JPS58216151A - Ｎ−（ｐ−スルホフエニル）−桂皮酸アミドおよびその塩 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は）新規なＮ−（１）−スルホフェニル）−桂皮
酸アミドおよびその塩、塩化シンナモイルおよびスルフ
ァニル酸からのその製造、および光防謹剤の中にこわを
使用することに関する。

この新規な化合物は、下記式 式中〜Ｒ′■は水素イオン１アルカリ金属イオンまたは
下記式 ％式％ 式中　Ｈ４乃至Ｒ１＋は同種のものまたは異種のもので
あって、水素、または場合によジヒドロキジルもしくは
アリールで置換された低級アルキルを意味し、２個の低
級アルキル基は場合により結合されて場合によジエーテ
ル基を含有する５負もしくは６員の環を形成することが
可能である・ のアンモニウムイオンを表ワス、 に相当する。

Ｎ−（ｐ−スルホフェニル＞−桂皮ｔｓアミド−または
その塩は、一部、非イオン性の形または他の互変異性の
形で存在することもまた〜勿論可能である。

本発明に従い、アルカリ金属イオンは、一般に、ナトリ
ウム１カリウムｔｒｉはリチウムイオン〜好ましくはナ
トリウムイオンを意味する。

本発明に従い、低級アルキルは、一般に、１乃至約６個
の炭素原子を有する直鎖または分枝状の炭化水素基を意
味する、メチル〜エチル１プロピル、イソプロピル１ブ
チルｔイソブチル１ペンチル、イソペンチル、ヘキシル
およびイソヘキシル基を例として挙げることができる。

好ましい低級アルキル基はメチル１エチル、ｎ−グロビ
ルおよびイングロビル基であろう 低級アルキル基が結合されて、場合により酸素５− を含有する５員もしくは６員の環を形成している場合は
、ピペリジン、ピロリジンまたはモルホリン環が本発明
に従って得られる。

本発明に従い、アリールは一般にフェニルまたはトリル
を意味する。

次のアミンのアンモニウムイオンを例として挙けること
ができるニトリエテルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルペンジ
ルアミン、モルホリン、エタノールアミン、６−ヒドロ
キシプロピルアミン、シクロヘキシルエタノールアミン
、トリエタノールアミンおよびテトラメチルアンモニウ
ムおよびテトラエチルアンモニウムイオン。

好マシい新規なＮ−（ｐ−スルホフェニル）−桂皮酸ア
ミドは、下記式 ■ 式中　Ｒ１１は水素またはアルカリ金属イオンまたはエ
タノールアンモニウムＳジェタノールアンモニウムもＬ
＜はｌエタノールアンモニウムを意味する、 に相当する。

トリエタノールアンモニウム塩およびＮ−（１）−スル
ホフェニル）−桂皮酸アミドのナトリウム塩が殊に好ま
しい、 Ｎ−（ｐ−スルホフェニル）−桂皮酸アミドを通常の基
で置換することも勿論可能である、殊に、低級アルキル
（ａ、乃至０６　）、好ましくはメチル、または低級ア
ルコキシ（Ｃ１乃至Ｃ６）、好ましくはメトキシをこの
関連で挙げることができろう 新規ＩＮ−（ｐ−スルホフェニル）−桂皮酸アミドまた
はその塩のうちの１つは１塩化シンナモイルを三級アミ
ンの存在下でスルファニル酸と反応させ、そしてもし適
当ならば、得られるＮ−（ｐ−スルホフェニル）−桂皮
酸アミドを、アルカリ金属水素化物１下記の一般式 ％式％） のアミンまた゛は下記式 ｆｉ Ｒ”−Ｎ■−Ｒ４０Ｈθ　　（ＩＶ） Ｒ１＋ 式中　ＨＲ乃至Ｒ６は上記の意味を有する、の水酸化ア
ンモニウムと反応させることによって相当する地に変換
する方法によって製造し得る。

