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥し、蒸発させ表題化合物を黄色フオームとして得た、
nmr (CD Cl3 )δ0.15(S、6H)、
00−24(s 6H)、o、5o(s、4H)、3.
56+4.22(ABq、J=18Hz、2H)、4−
4 !+ (d −J =4 Hz # I H)、5
,1o(ci*J ”’ 4 H2# I H) %5
* 30 (8* 3 H) %7.3−8.1(m
、4H)。
実施例18
3−クロロ−7−(フェノキシアセトアミド)−3−セ
フェム−4−カルがン酸p−ニトロベンジル1α−オキ
シド テトラヒドロフラン(85ml )中の3−クロロ1 −7−(2,2,5,5−テトラメチル−1−アザ−2
,5−ジシラシクロイントー1−イル)−6−セフェム
−4−カルがンrMp−ニトロベンジル1α−オキシド
(2,8Of)の室温でかきまぜた溶液に塩化フェノキ
シアセチル(0,811Rt)を添加した^混合物を室
温で1時間かき捷ぜ、飽和水性重炭酸す) IJウム、
次いで水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に蒸発させガムを得、それをイソゾロパノールから結晶
化させた。
フェム−4−カルがン酸p−ニトロベンジル1α−オキ
シド テトラヒドロフラン(85ml )中の3−クロロ1 −7−(2,2,5,5−テトラメチル−1−アザ−2
,5−ジシラシクロイントー1−イル)−6−セフェム
−4−カルがンrMp−ニトロベンジル1α−オキシド
(2,8Of)の室温でかきまぜた溶液に塩化フェノキ
シアセチル(0,811Rt)を添加した^混合物を室
温で1時間かき捷ぜ、飽和水性重炭酸す) IJウム、
次いで水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に蒸発させガムを得、それをイソゾロパノールから結晶
化させた。
生成物を濾過によシ単離し、イソゾロパノールで洗浄し
次いで真空で乾燥し表題化合物を白色結晶として得た、
nmr (CD Cl3 )δ3 、75+4.45(
ABQ、J=188Z、2H)、4.5(S、:2)1
)、4.74(d、J=4Hz、IH)、5.52 (
dd。
次いで真空で乾燥し表題化合物を白色結晶として得た、
nmr (CD Cl3 )δ3 、75+4.45(
ABQ、J=188Z、2H)、4.5(S、:2)1
)、4.74(d、J=4Hz、IH)、5.52 (
dd。
J=4および8Hz、 IH)、6.1s−8@2(m
910日)。
910日)。
実施例19
7−(フェノキシアセトアミド)デスアセトキシセファ
ロスポラン酸2.2.2−トリクロロエチル1α−オキ
シド 2 テトラヒドロフラン(15+d)中の塩化フェノキシア
セチル(0,15m/)および7−(2,2゜5.5−
テトラメチル−1−アゾ−2,5−ジシランクロベント
−1−イル)デスアセトキシセファロスポラン1112
.2.2−)ジクロロエチル1α−オキシド(0,5F
)の溶液を室温で1時間かきまぜ、飽和水性炭騒水素ナ
トリウム、次いで水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、蒸発させて油を得、それをジイソプロピルエーテル
から結晶化し表題化合物を白色結晶として得た、nmr
(c o ct5 )62.26(s、3H)、3
、36+4 、01 (ABq、 J=18i−1z
、2H)、4.3−4.5cm、3H)、4.78(s
、2H)、5 、25 (dd、J=4および8Hz、
IH)、6.4−7.3(m、5H)、7.60(d、
、J=8Hz、IH)。
ロスポラン酸2.2.2−トリクロロエチル1α−オキ
シド 2 テトラヒドロフラン(15+d)中の塩化フェノキシア
セチル(0,15m/)および7−(2,2゜5.5−
テトラメチル−1−アゾ−2,5−ジシランクロベント
−1−イル)デスアセトキシセファロスポラン1112
.2.2−)ジクロロエチル1α−オキシド(0,5F
)の溶液を室温で1時間かきまぜ、飽和水性炭騒水素ナ
トリウム、次いで水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、蒸発させて油を得、それをジイソプロピルエーテル
から結晶化し表題化合物を白色結晶として得た、nmr
(c o ct5 )62.26(s、3H)、3
、36+4 、01 (ABq、 J=18i−1z
、2H)、4.3−4.5cm、3H)、4.78(s
、2H)、5 、25 (dd、J=4および8Hz、
IH)、6.4−7.3(m、5H)、7.60(d、
、J=8Hz、IH)。
第1頁の続き
0発 明 者 アンドリュー・ステイーブン・ミラー
英国チェシャー・マーブル・ウ
ラド・レイン9
Claims (9)
- (1)式: の化合物を酸化剤と反応させることを含む、式:(式中
R1,R2、R3およびR4は同一かまたは異なってい
て、アルキル、アルコキシまたはアリールであシ、Xは
アルキレンであり、 R5はカルデン酸保護基であり、
Yは1または2個の炭素原子を通しペナムfBまたはセ
フェム環を形成する連鎖基である。) のスルホキシPを製造する方法。 - (2)酸化剤が過酸であり、酸化が塩基の存在下に行な
われる、特許請求の範囲第1項記載の方法。 - (3)式: (式中R1、R2、R3、R4は同一かまたは異なって
いて、アルキル、アルコギシまたは了り−ルであり、X
はアルキレンであり、R5はカルボン酸保護基であり、
Yは1または2個の炭素原子を通してペナム環またはセ
フェム環を形成する連鎖基である。) のα−スルホキシr化合物。 - (4) 基Yが式: %式%) (式中86は水素、塩素である。) または式: %式% (式中R7はct 、 −CH2Clまたは−CH20
COCH3である。) を有する、特許請求の範囲第3項記載の化合物。 - (5) 基Xが式 −(c+2)2−を有する。特許
請求の範囲第3項または第4項記載の化合物。 - (6) R1、R2,R3およびR4がC1−4アル
キルである、特許請求の範囲第6〜5項のいずれか一つ
の項に記載の化合物。 - (7)式: (式中R1、R2・R3、R4は同一かまたは異なつっ
ていて、アルキル、アルコキシまたはアリールであシ、
Xはアルキレンであり、R5はカルボン酸保護基であ夛
、Yは1または2個の炭素原子を通してペナム環または
セフェム環を形成する連鎖基であp、但しR1、R2,
R3およびR4がすべてメチルでありXが−(CH2)
2−でありR5がメチルであるときにはYは〉C(CH
3)2ではない。) の化合物。 - (8)式: C式中R1、R2、R3、R4オ!びXは特許請求の範
囲第1項記載の内容を有する。) の化合物を酸と反応させることを含む、式(式中R5お
よびYは特許請求の範囲筒1項記載の内容を有する。) の化合物を創造する方法。 - (9)式: (式中R1、R2、R3、R4およびXは特許請求の範
囲第1項記載の内容を有する。) の化合物を式:RC07(式中2はへ口rンである。)
のアシル化剤と反応させ、次いで水またはアルコールで
処理することを含も1式:(式中R8は結合カルがニル
基と合せてカルがン酸誘導アシル基であり、R5および
Yは特許請求の範囲第1項記載の内容を有する。)の化