塩化シンナモイルとスルファニル酸との反応は丸木発明
に従い、一般に、アセトニトリル１ブチロニトリルまた
はアセトンの如き有極性溶媒中で行なわ釣る、 本発明に従う方法は、一般に、５０℃乃至溶媒の沸点の
温度範囲で行なわわる１本発明に従う方法は１好ましく
はへ特定の溶媒の沸騰範囲で行なわわる。溶媒の沸騰範
囲は、圧力を上げることによって勿論変えることができ
る。かくして、本発明に従う方法ｌは、適当な圧力の増
加の後に・約１５０℃までの温度で行なうのが有利と言
い得る。

本発明に従う方法は１概して一有機塩基・好ましくは三
級アミンの存在下で行なわれる。挙げることができる三
級アミンは、低級アルキル（ＣＩ乃至約０６　）、フェ
ニルまたはペンヅルによって置換されたアミンである。

ビリソン、）　ＩＪ　＋　ｎ　−ブチルアミンまたはＮ
、Ｎ−ゾメチルペンソルアミンを例として挙げることが
できる。

一般に、三級アミンは、スルファニル酸を中和し、反応
の間に放出される塩化水素を結合するの９− に十分な量だけ添加される。

Ｎ−（ｐ−スルホフェニル）−桂皮酸アミドの塩の製造
は、等モル量の成分を化合させることによって行なうの
が有利である。中和点は、付加的に％　ｐＨ測定によっ
てモニターし得る。

新規な１ｌ−（Ｉｌ−スルホフェニル）−桂皮酸アミド
およびその塩は１高い含水率を有する光防謹剤において
活性化合物として有利に使用し得る。

２９０−３２０　ｎｍの波長を有する太陽の紫外線は、
皮Ｉ＃と触わると、光紅斑（「日やけ」）を生ずる。従
って、上記の波長範囲に良好な防護作用を有するが一皮
膚に秀わて耐薬性もあり、光、熱および湿分に対して優
秀な安定性を有し、そして光防護剤に常用される化粧基
材中に容易に混合し得る。皮膚用の光防謹剤を求める需
要がある。

こわらの基材の多数のものは水を含有するので１活性化
合物が水溶性であわば有利である。

　１０− かくて亀例えば１市販で入手できる２−フェニルベンズ
イミダゾール−５−スルホン酸は、そわ自体水に子爵で
あシ、塩の形で、６．０乃至８５のｐＨ範囲でのみ、日
焼は止め組成物中に使用し得る（Ｍｅｒｃｋ、Ｄａｒｍ
ｓｔａｄｔ、　　商品名「Ｅｕ５ｏｌｅｘＲｊ、オーダ
一番号１６／６２／３／１７７　）。

この結果は、使用の際に起る酸性条件下でこのものが沈
殿され、問題無くて皮膚に施用し得ないということであ
る。

対照的に１新規な活性化合物は全ての使用条件下で安定
であシ１含水溶液からも沈殿されない。

こわらのものは１光防護剤中で使用するために〜３乃至
１２のｐＨ範囲で十分可溶性である。

本発明に従うＮ−（ｐ−スルホフェニル）−桂皮酸アミ
ドおよび相当する塩は、２９０−５２０ｎｍの範囲の太
陽の紅斑惹起紫外線の殊に良好な吸収を供する。こわら
のものは、光、熱および湿分に安定であり、殆ど無色お
よび無臭で、日焼は止め剤中に殊に有利に使用し得る。

従って本発明はＮ　Ｎ−（ｐ−スルホフェニル）−桂皮
酸アミド−！りは相当する塩を含有する日焼は止め剤に
も関する。

本発明に従う日焼は止め剤は、Ｎ−（ｐ−スルホフェニ
ル）−桂皮酸アミドまたはその塩を、日焼は止め剤に常
用される化粧基材の中へ混合することによって製造し得
る。混合は−例えば、攪拌して入わたシ或いはホモジナ
イズするといった、分配の常法によって行なわわる。

本発明に従う化合物の非常に良好な水浴性のため、とわ
らのものけ１水系および水系／アルコール性溶液または
化粧基材の相の中へ混合するのに殊に好適である１通常
の化粧基材の例は、クリーム・ローション１軟胃〜溶液
、スプレー、ミルクおよびクルであるＣＧ、Ｈ，Ｎｏｖ
ａｋ、　　−ＤｉｅＫＯｅｍｅｔｉｓｃｈｅｎ　Ｐｒａ
ｅｐａｒａｔｅ　ｊ＋　（化粧組成物）、第２版、１９
７５参照）、 本発明に従う光防蝕剤用のクリームは、油中水型および
水中油型の乳剤である。

本発明に従う光防謹剤用のローションは、アルコール系
／水系油／アルコール混合物である。

本発明に従う光防護剤用の軟膏は薬学上のクリームであ
る。

本発明に従う光防護剤用の浴液は、例えば、油およびア
ルコールの如き化粧溶媒中の光防鰻剤の溶液である。

本発明に従う光防謹剤用のスプレーは、噴射剤と組み合
せた浴液である。

本発明に従う光防論剤用のミルクは・液体で、油中水型
および水中油型の安定な乳剤である。

化粧基材の成分は通常のものであシそわ自体公知である
。香水油を加えることもまた可能であるウ　１６− 化粧暴利に応じて、本発明に従うＮ−（ｐ−スルホフェ
ニル）−桂皮酸アミドまたはその塩の１つの光防護剤中
での含有率は、化粧基材の全量に対して１乃至６ｑ６、
好ましくは２乃至５％である。

本発明に従う光防護剤がＮ−（ｐ−スルホフェニル）−
桂皮酸アミドおよび相当する塩の混合物を含有すること
もまた勿論可能である。

更に１光防護剤用の他の活性化合物、例えば２−ニチル
ヘキシルｐ−メトキシシンナメートマタはイソアミルｐ
−メトキシシンナメートの如き油溶性活性化合物を加え
ることもまた勿論可能であるつしかし、こわは、一般に
は１太陽からの十分な防護に必要という訳ではない。

実施例　１ アセトン１２０２中の無水スルファニル酸８６、５　ｆ
の懸濁液に、３０℃で攪拌しながら１Ｎ、Ｎ−ツメチル
−ペンツルアミン１６ａｓｒを　１４− １５分かけて滴下して加え、続いてアセトン８０２中の
塩化シンナモイル８５５ｆの浴液を５０分かけて加える
。添加完了後、反応温度を還流温度に１時間上け・次に
、アセトンをできるだけ完全に除去する。残る残留物を
８０℃で１時間攪拌し、水５００ｍ／！中の濃度５０％
の水酸化ナトリウム醪液９０ｆを次に加え、混合物を再
び８０℃まで加熱し、この温度に１５分間放置する。相
を分離し、水相をトルエン５０ｆで洗浄する。尚も熱い
水相を水８００ゴで希釈し、濃硫酸で中和する。冷却さ
れた水溶液を、次に、濃度５０％の硫酸１〜へ１２０分
かけて、激しく攪拌しながら・滴下して加える。沈殿さ
れた結晶を分離し去り、水４ｔに溶かし１浴液を濾過し
、濃硫酸１００２を加えることによって再び結晶化に導
く。融点２６５〜２３７℃の純粋なＮ−（ｐ−スルホフ
ェニル）−桂皮酸アミド１１１１Ｆ（理論の７５．９係
に相当）が得られる。ＵＶスペクトル（メタノール中）
：λＨｒ６ｚ　””　３００　ｎｍ　ｓ　Ｅ　（１％、
１　ｃｍ　）　＝　６０ 水浴液を尚モル量の塩基で中和すると、水を倫゛去させ
ることによって除去した後に、相当する塩が得られる： 実施例　２ 重量部 Ａ）約１２モルのエチレンオキシド ヲモつセチルステアリルアルコール　　　　１．００約
２０モルのエチレンオキシド ヲモつセチルステアリルアルコール　　　　４．５０セ
チルステアリルアルコール　　　　　　　２．５０エス
テルの混合物　　　　　　　　　　　　５．００２−オ
クチルードデ゛カノール　　　　　　　６００イソゾロ
ビルミリステート　　　　　　　　　　５．００デシル
オレエート　　　　　　　　　　　　３．００プロピル
ｐ−ヒドロキシベンゾニー）　　　　０．０８Ｂ）蒸留
水　　　　　　　　　　　　　　　　２７．８２メチル
ｐ−ヒドロキシベンゾエート　　　　α２０イミダゾリ
ヅニル尿素誘導体　　　　　　　０２〇１８− 重量部 （水中５３．２チの塩） Ｃ）蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　　３５．０
０カルｄζキシビニルポリマー　　　　　　　　α４０
水酸化す）　ＩＪウム浴液（１０％濃度）　　　　１．
６０Ｄ）香水前　　　　　　　　　　　　　　　　［Ｌ
７０成分Ａ）を併せ・７５℃まで加熱する。成分Ｂ）を
８５℃で浴かしＡ）の中へ攪拌して入わるａＣ）部から
のカルボキシビニルポリマーを水成分中に分散させＳ＋
＠液を水酸化ナトリウム浴液で中和する。生成するグル
をＡ）およびＢ）を含有する乳剤の中へ、５５℃で攪拌
して入わる。乳剤を次に３５〜４０℃へ冷却し、Ｄ）を
加え、混合物を攪拌しながら室温１で冷却する。