合物を製造する方法。 αG 特許請求の範囲第8項または第9項記載の方法に
より製造された、あるいは特許請求の範囲第3項または
第7項記載の新規中間体から製造された抗生のセツアロ
スIリンまたはペニシリン化合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8215418 | 1982-05-26 | ||
GB15418 | 1982-05-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58216193A true JPS58216193A (ja) | 1983-12-15 |
JPH0435477B2 JPH0435477B2 (ja) | 1992-06-11 |
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ID=10530653
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---|---|---|---|
JP58092210A Granted JPS58216193A (ja) | 1982-05-26 | 1983-05-25 | ペニシリンおよびセファロスポリン化合物の製造に有用な新規中間体 |
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DE (1) | DE3364700D1 (ja) |
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US5019571A (en) * | 1988-01-25 | 1991-05-28 | Eli Lilly And Company | 1-carbacephalosporin antibiotics |
KR100390548B1 (ko) * | 1996-02-10 | 2003-11-13 | 주식회사 코오롱 | 세팔로스포린 중간체의 제조방법 |
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US3671449A (en) * | 1970-08-19 | 1972-06-20 | Lilly Co Eli | Cephalosporin compositions |
US4075337A (en) * | 1972-07-18 | 1978-02-21 | Gist-Brocades N.V. | Methods of combatting bacterial infections in warm-blooded animal with cephalsporin R-sulfoxide |
GB1594271A (en) * | 1978-05-09 | 1981-07-30 | Connlab Holdings Ltd | Penicillin and cephalosporin-1-a-sulphoxides and processes therefore |
GB2034695B (en) * | 1978-10-06 | 1982-10-27 | Glaxo Group Ltd | Acylation of 6-apa via silyl intermediates |
US4346219A (en) * | 1981-06-29 | 1982-08-24 | Eli Lilly And Company | Process for preparing desacetoxycephalosporanic acid |
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- 1983-05-23 IL IL68761A patent/IL68761A0/xx not_active IP Right Cessation
- 1983-05-23 DE DE8383302934T patent/DE3364700D1/de not_active Expired
- 1983-05-23 EP EP83302934A patent/EP0096496B1/en not_active Expired
- 1983-05-23 HU HU831806A patent/HU187912B/hu not_active IP Right Cessation
- 1983-05-23 GB GB08314182A patent/GB2125807B/en not_active Expired
- 1983-05-24 IE IE1225/83A patent/IE55203B1/en not_active IP Right Cessation
- 1983-05-24 GR GR71444A patent/GR79288B/el unknown
- 1983-05-24 DK DK231583A patent/DK231583A/da not_active Application Discontinuation
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- 1983-05-25 KR KR1019830002289A patent/KR880001990B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1983-05-25 CA CA000428804A patent/CA1204435A/en not_active Expired
- 1983-05-26 US US06/498,234 patent/US4558124A/en not_active Expired - Fee Related
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---|---|
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IE831225L (en) | 1983-11-26 |
GB2125807A (en) | 1984-03-14 |
GB2125807B (en) | 1986-01-08 |
KR840004759A (ko) | 1984-10-24 |
JPH0435477B2 (ja) | 1992-06-11 |
GR79288B (ja) | 1984-10-22 |
EP0096496A1 (en) | 1983-12-21 |
HU187912B (en) | 1986-03-28 |
GB8314182D0 (en) | 1983-06-29 |
IL68761A0 (en) | 1983-09-30 |
CA1204435A (en) | 1986-05-13 |
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US4558124A (en) | 1985-12-10 |
DK231583D0 (da) | 1983-05-24 |
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DE3364700D1 (en) | 1986-08-28 |
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