実施例　３ 日焼は止めミルク　０／Ｗ　（水中油型）重量部 一トと非イオン性 表面活性剤との混合物　　　　　　　　　　２．５゜ル
ノ混合物　　　　　　　　　　　　　　　４．００セチ
ルアルコールおよびステアリル アルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　２．０
０２−エチルヘキシルｐ−メトキシ シンナメート　　　　　　　　　　　　　　　　４．０
０インプロピルミリステート２．ｏ。

パラフィン油　　　　　　　　　　　　　　　１，５゜
アロビルｐ−ヒドロキシベンゾニー）　　　　０．０８
Ｂ）蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　　２９８２
メチルｐ−ヒドロキシベンゾエート０．２０イミダゾリ
ソニル尿素誘導体　　　　　　　α２゜重量部 （水中３５２％の塩） Ｃ）蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　　３５．０
０カル〆キシビニルボリマー　　　　　　　　α４゜水
酸化ナトリウム溶液（濃度１０％）　　　　１．６０Ｄ
）香水前　　　　　　　　　　　　　　　　　α７゜製
造は実施例２と同様に行なわわる。

２１一 実施例　４ 光防護ｒル（水系） 重量部 Ａ）蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　　７１．２
５アラントイン（Ａｌｌａｎｔｏｌｎ）　　　　　　０
．１０ポリ工チレンダリコールＭＷ４００　　　　５．
００イミダゾリソニル尿素誘導体　　　　　　　ａ２０
メチルクロロイソチアゾリノン類十 メチルイソ゛チアゾリノン類　　　　　　　　　α０３
Ｂ）カルボキシビニルポリマー　　　　　　　　０．８
０トリエタノールアミン　　　　　　　　　　　１．１
２アミド（水中３５２チの塩）　　　　　　　２０．　
ＯＯＤ）香水前　　　　　　　　　　　　　　　　α３
〇２２− 成分Ａ）を浴かし１Ｂ）からのカルがキシビニルポリマ
ーを溶液中に分散させ〜分散液をトリエタノールアミン
で中和する。、Ｃ）を次にＡ）およびＢ）を含有するグ
ルの中へ攪拌して人ね、最後に成分Ｄ）を混合し１混合
物をグルの中へ攪拌する。

実施例　５ 光防護ケ゛ル（水系／アルコール性） 重量部 Ａ）エチルアルコール９６容量チ　　　　　　２５．０
０蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　　５０．２５
アラントイン　　　　　　　　　　　　　　α１０ポリ
エチレンダリコール　ＭＷ４００　　　５．００イミダ
ゾリゾ工ニル尿素誘導体　　　　　　α２０メチルクロ
ロイソチアゾリノン類十 メチルイソチアゾリノン類　　　　　　　　　０．０３
Ｂ）カルがキシビニルポリマー　　　　　　　　　α８
０トリエタノールアミン　　　　　　　　　　　１．１
２桂皮酸アミド（水中３３．２−の塩）　　　　１６．
００Ｄ）香水油　　　　　　　　　　　　　　　　α３
０水素化エトキシル化ヒマシ油１．２０ 製造は実施例４と同様に行なわわる。

実施例　６ 光防護クリーム　０／Ｗ　（水中油型）との混合物　　
　　　　　　　　　７．００　　７．００セチルステア
リルアルコール　　２．００　　２．００グリセロール
モノーヅステア　　４．００　　４．００レート インアミルｐ−メトキシ シンナメート　　　　　　　　　　　−４，００２−オ
クチル−ドデカノール　　４．００　　　−デシルオレ
エー）　　　　　　　　　４．００　　４．００イソプ
ロピルミリステート　　　　５．００　　５．００ノや
ラフイン油　　　　　　　　　　１．０．０　　１．０
０プロピルｐ−ヒドロキシ ベンゾエート　　　　　　　　　　α０８　　０．０８
２５− 重量部　　重量部 Ｂ）蒸留水　　　　　　　　　　　２４．８２　　２４
．８２メチルｐ−ヒドロキシベンゾ エート　　　　　　　　　　　　　　　　　［１２０α
２０イミダゾリソニル尿素誘導体　　０．２０　　　α
２０（水中５五２％の塩） Ｃ）蒸留水　　　　　　　　　　　　２５．００　２５
．００カルボキシビニルポリマー　　　　α４０　　１
４０水酸化ナトリウム溶液　　　　　　１．６０　　１
．６０（濃度１０％） Ｄ）香水油　　　　　　　　　　　　α７０　　０．７
０製造は実施例２と同様に行なわわる。

明細書および実施例は例示のためであるが本発明の限定
ではないこと、および本発明の精神および範囲の中で他
の具体例も本分野に熟達した人には提起されるというこ
とは覚うまでもない。

２６−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記式 式中・Ｒ２Ｏは水素イオン、アルカリ金属イオンまたは
   下記式 ％式％ 式中　Ｈ２乃至ＲＩは各々独立に水素、または場合によ
   りヒドロキシルまたはアリールで置換された低級アルキ
   ルであり一或いは−こわらの２つのものが結合されて、
   場合により酸系原子を含有する５員もしくは６員環を形
   成する、 のアンモニウムイオンである、 で表わされるＮ−（ｐ−スルホフェニル）’　−桂皮酸
   アミドまたはその塩。 ２、Ｒ２Ｏが水素イオン、ナルカリ金属またはモノ−、
   ジーもしくはトリエタノールアンモニウムイオンである
   特許請求の範曲第１項記載の化合物または塩つ ３、　Ｒ２Ｏがナトリウムまたはトリエタノールアンモ
   ニウムイオンである特許請求の範囲第１項記載の塩う ４、　日焼は止め基材および日焼は止め剤を含有する日
   焼は止め組成物において、核剤として特許請求の範囲第
   １項記載の化合物または塩を使用することを特徴とする
   日焼は止組成物。 ５、核剤が約１乃至６重量％存在する特許請求の範囲第
   ４項記載の組成物。 ６　日焼は止め基材および日焼は止め剤を含有する日焼
   は止め組成物において〜核剤として特許請求の範囲第２
   項記載の化合物または塩を約２乃至５％使用する日焼は
   止め組成物。 ７、Ｒ１■がナトリウムまたはトリエタノールアンモニ
   ウムイオンである特許請求の範囲第６項記載の日焼は止
   め組成物。